TWI487152B - 半導體發光裝置之光學透鏡製造方法 - Google Patents
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Description
本發明係關於一種透過在半導體發光裝置的支撐結構上塗佈(applying)低表面能屏障帶或屏障面(low surface energy barrier band or surface)的光學透鏡製造方法。
半導體發光裝置，例如發光二極體係作為半導體光源使用，且在過去幾十年已被大量地應用，不僅是LED的效率及亮度，其製程亦持續地改善。表面固定式LED(surface mount LED)具有一LED晶粒設於一支撐結構，且將其封裝於一光學半球形透鏡(optical dome lens)，藉以避免機械損壞及環境影響，並塑造、獲得該LED晶粒的光。
在工業上具有數種製造光學透鏡的主要方法，一般用於表面固定式LED的透鏡可透過重疊模造或模壓成型方法製成，其係一種將LED晶粒固設封裝的簡單方法；然而，這樣的製法需要模具而相對地昂貴，且只有在大量生產的情況下才具有成本效益。
此外，以重疊模造方法製造用於封裝的光學透鏡具有很多缺點；其中一缺點是切割作業(singulation process)會間接造成透鏡平面區域(plano area)的產生，且無論以切割(dicing)或鐳射切割，都因為相對位於底部較硬質之材料與位於頂部較軟質的材料需要達到平衡而降低切割速度。用於切割製程的刀刃在循環使用一段時間後，因為封裝材料容易黏附於切割刀刃上而需要重新磨利。而且，在透鏡平面區域的封裝材料產生分層或從該支撐結構剝落都會導致產量損失增加。其他的缺點尚有因光線通過透鏡平面區域傳輸到不需要的區域造成光線輸出損耗以及透鏡平面區域上的昂貴封裝材料的不必要浪費。
若以非模塑技術(non-molded technology)在支撐結構上製造光學透鏡將能有效地改善上述缺點；該非模塑技術係於添加封裝材料之前，先將低表面能材料設於該支撐結構上，藉此，達到避免在半導體發光裝置之間出現透鏡平面區域，亦為具有成本效益之方法。
本發明之主要目的在於提供一種半導體發光裝置之光學透鏡製造方法，其中，因該方法只涉及一般點膠作業(dispensing)，而無需使用成型機形成光學圓頂(optical dome)，以提供一種製造成本降低且較具靈活性的生產方式。
本發明之另一目的在於提供一種半導體發光裝置之光學透鏡製造方法，其中，該方法設有高表面能或高界面活性封裝材料以及低表面能材料(low surface energy material)。
本發明之另一目的在於提供一種半導體發光裝置之光學透鏡製造方法，其中，因該半導體發光裝置之間不存在透鏡平面區域(plano area)，使半導體發光裝置之輸出產量增
加。
本發明之另一目的在於提供一種半導體發光裝置之光學透鏡製造方法，其中，該半導體發光裝置較具有應用靈活度，不論是設計研發樣品或實際產品上，皆具有週轉時間短之優點。
本發明之另一目的在於提供一種半導體發光裝置之光學透鏡製造方法，其中，該方法係得以擴展應用於半導體發光模組。
本發明之另一目的在於提供一種半導體發光裝置之光學透鏡製造方法，其中，該方法係可直接應用於晶片直接封裝之製程。
緣是，為達上述目的，本發明之最佳實施例提供一種半導體發光裝置之光學透鏡製造方法，該方法包括取至少一晶粒貼附於一支撐結構步驟；其特徵在於該步驟進一步包括：(a)該支撐結構塗佈有一低表面能材料構成之屏障帶或屏障面；(b)將一封裝材料點膠(dispensing)設於具有該低表面能屏障帶或屏障面之該支撐結構上，在該晶粒上形成至少一光學透鏡；(c)固化該封裝材料以將液態物質轉化為固態封裝材料；其中，該塗佈低表面能材料步驟係得以在該封裝材料點膠步驟前的任何階段優先實施。
為達上述目的，本發明之第二實施例提供一種半導體發光裝置，其包括至少一晶粒、至少一光學透鏡、一支撐結構；其特徵在於：該光學透鏡未成形有一透鏡平面區域(plano area)。
為達上述目的，本發明之第三實施例提供一種半導體發光模組，其具有至少一半導體發光裝置包括至少一晶粒、至少一光學透鏡及作為一支撐結構之印刷電路板；其特徵在於：
