TWI500902B - A parallel sliding device device and its control method and measuring device for pressure linear guide mode - Google Patents

Description

氣壓線性導件方式之並聯滑件裝置及其控制方法以及測量裝置 發明領域

本發明係關於一種氣壓線性導件方式之並聯滑件裝置及其控制方法以及測量裝置，更詳言之，本發明係關於一種各個滑件藉由氣壓線性導件以可移動方式設置於彼此平行之二根導軌之並聯滑件裝置及其控制方法以及使用該並聯滑件裝置之測量裝置。

發明背景

作為測量直徑為300mm之矽晶圓等大口徑且薄圓盤(被測量物)之表背面之平坦度及厚度不一致之測量裝置，已知有如下列者，該測量裝置具有：支承體，係將被測量物沿既定平面，例如沿垂直面加以支承者；直線狀之第1導軌及第2導軌，係分別沿前述平面彼此平行配置於前述支承體之前面側與背面側兩側者；以及第1滑件及第2滑件，係以個別可往軌道長方向移動之方式設置於前述第1及第2導軌者；在前述第1滑件安裝有用以測量至前述被測量物前面(表面)距離之第1測量手段(變位計)，在前述第2滑件安裝有用以測量至前述被測量物背面距離之第2測量手段(變位計)(例如專利文獻1)。

將第1及第2滑件對搭載有測量手段之第1及第2滑件之第1及第2導軌在軌道長方向之移動進行導引之線性導件，為保證高精度之直進性，分別使用靜壓軸承構造之氣壓線 性導件。此種滑件機構稱為氣力滑送機構。

採用上述構成之測量裝置，雖必須在分別獨立於支承被測量物之支承體之前面側與背面側兩側，配置氣力滑送機構，但可將導軌之高度位置設定於靠近變位計掃描矽晶圓等之被測量物之表背面之高度位置，相較於導軌配置於支承體下方之情形，可縮短導軌與變位計之高度方向之相隔距離。

藉此，因滑件對導軌之移動軸線周圍之變位所引起之滾動方向誤差，可排除因導軌與變位計之高度方向之相隔距離而成比例變大的誤差，而可以高精度進行表背面獨立之平坦度測量。

先前技術文獻 專利文獻

專利文獻1：日本專利廳公開專利(特開平11-351857號)公報

發明揭示

然而，此種情形，由於獨立於支承體之前面側與背面側之兩側配置氣力滑送機構，因此必須使各滑件彼此同步而個別進行驅動，可能因為在滑件移動方向之滑送不一致，而在藉由變位計測量被測量物之測量位置產生表背的偏差。吾人擔心在測量被測量物之厚度時會因此引起誤差。又，在獨立配置之並聯2軸之氣力滑送機構之平行度若 有誤差，在測量被測量物之厚度時也會引起誤差。

相對於此，為將滑送不一致所引起之測量位置之偏差排除，且確保平行度，本案申請人與同一申請人考量以機械方式彼此連結2軸之滑件。

然而，構成2軸獨立配置之氣力滑送機構之導軌，有略微之真直誤差或滾動方向誤差。分別在平行配置之二根導軌上移動之滑件，即使該導軌之真直誤差極微小，當兩個滑件彼此配合移動方向之位置以同步方式進行移動時，在與該移動方向正交之方向，相對距離會略微變化。

在此種狀況中，如前所述，當彼此以機械方式連結2軸之滑件時，連結部分之機械剛性越高，越可消除上述之相對距離之誤差，另一方面，滑件為了以一定之空氣軸承剛性進行全面拘束，此等機械結合部之剛性與空氣軸承剛性會相互干擾，結果，對於保持上述相對距離為一定之目的，會成為不穩定之主要因素。

因此，當連結兩個滑件時，該連結部分之機械剛性與氣力滑送機構之空氣軸承剛性(藉由氣壓線性導件之滑件支承剛性)彼此受到影響，可能會有降低滑件連結體移動之平行度(真直度)再現性之虞。

