TWI502224B - Optical plate and surface light source device - Google Patents

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TWI502224B
TWI502224B TW099144921A TW99144921A TWI502224B TW I502224 B TWI502224 B TW I502224B TW 099144921 A TW099144921 A TW 099144921A TW 99144921 A TW99144921 A TW 99144921A TW I502224 B TWI502224 B TW I502224B
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Hiroyasu Inoue
Kenichi Harai
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Description

光學板片及面光源裝置
本發明係關於一種光學板片以及包括有機電激發光(在以下，稱為「有機EL」。)元件之面光源裝置。
在複數層之電極間設置有機發光層而呈電氣地得到發光之有機EL元件係檢討取代液晶胞而利用作為顯示元件。另外，也檢討利用有機EL裝置來作為發揮其高發光效率、低電壓驅動、輕量、低成本等之特徵之平面型照明、液晶顯示裝置用背光板等之面光源裝置。
在利用有機EL元件來作為面光源裝置之光源之狀態下，以高效率而由元件來取出有用形態之光係成為課題。例如有機EL元件之發光層本身係具有高發光效率，這個係在透過構成元件之層積構造而直到出光為止之間，由於層中之干涉等而減低光量，因此，要求儘可能地減低此種光之損失。
作為用以提高光取出效率之方法係知道在也由光源裝置開始至光取出面側，設置各種之凹凸構造(例如專利文獻1之圖4、圖6等)。作為具有此種凹凸構造之有機EL元件之零件係知道包含藉由所謂光聚合物法(2P法)而賦予凹凸構造之層之光學板片。
【先前技術文獻】 【專利文獻】
【專利文獻1】日本特開2009-266429號公報
但是，在面光源裝置，除了光取出效率以外，也要求出光面內之亮度之均勻性。賦予前面敘述之凹凸構造之層係在其製造製程，容易發生厚度之不均，有由於這樣而損害此種層之面內之透過率均勻性之狀態發生。特別是為了提高出光面之機械強度，因此，在使用硬質材料之狀態下，容易引起此種厚度之不均。此外，為了減低由於觀察角度而造成之色調變化，因此，在凹凸構造層來賦予光擴散性之狀態下，根據厚度不均而造成之透過率之變動係可能大幅度地出現於面光源裝置之亮度不均。
因此，本發明之目的係提供一種可以達成面內透過率之均勻度變高、由於透過之光之觀察角度而造成之色調變化小、機械強度高並且在設置於面光源裝置之出光面側時之高度之光取出效率的光學板片。
本發明之其他目的係提供一種出光面內之亮度均勻性變高、由於觀察角度而造成之出光面之色調變化小、出光面之機械強度高並且光取出效率變高的面光源裝置。
為了解決前述課題，因此，本發明人們係進行檢討，結果發現：可以藉由以規定之形態，配置具有規定之比率之擴散能之複數層，來作為設置於面光源裝置之出光面之光學板片，而解決前述課題；以致於完成本發明。
也就是說，如果藉由本發明的話，則提供下列之[1]～[5]。
[1]：一種光學板片，係包括：具有第1面S1和第2面S2之透明基材、設置於前述透明基材之前述第1面S1側之第1光擴散層、以及設置於前述透明基材之前述第2面S2側之第2光擴散層的光學板片，前述第1光擴散層係具有第1面D1和第2面D2，前述第1面D1係相反於前述透明基材之相反側之面並且成為平滑面，前述第1光擴散層之混濁度x1(%)和前述第2光擴散層之混濁度x2(%)係滿足下列之公式(1)及公式(2)；
f(x1)/(f(x1)+f(x2))≦2/3‧‧‧公式(1)
(f(x1)+f(x2))≧12‧‧‧公式(2)
(其中，在x≦88之時，成為函數f(x)=1.9×(ln(1-x/90))2 ，在x＞88之時，成為函數f(x)=22.5x-1952.5)。
[2]：一種光學板片係包括：具有第1面S1和第2面S2之透明基材、設置於前述透明基材之前述第1面S1側之第1光擴散層、以及設置於前述透明基材之前述第2面S2側之第2光擴散層，前述第1光擴散層係具有第1面D1和第2面D2，前述第1面D1係相反於前述透明基材之相反側之面並且具有凹凸構造之面，相同於前述第1光擴散層之同樣材料以及同樣厚度並且不具有前述第1光擴散層之凹凸構造之光擴散層之混濁度x1(%)和前述第2光擴散層之混濁度x2(%)係滿足下列之公式(1)及公式(2)；
f(x1)/(f(x1)+f(x2))≦2/3‧‧‧公式(1)
(f(x1)+f(x2))≧12‧‧‧公式(2)
(其中，在x≦88之時，成為函數f(x)=1.9×(ln(1-x/90))2 ，在x＞88之時，成為函數f(x)=22.5x-1952.5)。
[3]：一種光學板片係在[1]或[2]記載之光學板片，前述第1光擴散層藉由含有樹脂及擴散子之組成物而構成。
[4]：一種光學板片係在[1]～[3]中任一項所記載之光學板片，前述第2光擴散層為黏著層。
[5]：一種面光源裝置係包括[1]～[4]中任一項所記載之光學板片以及有機電激發光元件。
本發明之光學板片係可以達成面內透過率之均勻度變高、由於透過之光之觀察角度而造成之色調變化小、機械強度高並且在設置於面光源裝置之出光面側時之高度之光取出效率。
本發明係出光面內之亮度均勻性變高，由於觀察角度而造成之出光面之色調變化小，出光面之機械強度高，並且光取出效率變高的面光源裝置。
 ＜光學板片＞
本發明之光學板片係包括：具有第1面S1和第2面S2之透明基材、設置於前述透明基材之前述第1面S1側之第1光擴散層、以及設置於前述透明基材之前述第2面S2側之第2光擴散層。也就是說，本發明之光學板片係具有：透明基材、設置於前述透明基材之某一邊側之面之第1光擴散層、以及設置於前述透明基材之其他邊側之面之第2光擴散層。
圖1係呈示意地顯示本發明之光學板片之一例之立體圖，圖2係顯示通過圖1中之線1a-1b而在垂直於透明基材面方向之垂直面來切斷圖1所示之光學板片之剖面之剖面圖。