該光學透鏡未成形有一透鏡平面區域(plano area)。
在以下詳細說明中，闡述了多個具體的細節以便全面瞭解本發明。然而，本發明所屬技術領域內具有通常知識者，係能夠理解本發明沒有這些具體的細節也是可以實施的。此外，為了避免模糊本發明，對於眾所周知的方法、程序以及/或元件未進行詳細敘述。
本發明透過以下對其實施例的敘述以及配合圖式參考能更清楚地被理解。
請配合參閱第1a圖所示，顯示習知以重疊模造製程(overmolding process)製造用於半導體發光裝置之光學透鏡的方法示意圖。在一具有對應所需透鏡形狀之模穴201的模具200上，分佈(dispensed)具一定量的封裝材料303，將模具200閉合施壓使該封裝材料303充分填充於模穴201內部之前，將複數個晶粒302設於一放置在該模具200上部的支撐結構301上，直到完成重疊模造程序時開啟該模具200，使各該晶粒302上形成一成型透鏡303’的結構。如前所述，現有的重疊模造程序不僅因需要精密模具配合而增加製造成本，同時也因產生一透鏡平面區域305(plano area)形成光折射效應導致光輸出量損失。
請配合參閱第1b圖所示，顯示本發明以非模塑技術(non-molded technology)製造用於半導體發光裝置之光學透鏡的方法示意圖。於該方法中，並不具有如習知重疊模造製程的模具準備步驟，取而代之的是，由低表面能材料104、104’在一支撐結構101上形成低表面能屏障帶104或屏障面104’；在該支撐結構101與該封裝劑103之間形成足夠高的表面能差，藉以使該封裝劑103維持在可能的最低能階，並自動形成所需要的光學透鏡103’。任何物質的表面能為其分子間作用力的直接證明，為了證實這一點，當該封裝劑103被點膠設於該支撐結構101上時，該支撐結構101具有低表面能屏障帶104或屏障面104’環設於該封裝劑103周側，使該低表面能材料104、104’以如此的方法形成以避免潮濕。在市面上帶有氟碳基團的光學等級聚矽氧(silicone)，具有低能量且可塗佈於低表面能量屏障帶104或屏障面104’。於本發明中，該低表面能材料104、104’具有5mN/m~8mN/m的表面能範圍，其較佳為15mN/m。
請配合參閱第1c、1d圖所示，顯示本發明低表面能屏障帶104或屏障面104’設於支撐結構101之實施態樣。該低表面能屏障帶104或屏障面104’係得以為圓形、方形、矩形或其他任何所需形狀以防止該封裝材料103流動擴散，並藉以形成所需光學透鏡103’形狀；此外，該低表面能屏障層104可根據不論是研發目的或生產目的等需要，形成具不同尺寸或數量的設計靈活性，並透過點膠法(dispensing)、拉伸法(drawn)、模版印刷法(stencil printing)、噴墨印刷(inkjet printing)、轉印法(transfer stamping)、將整個支撐結構101沉浸(dipping)於低表面能溶液中或晶圓製造光阻程序(wafer fabrication photo resist process)等方法製成；或者，該低表面能屏障帶104或屏障面104’得以經衝壓或模造成形為一片狀材料，並透過黏著劑貼附於該支撐結構101。
在本發明中，該封裝劑103可包含有矽氧樹脂(silicone)、環氧樹脂(epoxy)或矽氧樹脂與環氧樹脂之混合物。該封裝劑103的表面能係大於20 mN/m，且該封裝劑103透過添加高界面活性材料(high surfactant material)以及觸變材料(thixotropic material)，藉以增加其表面能；另，為區隔該封裝材料點膠於該支撐結構101的固化前後形態，以封裝劑103表示固化前的封裝材料，以光學透鏡103’表示固化後的封裝材料。
接著，將該封裝劑103點膠設於該具有低表面屏障帶104或屏障面104’的支撐結構101上，以直接覆蓋於該晶粒102並形成該光學透鏡103’的所需形狀即完成；該封裝劑103可透過熱、濕度、紫外光或前述之結合等方式，以額外加工或與該點膠作業同時進行，使該封裝劑103的液態物質經轉化形成固態封裝劑而固化形成該光學透鏡103’。