本發明之氣壓線性導件方式之並聯滑件裝置，具有：第1導軌及第2導軌，係彼此平行配置者；及第1滑件及第2滑件，係以可朝軌道長方向移動的方式設置於各前述第1及第2導軌，且彼此以機械方式連結者；前述第1導軌具有分 別於兩側與軌道長方向並行延伸之第1軌道面，前述第1滑件具有與各前述第1軌道面相對向之第1滑件面，並構成在各第1軌道面與各第1滑件面之間具有氣隙之第1氣壓線性導件，前述第2導軌具有分別於兩側與軌道長方向並行延伸之第2軌道面，前述第2滑件具有與各前述第2軌道面相對向之第2滑件面，並構成在各第2軌道面與各第2滑件面之間具有氣隙之第2氣壓線性導件，第1氣壓線性導件之滑件支承剛性與第2氣壓線性導件之滑件支承剛性彼此不同。

藉由改變氣隙之大小、靜壓用氣袋之形狀、空氣噴出埠之口徑、滑件之受壓面積，可在第1氣壓線性導件與第2氣壓線性導件使氣壓線性導件之滑件支承剛性不同。

本發明之氣壓線性導件方式之並聯滑件裝置之控制方法，具有：第1導軌及第2導軌，係彼此平行配置者；及第1滑件及第2滑件，係以可朝軌道長方向移動的方式設置於各前述第1及第2導軌，且彼此以機械方式連結者；前述第1導軌具有分別於兩側與軌道長方向並行延伸之第1軌道面，前述第1滑件具有與各前述第1軌道面相對向之第1滑件面，並構成在各第1軌道面與各第1滑件面之間具有氣隙之第1氣壓線性導件，前述第2導軌具有分別於兩側與軌道長方向並行延伸之第2軌道面，前述第2滑件具有與各前述第2軌道面相對向之第2滑件面，並構成在各第2軌道面與各第2滑件面之間具有氣隙之第2氣壓線性導件；前述並聯滑件裝置之控制方法係進行氣壓控制以使供應給前述第1氣壓線性導件之氣壓與供應給前述第2氣壓線性導件之氣壓不同。

本發明之測量裝置，具有上述發明之並聯滑件裝置；在前述第1導軌與前述第2導軌之間配置有用以支承被測量物之支承體，在前述第1滑件安裝有用以測量離前述被測量物一面距離之第1測量手段，在前述第2滑件安裝有用以測量離前述被測量物另一面距離之第2測量手段。

依據本發明之氣壓線性導件方式之並聯滑件裝置，在第1滑件與第2滑件彼此以機械方式連結之狀態，藉由第1氣壓線性導件與第2氣壓線性導件可個別擔保各導軌延伸方向之直進性。而且，第1氣壓線性導件之滑件支承剛性與第2氣壓線性導件之滑件支承剛性彼此不同，因此在滑件支承剛性亦即空氣軸承剛性低側，可穩定進行吸收因氣隙變化所引起之真直誤差。藉此，滑件連結部分之機械剛性與空氣軸承剛性彼此受到影響，可將滑件連結體之平行度再現性(真直度)之降低予以排除，並保證高精度之平行度再現性。

圖式簡單說明

第1圖係表示使用本發明之氣壓線性導件方式之並聯滑件裝置之晶圓平坦度測量裝置之一實施形態之立體圖。

第2圖係本實施形態之晶圓平坦度測量裝置之前視圖。

第3圖係沿第2圖之線III-III之剖面圖。

第4圖係本實施形態之氣壓線性導件方式之並聯滑件裝置之前後滑件連結機構部分之立體圖。

第5圖係實施本實施形態之氣壓線性導件方式之並聯 滑件裝置及其控制方法所使用之氣壓控制之氣壓回路圖。

第6圖係表示另一實施形態之氣壓線性導件方式之並聯滑件裝置之氣壓控制之氣壓回路圖。

用以實施發明之形態

參照所附圖式，說明本發明較佳實施形態。另外，參照以下所附圖式說明中所使用之前後、上下、左右之方向係標示於各所附圖式之方向。

如第1圖、第2圖所示，在基台10之水平上面配置有支承體12。支承體12係支承被測量物即圓盤狀之矽晶圓W者，具有：固定安裝於基台10上之圓頂形狀之固定台14、及以可旋轉方式安裝於固定台14之圓環旋轉體16。

