TWI496512B - 電漿處理系統用之電極定向與平行度調整機構 - Google Patents

Description

電漿處理系統用之電極定向與平行度調整機構

本發明係有關於一種電漿處理系統用之電極定向與平行度調整機構，尤其有關於一種用於在電漿處理室內調整電極之定向的機構。

在電漿處理中，下一世代之裝置製造中的縮小之特徵部尺寸及新材料之實現已對電漿處理設備加入新需求。更小之裝置特徵部、更大之基板尺寸、以及新處理技術(涉及多重步驟法，如雙重鑲嵌蝕刻)已增加為了更佳之裝置良率而維持橫跨晶圓之良好均一性的挑戰性。

在電容耦合之射頻電漿反應器中，通常將面對基板電極之電極稱為上電極。可將上電極接地，或連接有一個或更多射頻(radio frequency，RF)電源。通常將基板電極稱為下電極。電容耦合之電漿處理室中對於下電極的機械性安排，可涵蓋由腔室的一側以懸臂方式設置之包含下電極之組件。此懸臂式下電極可與上電極保持固定距離，或可將其設計成與上電極之間具有可變的距離。在任一情形中，一電極表面至另一者之平行度通常為可影響晶圓上之處理效能的重要機械性參數。

由於所增加之複雜度，許多電容耦合電漿處理反應器捨棄在電極之間準確平行度調整的特性，且依賴組合元件之嚴格製造容限而將平行度維持在可接受的限度內。此方法典型地增加該等元件之成本，且可能限制可達到之最終平行度規格。其他安排包含了在相配零件中容許在組合期間任意調整平行度之溝槽或間距。此方法耗時且通常需要重複的程序以達到正確的配置；該方法亦可能需要將電漿處理系統作某種程度的拆卸以調整必要之元件。其他方法試圖提供調整的方式，但在電極中之至少一者上，可能不具有使調整量與實際效果互相關聯的直接手法。因此，該方法亦可能需要反覆的程序以調整平行度。這些方法中之一些方法的弱點在於：因為如運送負載等之振動，調整須隨時間而改變。

本發明之實施例係有關於電漿處理室中之電極定向的調整機構。該電漿處理室可用以處理至少一基板，該基板可以一插入方向被插入電漿處理室中。該機構可包含設於電漿處理室之腔室壁外側，且相對於腔室壁而在樞軸上轉動的支持板。支持板可具有第一螺紋。該機構亦可包含具有與第一螺紋嚙合之第二螺紋的調整螺絲。轉動調整螺絲可造成支持板之一部分相對於調整螺絲的位移。支持板之該部分的位移可造成支持板相對於腔室壁的旋轉，從而關於與插入方向正交之一軸旋轉電極。

以上發明內容係僅有關於眾多於此揭露之本發明的實施例其中一者，且不欲限制陳述於此處之專利申請範圍中的本發明之範疇。本發明之這些及其他特徵將於以下的本發明之詳細敘述並結合以下圖式更詳盡地說明。

本發明現將如隨附圖式所示參照其數個實施例詳細說明。在以下之說明中，陳述眾多具體細節以提供對本發明之透徹瞭解。然而，對熟悉本技藝者將顯而易見的，本發明可在不具這些細節之一些或全部的情形下實施。在其他情況中，為了不非必要地混淆本發明而不詳細說明熟知之程序步驟及/或構造。

本發明之一個或更多的實施例與電漿處理系統中調整電極對電極之平行度用之機構相關。該機構可在節距(pitch)(前後向)及捲動(roll)(側向)方向上分別地調整下電極之定向/旋轉。該機構可包含以低綜合成本集體達成高準確度之平行度調整的低成本、簡單之零件。

由於該機構之使用者介面設於電漿處理室之外側，所以當系統在真空、大氣、及/或原位時，該機構可容許進行電極定向/平行度的調整。該機構亦可容許在最少或不拆卸電漿處理系統的情形下作成調整。

該機構可使準確的電極定向/平行度調整得以進行。具有高達0.01mm之準確度的準確之平行度調整可輕易達成。該機構亦可包含已校正之分度記號以提供清楚之調整量回饋，從而排除反覆調整及測量的需要。

該機構亦使鎖定電極定向/平行度設定得以進行。當將經調整之電極定向/平行度設定牢固地鎖定，該設定經過固有振動/運送負載後應保持不變。

藉由使用低成本零件並容許快速調整-鎖定平行度至精確位準，該機構可減少對於在主要元件上之嚴格製造容限(tolerance)的需求，且對於電極平行度可以具有成本效益之方式使處理效能最佳化。

