TWI486726B - 曝光設備及製造裝置之方法 - Google Patents

Description

曝光設備及製造裝置之方法

本發明係相關於曝光設備及製造裝置之方法。

曝光設備被用於製造FPD(平板顯示器)的液晶面板。曝光設備將光罩的圖案之影像投影於塗敷光阻的玻璃基板上以及曝光玻璃基板。預期近來將在曝光設備中擴大曝光玻璃基板的曝光區，因為玻璃基板的尺寸隨著液晶面板的規模變大而變大。

在專利文件1-3中說明包含大型曝光區之曝光設備。在專利文件1中說明反射型投影光學系統的成像放大倍數大於1。在專利文件2中，說明將複數個投影透鏡系統配置在橫方向上(垂直於玻璃基板及光罩的掃描方向之方向)，投影透鏡系統為頂及底的兩平台且形成直立影像，以及連接藉由玻璃基板上之兩平台的各個投影透鏡系統所形成之各個曝光區。在專利文件3中說明將複數個單一放大倍數反射型投影光學系統配置在橫方向上。此外，說明使用在其每一個上形成鏡面顛倒圖案之複數個光罩來連接由玻璃基板上的各個反射型投影光學系統所形成之各個曝光區。

專利文件1所說明之反射型投影光學系統的製造成本高及由於將成像放大倍數變大導致變大。專利文件2所說明之投影透鏡系統是大的，因為專利文件2所說明之投影 透鏡系統係由頂及底的兩平台所組成，以在基板上連接直立影像之複數個有效良好的成像區。

專利文件3所說明之反射型投影光學系統為單一放大倍數及非由頂及底的兩平台所組成。配置在其上形成鏡面顛倒圖案之複數個光罩，以便在專利文件3所說明之曝光設備中的一平台上彼此相接觸。反射型投影光學系統在垂直方向上於正下方投影各個光罩的圖案，及形成各個投影區。因此，藉由掃描玻璃基板上的各個投影區所曝光之各個曝光區係在鄰接的曝光區彼此相接觸之條件下。換言之，未設定曝光區彼此重疊之區域(寬度)。因此，在形成於玻璃基板上之圖案中，諸如中斷的形狀或階差等缺陷產生在各個曝光區彼此相接觸之區域中。

引用清單 專利文件

PTL 1日本專利早期公開號碼2006-78592

PTL 2日本專利早期公開號碼7-57986

PTL 3日本專利早期公開號碼2003-84445

根據本發明的至少一實施例，曝光設備減少發生與曝光圖案有關的缺陷。

本發明的一態樣係針對曝光設備，用以將圖案的影像投影到基板上及曝光基板，設備包含：光罩台，被組構成支托複數個光罩，使得複數個光罩不彼此相接觸；以及投 影光學系統，被組構成將圖案的影像投影到基板上，其中，投影光學系統包括複數個光學系統，其中，光學系統的每一個將複數個光罩中之一光罩的圖案之影像投影到基板的曝光區上，並且其中，設備曝光基板，使得由各個光學系統所曝光之基板的各個曝光區彼此局部重疊。

從參考附圖的下面例示實施例說明，將使本發明的其他特徵變得更加顯而易見。

第一實施例

圖1為根據本實施例之顯示曝光設備的投影光學系統附近之構造的光罩表面之側面圖。圖2為側視圖(從x方向觀看(圖1的朝下方向))。圖3為平截頭體型鏡的側面圖。在圖1中，省略下面將說明之反射稜鏡6a、6b、7a、及7b。

根據本實施例之曝光設備將至少兩光罩(光罩A、B)的圖案之影像投影到一基板P上。

光罩台8a支托光罩A及移動光罩A，而光罩台8b支托光罩B及移動光罩B。為了容易圖解，光罩台8a及8b被圖解作分開的平台，可想像單一光罩台被組構成獨立地支托及移動複數個光罩。換言之，這些光罩台可被實施作單一光罩台，以支托複數個光罩，使得複數個光罩不彼此相接觸。以基板台(未圖示於這些圖式中)支托基板P。根據本實施例之曝光設備為掃描型曝光設備，其在y方向 (掃描方向)上移動各個光罩及基板P的同時照明各個光罩，及將基板P曝光到輻射能。