圓環旋轉體16藉由靜壓式之空氣軸承(省略圖示)，從固定台14以可旋轉方式支承於往前後方向延伸之水平中心線軸周圍。在圓環旋轉體16之內周部，於圓周方向以等間隔設置有前端具有滾輪18之複數個支承臂20。圓環旋轉體16，在滾輪18卡合於矽晶圓W之外周槽(省略圖示)之狀態，藉由支承臂20，將矽晶圓W沿垂直面支承於圓環狀空間內。另外，若需更詳細說明該矽晶圓W之支承構造，則請參照日本專利第4132503號公報。

雖未圖示，但在支承體12上組裝有將固定台14作為定子構件，將圓環旋轉體16作為轉子之無刷DC馬達。該無刷DC馬達係旋轉驅動圓環旋轉體16。

在基台10之上面安裝有左右之端托架30、32。左右之 端托架30、32係配置於支承體12之左右兩側，在上部分別固定支承前側導軌(第1導軌)40與後側導軌(第2導軌)42之左右兩端部。

換言之，前側導軌40係上下具有突出部(凸緣部)40A、40B之I形橫剖面形狀之直線導軌(真直)(參照第3圖)，在將左右端部固定連結於左右之端托架30、32之上部，並橋接於左右之端托架30、32間之狀態，將支承體12之前面側往左右方向水平延伸。

同樣地，後側導軌42係上下具有突出部42A、42B之I形橫剖面形狀之直線導軌(真直)，在將左右端部固定連結於左右之端托架30、32之上部，並橋接於左右之端托架30、32間之狀態，將支承體12之背面側往左右方向水平延伸。

上述之前側導軌40與後側導軌42係位於相同高度位置，且彼此平行延伸。

又，前側導軌40與後側導軌42係藉由補強連結板34、36，將左右兩端之上部彼此連結。

在前側導軌40設置有前側滑件(第1滑件)44，可移動於軌道長方向即左右方向。前側滑件44係藉由4片矩形板材44A~44D，構成為包圍前側導軌40之外周之四角筒體。

在前側滑件44之矩形板材44A~44D之上下前後相對向之2對各個內面(第1滑件面)、與該等相對向之前側導軌40之上側突出部40A之上面(第1軌道面)及前後兩面(第1軌道面)與下側突出部40B之下底面(第1軌道面)及前後兩面(第1軌道面)之間，分別設定有第1氣隙G1(參照第5圖)，在該前 側滑件44之矩形板材44A~44D上分別形成有朝對向面開口之空氣噴出埠46(參照第3圖)。在上下前後之各部中，在導軌延伸方向，亦即前側滑件44之移動方向，設置有複數個空氣噴出埠46(參照第5圖)。

從壓縮空氣源100，藉由第1壓力調節器102，將被調壓成第1壓力P1之壓縮空氣供應至空氣噴出埠46(參照第5圖)。藉此，在前側導軌40與前側滑件44之間構成靜壓軸承式之第1氣壓線性導件48。沿前側導軌40之軌道長方向之前側滑件44之直線移動係藉由第1氣壓線性導件48對前側導軌40以非接觸狀態進行導引。

同樣地，在後側導軌42設置有後側滑件(第2滑件)50，可移動於軌道長方向即左右方向。後側滑件50係藉由4片矩形板材50A~50D，構成為包圍該後側導軌42之外周之四角筒體。

在後側滑件50之矩形板材50A~50D之上下前後相對向之2對各個內面(第2滑件面)、與該等相對向之後側導軌42之上側突出部42A之上面(第2軌道面)及前後兩面(第2軌道面)與下側突出部42B之下底面(第2軌道面)及前後兩面(第2軌道面)之間，分別設定有第2氣隙G2(參照第5圖)，在後側滑件50之矩形板材50A~50D上分別形成有朝對向面開口之空氣噴出埠52(參照第3圖)。在上下前後之各部中，在導軌延伸方向，亦即後側滑件50之移動方向，設置有複數個空氣噴出埠52(參照第5圖)。

從壓縮空氣源100，藉由第2壓力調節器104，將被調壓 成第2壓力P2之壓縮空氣供應至空氣噴出埠52(參照第5圖)。藉此，在後側導軌42與後側滑件50之間構成靜壓軸承式之第2氣壓線性導件54。沿後側導軌42之軌道長方向之後側滑件50之直線移動係藉由第2氣壓線性導件54對後側導軌42以非接觸狀態進行導引。