光學板片100係具有透明基材121、直接地接合在透明基材121之某一邊側之面而設置之第1光擴散層111以及直接地接合在透明基材121之其他邊側之面而設置之第2光擴散層112。在圖1及圖2，透明基材121之上側面係第1面S1，下側面係第2面S2。此外，在本實施形態，在透明基板，直接地設置各個之光擴散層，但是，可以介在其他層。
第1光擴散層111係在其上面(某一邊側之面)，具有包含複數個之凹部113和位處於凹部113周圍之平坦部114之凹凸構造。藉由該凹凸構造而規定光學板片100之表面10U。表面10U係在忽視凹部113而呈巨觀地觀察時，成為平行於平坦部114、透明基板121之光學板片中之其他層之平行平面，成為包含藉由凹部113而呈微觀地規定之斜面之凹凸面。此外，在本案，圖式係呈示意地圖示，因此，在表面10U之上，僅顯示少許個數之凹部，但是，在實際之裝置，可以在1片之光學板片之表面上，設置遠多於此之許多之凹部。
在本發明，所謂「某一邊側」、「其他邊側」係辨識光學板片之各層之表側面及背側面之規定，藉由光學板片整體之厚度方向之方向而進行規定，由透明基材來觀看，第1光擴散層側之方向係「某一邊側」，由透明基材來觀看，第2光擴散層側之方向係「其他邊側」。例如在本實施形態，所謂「某一邊側」係相當於圖2中之上側，所謂「其他邊側」係相當於圖2中之下側。也就是說，在本實施形態，透明基材121之「某一邊側之面」係相當於透明基材121之上面，透明基材121之「其他邊側之面」係相當於透明基材121之下面。第1光擴散層111之「某一邊側之面」係相當於第1光擴散層111之上面，第1光擴散層111之「其他邊側之面」係相當於第1光擴散層111之下面。
(透明基材)
在本發明，所謂透明基材為「透明」係表示具有適合於使用在光學板片材料之程度之光線透過率。在本發明，構成光學板片之各層係可以具有適合於使用在光學構件之光線透過率，作為光學板片之整體係可以具有50%以上之全光線透過率。
透明基材之材料係並無特別限定，能夠使用可以形成玻璃或透明層之各種樹脂。作為透明基材之材料係可以列舉例如熱塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂以及電子線硬化性樹脂，即使是在其中，也由容易加工之方面來看的話，則最好是熱塑性樹脂。作為熱塑性樹脂係可以列舉聚酯系、聚丙烯酸酯系和環烯烴聚合物系之樹脂。在此，作為透明基材係不限定於單層，也可以層積複數層之透明基材。
在本發明之光學板片，透明基材之厚度係如果是例如由樹脂而組成的話，則最好是20～300μm。在透明基材為玻璃之狀態下，其厚度係最好是10～1100μm。此外，本發明之光學板片係薄平板狀之構造，因此，稱為「板片」，但是，這個係不一定以可撓性，來作為必須之要件。因此，例如採用700μm厚度之玻璃，來作為透明基材，無可撓性之層積體係也包含於本發明之光學板片。
(第1光擴散層)
第1光擴散層係設置於透明基材之第1面S1側之層。第1光擴散層係在面光源裝置來設置本發明之光學板片之狀態下，通常設置於成為出光面側(也就是在光學板片，比起第2光擴散層和透明基材而還更加遠離於發光層之側)之面之層。第1光擴散層係正如圖1及圖2所示之光學板片100之第1光擴散層111之例子，可以直接地設置於透明基材之面上，並且，也可以透過其他層而設置。由製造之容易度等之觀點來看的話，則最好是直接地設置。
第1光擴散層之材料係可以成為具有光擴散性之樹脂組成物。可以具體地成為包含各種樹脂和擴散子之組成物。作為此種樹脂係可以列舉例如熱塑性樹脂、熱硬化性樹脂以及紫外線硬化性樹脂和電子線硬化性樹脂等之能量射線硬化性樹脂。即使是在其中，熱塑性樹脂係也容易由於熱而變形，因此，紫外線硬化性樹脂係還使得硬化性變高而效率良好，所以，最好是可以分別有效率地形成具有凹凸構造之光擴散層。作為熱塑性樹脂係可以列舉聚酯系、聚丙烯酸酯系、環烯烴聚合物系之樹脂。並且，作為紫外線硬化性樹脂係可以列舉環氧系、丙烯系、胺基甲酸乙酯系、烯烴/硫醇系、異氰酸酯系之樹脂。作為這些樹脂係最好是可以使用具有複數個之聚合性官能基者。
第1光擴散層係具有第1面D1和第2面D2，第1面D1係相反於前述透明基材之相反側之面。第2面D2係對向於前述透明基材之第1面S1之面。在本發明具有之形態，第1光擴散層係其第1面D1為平滑面，在本發明另外具有之形態，第1光擴散層係在其第1面D1，具有凹凸構造。
所謂第1面D1為平滑面係指成為算術平均粗糙度Ra＜0.1μm之面。另一方面，所謂第1面D1具有凹凸構造係指成為Ra＞0.15μm之面。
第1光擴散層係在其第1面D1具有凹凸構造之狀態下，作為第1光擴散層之材料係由所謂容易形成凹凸構造且容易得到凹凸構造之耐擦傷性之觀點來看的話，則最好是硬化時之硬度高之材料。具體地說，在基材上而以無凹凸構造之狀態來形成7μm膜厚之層之際，最好是以鉛筆硬度而成為HB以上之材料，甚至最好是成為H以上之材料，更加理想是成為2H以上之材料。另一方面，作為透明基材之材料係為了使得在形成第1光擴散層和第2光擴散層時之處理及/或在形成光學板片後之處理，變得容易，因此，最好是具有某種程度之柔軟性。可以藉由組合此種材料而得到容易處理且耐久性良好之光學板片。此種材料之組合係可以藉由適度地選擇上面例舉之樹脂，作為構成各種材料之樹脂而得到。具體地說，作為構成第1光擴散層材料之樹脂係可以使用丙烯酸酯等之紫外線硬化性樹脂，另一方面，作為構成透明基材之材料之樹脂係可以使用脂環式烯烴聚合物製薄膜或聚酯薄膜，可以藉此而得到理想財料之組合。
作為第1光擴散層可以含有之擴散子係能夠列舉各種之粒子。該粒子係可以是透明，也可以是不透明。作為粒子之材料係可以使用金屬及金屬化合物和樹脂等。作為金屬化合物係可以列舉金屬之氧化物及氮化物。作為金屬及金屬化合物係可以具體地列舉例如銀、鋁之高反射率之金屬、氧化矽、氧化鋁、氧化鋯、氮化矽、錫添加氧化銦、氧化鈦等之金屬化合物。另一方面，作為樹脂係可以列舉甲基丙烯樹脂、聚胺基甲酸乙酯樹脂、矽酮樹脂等。
粒子之形狀係可以成為球狀、圓柱狀、立方體狀、長方體狀、角錐狀、圓錐狀、星型狀等之形狀。
粒子之粒徑係最好是0.1μm以上、10μm以下，更加理想是5μm以下。在此，所謂粒徑係以粒徑作為橫軸而累計體積基準之粒子量之累積分布之50%粒徑。粒徑越大，為了得到要求之效果而必要之粒子之含有比例越多，粒徑越小而含有量越少。因此，粒徑越小而越加能夠以少數之粒子，來得到由於觀察角度之所造成之色調變化之減低以及光取出效率之提升等之要求效果。此外，粒徑係在粒子之形狀為球狀以外之狀態下，其同等體積之球直徑成為粒徑。