本發明之一個或更多實施例係相關於包含在以上討論並進一步於以下之實例中討論的電極定向/平行度調整機構之電漿處理系統。

本發明之特徵及優點可參照以下圖式及討論而更加明瞭。

圖1A顯示包含機構100之電漿處理室198的局部透視圖，該機構100係用於依據一個或更多本發明之實施例而調整下電極110之定向。為了使電漿處理室內之處理良率最佳化，可藉由調整下電極110之定向而確保在上電極108與下電極110之間的電極對電極之平行度。

機構100可包含經由懸臂104及偏壓外殼112而與下電極110耦接之通道支持板102(支持板102)。機構100亦可包含用於調整下電極110之節距的節距調整螺絲106；下電極110之節距係顯示於圖1B之實例中。機構100亦可包含用於調整下電極110之捲動的捲動調整凸輪104；下電極110之捲動係顯示於圖1C之實例中。

圖1B顯示電漿處理室198之局部側視圖，該視圖展示依據本發明之一個或更多實施例的第一旋轉192(節距192)。機構100可協助下電極110之第一旋轉192(節距192)對於節距軸118的調整。節距軸118大致上與基板插入方向116正交，可以此方向116將基板插入電漿處理室198內。

圖1C顯示電漿處理室198之局部側視圖，該視圖展示依據一個或更多本發明之實施例的第二旋轉194(捲動194)。機構100可協助下電極110之第二旋轉194(捲動194)對於捲動軸120的調整。捲動軸120大致上與基板插入方向116平行。

圖1D顯示依據本發明之一個或更多實施例的機構100之局部側視圖。在機構100中，可將支持板102設於電漿處理室198之腔室壁126外側(顯示於圖1A之實例中)。可例如使用在支持板102之一部份138(例如上部)上之樞軸122及/或其他樞軸機構，使支持板102相對於腔室壁126而在樞軸上轉動。支持板102可具有可與節距調整螺絲106之螺紋128嚙合之螺紋146。因此，轉動節距調整螺絲106可導致支持板102之一部份140(例如下部)相對於節距調整螺絲106在朝外方向142或朝內方向144上產生位移。支持板102之部分140的位移可導致支持板102對於腔室壁126之轉動。由於支持板102與下電極110耦接，支持板102朝方向142或144的轉動大致上可導致下電極110相對節距軸118的轉動。螺紋146及128之準確性可使下電極110之旋轉192的量得以穩定及精準地調整。

機構100亦可包含設於腔室壁126與支持板102之間的抬升板124。機構100亦可包含一個或更多與抬升板124及腔室壁126耦接的軸承，例如軸承134及136。該一個或更多軸承可協助及/或導引支持板102相對於腔室壁126而移動(例如在方向142或144上的位移，及/或垂直於方向142或144之方向上的位移)，以平順及準確地調整下電極110之旋轉192。

機構100亦可包含例如包括分離夾鉗132及夾持螺絲130之夾持機構，其用於將節距調整螺絲106鎖定/鎖緊至支持板102，從而預防節距調整螺絲106轉動或位移。舉例而言，完成對下電極110之節距調整後，可能需要夾持節距調整螺絲106以鎖定設定。可將夾持螺絲130大致上設為垂直於節距調整螺絲106，且可與分離夾鉗132耦接以壓迫分離夾鉗132而固定節距調整螺絲106。在夾持螺絲130上可配置工具槽，一旦完成節距調整時，其用於協助使用者牢固地鎖定/夾持機構100整體。

圖1E顯示依據本發明之一個或更多實施例的調整節距192用之機構100的使用者介面182之局部透視圖。使用者介面182可包含至少一個節距調整分度150，將其配置於支持板102上以對使用者提供關於節距調整之視覺回饋。使用者介面182亦可包含指示器148，將其配置於節距調整螺絲106上以與節距調整分度150協同指示節距調整量。此外，可將節距調整分度配置於節距調整螺絲106上，且/或可將指示器配置於支持板102上。

機構100亦可包含耦接並至少部份插入節距調整螺絲106的節距調整夾持螺絲106A。節距調整夾持螺絲106A可將節距調整螺絲106固定至支持板102。可將工具槽186配置於節距調整夾持螺絲106A上，一旦完成節距調整時，其用以協助使用者牢固地鎖定/夾持節距調整螺絲106及/或機構100整體。