曝光設備包含照明光學系統(未圖示)。照明光學系統使用來自光源的光照明光罩A及光罩B的每一個。照明光學系統以照明光照明各個光罩，照明光的截面為弧形。照明光學系統形成弧形照明區1a及弧形照明區1b。光源及照明光學系統係由眾所皆知的技術所構成。當使用獨立光源時，各個光源及各個照明光學系統可被配置成對應於各個光罩。另一選擇是，當使用單一光源時，可使用分割機構，其被組構成藉由例如纖維等等分割來自一光源的光，以及可使用照明各個光罩的光學儀器。

曝光設備包含對應於複數個光罩之複數個反射型投影光學系統(光學系統)。各個投影光學系統具有Offer組態(放大倍數1倍之投影光學系統)，及以最小像差提供好的成像弧形區。在此實施例中，複數個投影光學系統具有相同光學常數(曲率半徑、空氣間隙、折射率)。

將光罩A的圖案之影像投影於基板P上的投影光學系統包含平截頭體型鏡3a、凹面鏡4a、凸面鏡5a、反射稜鏡(矩形稜鏡)6a、及反射稜鏡(矩形稜鏡)7a。從x方向觀看鏡3a，鏡3a為如圖2所示之梯形。來自光罩的光在圖1-3中被圖示成點線。將光罩A的圖案之影像投影於基板P上的投影光學系統以平截頭體型鏡3a的第一平坦反射表面、凹面鏡4a的第一凹面反射表面、凸面鏡5a的凸面反射表面、凹面鏡4a的第二凹面反射表面、及鏡3a 的第二平坦反射表面之順序來反射來自光罩A的光。而且，已被鏡3a的第二平坦反射表面反射之光被反射稜鏡6a及7a的平坦反射表面反射。並且，鏡3a的第二平坦反射表面改變光路徑的方向。反射稜鏡6a及7a的平坦反射表面被配置成彼此面對，使得各自反射表面平行，如圖3所示。已進入反射稜鏡6a之光的路徑被改變成x方向，及已進入反射稜鏡6a之光進入反射稜鏡7a，如圖3所示。反射稜鏡7a將光路徑改變成-z方向。

再者，將光罩B的圖案之影像投影於基板P上的投影光學系統包含平截頭體型鏡3b、凹面鏡4b、凸面鏡5b、反射稜鏡6b、及反射稜鏡7b。將光罩B的圖案之影像投影於基板P上的投影光學系統以鏡3b的第一平坦反射表面、凹面鏡4b的第一凹面反射表面、凸面鏡5b的凸面反射表面、凹面鏡4b的第二凹面反射表面、及反射鏡3b的第二平坦反射表面之順序來反射來自光罩B的光。而且，已被反射鏡3b的第二平坦反射表面反射之光被反射稜鏡6b及7b的平坦反射表面反射。並且，反射鏡3b的第二平坦反射表面所反射之光的方向被改變成如圖3所示。

凹面鏡4a的第一凹面反射表面之曲率半徑與凹面鏡4a的第二凹面反射表面之半徑相同。凹面鏡4b的第一凹面反射表面及第二凹面反射表面亦具有相同的曲率半徑。

各個投影光學系統將被反射稜鏡的平坦反射表面所反射之光投影於基板P上，及形成將各個光罩的圖案之影像投影於基板P(影像面)上的弧形投影區2a及2b。並 且，在掃描方向上移動各個光罩及基板P的同時，藉由掃描基板上的投影區來曝光基板P。

各個光罩的圖案顛倒成鏡面顛倒圖案，及各個光罩的圖案係曝光於基板上，因為各個投影光學系統被組構成Offner光學系統。因此，必須顛倒欲待連接之各個光罩的圖案，使得圖案在基板上具有連續性，即，沒有圖案中斷。例如，在圖1中，在光罩A上圖示有圓形之區域9a被轉移在基板P的區域10a上，及在光罩B上圖示有方形之區域9b被轉移在基板P的區域10b上。