在粒子為透明粒子且粒子包含於透明樹脂中之狀態下，粒子之折射率和透明樹脂之折射率係這些之差異最好是0.05～0.5，更加理想是0.07～0.5。在此，粒子及透明樹脂之折射率係皆可以更加地變大。在粒子和透明樹脂之折射率過度接近時，無法得到擴散效果，無法抑制色調不均，相反地，在差異過度大之時，擴散變大而抑制色調不均，但是，減低光取出效率。
在第1光擴散層包含樹脂及擴散子之狀態下之樹脂和擴散子之練合比例係最好是3～50重量%。
在本發明之光學板片，第1光擴散層之厚度係其下限最好是1μm以上，更加理想是5μm以上，並且，可以成為10μm以上，另一方面，其上限係最好是50μm以下，更加理想是25μm以下，並且，可以成為15μm以下。特別是可以藉由成為前述上限以下之厚度，而防止由於硬化收縮來造成之光學板片之捲曲等之變形，成為良好形狀之光學板片。
作為第1光擴散層之材料而列舉於上面之硬化時之高硬度之樹脂係有容易引起硬化收縮之傾向發生。因此，一般在採用此種材料來作為光學板片之一部分之層材料之狀態下，容易發生厚度不均勻或者是光學板片變形(捲曲等)等之意外。特別是應該在光學板片賦予充分之擴散性能而在第1光擴散層來練合擴散子且增厚其厚度之狀態下，容易發生由於此種硬化收縮而造成之變形。但是，在本發明之光學板片，可以藉由採用具有後面敘述之規定之混濁度比值者，來作為第1光擴散層及第2光擴散層，而即使是第1光擴散層之厚度變薄，也能夠成為具有規定之擴散性能之光學板片。結果，本發明之光學板片係可以成為滿足表面之高度之耐久性、根據均勻之厚度而造成之面內透過率之高度之均勻性、根據充分之光擴散性能之觀察角度而造成之色調變化小以及變化小之全部的光學板片。
(第2光擴散層)
第2光擴散層係透明基材之第2面S2側，也就是設置在透明基材之相反於設置第1光擴散層之面之相反面側之層。第2光擴散層係在面光源裝置設置本發明之光學板片之狀態下，通常設置於入光面側(也就是比起第1光擴散層和透明基材還更加接近發光層之側)之層。第2光擴散層係正如圖1及圖2所示之光學板片100之第2光擴散層112之例子，可以直接地設置於透明基材之面上，但是，還可以透過其他層而設置。由製造之容易性等之觀點來看的話，則最好是直接地設置。
第2光擴散層係可以成為具有光擴散性之層，但是，特別最好是具有光擴散性之黏著層。也就是說，第2光擴散層係除了擴散透過光學板片之光之機能以外，也可以成為具有光學板片黏著於有機EL元件之其他層之機能之層。可以藉由第2光擴散層成為黏著層，而使得本發明之光學板片，容易設置於有機EL元件，並且，可以藉由有機EL元件之層構造，成為單純化，而提高光取出效率。此外，由增大有機EL元件之光取出效率之觀點來看的話，則第2光擴散層之折射率係最好是高於第1光擴散層之折射率。在該狀態下，可以藉由不具有黏著性之層，作為第2擴散層，使用能量射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等，而成為1.6以上、甚至最好是1.67以上之高折射率之層。作為能量射線硬化性樹脂之例子係可以列舉紫外線硬化性樹脂及電子線硬化性樹脂。
第2光擴散層之材料係可以成為具有光擴散性之任意材料。作為具有第2光擴散層材料之例子係可以列舉樹脂和擴散子之組成物。在該狀態下，作為該樹脂係可以使用例如環氧樹脂、(甲基)丙烯樹脂、矽酮樹脂、胺基甲酸乙酯樹脂、聚醯亞胺樹脂、酸變性聚烯烴樹脂或其混合物等。可以藉由使用這些樹脂，而使得第2光擴散層之形成，變得容易，並且，也在第2光擴散層，賦予作為前述黏著層之機能。另一方面，作為擴散子係可以使用相同於第1光擴散層之擴散子之同樣者。在第2光擴散層包含樹脂和擴散子之狀態下之樹脂和擴散子之練合比例係最好是3～50重量%。
作為第2光擴散層材料之其他例子係可以列舉隨機配向之液晶性物質之層或者是仍然維持此種配向而硬化此種液晶性物質層之硬化液晶性物質之層。在光進行於此種隨機配向之層內之時，光之進行方向係進行各種之變化，因此，可以達成擴散。隨機配向之液晶性物質之層係不限定於固體層，例如也可以成為填充於適當間隙之液體層。
在使用液晶性物質來作為第2光擴散層之狀態下，作為此種液晶性物質係列舉各種碟狀液晶、向列液晶、液晶性丙烯酸酯及其混合物等。
在本發明之光學板片，第2光擴散層之厚度係可以使得其下限最好是1μm以上、更加理想是10μm以上、甚至30μm以上或40μm以上，另一方面，其上限最好是200μm以下、更加理想是60μm以下。
(混濁度之關係)
在本發明之光學板片，關於前述第1光擴散層之混濁度x1(%)和前述第2光擴散層之混濁度x2(%)係滿足下列之公式(1)。
f(x1)/(f(x1)+f(x2))≦2/3‧‧‧公式(1)
但是，函數f(x)係在x≦88之時，成為函數f(x)=1.9×(ln(1-x/90))2 ，在x＞88之時，成為函數f(x)=22.5x-1952.5。
混濁度x1及混濁度x2係更加理想是滿足下列之公式(1’)。
f(x1)/(f(x1)+f(x2))≦1/2‧‧‧公式(1’)
此種函數f(x)係在硬化後而折射率成為1.54之UV硬化性樹脂中，改變平均粒徑2μm且折射率1.43之擴散子之添加比例，由在基材薄膜上形成膜厚15μm之平坦之光擴散層之狀態下之混濁度和擴散子之添加比例來導出之函數。該關係顯示於圖9。圖中之實線係相當於實測結果，虛線係相當於f(x)之值。在本案，以相當於前述添加比例之值，來作為顯示散亂性能之指標，比較2個之光散亂層之散亂性能，規定公式(1)及公式(2)之範圍。
此外，本發明之光學板片係最好是f(x1)+f(x2)≧12‧‧‧公式(2)。換句話說，在前述15μm之光擴散層，最好是具有擴散子之添加量多於12重量%之狀態之散亂性能。此外，本發明之光學板片係最好是f(x1)+f(x2)≧18‧‧‧公式(2’)。
在第1光擴散層之第1面D1為平滑面之狀態下，混濁度x1係第1光擴散層之混濁度。另一方面，第1光擴散層係在其第1面D1具有凹凸構造之狀態下，混濁度x1係並非第1光擴散層本身之混濁度而是相同於第1光擴散層之同樣材料及同樣厚度並且不具有第1光擴散層之凹凸構造之其他光擴散層之混濁度。