在一個或更多實施例中，節距調整螺絲106可與以自動方式控制節距調整及/或校正的自動控制機構耦接。自動控制機構可包含例如感應器、控制邏輯單元以及馬達(例如高解析度步進馬達)。

圖1F顯示依據本發明之一個或更多實施例的機構100之局部分解圖。機構100可包含與捲動調整凸輪104耦接的捲動調整桿154，且可由捲動調整凸輪104所起動。可將捲動調整桿154以節距調整螺絲106與支持板102耦接。藉此，透過捲動調整桿154，捲動調整凸輪104可起動支持板102之部分140。因此，支持板102可以樞軸122為中心相對於腔室壁126而旋轉(顯示於圖1D之實例中)，從而導致圖1C之實例所示的下電極111之旋轉194(捲動194)。

藉由抬升板124中之溝槽160加以限制及導引，捲動調整桿154可沿捲動調整桿154之長軸164而在方向166或168上移動。因此，可穩定且準確地調整下電極110之旋轉194的量值。

機構100亦可包含與捲動調整凸輪104耦接之捲動調整鎖定螺絲158。捲動調整鎖定螺絲158可相對於捲動調整桿154而鎖定捲動調整凸輪104，且可同時相對於抬升板124而鎖定捲動調整桿154，從而預防下電極110之(進一步的)旋轉194(捲動194)。在完成對下電極110之捲動調整後，可使用捲動調整鎖定螺絲158。

機構100亦可包含與抬升板124耦接、用於容納節距調整螺絲106的墊圈162(例如精密、硬化之墊圈)。墊圈162可保護抬升板124免於受到節距調整螺絲106的毀損。墊圈162亦可提供低摩擦力以促進節距調整螺絲106之平順移動，從而使機構100之運作更平順及穩定。

圖1G顯示依據本發明之一個或更多實施例的捲動調整凸輪104之透視圖。捲動調整凸輪104可包含關於捲動調整凸輪104之部分174以偏心/偏移排列加以設置的部分172，俾使捲動調整凸輪104得以起動捲動調整桿154(顯示於圖1F之實例中)。為了達到適合特定捲動調整需求之特定起動效果，捲動調整凸輪104可由其他具有不同之偏心/偏移排列的替代捲動調整凸輪所代替。

圖1H顯示依據本發明之一個或更多實施例，調整下電極110之捲動194用之機構100的使用者介面184之局部透視圖。使用者介面184可包含配置於抬升板124上的捲動調整分度178至少一者，其用於對使用者提供關於捲動調整之視覺回饋。使用者介面184亦可包含配置於捲動調整凸輪104上之指示器180，其用於與捲動調整分度178協同指示捲動調整量。此外，可將捲動調整分度配置於捲動調整凸輪104上，且/或可將指示器配置於抬升板124上。可將工具槽176配置於捲動調整凸輪104上，以協助使用者例如使用螺絲起子執行捲動調整。

在一個或更多實施例中，捲動調整凸輪104及/或節距調整螺絲106可與自動控制機構耦接，以使用自動方式控制節距及/或捲動調整及/或校正。自動控制機構可包含例如感應器、控制邏輯單元及馬達(例如高解析度步進馬達)。

如同由前述者可察覺，藉由使用低成本零件，本發明之實施例可容許將平行度快速調整及鎖定至準確的位準。因此，本發明之實施例可減少對主要元件上昂貴之緊密製造容限的需求。具有優勢地，本發明之實施例可具有成本效益地使關於電極平行度之處理效能最佳化。

本發明之實施例可使準確的電極定向/平行度調整得以進行。本發明之實施例亦可包含經校正之分度記號以提供清楚的調整量回饋。具有優勢地，可排除在習知技術中所需之重複調整及測量的需求。

由於該機構之使用者介面設於電漿處理室之外側，所以當系統在真空、大氣、及/或原位時，本發明之實施例可容許進行電極定向/平行度的調整。本發明之實施例亦可容許在最少或不拆卸電漿處理系統的情形下作成調整。具有優勢地，可使系統停機時間減至最少，且可在不妥協生產率的情形下，滿足對電極定向及/或平行度調整的需求

本發明之實施例亦可使電極定向/平行度之設定得以鎖定。經過一般振動及運送負載後，經調整之電極定向/平行度設定可維持不變。具有優勢地，可將電極定向/平行度之再調整所需的資源(例如人工、時間等等)減至最小。