另外，第3圖、第5圖中，第1、第2氣壓線性導件48、54之氣隙係誇張地圖示為較實際情形為大。

在前側滑件44與後側滑件50之各下底部固定安裝有連結用基座構件56、58。在連結用基座構件56、58之各個左右兩面，藉由以緊固螺栓64、66固定於連結用基座構件56、58之V形塊體68、70固定有連結圓棒60、62之前後兩端部(參照第4圖)。藉此，前側滑件44與後側滑件50係以機械方式堅固地連結於彼此相同之左右方向位置(掃描方向位置)及相同之前後方向位置。

此時，前側滑件44與後側滑件50之機械方式連結主要以藉由連結圓棒60、62之彎曲剛性所決定之所要剛性來進行。由於該機械方式連結係藉由V形塊體68、70保持連結圓棒60、62，並藉由將連結圓棒60、62緊壓於連結用基座構件56、58之之各個左右兩面(平面)來進行，因此以保持較高的左右方向位置精度來進行。

在基台10之前側導軌40之前側位置，藉由托架76固定安裝有前側線性伺服馬達72之定子構件74。定子構件74往左右方向延長，並與前側導軌40平行延伸。在前側滑件44安裝有前側線性伺服馬達72之動子構件78。藉此，前側滑 件44藉由前側線性伺服馬達72往左右方向驅動。

在基台10之後側導軌42之後側位置，藉由托架84固定安裝有後側線性伺服馬達80之定子構件82。定子構件82往左右方向延長，並與後側導軌42平行延伸。在後側滑件50安裝有後側線性伺服馬達80之動子構件86。藉此，後側滑件50藉由後側線性伺服馬達80往左右方向驅動。

以上述方式，前側滑件44與後側滑件50係藉由個別之前側線性伺服馬達72、後側線性伺服馬達80進行驅動。雖未圖示，但在前側導軌40與前側滑件44之間、及後側導軌42與後側滑件50之間，分別設置有用以檢測前側滑件44、後側滑件50之左右方向移動之實際位置之線性標度尺。

藉由前側線性伺服馬達72、後側線性伺服馬達80之前側滑件44、後側滑件50之位置控制係藉由從前述之線性標度尺(省略圖示)檢測出之前側滑件44、後側滑件50之實際位置作為回饋補償資訊，以全閉方式且彼此獨立之回饋控制系統，依據相同位置指令，以前側滑件44與後側滑件50之左右方向移動位置(掃描位置)為相同之方式來同步進行。

在前側滑件44上安裝有微動台裝置90，其具備可往前後方向移動之台88。在台88上搭載有變位計92。變位計92係靜電容量式變位計等非接觸式者，配置於通過安裝於圓環旋轉體16之被測量物、即矽晶圓W之中心之高度，用以測量至矽晶圓W之表面之距離。

同樣地，在後側滑件50上安裝有微動台裝置96，其具備可往前後方向移動之台94。在台94上搭載有變位計98。 變位計98亦係靜電容量式變位計等非接觸式者，配置於通過安裝於圓環旋轉體16之被測量物、即矽晶圓W之中心之高度，用以測量至矽晶圓W背面之距離。

矽晶圓W之平坦度測量係在藉由圓環旋轉體16使矽晶圓W旋轉之狀態，藉由前側滑件44、後側滑件50之左右方向移動，一面使變位計92、98掃描移動於將矽晶圓W橫切於直徑方向之方向，一面藉由變位計92、98，測量從變位計92、98之掃描位置到矽晶圓W之表面、背面之距離。

如上所述，由於前側滑件44與後側滑件50，在其等各個中，在夾住各導軌40、42之前後兩側與上下兩側，以包圍各導軌40、42之方式構成靜壓軸承之氣隙G1、G2，因此前側滑件44與後側滑件50雖彼此以機械方式連結，但藉由第1氣壓線性導件48與第2氣壓線性導件54，可個別擔保各導軌40、42之延伸方向之直進性。此處所言之導軌40、42之延伸方向之直進性係指在前側滑件44、後側滑件50之導軌40、42之延伸方向之移動中，前側滑件44、後側滑件50無上下方向振動及後方向振動之意。