混濁度x1及混濁度x2係可以藉由在透明之基板上，形成測定對象之第1光擴散層或第2光擴散層，測定其混濁度，而測定混濁度x1及混濁度x2。此外，就在表面具有凹凸構造之第1光擴散層而言，形成相同材料及相同平均厚度之平坦層，測定其混濁度而成為x1。或者是就已經形成凹凸構造之第1光擴散層而言，以藉由具有相同於第1光擴散層之折射率之透明樹脂而掩埋前述凹凸構造來進行平坦化及測定之混濁度，作為x1。作為測定機器係可以按照JIS K7105而使用市面販賣之濁度計(NDH-300A、日本電色工業公司製等)。
除了混濁度x1及混濁度x2滿足前述公式(1)以外，還可以藉由滿足前述公式(2)而皆滿足光學板片之面內透過率之均勻度、由於透過之光之觀察角度來造成之色調變化小、光學板片表面之機械強度高之任何一種。
也就是說，為了提高光學板片表面之機械強度，因此，必須提高光擴散層之硬度，這個係在為了提高光取出效率而在光學板片之表面設置凹凸構造之狀態下，提高必要性。此外，為了抑制由於觀察角度而造成之色調變化，因此，必須提高光學板片之混濁度，要求在光擴散層來添加多量之擴散子。但是，在使用高硬度之材料且添加許多之光擴散層之時，硬化前之材料黏度變高，所以，不容易提高層成形之精度，並且，些微厚度之不均勻度係成為大透過率之變化而顯現，因此，結果不容易得到均勻面內之透過率。於是，在本發明，可以藉由設置提高硬度之第1光擴散層和用以提高擴散性之第2擴散層，並且，使得這些混濁度之比值，成為前述規定範圍，而達成前述效果。
混濁度x1及混濁度x2之各個值係只要滿足前述要件，則並無特別限定，但是，x1之下限係最好是50%，更加理想是75%，x1之上限係最好是90%，更加理想是89.5%。特別是可以藉由x1之下限成為前述理想範圍以上，而在第1光擴散層之表面上產生微小之傷痕之狀態下，良好地緩和由於此種傷痕來造成之光學板片之性能減低(例如面內透過率之均勻度之減低等)，因此，變得特別理想。x2之下限係最好是75%，更加理想是85%，x2之上限係最好是90%，更加理想是89.5%。
(凹凸構造)
在本發明之光學板片，第1光擴散層係係在其第1面D1(表側之面)具有凹凸構造。在此提到之第1光擴散層之所謂「表側之面」係第1光擴散層之相反於透明基材側之面之相反側之面。作為該凹凸構造係最好是可以列舉將包含斜面之複數個凹部和位處於前述凹部周圍之平坦部予以包含之凹凸構造。在此所謂「斜面」係形成不平行於透明基材面方向之角度之面。另一方面，平坦部上之面係可以成為平行於透明基材面方向之面。
作為凹凸構造之例子係參考圖3及圖4而更加詳細地說明圖1及圖2所示之光學板片100之第1光擴散層111之上面之凹凸構造。圖3係擴大藉由第1光擴散層111之表面構造來規定之光學板片100之表面10U之構造而呈示意地顯示之部分俯視圖。圖4係顯示在通過圖3之線10a之垂直面來切斷第1擴散層111之剖面之部分剖面圖。
複數個凹部113之各個係正四角錐形狀之凹陷，因此，凹部113之斜面11A～11D係相同形狀，底邊11E～11H係構成正方形。線10a係通過一列之凹部113之全部頂點11P之上面之線並且平行於凹部113之底邊11E及11G之線。
凹部113係保持一定之間隔而連續地配置於直交之2配置方向。在此種之2配置方向中，某一邊之方向X係平行於底邊11E及11G。在該方向X，複數個之凹部113係保持一定之間隔11J而進行排列。2配置方向中之其他邊之方向Y係平行於11F及11H。在該方向Y，複數個之凹部113係保持一定之間隔11K而進行排列。
構成各個凹部113之斜面11A～11D係設定成為平坦部114之角(就斜面11B及11D而言，分別成為圖4所示之角11L及11M)，例如成為60°，藉此而在構成凹部113之正四角錐之頂角、也就是頂點11P，使得相對向之斜面來形成之角(就斜面11B及11D來形成之角而言，成為圖4所示之角11N)，也成為60°。
像這樣，光學板片係可以藉由在位處於面光源裝置之裝置出光面之第1擴散層側之表面，具有包含複數個凹部和位處於各凹部周圍之平坦部之構造，並且，光學板片具有光擴散性，而提高光取出效率，並且，減低由於觀察角度來造成之色調變化，而且，可以防止由於外部撞擊來產生凹凸構造之缺口等，進而能夠提高裝置出光面之機械強度。
本發明之光學板片係可以藉著具有前述凹凸構造，而比起不採用前述構造之狀態，還更加地減低由第1光擴散層側來出光之光之半球狀全方位之色度座標之x座標及y座標之至少任合一種之位移。因此，在包括本發明光學板片之本發明之面光源裝置，可以更加地抑制由於觀察角度來造成之色調變化。作為測定在此種半球狀全方位之色度位移之方法係可以藉由賦予例如在裝置出光面之法線方向(也就是在垂直於忽視凹部而呈巨觀地觀察之裝置出光面之垂直方向)之上設置分光放射亮度計且在法線方向成為0°之時、由-90～90°為止來旋轉其裝置出光面之機構，而由在各方向來測定之發光質譜，算出色度座標，因此，可以算出其位移。
可以藉著適度地調節在由垂直於光學板片之垂直方向來觀察凹凸構造之狀態下之平坦部佔有之面積相對於平坦部佔有之面積和凹部佔有之面積之合計之比例(在以下，稱為「平坦部比例」。)，而提高面光源裝置之光取出效率。具體地說，可以藉由平坦部比例，成為10～75%，而得到良好之光取出效率，並且，能夠提高裝置出光面之機械強度。
第1光擴散層係在其表面具有凹凸構造之狀態下，凹部係例如除了前面敘述之角錐形狀以外，還可以具有圓錐形狀、球面一部分之形狀、溝狀之形狀以及組合這些之形狀。角錐形狀係正如例舉成為前述凹部113，可以成為底面是正方形之四角錐，但是，並非限定於此，也可以成為三角錐、五角錐、六角錐、底面並非正方形之四角錐等之角錐形狀。
此外，在本案提到之圓錐及角錐係不僅是其頂部呈尖銳之通常之圓錐及角錐，並且，也包含前端帶有圓形之形狀或者是呈平面地倒圓角之形狀(圓錐台或角錐台狀之形狀等)。例如在圖4所示之凹部113，四角錐之頂部11P係成為尖銳之形狀，但是，這個係正如圖5所示之凹部613之頂部61P，可以成為帶有圓形之形狀。此外，正如圖6所示之凹部713，也可以在角錐之頂部，設置平坦之部分71P，成為呈平面地倒圓角之形狀。