儘管本發明已使用數個實施例之形式說明，仍有落入本發明之範圍內的變更、置換及等效物。亦須注意有許多其他實施本發明之方法及設備的方式。此外，本發明之實施例可察覺在其他用途中的功用。摘要段係為了便利性而在此提供，且由於字數限制，故為了閱讀便利性而依此方式書寫，且不應將其用於限制專利申請範圍。因此試圖將以下附加之專利申請範圍，解釋為涵蓋落入本發明之精神及範疇內之所有變更、置換及等效物。

100‧‧‧調整機構

102‧‧‧通道支持板(支持板)

104‧‧‧捲動調整凸輪

106‧‧‧節距調整螺絲

106A‧‧‧節距調整夾持螺絲

108‧‧‧上電極

110‧‧‧下電極

112‧‧‧偏壓外殼

114‧‧‧懸臂

116‧‧‧基板插入方向

118‧‧‧節距軸

120‧‧‧捲動軸

122‧‧‧樞軸

124‧‧‧抬升板

126‧‧‧腔室壁

128‧‧‧螺紋

130‧‧‧夾持螺絲

132‧‧‧分離夾鉗

134‧‧‧軸承

136‧‧‧軸承

138‧‧‧上部

140‧‧‧下部

142‧‧‧朝外方向

144‧‧‧朝內方向

146‧‧‧螺紋

148‧‧‧指示器

150‧‧‧節距調整分度

154‧‧‧捲動調整桿

158‧‧‧捲動調整鎖定螺絲

160‧‧‧溝槽

162‧‧‧墊圈

164‧‧‧長軸

166‧‧‧方向

168‧‧‧方向

172‧‧‧部分

174‧‧‧部分

176‧‧‧工具槽

178‧‧‧捲動調整分度

180‧‧‧指示器

182‧‧‧使用者介面

184‧‧‧使用者介面

186‧‧‧工具槽

192‧‧‧第一旋轉(節距)

194‧‧‧第二旋轉(捲動)

198‧‧‧電漿處理室

本發明係經由隨附圖式之圖形中的實例而非限制來說明，且其中相似之參考編號連結至相似之元件，且其中：

圖1A顯示依據本發明之一個或更多實施例的電漿處理室之局部透視圖，該電漿處理室包含用於調整電漿處理室中之下電極的定向之調整機構。

圖1B顯示依據本發明之一個或更多實施例的展示下電極之第一旋轉(或節距)的電漿處理室之局部側視圖。

圖1C顯示依據本發明之一個或更多實施例的展示下電極之第二旋轉(或捲動)的電漿處理室之局部側視圖。

圖1D顯示依據本發明之一個或更多實施例的調整機構之局部側視圖。

圖1E顯示依據本發明之一個或更多實施例的調整機構之節距調整使用者介面的局部透視圖。

圖1F顯示依據本發明之一個或更多實施例的調整機構之局部分解圖。

圖1G顯示依據本發明之一個或更多實施例的調整機構之捲動調整凸輪的透視圖。

圖1H顯示依據本發明之一個或更多實施例的調整機構之捲動調整使用者介面的局部透視圖。

100‧‧‧機構

102‧‧‧通道支持板(支持板)

104‧‧‧捲動調整凸輪

106‧‧‧節距調整螺絲

108‧‧‧上電極

110‧‧‧下電極

112‧‧‧偏壓外殼

114‧‧‧懸臂

198‧‧‧電漿處理室

Claims (19)