在如圖1所示之掃描方向上，藉由預定距離來位移光罩的照明區1a及1b。因此，投影區2a及2b在基板上未具有彼此重疊的區域。在掃描方向上移動光罩及基板的同時，藉由掃描基板上的投影區2a所曝光之基板的曝光區11a及藉由掃描基板上的投影區2b所曝光之基板的曝光區11b係局部彼此重疊。曝光區11a為圖1之點虛線的兩點所示之區域，而曝光區11b為圖1之點虛線的一點所示之區域。各個曝光區所重疊之區域的寬度(垂直於掃描方向的方向上(x方向)之長度)能夠藉由反射稜鏡6a、6b、7a、及7b的配置(位置及角度)來改變。例如，藉由在x方向上移動稜鏡7a及7b來改變各個曝光區的重疊區之寬度。

必須使重疊區中及重疊區以外的區域中之整體曝光量相同，以統一基板上之曝光區中各個位置之整體曝光量。因此，各個投影區(如區域10a、10b)的邊緣中之光強度 被設定成低於其他區域的光強度。或者，各個投影區的邊緣中之掃描方向的寬度被形成較窄。有關光強度分佈的形成，可如上述專利文件2之圖8等等所提一般使用眾所皆知的技術。

在此實施例中，光罩的照明區1a及1b投影區2a及2b在掃描方向上位移，及光學構件被置放成避免光學構件之間的實體干擾。因此，藉由各個曝光區可使重疊區的寬度改成任意值。可在不在掃描方向上位移之情況下置放光罩的照明區1a及1b。

反射稜鏡6a、6b、7a、及7b彎曲光束，以藉由連接一基板P上之兩分開的光罩A及B之圖案來轉移。光罩的照明區及基板上的投影區被位移成如圖1所示。即，反射稜鏡6a、6b、7a、及7b具有在不同於在垂直方向上延伸光罩的照明區之位置的位置中將圖案之投影區形成於基板上的功能。從物體側(頂表面)觀看投影光學系統，光罩的照明區與圖案的投影區之位置不同。在此實施例中，在垂直方向上延伸光罩的照明區之位置與圖案的投影區之位置被位移於垂直於xy平面(基板的移動平面或光罩的移動平面)中的掃描方向(y方向)之方向上(x方向)。換言之，在垂直方向上延伸光罩的照明區之位置與圖案的投影區之位置在y方向上相同而在x方向上不同。

如上述，在此實施例中，可藉由支托光罩以便不與各個光罩相接觸及以反射稜鏡彎曲光來設定各個曝光區的重疊區。因此，在將各個光罩的圖案轉移於一基板上之事例 中，不可能產生諸如中斷的形狀或階差等缺陷。並且減少與圖案的連接錯誤發生。

第二實施例

圖4為根據本實施例之顯示曝光設備的投影光學系統附近之構造的光罩表面之側面圖。圖5為側視圖(從x方向的圖(圖4之朝下方向))。圖6為從y方向的圖(圖4的左方向))。在圖4中，省略欲待說明之反射稜鏡6c、6d、7c及7d。

在此實施例中，投影光學系統及光罩的置放不同於第一實施例。省略同於第一實施例之構造的說明。在第一實施例中改變諸如曝光區的尺寸等光學規格之事例中，當移動凹面鏡時，凹面鏡可能彼此碰撞。因此，在此實施例中，凹面鏡被置放成沒有凹面鏡的干擾。

光罩台8c支托光罩C及移動光罩C，而光罩台8d支托光罩D及移動光罩D。換言之，這些光罩台支托光罩，使得複數個光罩不彼此相接觸。根據本實施例之曝光設備在y方向(掃描方向)上移動各個光罩及基板P的同時照明各個光罩及曝光基板P。