請配合參閱第2a、2b圖所示，顯示本發明光學透鏡製造方法與習知製造方法所成形之透鏡平面區域305(plano area)比較。使用習知重疊模造製造方法會形成約0.05mm厚度的透鏡平面區域305；在實施重疊模造製程的過程中，該封裝材料不只填滿該模穴201凹槽，也會擴散至該模穴201凹槽周側的區域上，導致形成該透鏡平面區域305。透過本發明無需模具之技術，在完成後並不會產生該透鏡平面區域305，且由於透鏡平面區域不存在，達到降低切割過程中的難度以及光折射所產生的光輸出損耗。此外，以本發明製成的半導體發光裝置100的熱阻低，因此熱量能夠經由印刷電路板散發並提高散熱性。
請配合參閱第3圖所示，顯示習知製造半導體發光裝置之流程圖。一般而言，該製造程序包括第一製程及第二製程，其中，該第一製程的輸出為半導體發光裝置的單元體，該第二製程的輸出則為半導體發光模組。該第一製程係起始於將該晶粒貼附於該支撐結構，該支撐結構包括含有金屬導線(metal leads)或其他任何結構的陶瓷基板或聚矽氧基板。透過貼附一打線(wire bond)形成電性連接，該打線(wire bond)較佳為金線連結(gold wirebonding)以連接該晶粒與該支撐結構局部接觸；該支撐結構係透過將兩件模具互相擠壓而壓縮成型，並將預設封裝材料分佈於其中一模具，藉以在該晶粒上形成該光學透鏡；接著將成形有該透鏡的支撐結構自該模具中移除，當該晶粒上形成預定形狀的透鏡後，將所有工件於進行檢測後切割，再將該半導體發光裝置包裝成袋或成捲以便於出貨。
該第二製程則始於印刷電路板的焊料印刷(solder printing)，接著以表面貼附技術(SMT)將第一製程輸出的半導體發光裝置單元體貼附於印刷電路板的表面上，其他電路元件也可以同時進行表面貼附作業。再將該電路板進行迴流焊接(reflow soldering)使焊料融化，並加熱該電路板或該模組的鄰接面；於焊接後，對該電路板或該模組進行檢測再切割。該第二製程結束於該半導體發光模組的包裝出貨。
請配合參閱第4圖所示，顯示本發明製造半導體發光裝置之流程圖。如同習知製造方法，本發明之製造方法係始於將該晶粒102貼附於該支撐結構101，該支撐結構101係為一陶瓷基板、一聚矽氧基板或其他形式的支撐體；透過貼附一打線(wire bond)形成電性連接，該打線(wire bond)較佳為金線連結(gold wirebonding)以連接該晶粒與該支撐結構局部或金屬墊(metal pad)接觸。於本發明中，複數個低表面能屏障帶104或屏障面104’透過該低表面能材料104、104’，優先該點膠成形且含有高表面能材料的封裝劑103形成於該支撐結構101；該低表面材料104、104’成形該低表面能屏障帶104或屏障面104’的步驟，係得於本發明點膠作業之前的任何時候實施；於點膠和固化步驟之後，具預設形狀的透鏡103’設於該晶粒102，所有工件轉為檢測使用，接著進行切割步驟；該半導體發光裝置100最後於包裝盤或包裝管中進行包裝以便於運輸。
在本發明的另一實施例中，該透鏡103’的製造方法可被應用到包含LED晶片直接封裝裝置(chip on board device)的半導體發光模組。該晶片直接封裝基板(chip on board substrate)係為係為金屬芯印刷電路板(Metal Core PCB)、一般具有或不具有導熱孔(thermal via)、聚亞酰胺撓性板(polyimide flex board)、玻璃基板(glass substrate)、聚矽氧基板(silicone substrate)、陶瓷基板(ceramic substrate)、塑膠基板(plastic substrate)、引線框架(leadframe)的印刷電路板(PCB)(環氧樹脂基板FR或CEM)。於本實施例中，該支撐結構101為該印刷電路板，該光學透鏡103’可直接形成貼附於該半導體發光模組，而無需在表面貼附製程中安裝半導體發光裝置的每個單獨的單元，藉此將製程簡化成如第5圖所示之步驟。
100．．．半導體發光裝置
101．．．支撐結構
102．．．晶粒
103．．．封裝劑
103’．．．光學透鏡
104．．．低表面能屏障帶