此外，重要的是如第5圖所示，第2氣壓線性導件54之第2氣隙G2之大小係較第1氣壓線性導件48之第1氣隙G1為大。另外，本實施形態中，第1壓力調節器102之設定壓與第2壓力調節器104之設定壓相同，第1氣壓線性導件48之供應氣壓與第2氣壓線性導件54之供應氣壓亦可為相同氣壓。

由於該氣隙之大小不同，因此第1氣壓線性導件48與第2氣壓線性導件54，於滑件支承剛性(空氣軸承剛性)上產生 差異，第2氣隙G2較第1氣隙G1越大，第2氣壓線性導件54之滑件支承剛性較第1氣壓線性導件48之滑件支承剛性越為低。

在彼此平行配置之前後二根導軌40、42上分別移動之前側與後側之滑件44、50，若於導軌40、42有真直誤差，與移動方向正交之方向(前後方向與上下方向)之相對距離就會變動。若相對距離變動，第2氣壓線性導件54之滑件支承剛性就會較第1氣壓線性導件48之滑件支承剛性為低，因此第1氣壓線性導件48之第1氣隙G1不變化，第2氣壓線性導件54之第2氣隙G2變化，即使前側與後側之滑件44、50之直進性被個別擔保，因氣隙變化之真直誤差亦在滑件支承剛性低之側被穩定進行吸收。

藉此，可避免產生前側滑件44與後側滑件50之相對距離變動，可排除兩滑件44、50之相互連結部分之機械剛性與滑件支承剛性彼此受到影響，而使兩滑件44、50之移動之平行度再現性變差的情況，並可保證高精度之平行度再現性。

結果，可提高機械方式結合之前側滑件44與後側滑件50之相對距離之穩定度，不包含導軌40、42之真直誤差成分，可高精度進行矽晶圓W之平坦度測量、厚度測量。

作為另一實施形態，在第1氣壓線性導件48與第2氣壓線性導件54，供應氣壓不同亦可。本實施形態中，將第1壓力調節器102之設定壓與第2壓力調節器104之設定壓設定為不同值，只要將第2氣壓線性導件54之供應氣壓即第2壓 力P2設定為較第1氣壓線性導件48之供應氣壓即第1壓力P1稍低即可。另外，本實施形態中，第1氣壓線性導件48之第1氣隙G1之大小與第2氣壓線性導件54之第2氣隙G2之大小亦可為相同。

由於該供應氣壓之不同，在第1氣壓線性導件48與第2氣壓線性導件54，於滑件支承剛性(空氣軸承剛性)產生差異，第2壓力P2較第1壓力P1越低，第2氣壓線性導件54之滑件支承剛性較第1氣壓線性導件48之滑件支承剛性越低。

藉此，在本實施形態中，亦可避免產生前側滑件44與後側滑件50之相對距離變動，可排除兩滑件44、50之相互連結部分之機械剛性與滑件支承剛性彼此受到影響而降低兩滑件44、50之平行度再現性的情況，並可保證高精度之平行度再現性。

結果，可提高機械方式結合之前側滑件44與後側滑件50之相對距離之穩定度，不包含導軌40、42之真直誤差成分，可高精度進行矽晶圓W之平坦度測量、厚度測量。

上述之實施形態中，第1壓力調節器102與第2壓力調節器104雖並聯配置，但也可如第5圖中依照假想線所示，將設定壓較高之第1壓力調節器102配置於比較低側之第2壓力調節器104更靠近壓縮空氣源100側，並與第2壓力調節器104串聯配置。

另外，亦可視需要，除使第1氣壓線性導件48之第1氣隙G1之大小與第2氣壓線性導件54之第2氣隙G2之大小不同外，並在第1氣壓線性導件48與第2氣壓線性導件54，使 供應氣壓不同。此時，亦可藉由並聯配置之第1壓力調節器102與第2壓力調節器104進行供應氣壓之控制，將設定壓較高之第1壓力調節器102配置於比較低側之第2壓力調節器104更靠近壓縮空氣源100側，並與第2壓力調節器104串聯配置。