照明光學系統使用來自光源的光照明光罩C及D。照明光學系統以照明光照明各個光罩，照明光的截面為弧形。照明光學系統形成弧形照明區1c及弧形照明區1d。

將光罩C的圖案之影像投影於基板P上的投影光學系統包含平截頭體型鏡3c、凹面鏡4c、凸面鏡5c、反射稜 鏡6c、及反射稜鏡7c。來自光罩的光在圖4-6中被圖示成點線。將光罩C的圖案之影像投影於基板P上的投影光學系統以鏡3c的第一平坦反射表面、凹面鏡4c的第一凹面反射表面、凸面鏡5c的凸面反射表面、凹面鏡4c的第二凹面反射表面、及鏡3c的第二平坦反射表面之順序來反射來自光罩的光。而且，已被鏡3c的第二平坦反射表面反射之光被反射稜鏡6c及7c的平坦反射表面反射。並且，鏡3c的第二平坦反射表面改變光的方向。已進入反射稜鏡6c之光的路徑被改變成x方向，及已進入反射稜鏡6c之光進入反射稜鏡7c，如圖6所示。反射稜鏡7c將光路徑改變成-z方向。

再者，將光罩D的圖案之影像投影於基板P上的投影光學系統包含平截頭體型鏡3d、凹面鏡4d、凸面鏡5d、反射稜鏡6d、及反射稜鏡7d。將光罩D的圖案之影像投影於基板P上的投影光學系統以鏡3d的第一平坦反射表面、凹面鏡4d的第一凹面反射表面、凸面鏡5d的凸面反射表面、凹面鏡4d的第二凹面反射表面、及反射鏡3d的第二平坦反射表面之順序來反射來自光罩的光。而且，已被反射鏡3d的第二平坦反射表面反射之光被反射稜鏡6d及7d的平坦反射表面反射。並且，鏡3d的第二平坦反射表面如圖5所示改變光的方向。已進入反射稜鏡6d之光的路徑被改變成y方向，及已進入反射稜鏡6d之光進入反射稜鏡7d。反射稜鏡7d將光路徑改變成-z方向。

凹面鏡4c的第一凹面反射表面與第二凹面反射表面 具有相同的曲率半徑。凹面鏡4d的第一凹面反射表面與第二凹面反射表面亦具有相同的曲率半徑。

各個投影光學系統將被反射稜鏡的平坦反射表面所反射之光投影於基板P上，及形成將各個光罩的圖案之影像投影於基板P(影像面)上的弧形投影區2c及2d。並且，在掃描方向上移動各個光罩及基板P的同時，藉由掃描基板上的各個投影區來曝光基板P。

在圖4中，在光罩C上圖示有圓形之區域9c被轉移在基板P的區域10c上，及在光罩D上圖示有方形之區域9d被轉移在基板P的區域10d上。

在如圖4所示之掃描方向上，光罩的照明區1c及1d被位移一預定距離。而且，藉由反射稜鏡的功能，投影區2c及2d在基板上未具有彼此重疊的區域。在掃描方向上移動光罩及基板的同時，藉由掃描基板上之投影區2c所曝光的基板之曝光區11c與藉由掃描基板上之投影區2d所曝光的基板之曝光區11d係局部彼此重疊。曝光區11c為圖4之點虛線的兩點所示之區域，而曝光區11d為圖4之點虛線的一點所示之區域。藉由各個曝光區所重疊之區域的寬度(垂直於掃描方向的方向上(x方向)之長度)能夠藉由反射稜鏡6c、6d、7c、及7d的配置來改變。例如，藉由在x方向上移動稜鏡7c來改變各個曝光區的重疊區之寬度。

為了統一基板上之曝光區的各個位置中之整體曝光量，各個投影區(如、區域10a、10b)的邊緣中之光強度 被設定成低於其他區域的光強度。或者，各個投影區的邊緣中之掃描方向的寬度被形成較窄。

反射稜鏡6c、6d、7c、及7d彎曲光束，以藉由連接一基板P上之兩分開的光罩C及D之圖案來轉移。光罩的照明區及基板上的投影區被位移成如圖4所示。即，各個反射稜鏡具有在不同於在垂直方向上延伸光罩的照明區之位置的位置中將圖案之投影區形成於基板上的功能。具體而言，有關投影區2c，在垂直方向上延伸光罩的照明區1c之位置與圖案的投影區之位置被位移於垂直於xy平面中的掃描方向之方向上(x方向)。有關投影區2d，在垂直方向上延伸光罩的照明區1d之位置與圖案的投影區之位置被位移於xy平面中的掃描方向(y方向)上。

