TWI479546B - 真空驅動軸之真空密封機構 - Google Patents

Description

真空驅動軸之真空密封機構

本發明是關於密封機構，特別是關於將真空處理室內保持著被處理構件的保持部利用掃瞄軸驅動成往返移動，將該掃瞄軸貫穿真空處理室牆壁所設置的連絡口導出外部由配置在真空處理室外的驅動機構對該掃瞄軸進行驅動的狀況時，一種適合於真空處理室外的真空驅動軸使用的真空密封機構。

此種真空密封機構，例如是適用在FPD(Flat Panel Display：平面顯示器)製造用的帶狀射束型摻雜裝置，於此參照第7圖加以簡單說明。

於第7圖，此種摻雜裝置中，為了在真空處理室100內使大型長方形形狀的玻璃基板100全區域摻雜，有必要將玻璃基板110其全長整個掃瞄在帶狀射束120中。摻雜作業中，玻璃基板110是由基板保持器130保持在真空處理室100內，朝第7圖箭頭符號200所示的雙方向對其進行掃瞄。掃瞄動作用的驅動，是透過直動式真空驅動軸即掃瞄軸140在大氣側即真空處理室100外進行。掃瞄軸140是貫穿在真空處理室100的牆壁101形成可往返移動(上下動)。於真空處理室100外的掃瞄軸140的周圍，設有可使真空側和大氣側分離的封裝式真空密封機構150。掃瞄軸140的大氣側端部，是固定在以掃瞄用馬達161為驅動源的滾珠螺桿機構160的移動部162。

基板保持器130，是由配置在馬達殼170內的驅動馬達構成的驅動機構使其成為可水平動作，傾轉動作。馬達殼170，是由添設在真空處理室100牆壁101的線性軸承171引導成為可往返移動(上下動)。

掃瞄軸140為中空，透過纜線殼180使其真空側的端部和馬達殼170形成連接。於掃瞄軸140內，需收容連接馬達殼170內驅動馬達的動力纜線或真空排氣路線等，所以其內徑必須形成為較大。

此外，當加工對象為非常大型級別的玻璃基板時連掃瞄長都會超過1000mm，因此往復於真空側和大氣側的掃瞄軸140的表面積就會變大。如此一來，於掃瞄中暴露在大氣時，附著在掃瞄軸140表面的水份等會游離在真空處理室100內造成真空度惡化，特別是會導致無法獲得掃瞄速度快低劑量摻雜的再現性。

另一方面，對於附著在掃瞄軸表面的水份所造成的真空處理室內的真空度惡化的改善手段，是提供具備氣體置換機構的系統。該系統具備有可包圍著掃瞄軸周圍，具1段以上排氣室的軸承裝置。接著，軸承裝置至少在其真空處理室相反側的端部和通過該端部的掃瞄軸之間的空隙其大氣側的入口附近具備有氣體置換機構。該氣體置換機構，是從上述軸承機構的外部供應至少比周圍大氣還濕度低並且正壓的乾燥氣體，以該乾燥氣體置換上述入口部附近的環境氣(參照專利文獻1：日本專利第3077605號公報)。

利用該氣體置換機構，能夠防止大氣流入軸承裝置的初段排氣室，進而能夠防止大氣中的水份流入軸承裝置。

然而，專利文獻1所揭示的系統，其處理對象是被處理構件的基板尺寸至多為8英吋或12英吋程度，掃瞄長也只不過是300mm或400mm程度而已，並不適合成為處理對象是掃瞄長超過1000mm大型基板的系統。

本發明的目的是提供一種即使是高速且為長掃瞄的基板掃瞄，於封裝式真空密封機構中還是能夠實現真空性能提昇的真空驅動軸之真空密封機構。

本發明，其適用於下述構成的真空驅動軸之真空密封機構，即，該真空驅動軸之真空密封機構是構成將真空處理室內保持著被處理構件的保持部利用真空驅動軸驅動成往返移動，將該真空驅動軸貫穿該真空處理室牆壁所設置的連絡口導出外部由配置在真空處理室外的驅動機構對其進行驅動，在從上述連絡口伸出至該真空處理室外的部位具備有該真空驅動軸的導出用引導部的同時，於該真空驅動軸的大氣側周圍具備有密封殼。

於本發明的真空密封機構中，由複數差動排氣部及複數密封構件構成上述密封殼的同時，在上述真空驅動軸上，透過具有彈性部份形成可擺動的連接構件連結上述導出用引導部和上述密封殼。

於本發明的真空密封機構中，上述具有彈性部份的連接構件是以具有可擺動自如支撐在上述密封殼的中間連接構件為佳。

於本發明的真空密封機構中，上述複數密封構件，最好是由從真空處理室側依序朝大氣側配置的第1、第2、第3密封構件所形成，上述差動排氣部，最好是由：上述第1密封構件和上述第2密封構件之間設置在述密封殼的第1差動排氣部；及上述第2密封構件和上述第3密封構件之間設置在上述密封殼的第2差動排氣部所構成。

本發明的真空密封機構中，最好是上述第2差動排氣部的排氣空間，其排氣部的容積是形成比上述第1差動排氣部的排氣空間還大。

本發明的真空密封機構中，最好是於上述第1差動排氣部連接著精密真空泵浦，於上述第2差動排氣部連接著粗真空泵浦。

本發明的真空密封機構中，上述密封構件，最好是具有：剖面大致為U字形狀的環體；及收容在該環體大致U字形狀內將該大致U字形狀往擴張方向彈推的環狀彈簧體，大致U字形狀一方的邊最好是緊貼著上述真空驅動軸收容在上述密封殼。