在正如圖5所示而成為角錐之頂部帶有圓形之形狀之狀態下，其頂部61P和在該角錐不帶有圓形而呈尖銳之形狀之狀態下之頂部61Q之間之高度差61R係可以成為在該角錐不帶有圓形而呈尖銳之形狀之狀態下之角錐高度61S之20%以下。在正如圖6所示而成為角錐之頂部呈平面地倒圓角之形狀之狀態下，平坦之部分71P和在該角錐之頂部成為平坦而無尖銳之形狀之狀態下之頂部71Q之間之高度差71R係可以成為在該角錐之頂部成為平坦而無尖銳之形狀之狀態下之角錐高度71S之20%以下。
凹凸構造之凹部深度係並無特別限定，但是，作為沿著各種方向(平行於出光面之面內之各種方向)而測定形成凹凸構造之表面之中心線平均粗糙度之最大值(Ra(max))係可以成為1～50μm之範圍內。在凹凸構造形成於第1光擴散層上之狀態下，可以相對於第1光擴散層之厚度而呈相對地決定理想之凹部深度。例如在使用有利於維持第1光擴散層之耐久性之硬質材料來作為第1光擴散層之材料之狀態下，凹凸構造層之厚度變薄者係比較可以提高光學板片之可撓性，面光源裝置之製造製程之光學板片之處理變得容易。具體地說，圖4所示之第1光擴散層111之厚度16E相對於凹部深度16D之比例係最好是16D：16E=1：1～1：3。
在本發明，凹部之斜面和出光面來形成之角係最好是40～70°，更加理想是45～60°。例如在凹部之形狀為圖4、圖11及圖12所示之四角錐之狀態下，其頂角(圖4之角11P)係最好是60～90°。此外，由所謂使得因為觀察角度來造成之色調變化成為最低限度且也提高光取出效率之觀點來看的話，則最好是斜面和透明基材之面來形成之角係越大越好，具體地說，最好是例如55°以上，甚至更加理想是60°以上。在該狀態下，此種角之上限係可以考慮第1光擴散層之耐久性之維持而成為70°程度。
在凹部之形狀為在頂部帶有圓形或者是呈平面地倒圓角之角錐形狀、圓錐形狀或溝狀之形狀之狀態下，以除去該帶有圓形之部分或倒圓角之部分之斜面之角度，作為斜面之角度。例如在圖5及圖6所示之例子，使得面613a、613b、713a及713b，成為角錐之斜面。可以藉由斜面之角度，成為此種角度，而提高光取出效率。凹凸構造之斜面係不需要一定全部相同，可以在前述範圍內，共存具有不同角度之斜面。此外，所謂圓錐形狀之斜面和透明基材之面來形成之角係可以成為此種圓錐之母線和透明基材之面來形成之角。
在第1光擴散層之表面，複數個之凹部係能夠以任意之形態來配列。例如可以沿著表面上之2個以上之方向，來配列複數個之凹部。更加具體地說，正如圖1及圖3所示之凹部113，可以沿著直交之2方向而進行配列。
在2個以上之方向來配列凹部之狀態下，可以在這些當中之1方向以上之方向，設置相互鄰接之凹部間之間隙，藉由此種間隙而構成平坦部。例如在圖3所示之凹部113之配列，在直交之2方向，分別設置間隔11J及11K之間隙，藉由此種間隙而構成平坦部114。可以藉由採用此種構造而同時達成良好之光取出效率和板片表面之機械強度。
(製造方法)
本發明之光學板片係可以藉由例如調製適合於形成第1光擴散層之樹脂組成物(1)及適合於形成第2光擴散層之塗佈液(2)，使用這些，分別在透明基材之兩面，形成第1光擴散層及第2光擴散層，而製造光學板片。
(第1光擴散層之形成方法)
作為適合於形成第1光擴散層之樹脂組成物(1)係可以使用前面列舉之光擴散層材料之樹脂之硬化前者以及包含擴散劑之組成物。樹脂組成物(1)係可以配合需要而包含溶媒。但是，由可以順暢地進行後面敘述之光聚合物法等之觀點來看的話，則樹脂組成物(1)係最好是不添加溶媒而進行調製，在形成製程而必須揮發之成分作為變少或不存在之組成物。
另一方面，此種不添加溶媒而進行調製之樹脂組成物(1)係有進行塗佈而得到之塗膜之厚度不均變大之傾向發生。因此，一般在採用此種材料來作為光學板片之一部分之層材料之狀態下，容易發生厚度變得不均勻而減低面內透過率之均勻度等之意外。但是，在本發明之光學板片，可以藉由採用具有後面敘述之規定之混濁度比值者，來作為第1光擴散層及第2光擴散層，而即使是降低第1光擴散層之擴散性，也可以成為具有規定之擴散性能之光學板片，結果，可以成為具有各種之良好特性且能夠容易藉由光聚合物法而製造之光學板片。
可以藉由樹脂組成物(1)塗佈於透明基材之面上，得到塗膜，如果需要的話，則揮發塗膜中之溶媒，並且，配合需要，進行由於能量射線之照射等而造成之硬化處理，來得到第1光擴散層。
第1光擴散層係在其表面具有凹凸之狀態下，此種凹凸構造之形成係可以藉由調製具有要求形狀之模具等之模子，在得到前述塗膜後之任意階段，轉印前述模子之形狀，而進行凹凸構造之形成。
更加具體地說，最好是在得到前述塗膜後而進行硬化處理之前，進行藉由光聚合物法而造成之凹凸構造之形成。也就是說，最好是在形成之前述塗膜，碰觸模子，以該狀態，來硬化塗膜，形成具有凹凸構造之硬化之層。在該狀態下，作為樹脂組成物(1)係最好是使用可以藉由紫外線等之能量射線而硬化之組成物。可以藉著此種樹脂組成物(1)，塗佈於透明基材上，得到塗膜，以在該塗膜碰觸模子之狀態，由位處於塗佈面之背側(透明基材之相反於塗佈樹脂組成物(1)之面之相反側)之光源，照射紫外線等之能量射線，硬化樹脂組成物(1)，剝離其後模，而得到具有反轉模子凹凸構造之形狀之凹凸構造之第1光擴散層。
(第2光擴散層之形成方法)
作為適合於形成第2光擴散層之塗佈液(2)係可以使用前面列舉之光擴散層材料之樹脂之硬化前者以及包含擴散劑之組成物。塗佈液(2)係最好是可以還包含溶媒。作為此種溶媒係可以列舉甲苯、己烷、環己烷、甲基乙基甲酮、乙酸乙酯等。可以藉由塗佈液(2)，成為包含此種溶媒之組成物，而即使是其擴散性變高者，也以均勻之厚度，來製造第2光擴散層。結果，可以容易得到同時達成由於透過之光觀察角度來造成之色調變化小以及面內透過率之均勻度的光學板片。在塗佈液(2)包含樹脂、擴散子及溶媒之狀態下，塗佈液(2)整體之溶媒比例係可以成為50～95重量%。
可以藉由塗佈液(2)塗佈於透明基材之面上，配合需要來揮發溶媒，並且，配合需要，進行由於能量射線之照射等而造成之硬化處理，來得到第2光擴散層。溶媒之揮發係可以藉由例如在規定之時間、規定之溫度範圍，進行加熱，而進行溶媒之揮發。加熱溫度係最好是40～200℃、更加理想是40～140℃。加熱時間係更加理想是15～600s。
在形成第2光擴散層來作為也具有成為黏著層之機能之層之狀態下，可以在形成第2光擴散層之後，配合需要而在第2光擴散層上，貼附分離部。可以藉由在面光源裝置之製造時，在本發明之光學板片貼附於其他層之即刻前，剝離分離部，而達成容易之貼附。