如上述，在此實施例中，藉由支托以便不與各個光罩相接觸及以反射稜鏡彎曲光，能夠充分設定各個曝光區的重疊區。因此，在將各個光照的圖案轉移於基板上之事例中，減少發生與圖案的連接錯誤。此外，在此實施例中降低凹面鏡的干擾。

第三實施例

圖7為根據本實施例之顯示曝光設備的投影光學系統附近之構造的光罩表面之側面圖。圖8為側視圖(從x方向的圖(圖7之朝下方向))。圖9為從y方向的圖(圖7的左方向)。在圖7中，省略欲待說明之反射稜鏡6e-g、7e-g。

在此實施例中，投影光學系統及光罩的置放不同於第一及第二實施例。省略同於上述實施例之構造的說明。在此實施例中，凹面鏡被置放成沒有干擾，如同在第二實施例的事例一般。

根據此實施例之曝光設備曝光一基板P上之三個光罩(光罩E、F、G)的圖案之影像。

光罩台8e支托及移動光罩E，而光罩台8f支托及移動光罩F。光罩台8g支托及移動光罩G。換言之，這些光罩台支托光罩，使得複數個光罩不彼此相接觸。根據本實施例之曝光設備在y方向(掃描方向)上移動各個光罩及基板P的同時照明各個光罩及曝光基板P。

照明光學系統使用來自光源的光照明光罩E、F及G。照明光學系統以照明光照明各個光罩，照明光的截面為弧形。照明光學系統形成弧形照明區1e、弧形照明區1f及弧形照明區1g。

將光罩E的圖案之影像投影於基板P上的投影光學系統包含平截頭體型鏡3e、凹面鏡4e、凸面鏡5e、反射稜鏡6e、及反射稜鏡7e。來自光罩的光在圖7-9中被圖示成點線。將光罩E的圖案之影像投影於基板P上的投影光學系統以鏡3e的第一平坦反射表面、凹面鏡4e的第一凹面反射表面、凸面鏡5e的凸面反射表面、凹面鏡4e的第二凹面反射表面、及鏡3e的第二平坦反射表面之順序來反射來自光罩的光。而且，已被鏡3e的第二平坦反射表面反射之光被反射稜鏡6e及7e的平坦反射表面反射。並 且，鏡3e的第二平坦反射表面改變光的方向。已進入反射稜鏡6e之光的路徑被改變成x方向，及已進入反射稜鏡6e之光進入反射稜鏡7e，如圖9所示。反射稜鏡7e將光路徑改變成-z方向。

再者，將光罩F的圖案之影像投影於基板P上的投影光學系統包含平截頭體型鏡3f、凹面鏡4f、凸面鏡5f、反射稜鏡6f、及反射稜鏡7f。將光罩F的圖案之影像投影於基板P上的投影光學系統以鏡3f的第一平坦反射表面、凹面鏡4f的第一凹面反射表面、凸面鏡5f的凸面反射表面、凹面鏡4f的第二凹面反射表面、及反射鏡3f的第二平坦反射表面之順序來反射來自光罩的光。而且，已被反射鏡3f的第二平坦反射表面反射之光被反射稜鏡6f及7f的平坦反射表面反射。並且，鏡3f的第二平坦反射表面如圖8所示改變光的方向。已進入反射稜鏡6f之光的路徑被改變成y方向，及已進入反射稜鏡6f之光進入反射稜鏡7f。反射稜鏡7f將光路徑改變成-z方向。

將光罩G的圖案之影像投影於基板P上的投影光學系統包含平截頭體型鏡3g、凹面鏡4g、凸面鏡5g、反射稜鏡6g、及反射稜鏡7g。將光罩G的圖案之影像投影於基板P上的投影光學系統以鏡3g的第一平坦反射表面、凹面鏡4g的第一凹面反射表面、凸面鏡5g的凸面反射表面、凹面鏡4g的第二凹面反射表面、及反射鏡3g的第二平坦反射表面之順序來反射來自光罩的光。而且，已被反射鏡3g的第二平坦反射表面反射之光被反射稜鏡6g及7g 的平坦反射表面反射。並且，鏡3g的第二平坦反射表面改變光的方向。如圖9所示，已進入反射稜鏡6g之光的路徑被改變成x方向，及已進入反射稜鏡6g之光進入反射稜鏡7g。反射稜鏡7g將光路徑改變成-z方向。