104’．．．低表面能屏障面
200．．．模具
201．．．模穴
301．．．支撐結構
302．．．晶粒
303．．．封裝劑
303’．．．光學透鏡
305．．．透鏡平面區域
第1a圖 習知以重疊模造方法製造用於半導體發光裝置之光學透鏡的流程示意圖。
第1b圖 本發明以非模塑技術(non-molded technology)製造用於半導體發光裝置之光學透鏡的流程示意圖。
第1c圖 本發明低表面能屏障帶104設於支撐結構之實施態樣。
第1d圖 本發明低表面能屏障面104’設於支撐結構之另一實施態樣。
第2a圖 習知製造方法成形有透鏡平面區域(plano area)之結構示意圖。
第2b圖 本發明光學透鏡製造方法未成形有透鏡平面區域(plano area)之結構示意圖。
第3圖 習知製造半導體發光裝置及發光模組之流程圖。
第4圖 本發明製造半導體發光裝置之流程圖。
第5圖 本發明製造半導體發光模組之流程圖。
101‧‧‧支撐結構
102‧‧‧晶粒
103‧‧‧封裝劑
103’‧‧‧光學透鏡
104’‧‧‧低表面能屏障面
Claims (14)
- 一種半導體發光裝置之光學透鏡製造方法，該方法包括取至少一晶粒貼附於一支撐結構步驟；其特徵在於該步驟進一步包括：(a)該支撐結構塗佈有一低表面能材料構成之屏障帶或屏障面；(b)將一封裝材料點膠設於具有該低表面能屏障帶或屏障面之該支撐結構上，在該晶粒上形成至少一光學透鏡；(c)固化該封裝材料以將液態物質轉化為固態封裝材料；其中，該塗佈低表面能材料步驟係得以在該封裝材料點膠步驟前的任何階段優先實施。
- 如申請專利範圍第1項所述之半導體發光裝置之光學透鏡製造方法，其中，該低表面能屏障帶或屏障面係視其應用而具有不同形狀、尺寸及數量。
- 如申請專利範圍第1項所述之半導體發光裝置之光學透鏡製造方法，其中，該低表面能屏障帶或屏障面之表面能為5mN/m~18mN/m。
- 如申請專利範圍第1項所述之半導體發光裝置之光學透鏡製造方法，其中，該低表面能屏障帶或屏障面包含帶有碳氟基團的聚矽氧材料。
- 如申請專利範圍第1項所述之半導體發光裝置之光學透鏡製造方法，其中，該低表面能屏障帶或屏障面係得以經由點膠法、拉伸法、模版印刷法、噴墨印刷、轉印法、將整個支撐結構沉浸於低表面能溶液中或晶圓製造光阻程序等方法製成。
- 如申請專利範圍第1項所述之半導體發光裝置之光學透鏡製造方法，其中，該低表面能屏障帶或屏障面係經衝壓或模造成形為一片狀材料，並透過黏著劑貼附於該支撐結構。
- 如申請專利範圍第1項所述之半導體發光裝置之光學透鏡製造方法，其中，該封裝材料係為矽氧樹脂、環氧樹脂或其混合物。
- 如申請專利範圍第1項所述之半導體發光裝置之光學透鏡製造方法，其中，該封裝材料之表面能係大於20mN/m。
- 如申請專利範圍第1項所述之半導體發光裝置之光學透鏡製造方法，其中，該封裝材料添加有高界面活性材料以及觸變材料。
- 如申請專利範圍第1項所述之半導體發光裝置之光學透鏡製造方法，其中，該封裝材料之固化係透過紫外光、熱、濕度或其結合所達成。
- 如申請專利範圍第1項所述之半導體發光裝置之光學透鏡製造方法，其中，該方法係得以應用於晶片直接封裝裝 置上。
- 如申請專利範圍第11項所述之半導體發光裝置之光學透鏡製造方法，其中，該晶片直接封裝裝置係為金屬芯印刷電路板、具有或不具有導熱孔、聚亞酰胺撓性板、玻璃基板、聚矽氧基板、陶瓷基板、塑膠基板、引線框架的印刷電路板。
- 一種半導體發光裝置，其包括至少一晶粒、至少一光學透鏡、一支撐結構；其特徵在於：該支撐結構上塗佈有一低表面能材料構成的屏障帶或屏障面，該光學透鏡經由將一封裝材料點膠設於該低表面能屏障帶或屏障面上，而未成形有一透鏡平面區域地設於該支撐結構上。
- 一種半導體發光模組，其具有至少一半導體發光裝置包括至少一晶粒、至少一光學透鏡及作為一支撐結構之印刷電路板；其特徵在於：該支撐結構上塗佈有一低表面能材料構成的屏障帶或屏障面，該光學透鏡經由將一封裝材料點膠設於該低表面能屏障帶或屏障面上，而未成形有一透鏡平面區域地設於該支撐結構上。
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