＜面光源裝置＞
本發明之面光源裝置係包括前述本發明之光學板片和有機EL元件。
圖7係呈示意地顯示包括圖1及圖2所示之本發明之光學板片100之本發明之面光源裝置之一例之立體圖，圖8係顯示通過圖7中之線1a-1b而在垂直於透明基材面方向之垂直面來切斷圖7所示之面光源裝置10之剖面之剖面圖。
面光源裝置10係具有矩形之平板狀構造之裝置，包括：由玻璃等之材料而組成之基板131、接合在基板131之裝置出光面側之表面13a而設置之本發明之光學板片100、以及接合在基板131之其他邊之面13b而設置之有機EL元件140。面光源裝置10係還在有機EL元件140之相反於裝置出光面之相反側之表面145側，具有封裝基板151，來作為任意之構成要素。
有機EL元件140係由接近於基板131之側開始，依序地包括第1電極層141、發光層142和第2電極層143。第1電極層141係透明電極，第2電極層143係反射電極。由於成為此種構造，因此，來自發光層142之光係透過第1電極層141，或者是反射於第2電極層143，透過發光層142及第1電極層141而朝向至光學板片100側。
光學板片100係設置第1光擴散層111位處於面光源裝置10之上面(也就是面光源裝置10之出光面側之最外層)，第2光擴散層112接合在基板131。第2光擴散層112係也具有作為黏著層之機能，藉此而使得光學板片100黏著於基板131。
由有機EL元件140來出光之許多光係藉由第1及第2光擴散層而進行擴散，同時，以該順序地透過第2光擴散層112、透明基材層121及第1光擴散層111，由表面10U來出光。因此，光學板片100之表面10U係成為面光源裝置10之裝置出光面。
像這樣，來自發光層142之光係藉著透過光學板片100，進行出光，而以擴散光之狀態，來進行出光，結果，正如在前面之說明，可以抑制由於觀察角度來造成之出光面之色調變化。此外，正如在前面之說明，光學板片100之面內透過率之均勻度變高，因此，面光源裝置10之出光面內之亮度之均勻性變高。此外，可以藉由光學板片100之表面10U之凹凸構造，而提高光取出效率。
(有機EL元件)
正如例舉成為前述有機EL元件140，使用於本發明之面光源裝置之有機EL元件係可以成為包括2層以上之電極層以及設置於這些電極層間且藉著由電極來施加電壓而進行發光之發光層的元件。
有機EL元件係一般成為在基板上，形成構成元件之電極、發光層等之層，並且，還設置覆蓋這些層之封裝構件，藉由基板和封裝構件而封裝發光層等之層之構造。通常，由在此提到之所謂基板側來出光之元件係稱為底發射型，由封裝構件側來出光之元件係稱為頂發射型。本發明之面光源裝置係可以是這些之任何一種，在底發射型之狀態下，可以在基板之相反於形成有機EL元件之面之相反側之面上，設置本發明之光學板片。另一方面，在頂發射型之狀態下，可以組合本發明之光學板片或者是本發明之光學板片和具有任意之封裝能之層，以這個作為封裝構件而構成面光源裝置。
在本發明，作為構成有機EL元件之發光層係並無特別限定，可以適度地選擇既知者。發光層中之發光材料係並非限定於1種類，並且，發光層也並非限定於1層，可以是應該適合於作為光源之用途而組合一種之單獨層或複數種類之層。可以藉此而發出白色或接近該白色之顏色之光。
此外，有機EL元件係也可以在電極間，除了發光層之外，還具有電洞注入層、電洞輸送層、電子輸送層、電子注入層及氣體障敝層等之其他層。此外，有機EL元件係也可以包括用以通電至電極之配線、發光層之封裝用之周邊構造等之任意之構成要素。
有機EL元件之電極係並無特別限定，可以適度地選擇既知者。正如圖7及圖8所示之有機EL元件140，能夠藉由以出光面構造層側之電極，作為透明電極，以相反側之電極，作為反射電極，而成為出光於出光面構造層側之有機EL元件。此外，也能夠藉由以兩邊之電極，作為透明電極，並且，在相反於出光面構造層之相反側，具有反射構件，而達成出光至出光面構造層側之出光。
作為構成電極及設置於其間之層之材料係並無特別限定，但是，作為具體例係可以列舉下列者。
作為透明電極之材料係可以列舉ITO等。
作為電洞注入層之材料係可以列舉星爆系芳香族二胺化合物等。
作為電洞輸送層之材料係可以列舉三苯基二胺衍生物等。
作為黃色發光層之基質材料係可以同樣地列舉三苯基二胺衍生物等，作為黃色發光層之摻雜物材料係可以列舉并四苯衍生物等。
作為綠色發光層之材料係可以列舉吡唑啉衍生物等。
作為藍色發光層之基質材料係可以列舉蒽衍生物等，作為藍色發光層之摻雜物材料係可以列舉二萘嵌苯衍生物等。
作為紅色發光層之材料係可以列舉銪錯化合物等。
可以在電子輸送層之材料，列舉鋁喹啉錯化合物(Alq)等。
可以在陰極材料，列舉分別使用氟化鋰和鋁並且依序地藉由真空成膜而層積這些者。
可以適度地組合前述或其他之發光層而得到稱為層積型或串列型且發生位處於補色關係之發光色的發光層。補色關係之組合係可以成為黃/藍或綠/藍/紅等。
(用途)
本發明之面光源裝置係可以使用於照明器具及背光裝置等之用途。
前述照明器具係可以具有本發明之面光源裝置，來作為光源，並且，可以包含：保持光源之構件以及供應電力之電路等之任意構成要素。前述背光裝置係可以具有本發明之面光源裝置，來作為光源，並且，可以包含：框體、供應電力之電路、用以使得出光之光呈更加地均勻之擴散板、擴散板片以及稜鏡板片等之任意構成要素。前述背光裝置之用途係可以使用作為液晶顯示裝置等、控制畫素而顯示畫像之顯示裝置以及固定看板等而顯示畫像之顯示裝置之背光板。
(其他)
本發明係並非限定於前述具體例，可以在本案之申請專利範圍及其均等之範圍內，施行任意之變更。
例如本發明之光學板片係除了透明基材、第1光擴散層及第2光擴散層以外，還可以包含任意層。此種之任意層係不僅是位處於透明基材、第1光擴散層和第2光擴散層之間之層，並且，也可以是例如還設置在第1光擴散層表面之凹凸構造上之塗佈層，此種塗佈層係可以規定本發明之面光源裝置之裝置出光面之凹凸構造。
此外，在前述實施形態之例舉，作為分布於第1光擴散層表面之整個面之凹部係顯示僅分布由相同形狀而組成者，但是，在第1光擴散層之表面，可以混在不同形狀之凹部。例如可以混在不同大小之角錐形狀之凹部，或者是混在角錐形狀之凹部和圓錐形狀之凹部，或者是混在組合複數個角錐之形狀和單純之角錐形狀。