凹面鏡4e的第一凹面反射表面與第二凹面反射表面具有相同的曲率半徑。凹面鏡4f及4g也一樣。

各個投影光學系統將被反射稜鏡的平坦反射表面所反射之光投影於基板P上，及形成將各個光罩的圖案之影像投影於基板P(影像面)上的弧形投影區2e、2f及2g。並且，在掃描方向上移動各個光罩及基板P的同時，藉由掃描基板上的各個投影區來曝光基板P。

在圖7中，在光罩E上圖示有圓形之區域9e被轉移在基板P的區域10e上，及在光罩F上圖示有圓形之區域9f1被轉移在基板P的區域10f1上。在光罩F上圖示有方形之區域9f2被轉移在基板P的區域10f2上，及在光罩G上圖示有方形之區域9g被轉移在基板P的區域10g上。

與光罩的照明區1e、1g及照明區1f比較，在圖7所示之掃描方向上，這些照明區被位移一預定距離。而且，藉由反射稜鏡的功能，投影區2e、2f及2g在基板上未具有彼此重疊的區域。在掃描方向上移動光罩及基板的同時，藉由掃描基板上之投影區2e所曝光的基板之曝光區11e與藉由掃描基板上之投影區2f所曝光的基板之曝光區11f係局部彼此重疊。曝光區11e為圖7之點虛線的兩點所示之區域，而曝光區11f為圖4之點虛線的一點所示之 區域。再者，曝光區11f與藉由掃描基板上之投影區2g所曝光的基板之曝光區11g(圖7之點虛線的兩點所示之區域)係局部彼此重疊。

各個曝光區所重疊之區域的寬度(垂直於掃描方向的方向上(x方向)之長度)能夠藉由反射稜鏡6e-g、7e-g的配置來改變。例如，藉由在x方向上移動稜鏡7e及7g來改變各個曝光區的重疊區之寬度。

為了統一基板上之曝光區的各個位置中之整體曝光量，各個投影區的邊緣中之光強度被設定成低於其他區域的光強度。或者，各個投影區的邊緣中之掃描方向的寬度被形成較窄。

反射稜鏡6e-g及7e-g彎曲光束，以藉由連接一基板P上之三個分開的光罩E至G之圖案來轉移。光罩的照明區及基板上的投影區被位移成如圖7所示。即，各個反射稜鏡具有在不同於在垂直方向上延伸光罩的照明區之位置的位置中將圖案之投影區形成於基板上的功能。具體而言，有關投影區2e，在垂直方向上延伸光罩的照明區1e之位置與圖案的投影區2e之位置被位移於垂直於xy平面中的掃描方向之方向上(x方向)。投影區2g也一樣。有關投影區2f，在垂直方向上延伸光罩的照明區1f之位置與圖案的投影區2f之位置被位移於xy平面中的掃描方向(y方向)上。

如上述，在此實施例中，藉由支托以便不與各個光罩相接觸及以反射稜鏡彎曲光，能夠充分設定各個曝光區的 重疊區。因此，在將各個光罩的圖案轉移於一基板上之事例中，減少與圖案的連接錯誤發生。此外，在此實施例中降低凹面鏡的干擾。

在上述實施例中，例示連接兩或三個光罩的圖案之事例，能夠增加投影光學系統的數目及連接超過4個光罩的圖案。

一光罩台支托一光罩。然而，能夠將複數個光罩支托框安裝於一光罩台上，將光罩置放在支托框中，及支托複數個光罩使得複數個光罩不彼此重疊。

在上述實施例中，例示用以支托以能夠獨立移動複數個光罩的每一個之複數個光罩台的事例，若一光罩台能夠支托卻不會接觸各個光罩，則能夠藉由一光罩台支托所有光罩。

在上述實施例中，例示掃描型曝光設備，亦可應用步進及重複型曝光設備(步進器)。此外，投影光學系統並不侷限於單一的放大倍數，可應用放大系統或縮小系統。投影光學系統並不侷限於反射型，可應用透射型(透鏡)光學系統。此外，彎曲光學路徑之光學構件足夠作為上述反射稜鏡，可應用右表面反射鏡或全反射鏡。