1. 一種電漿處理系統中之下電極定向的調整機構，該電漿處理系統係用以處理至少一基板，該電漿處理系統更包含至少一電漿處理室，該電漿處理室包含至少一腔室壁，該下電極係位於該電漿處理室內側，該基板被配置成以一插入方向插入該電漿處理室中，該機構包含：與該下電極耦接之一支持板，該支持板具有一第一螺紋，將該支持板設於該腔室壁外側，且相對於該腔室壁而在樞軸上轉動；用以將該支持板與該下電極耦接之一懸臂；以及具有一第二螺紋之一調整螺絲，該第二螺紋係與該第一螺紋相嚙合以用於節距調整，其中轉動該調整螺絲造成該支持板之一部分相對於該調整螺絲的第一位移，該支持板之該部分的該第一位移用以造成該支持板相對於該腔室壁朝內或朝外之第一旋轉，該支持板之該第一旋轉用以造成該下電極關於與該插入方向正交之一第一軸的第一旋轉。
2. 如申請專利範圍第1項之電漿處理系統中之下電極定向的調整機構，更包含與該調整螺絲耦接且至少部份插入該調整螺絲的一第一夾持螺絲，該第一夾持螺絲係用以將該調整螺絲固定至該支持板。
3. 如申請專利範圍第2項之電漿處理系統中之下電極定向的調整機構，更包含：與該調整螺絲耦接之一夾鉗；以及設為垂直於該調整螺絲之一第二夾持螺絲，該第二夾持螺絲係與該夾鉗耦接，該第二夾持螺絲用以緊壓該夾鉗而將該調整螺絲固定至該支持板。
4. 如申請專利範圍第1項之電漿處理系統中之下電極定向的調整機構，更包含： 一第一分度，其配置於該支持板上以提供關於該下電極之該第一旋轉的視覺回饋；以及一第一指示器，其配置於該調整螺絲上以與該第一分度協同指示該下電極之該第一旋轉的一量值。
5. 如申請專利範圍第1項之電漿處理系統中之下電極定向的調整機構，更包含：一第一分度，其配置於該調整螺絲上以提供關於該下電極之該第一旋轉的視覺回饋；以及一第一指示器，其配置於該支持板上以與該第一分度協同指示該下電極之該第一旋轉的一量值。
6. 如申請專利範圍第1項之電漿處理系統中之下電極定向的調整機構，更包含：設於該腔室壁與該支持板之間的一抬升板，該抬升板係與該支持板耦接；以及一個或更多與該抬升板耦接且與該腔室壁耦接之軸承，該一個或更多軸承係用以導引至少該支持板之該部分的該第一位移。
7. 如申請專利範圍第6項之電漿處理系統中之下電極定向的調整機構，更包含與該支持板耦接之一墊圈，該墊圈係用以容納該調整螺絲，該墊圈更用以保護該抬升板免於受到該調整螺絲之損毀。
8. 一種電漿處理系統中之下電極定向的調整機構，該電漿處理系統係用以處理至少一基板，該電漿處理系統更包含至少一電漿處理室，該電漿處理室包含至少一腔室壁，該下電極係位於該電漿處理室內側，該基板被配置成以一插入方向插入該電漿處理室中，該機構包含：與該下電極耦接之一支持板，該支持板具有一第一螺紋，將該支持板設於該腔室壁外側，且相對於該腔室壁而在樞軸上轉動； 用以將該支持板與該下電極耦接之一懸臂；具有一第二螺紋之一調整螺絲，該第二螺紋係與該第一螺紋相嚙合，其中轉動該調整螺絲造成該支持板之一部分相對於該調整螺絲的第一位移，該支持板之該部分的該第一位移用以造成該支持板相對於該腔室壁之第一旋轉，該支持板之該第一旋轉用以造成該下電極關於與該插入方向正交之一第一軸的第一旋轉；以及與該支持板耦接之一凸輪，該凸輪係用以造成該支持板之該部分相對於該腔室壁的第二位移，該支持板之該部分的該第二位移係用以造成該支持板相對於該腔室壁的第二旋轉，該支持板之該第二旋轉係用以造成該下電極關於一第二軸之第二旋轉，該第二軸係平行於該插入方向。
9. 如申請專利範圍第8項之電漿處理系統中之下電極定向的調整機構，更包含：與該凸輪耦接且與該調整螺絲耦接之一直桿，該直桿係用以由該凸輪所起動，該支持板藉由該調整螺絲而與該直桿耦接；以及設於該腔室壁與該支持板之間之一抬升板，該抬升板包含與該直桿耦接之至少一溝槽，該溝槽係用以導引且限制該直桿之移動，從而限制該下電極之該第二旋轉。
10. 如申請專利範圍第9項之電漿處理系統中之下電極定向的調整機構，更包含一個或更多與該抬升板耦接且與該腔室壁耦接之軸承，該一個或更多軸承係用以導引至少該支持板之該部分的該第一位移及該支持板之該部分的該第二位移。