此外，在前述具體例，就構成凹凸構造之平坦部之幅寬以及相互鄰接之平坦部之間隔而言，經常顯示一定，但是，可以混在平坦部之幅寬變窄者和變寬者，並且，也可以混在平坦部之間隔變窄之部位和變寬之部位。像這樣，可以藉由在平坦部之高度、幅寬和間隔之1個以上之要素，成為將超過造成出射光干涉之差異之尺寸差予以設置之形態，而抑制由於干涉來造成之虹不均。
此外，即使是取代前述具體例中之反射電極層，來成為透明電極層和反射層，也可以構成具有相同於反射電極層之同樣效果之裝置。
【實施例】
在以下，參考實施例及比較例而更加具體地說明本發明，但是，本發明係並非限定於這些。
在實施例及比較例，混濁度之測定係使用濁度計(NDH-300A、日本電色工業公司製)而進行測定。
＜實施例1＞ (1-1.樹脂組成物(1))
在以胺基甲酸乙酯丙烯酸酯作為主成分之UV硬化樹脂(折射率1.54)，添加直徑2μm之粒子(矽酮樹脂)，進行攪拌而分散粒子，調製成為第1光擴散層材料之樹脂組成物(1)。粒子之含有比例係樹脂組成物(1)全量中之10重量%。UV硬化樹脂之黏度係400cP，相對地，樹脂組成物(1)之黏度係500cP。
(1-2.塗佈液(2))
在以8：2(重量比)來混合甲基環己烷和乙酸乙酯之溶媒，溶解以酸變性聚烯烴樹脂(折射率1.49)作為主成分之樹脂，並且，添加直徑2μm之粒子(矽酮樹脂)，進行攪拌而分散粒子，調製成為第2光擴散層材料之塗佈液(2)。酸變性聚烯烴樹脂之濃度係塗佈液(2)全量中之15重量%。粒子之濃度係固態成分全量(酸變性聚烯烴樹脂和粒子之合計)中之15重量%。
(1-3.黏著層)
在基材薄膜(聚酯薄膜)分成為2次而將塗佈液(2)予以塗佈，吹掉溶媒而形成厚度45μm之黏著層(也就是第2光擴散層)，並且，層壓分離部，得到具有(基材薄膜)-(黏著層)-(分離部)之層構造且附有黏著層之基材薄膜。在測定該附有黏著層之基材薄膜之混濁度(也就是混濁度x2)之時，成為78%。
(1-4.第1光擴散層之形成)
在附有黏著層之基材薄膜之露出基材薄膜之面上，以15μm之厚度來塗佈樹脂組成物(1)，形成塗膜，在此種塗膜上，壓緊金屬塑模。以該狀態，透過分離部、黏著層和基材薄膜，在樹脂組成物(1)之塗膜，照射紫外線1J/cm2 ，硬化塗膜，形成第1光擴散層，得到具有(第1光擴散層)-(基材薄膜)-(黏著層)-(分離部)之層構造之光學板片1。金屬塑模表面之形狀係呈無間隙地排列頂角50°、底邊15μm之正四角錐之形狀，在得到之第1光擴散層之表面，設置反轉此種四角錐形狀之形狀之凹陷。此外，得到之第1光擴散層之厚度係18μm。
此外，藉由沿著不均部，掃描亮度計(BM-5A、TOPCON公司製)而測定得到之光學板片1之光透過率之不均。將結果顯示於表1。
(1-5.第1光擴散層之混濁度)
不同於前述(1-4)，在相同於(1-3)準備之同一基材薄膜上，相同於(1-4)而設置第1光擴散層，製作層積體，並且，在第1光擴散層之正四角錐狀之凹陷內，充滿具有折射率相同於構成樹脂組成物(1)之UV硬化樹脂之相同折射率之樹脂，相同於前面之敘述而進行硬化，構成形成平滑面之其他擴散層，在以該狀態來測定該其他擴散層之混濁度(也就是混濁度x1)之時，成為80%。因此，光學板片1係滿足公式(1)。
(1-6.有機EL元件之形成)
在厚度0.7mm之玻璃基板之某一邊之主面，按照該順序地形成透明電極層100nm、電洞輸送層10nm、黃色發光層20nm、藍色發光層15nm、電子輸送層15nm、電子注入層1nm及反射電極層100nm。由電洞輸送層至電子輸送層為止，全部係藉由有機材料而形成。黃色發光層及藍色發光層係分別具有不同之發光質譜。
形成由透明電極層至反射電極層為止之各層之材料係分別正如以下之記載。
‧透明電極層：錫添加氧化銦(ITO)
‧電洞輸送層：4,4’-雙[N-(萘基)-N-苯基胺基]聯苯基(α-NPD)
‧黃色發光層：添加紅熒烯1.5重量%、α-NPD
‧藍色發光層：添加銥錯化合物10重量%、4,4’-二咔唑基-1,1’-聯苯基(CBP)
‧電子輸送層：菲繞啉衍生物(BCP)
‧電子注入層：氟化鋰(LiF)
‧反射電極層：Al
透明電極層之形成方法係藉由作為ITO標靶之反應性濺鍍法而進行，表面電阻成為10Ω/□以下。此外，由電洞注入層至反射電極層為止之形成係藉著在真空蒸鍍裝置內，設置已經形成透明電極層之玻璃基板，以電阻加熱式，依序地蒸鍍由前述電洞輸送層至反射電極層為止之材料而進行。系統之內壓係5×10-3 Pa，蒸發速度係以0.1～0.2nm/s來進行。
此外，在電極層，安裝通電用配線，並且，藉著封裝構件而封裝由電洞輸送層至反射電極層為止，得到有機EL元件。
(1-7.面光源裝置)
剝離在前述(1-4)得到之光學板片之分離部，將這個貼附於(1-6)得到之有機EL元件。進行貼附而使得露出之黏著層來黏著於有機EL元件之玻璃基板。藉此而得到面光源裝置。得到之面光源裝置係具有可以由光學板片1之第1光擴散層來射出白色光之長方形之出光面。
(1-8.評價)
就在前述(1-7)得到之面光源裝置而言，正如以下而測定由於觀察角度之變化來造成之顏色不均。
在裝置出光面之法線方向，設置分光放射亮度計(TOPCON公司製、BM-5)，施加面光源裝置100mA/m2 之定電流，旋轉出光面，改變分光放射亮度計相對於出光面之觀察方向，測定色度(x,y)。觀察方向係在正面(法線方向)為0°時，在-90～90°之範圍，改變至平行於出光面長邊之方向，求出在觀察角度±60°之範圍內之色度(x,y)之變化量△xy。將結果顯示於表1。
＜比較例1＞
除了在(1-2)之塗佈液(2)之調製無添加粒子以外，其餘係相同於實施例1而得到光學板片及面光源裝置，進行評價。將評價結果，顯示於表1。
＜比較例2＞
除了粒子之含有比例為樹脂組成物(1)全量中之15重量%以外，其餘係相同於實施例1之(1-1)而得到樹脂組成物(1)。該樹脂組成物(1)之黏度係700cp。
除了使用該樹脂組成物(1)並且在(1-2)之塗佈液(2)之調製無添加粒子以外，其餘係相同於實施例1而得到光學板片及面光源裝置，進行評價。將評價結果，顯示於表1。
＜比較例3＞
在實施例1之(1-6)得到之有機EL元件，仍然直接地作為面光源裝置，相同於(1-8)而測定色度(x,y)之變化量△xy。將結果顯示於表1。