第四實施例

接著，將說明使用上述曝光設備來製造裝置(半導體IC裝置、液晶顯示裝置等等)之方法。藉由使用上述曝光設備曝光塗佈有光阻之基板(晶圓、玻璃基板等等)的步 驟、顯影基板(光阻)的步驟、及其他眾所皆知的步驟來製造裝置。其他眾所皆知的步驟包括蝕刻、光阻剝離、晶圓切割、黏合、封裝等等。此製造裝置之方法可製造具有品質高於由相關技藝的技術所製造之裝置的品質之裝置。

本發明能夠降低與圖案有關的缺陷之發生。

儘管已參考例示實施例說明本發明，但是應明白本發明並不侷限於所揭示的例示實施例。應賦予下面申請專利範圍的範疇最廣泛的闡釋，以便包含所有此種修改及均等結構和功能。

A‧‧‧光罩

B‧‧‧光罩

C‧‧‧光罩

D‧‧‧光罩

E‧‧‧光罩

F‧‧‧光罩

G‧‧‧光罩

P‧‧‧基板

1a‧‧‧照明區

1b‧‧‧照明區

1c‧‧‧照明區

1d‧‧‧照明區

1e‧‧‧照明區

1f‧‧‧照明區

1g‧‧‧照明區

2a‧‧‧弧形投影區

2b‧‧‧弧形投影區

2c‧‧‧弧形投影區

2d‧‧‧弧形投影區

2e‧‧‧弧形投影區

2f‧‧‧弧形投影區

2g‧‧‧弧形投影區

3a‧‧‧平截頭體型鏡

3b‧‧‧平截頭體型鏡

3c‧‧‧平截頭體型鏡

3d‧‧‧平截頭體型鏡

3e‧‧‧平截頭體型鏡

3f‧‧‧平截頭體型鏡

3g‧‧‧平截頭體型鏡

4a‧‧‧凹面鏡

4b‧‧‧凹面鏡

4c‧‧‧凹面鏡

4d‧‧‧凹面鏡

4e‧‧‧凹面鏡

4f‧‧‧凹面鏡

4g‧‧‧凹面鏡

5a‧‧‧凸面鏡

5b‧‧‧凸面鏡

5c‧‧‧凸面鏡

5d‧‧‧凸面鏡

5e‧‧‧凸面鏡

5f‧‧‧凸面鏡

5g‧‧‧凸面鏡

6a‧‧‧反射稜鏡

6b‧‧‧反射稜鏡

6c‧‧‧反射稜鏡

6d‧‧‧反射稜鏡

6e‧‧‧反射稜鏡

6f‧‧‧反射稜鏡

6g‧‧‧反射稜鏡

7a‧‧‧反射稜鏡

7b‧‧‧反射稜鏡

7c‧‧‧反射稜鏡

7d‧‧‧反射稜鏡

7e‧‧‧反射稜鏡

7f‧‧‧反射稜鏡

7g‧‧‧反射稜鏡

8a‧‧‧光罩台

8b‧‧‧光罩台

8c‧‧‧光罩台

8d‧‧‧光罩台

8e‧‧‧光罩台

8f‧‧‧光罩台

8g‧‧‧光罩台

9a‧‧‧區域

9b‧‧‧區域

9c‧‧‧區域

9d‧‧‧區域

9e‧‧‧區域

9f1‧‧‧區域

9f2‧‧‧區域

9g‧‧‧區域

10a‧‧‧區域

10b‧‧‧區域

10c‧‧‧區域

10d‧‧‧區域

10e‧‧‧區域

10f1‧‧‧區域

10f2‧‧‧區域

10g‧‧‧區域

11a‧‧‧曝光區

11b‧‧‧曝光區

11c‧‧‧曝光區

11d‧‧‧曝光區

11e‧‧‧曝光區

11f‧‧‧曝光區

11g‧‧‧曝光區

圖1為根據第一實施例之顯示曝光設備的投影光學系統附近之構造的光罩表面之側面圖。

圖2為根據第一實施例的顯示投影光學系統附近之構造的側視圖。

圖3為根據第一實施例的顯示投影光學系統附近之構造的平截頭體型鏡之側面圖。

圖4為根據第二實施例之顯示曝光設備的投影光學系統附近之構造的光罩表面之側面圖。

圖5為根據第二實施例的顯示投影光學系統附近之構造的側視圖。