氣壓線性導件之軸承剛性，亦即滑件支承剛性，除由氣隙之大小、供應氣壓之壓力值決定外，亦由靜壓用氣袋之形狀、對氣隙供應氣壓之空氣噴出埠之口徑(內徑)、滑件之受壓面積來決定，因此也可依照此等設定，在第1氣壓線性導件48與第2氣壓線性導件54，將滑件支承剛性設定成不同。

第6圖所示之實施例中，相對於形成於第2氣壓線性導件54之後側滑件50之靜壓用氣袋53之氣隙的開口面積A2較相對於形成於第1氣壓線性導件48之前側滑件44之靜壓用氣袋47之氣隙的開口面積A1為大。

又，第6圖所示之實施例中，用以對第2氣壓線性導件54之氣隙供應氣壓而形成於後側滑件50之空氣噴出埠52之口徑D2較用以對第1氣壓線性導件48之氣隙供應氣壓而形成於前側滑件44之空氣噴出埠46之口徑D1為大。

前側滑件44中之第1氣壓線性導件48之受壓面積與後側滑件50中之第2氣壓線性導件54之受壓面積，由於前側滑件44、後側滑件50本體之左右方向(移動方向)之尺寸改變，可形成不同面積，受壓面積小者，其滑件支承剛性較低。

另外，如上所述，滑件支承剛性不同之氣壓線性導件， 亦同樣可適用於採用多孔質型之空氣軸承者。

以上，雖說明本發明之較佳形態之實施例，但若是熟悉此技藝人士，即可容易理解，本發明並非限定於此種實施例，在不脫離本發明要旨之範圍，可進行適當變更。

G1‧‧‧第1氣隙

G2‧‧‧第2氣隙

W‧‧‧矽晶圓

10‧‧‧基台

12‧‧‧支承體

14‧‧‧固定台

16‧‧‧圓環旋轉體

18‧‧‧滾輪

20‧‧‧支承臂

30、32‧‧‧托架

34、36‧‧‧補強連結板

40‧‧‧前側導軌

40A、40B、42A、42B‧‧‧突出部

42‧‧‧後側導軌

44‧‧‧前側滑件

44A、44B、44C、44D‧‧‧矩形 板材

46‧‧‧空氣噴出埠

47、53‧‧‧靜壓用氣袋

48‧‧‧第1氣壓線性導件

50‧‧‧後側滑件

50A、50B、50C、50D‧‧‧矩形板材

52‧‧‧空氣噴出埠

54‧‧‧第2氣壓線性導件

56、58‧‧‧連結用基座構件

60、62‧‧‧連結圓棒

64、66‧‧‧緊固螺栓

68、70‧‧‧V形塊體

72‧‧‧前側線性伺服馬達

74、82‧‧‧定子構件

76、84‧‧‧托架

78、86‧‧‧動子構件

80‧‧‧後側線性伺服馬達

88、94‧‧‧台

90、96‧‧‧微動台裝置

92、98‧‧‧變位計

100‧‧‧壓縮空氣源

102‧‧‧第1壓力調節器

104‧‧‧第2壓力調節器

第1圖係表示使用本發明之氣壓線性導件方式之並聯滑件裝置之晶圓平坦度測量裝置之一實施形態之立體圖。

第2圖係本實施形態之晶圓平坦度測量裝置之前視圖。

第3圖係沿第2圖之線III-III之剖面圖。

第4圖係本實施形態之氣壓線性導件方式之並聯滑件裝置之前後滑件連結機構部分之立體圖。

第5圖係實施本實施形態之氣壓線性導件方式之並聯滑件裝置及其控制方法所使用之氣壓控制之氣壓回路圖。

第6圖係表示另一實施形態之氣壓線性導件方式之並聯滑件裝置之氣壓控制之氣壓回路圖。

W‧‧‧矽晶圓

10‧‧‧基台

40‧‧‧前側導軌

40A、40B、42A、42B‧‧‧突出部

42‧‧‧後側導軌

44‧‧‧前側滑件

44A、44B、44C、44D‧‧‧矩形板材

46‧‧‧空氣噴出埠

48‧‧‧第1氣壓線性導件

50‧‧‧後側滑件

50A、50B、50C、50D‧‧‧矩形板材

52‧‧‧空氣噴出埠

54‧‧‧第2氣壓線性導件

56、58‧‧‧連結用基座構件

60‧‧‧連結圓棒

64‧‧‧緊固螺栓

68、70‧‧‧V形塊體

72‧‧‧前側線性伺服馬達

74、82‧‧‧定子構件

76、84‧‧‧托架

78、86‧‧‧動子構件

80‧‧‧後側線性伺服馬達

88、94‧‧‧台

90、96‧‧‧微動台裝置

92、98‧‧‧變位計

Claims (9)