11. 如申請專利範圍第9項之電漿處理系統中之下電極定向的調整機構，更包含與該凸輪耦接之一鎖定螺絲，該鎖定螺絲係用以將該凸輪鎖定至該直桿，該鎖定螺絲更用以將該直桿鎖定至該抬 升板。
12. 如申請專利範圍第9項之電漿處理系統中之下電極定向的調整機構，更包含：一第二分度，其配置於該抬升板上以提供關於該下電極之該第二旋轉的視覺回饋；以及一第二指示器，其配置於該凸輪上以與該第二分度協同指示該下電極之該第二旋轉的一量值。
13. 如申請專利範圍第9項之電漿處理系統中之下電極定向的調整機構，更包含：一第二分度，其配置於該凸輪上以提供關於該下電極之該第二旋轉的視覺回饋；以及一第二指示器，其配置於該抬升板上以與該第二分度協同指示該下電極之該第二旋轉的一量值。
14. 如申請專利範圍第8項之電漿處理系統中之下電極定向的調整機構，更包含與該調整螺絲及該凸輪耦接之一控制單元，該控制單元係用以自動地調整該下電極之該第一旋轉以及該下電極之該第二旋轉。
15. 一種電漿處理系統，用於處理至少一基板，該電漿處理系統包含：一電漿處理室，該電漿處理室包含至少一腔室壁，該基板被配置成以一插入方向插入該電漿處理室中；位於該電漿處理室內側之一下電極；與該下電極耦接之一支持板，該支持板具有一第一螺紋，將該支持板設於該腔室壁外側，且相對於該腔室壁而在樞軸上轉動；用以將該支持板與該下電極耦接之一懸臂；以及具有一第二螺紋之一調整螺絲，該第二螺紋係與該第一螺紋 相嚙合以提供節距調整，轉動該調整螺絲以造成該支持板之一部分相對於該調整螺絲的第一位移，該支持板之該部分的該第一位移係用以造成該支持板相對於該腔室壁朝內或朝外之第一旋轉，該支持板之該第一旋轉係用以造成該下電極關於一第一軸的第一旋轉，該第一軸係與該插入方向正交。
16. 如申請專利範圍第15項之電漿處理系統，更包含：與該調整螺絲耦接且至少部份插入該調整螺絲的一第一夾持螺絲，該第一夾持螺絲係用以將該調整螺絲固定至該支持板；與該調整螺絲耦接之一夾鉗；以及設為垂直於該調整螺絲之一第二夾持螺絲，該第二夾持螺絲係與該夾鉗耦接，該第二夾持螺絲用以緊壓該夾鉗而將該調整螺絲固定至該支持板。
17. 如申請專利範圍第15項之電漿處理系統，更包含：設於該腔室壁與該支持板之間之一抬升板，該抬升板係與該支持板耦接；以及與該抬升板耦接且與該腔室壁耦接之一個或更多軸承，該一個或更多軸承係用以導引至少該支持板之該部分的該第一位移。
18. 一種電漿處理系統，用於處理至少一基板，該電漿處理系統包含：一電漿處理室，該電漿處理室包含至少一腔室壁，該基板被配置成以一插入方向插入該電漿處理室中；位於該電漿處理室內側之一下電極；與該下電極耦接之一支持板，該支持板具有一第一螺紋，將該支持板設於該腔室壁外側，且相對於該腔室壁而在樞軸上轉動；用以將該支持板與該下電極耦接之一懸臂；具有一第二螺紋之一調整螺絲，該第二螺紋係與該第一螺紋相嚙合，轉動該調整螺絲以造成該支持板之一部分相對於該調整 螺絲的第一位移，該支持板之該部分的該第一位移係用以造成該支持板相對於該腔室壁之第一旋轉，該支持板之該第一旋轉係用以造成該下電極關於一第一軸的第一旋轉，該第一軸係與該插入方向正交；與該支持板耦接之一凸輪，該凸輪係用以造成該支持板之該部分相對於該腔室壁的第二位移，該支持板之該部分的該第二位移係用以造成該支持板相對於該腔室壁的第二旋轉，該支持板之該第二旋轉係用以造成該下電極關於一第二軸之第二旋轉，該第二軸係平行於該插入方向；與該凸輪耦接且與該調整螺絲耦接之一直桿，該直桿係用以由該凸輪所起動，該支持板藉由該調整螺絲而與該直桿耦接；以及設於該腔室壁與該支持板之間之一抬升板，該抬升板包含與該直桿耦接之至少一溝槽，該溝槽係用以導引且限制該直桿之移動，從而限制該下電極之該第二旋轉。
19. 如申請專利範圍第18項之電漿處理系統，更包含：一第一分度，其配置於該支持板上以提供關於該下電極之該第一旋轉的視覺回饋；一第一指示器，其配置於該調整螺絲上以與該第一分度協同指示該下電極之該第一旋轉的一量值；一第二分度，其配置於該抬升板上以提供關於該下電極之該第二旋轉的視覺回饋；以及一第二指示器，其配置於該凸輪上以與該第二分度協同指示該下電極之該第二旋轉的一量值。