正如表1之結果而明確地顯示：在混濁度x1和x2及光學板片整體之混濁度為本發明之規定範圍內之實施例1，不論是否使用高黏度之樹脂組成物(1)(有利於提高表面硬度且藉著由於光聚合物法來造成之成形而提高光取出效率，但是，容易發生透過率不均)，也得到透過率不均變低且顏色不均也變低之結果。
相對於此，在混濁度x2變低且無法滿足本發明要件之比較例1，透過率不均及顏色不均係變大。
此外，光學板片整體之混濁度係同等於實施例1，但是，在x1和x2之關係無法滿足本發明要件之比較例2，可以減低顏色不均，起因於樹脂組成物(1)之擴散性變高且黏度變高而容易發生塗佈不均，因此，大幅度地發生透過率不均。比較例2之透過率不均之測定值係同等於比較例1之4.5%，但是，在出光面之目視之觀察結果，觀察到：比起比較例1，比較例2係有不均比較大之傾向發生。
＜參考例1＞
除了改變各種之樹脂組成物(1)和添加於塗佈液(2)之粒子之含有比例以外，其餘係相同於實施例1而進行操作，製作第1光擴散層和第2光擴散層之各種不同之混濁值之光學板片及面光源裝置。各個之混濁度x1、x2及整體之混濁度係正如表2。
就這些而言，就是否在第1光擴散層側之表面觀察到塗佈不均而言，藉由目視而按照下列之評價基準，來進行評價。
不良：觀察到塗佈不均(大約相當於光透過率不均3%以上)。
良好：無觀察到塗佈不均(大約相當於光透過率不均3%未滿)。
此外，就這些而言，就是否改善顏色不均而言，一併藉由目視而進行觀察，按照下列之評價基準，來進行評價。
不良：觀察到顏色不均。
良好：無觀察到顏色不均。
將這些結果，顯示於表2。
各欄位之數值及記號係分別顯示以下。
最上段：f(x1)/(f(x1)+f(x2))之值
由上開始之第2段：f(x1)+f(x2)
由上開始之第3段：塗佈不均評價結果
最下段：顏色不均評價結果
由表2之結果而得知：在f(x1)/(f(x1)+f(x2))之值以及f(x1)+f(x2)之值為本案之規定範圍內之狀態下，得到特別是塗佈不均變低和顏色不均變低同時成立的光學板片。
1a．．．線
1b．．．線
10．．．面光源裝置
10a．．．線
10U．．．板片表面
11A．．．斜面
11B．．．斜面
11C．．．斜面
11D．．．斜面
11E．．．凹部底邊
11F．．．凹部底邊
11G．．．凹部底邊
11H．．．凹部底邊
11J．．．間隔
11K．．．間隔
11L．．．角
11M．．．角
11N．．．角
11P．．．頂點
13a．．．表面
13b．．．面
16D．．．凹部深度
16E．．．厚度
61P．．．頂部
61Q．．．頂部
61R．．．高度差
61S．．．角錐高度
71P．．．平坦部分
71Q．．．頂部
71R．．．高度差
71S．．．角錐高度
100．．．光學板片
111．．．第1光擴散層
112‧‧‧第2光擴散層
113‧‧‧凹部
114‧‧‧平坦部
121‧‧‧透明基板
131‧‧‧基板
140‧‧‧有機EL元件
141‧‧‧第1電極層
142‧‧‧發光層
143‧‧‧第2電極層
145‧‧‧表面
151‧‧‧封裝基板
613‧‧‧凹部
613a‧‧‧面
613b‧‧‧面
713‧‧‧凹部
713a‧‧‧面
713b‧‧‧面
圖1係呈示意地顯示本發明之光學板片之一例之立體圖。
圖2係顯示通過圖1中之線1a-1b而在垂直於透明基材面方向之垂直面來切斷圖1所示之光學板片之剖面之剖面圖。
圖3係呈示意地顯示光學板片100之表面10U之構造之部分俯視圖。
圖4係顯示在通過圖3之線10a之垂直面來切斷第1擴散層111之剖面之部分剖面圖。
圖5係顯示圖4所示之凹部之變化例之部分剖面圖。
圖6係顯示圖4所示之凹部之其他變化例之部分剖面圖。
圖7係呈示意地顯示本發明之面光源裝置之一例之立體圖。
圖8係顯示通過圖7中之線1a-1b而在垂直於透明基材面方向之垂直面來切斷圖7所示之面光源裝置10之剖面之剖面圖。
圖9係用以說明在本發明來規定之函數f(x)之圖形。
1a．．．線
1b．．．線
10U．．．板片表面
100．．．光學板片
111．．．第1光擴散層
112．．．第2光擴散層
113．．．凹部
114．．．平坦部
121．．．透明基板

Claims (5)

  1. 一種光學板片，包括：具有第1面S1和第2面S2之透明基材、設置於前述透明基材之前述第1面S1側之第1光擴散層、以及設置於前述透明基材之前述第2面S2側之第2光擴散層的光學板片，其中，前述第1光擴散層係具有第1面D1和第2面D2，前述第1面D1係相反於前述透明基材之相反側之面並且成為平滑面，前述第1光擴散層之混濁度x1(%)和前述第2光擴散層之混濁度x2(%)係滿足下列之公式(1)及公式(2)；f(x1)/(f(x1)+f(x2))≦2/3˙˙˙公式(1) (f(x1)+f(x2))≧12˙˙˙公式(2)其中，在x≦88之時，成為函數f(x)=1.9×(1n(1-x/90))2 ，在x>88之時，成為函數f(x)=22.5x-1952.5；其中，前述光學板片的全光線透過率為50%以上。
  2. 一種光學板片，包括：具有第1面S1和第2面S2之透明基材、設置於前述透明基材之前述第1面S1側之第1光擴散層、以及設置於前述透明基材之前述第2面S2側之第2光擴散層，其中，前述第1光擴散層係具有第1面D1和第2面D2，前述第1面D1係相反於前述透明基材之相反側之面並且具有凹凸構造之面，相同於前述第1光擴散層之同樣材料以及同樣厚度並且不具有前述第1光擴散層之凹凸構造 之光擴散層之混濁度x1(%)和前述第2光擴散層之混濁度x2(%)係滿足下列之公式(1)及公式(2)；f(x1)/(f(x1)+f(x2))≦2/3˙˙˙公式(1) (f(x1)+f(x2))≧12˙˙˙公式(2)其中，在x≦88之時，成為函數f(x)=1.9×(1n(1-x/90))2 ，在x>88之時，成為函數f(x)=22.5x-1952.5；其中，前述光學板片的全光線透過率為50%以上。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之光學板片，其中，前述第1光擴散層係藉由含有樹脂及擴散子之組成物而構成。
  4. 如申請專利範圍第1或2項之光學板片，其中，前述第2光擴散層係黏著層。
  5. 一種面光源裝置，其中，包括如申請專利範圍第1或2項所記載之光學板片以及有機電激發光元件。
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