1. 一種並聯滑件裝置，其特徵在於具有：第1導軌及第2導軌，係彼此平行配置者；及第1滑件及第2滑件，係以可朝軌道長方向移動的方式設置於各前述第1及第2導軌，且彼此以機械方式連結者；前述第1導軌具有分別於兩側與軌道長方向並行延伸之第1軌道面，前述第1滑件具有與各前述第1軌道面相對向之第1滑件面，並構成在各第1軌道面與各第1滑件面之間具有氣隙之第1氣壓線性導件，前述第2導軌具有分別於兩側與軌道長方向並行延伸之第2軌道面，前述第2滑件具有與各前述第2軌道面相對向之第2滑件面，並構成在各第2軌道面與各第2滑件面之間具有氣隙之第2氣壓線性導件，第1氣壓線性導件之滑件支承剛性設定為比第2氣壓線性導件之滑件支承剛性大。
2. 如申請專利範圍第1項之並聯滑件裝置，其中，前述第1滑件與前述第1導軌之滑件面-軌道面間之氣隙大小與前述第2滑件與前述第2導軌之滑件面-軌道面間之氣隙大小彼此不同。
3. 如申請專利範圍第1項之並聯滑件裝置，其中，在前述第1氣壓線性導件與前述第2氣壓線性導件，供應氣壓不同。
4. 如申請專利範圍第3項之並聯滑件裝置，其具有：第1氣 壓設定手段，係將供應給前述第1氣壓線性導件之氣壓設定為第1值者；以及第2氣壓設定手段，係將供應給前述第2氣壓線性導件之氣壓設定為與前述第1值不同之第2值者。
5. 如申請專利範圍第1項之並聯滑件裝置，其中，在前述第1氣壓線性導件與前述第2氣壓線性導件分別形成有靜壓用氣袋，前述第1氣壓線性導件之前述靜壓用氣袋之形狀與前述第2氣壓線性導件之前述靜壓用氣袋之形狀彼此不同。
6. 如申請專利範圍第1項之並聯滑件裝置，其中，對前述第1氣壓線性導件之氣隙供應氣壓之空氣噴出埠之口徑與對前述第2氣壓線性導件之氣隙供應氣壓之空氣噴出埠之口徑彼此不同。
7. 如申請專利範圍第1項之並聯滑件裝置，其中，前述第1滑件中之前述第1氣壓線性導件之受壓面積與前述第2滑件中之前述第2氣壓線性導件之受壓面積彼此不同。
8. 一種並聯滑件裝置之控制方法，該並聯滑件裝置具有：第1導軌及第2導軌，係彼此平行配置者；及第1滑件及第2滑件，係以可朝軌道長方向移動的方式設置於各前述第1及第2導軌，且彼此以機械方式連結者；前述第1導軌具有分別於兩側與軌道長方向並行延伸之第1軌道面，前述第1滑件具有與各前述第1軌道面相對向之第1滑件面，並構成在各第1軌道面與各第1滑 件面之間具有氣隙之第1氣壓線性導件，前述第2導軌具有分別於兩側與軌道長方向並行延伸之第2軌道面，前述第2滑件具有與各前述第2軌道面相對向之第2滑件面，並構成在各第2軌道面與各第2滑件面之間具有氣隙之第2氣壓線性導件，前述並聯滑件裝置之控制方法係進行氣壓控制以使供應給前述第1氣壓線性導件之氣壓比供應給前述第2氣壓線性導件之氣壓大。
9. 一種測量裝置，具有如申請專利範圍第1至7項中任一項之並聯滑件裝置；在前述第1導軌與前述第2導軌之間配置有用以支承被測量物之支承體，在前述第1滑件安裝有用以測量離前述被測量物一面距離之第1測量手段，在前述第2滑件安裝有用以測量離前述被測量物另一面距離之第2測量手段。