圖6為根據第二實施例的自y方向(圖4的左方向)顯示投影光學系統附近之構造的圖。

圖7為根據第三實施例之顯示曝光設備的投影光學系 統附近之構造的光罩表面之側面圖。

圖8為根據第三實施例的顯示投影光學系統附近之構造的側視圖。

圖9為根據第三實施例的自y方向(圖7的左方向)顯示投影光學系統附近之構造的圖。

A‧‧‧光罩

B‧‧‧光罩

P‧‧‧基板

1a‧‧‧照明區

1b‧‧‧照明區

2a‧‧‧弧形投影區

2b‧‧‧弧形投影區

3a‧‧‧平截頭體型鏡

3b‧‧‧平截頭體型鏡

4a‧‧‧凹面鏡

4b‧‧‧凹面鏡

5a‧‧‧凸面鏡

5b‧‧‧凸面鏡

8a‧‧‧光罩台

8b‧‧‧光罩台

9a‧‧‧區域

9b‧‧‧區域

10a‧‧‧區域

10b‧‧‧區域

11a‧‧‧曝光區

11b‧‧‧曝光區

Claims (9)

1. 一種曝光設備，用以將圖案的影像投影到基板上及曝光該基板，該設備包含：光罩台，被組構成支托複數個光罩，使得該複數個光罩不彼此相接觸；以及投影光學系統，被組構成將該圖案的該影像投影到該基板上，其中，該投影光學系統包括複數個光學系統，其中，該等光學系統的每一個將該等複數個光罩中之一光罩的該圖案之該影像投影到該基板的曝光區上，並且其中，該設備曝光該基板，使得由各個光學系統所曝光之該基板的各個曝光區彼此局部重疊。
2. 根據申請專利範圍第1項之設備，其中，該等複數個光學系統中的至少一個形成投影區，在該投影區中，在不同於在垂直方向上延伸該光罩的照明區之位置的位置中，將該光罩的該圖案投影到該基板上。
3. 根據申請專利範圍第2項之設備，其中，該設備為掃描型曝光設備，其在掃描方向上掃描該基板和該光罩的同時曝光該基板，其中，在該垂直方向上延伸該光罩的照明區之該位置與將該光罩的該圖案投影到該基板上之該投影區在該掃描方向上是不同的。
4. 根據申請專利範圍第2項之設備，其中，該設備為掃描型曝光設備，其在掃描方向上掃描該基板和該光罩的 同時曝光該基板，其中，在該垂直方向上延伸該光罩的照明區之該位置與將該光罩的該圖案投影到該基板上之該投影區在垂直於該掃描方向之方向上是不同的。
5. 根據申請專利範圍第2項之設備，其中，該投影光學系統包含光學構件，該光學構件被組構成彎曲光路徑，其中，將該光罩的該圖案投影於該基板上之該投影區係形成在不同於使用該光學構件在該垂直方向上延伸該光罩的照明區之位置的位置中。
6. 根據申請專利範圍第1項之設備，另包含複數個光罩台，其被組構成支托以便獨立地移動該等複數個光罩的每一個。
7. 根據申請專利範圍第1項之設備，其中，該投影光學系統為反射型投影光學系統。
8. 根據申請專利範圍第5項之設備，其中，該光學構件包含平坦反射表面。
9. 一種製造裝置之方法，該方法包含：使用曝光設備曝光基板；以及顯影該曝光基板，其中，該曝光設備將圖案的影像投影到該基板上及曝光該基板，其中，該曝光設備包含：光罩台，被組構成支托複數個光罩，使得該複數個光罩不彼此相接觸；以及 投影光學系統，被組構成將該圖案的該影像投影到該基板上，其中，該投影光學系統包括複數個光學系統，其中，該等複數個光學系統的每一個將該等複數個光罩中之一光罩的該圖案之該影像投影到該基板的曝光區上，並且其中，該設備曝光該基板，使得由各個光學系統所曝光之該基板的各個曝光區彼此局部重疊。