本發明的真空密封機構中，上述密封殼，最好是在上述複數密封構件當中軸方向為最接近大氣側的密封構件其大氣側附近，設有可將乾燥惰性氣體或乾燥空氣噴吹在上述驅動軸周圍的吹掃部。

本發明的真空密封機構中，上述清除部，最好是包括能以嵌套構造嵌附在上述密封殼大氣側端部的吹掃環，該吹掃環內的吹掃空間，最好是透過密封空間連通於上述各差動排氣部的排氣空間。

本發明的真空密封機構中，上述具有彈性部份的連接構件，最好是包括：組裝在上述密封殼真空處理室側端部的上述中間連接構件；位於上述真空驅動軸的上述導出用引導部和上述中間連接構件之間，設置成可使上述真空驅動軸的周圍空間形成密封的蛇腹管；及設置在上述真空處理室和上述中間連接構件之間，可和上述中間連接構件合作形成容許上述密封殼其擺動的同時對軸方向的活動和旋轉加以限制的複數支承桿。

本發明的真空密封機構中，上述複數支承桿，最好是，位於上述蛇腹管的外側，其一端側是固定在上述真空處理室側，另一方面，其另一端側是固定在上述中間連接構件，至少在2支支承桿的對應於另一端側的部位，透過球面或球關節的軸承使上述中間連接構件和上述密封殼形成結合。

本發明的真空密封機構中，最好是，上述第1密封構件及上述第1差動排氣部，其有關上述軸承的位置是設置在靠近真空處理室側，上述第2密封構件其有關上述軸承的位置是設置在稍微錯開大氣側附近的位置，上述第2差動排氣部及上述第3密封構件其有關上述軸承的位置是設置在靠近大氣側。

根據本發明時，能夠提供具備有上述任一構成的真空驅動軸之真空密封機構的真空處理室或真空處理裝置。

根據本發明時，當然能夠防止大氣侵入真空處理室內，此外還能夠防止大氣中的水份流入真空處理室內，能夠防止真空處理室內的真空度隨著時間經過而惡化。

[發明之最佳實施形態]

以下，參照第1A圖、第1B圖及第2圖，針對本發明應用在做為真空處理裝置的FPD製造用劑量摻雜裝置的真空處理室的真空機構實施例進行說明。至於真空處理機構以外的部份，亦可和第7圖所示的構成相同。

第1A圖，是表示本發明的真空密封機構設置成和第7圖說明的真空處理室中相同的部位時其狀態側面，第1B圖為第1圖所示真空密封機構從下方看時的底視圖。第2圖為第1A圖真空密封機構的縱剖面圖。

本實施例的真空密封機構，以概略性而言，是大致分成密封殼2、吹掃部4、具有彈性部份的連接構件5。為真空驅動軸的掃瞄軸7是以可往返移動作(上下動作)的狀態貫穿著該等各部及設置在真空處理室1牆壁6的連絡口6a。

密封殼2為環狀或筒狀，於其上端側組裝有可將密封殼2支撐成擺動自如的凸緣環(中間連接構件)53。密封殼2是在軸方向隔著間隔的3處內壁分別具有環狀溝槽，於該等內壁收容著密封環23－1、23－2、23－3。密封環23－1、23－2、23－3是分別從真空處理室1側開始依順序稱為第1、第2、第3密封環。於密封殼2的內壁，又於第1密封環23－1和第2密封環23－2之間，及第2密封環23－2和第3密封環23－3之間，分別具有環狀凹部，該等環狀凹部，從真空處理室1側開始依順序做為第1、第2差動排氣部24－1、24－2使用。即，從第1差動排氣部24－1的排氣空間形成有通往密封殼2外部的通道24－1a，於該通道24－1a透過連接器連接著精密真空泵浦。藉此，使第1差動排氣部24－1進行高真空度的真空抽引。另一方面，第2差動排氣部24－2的排氣空間，為了形成有較大的排氣導電率將排氣部的容積形成比第1差動排氣部24－1的排氣空間還大。從第2差動排氣部24－2的排氣空間形成有通往密封殼2外部的通道24－2a，於該通道24－2a透過連接器連接著粗真空泵浦。即，第2差動排氣部24－2是以較第1差動排氣部24－1為低真空度或短時間進行粗抽引。凸緣環53具有密封殼2上部插入的筒狀部，組裝成可和密封殼2一起滑動於掃瞄軸7。於密封殼2的外壁和凸緣環53的筒狀部內壁之間設有密封環25。

於此，參照第3圖，針對密封環的一例為密封環23－1時的狀況進行說明。密封環23－1，是由：具剖面大致U字形狀的樹脂製環體23－11；及收容在該環體23－11大致U字形狀內部的彈簧體23－12所構成。彈簧體23－12是以金屬製材料製作成剖面大致U字形狀並且環狀，朝擴張方向彈推著環體23－11的大致U字形狀部。特別是，環體23－11是於前端的兩外側部份具有唇部23－11a。密封環23－1，是將剖面大致U字形狀的開放側朝向大氣側，使兩側的唇部23－11a的一方(於第3圖為左側)緊貼著掃瞄軸7外圍收容在密封殼2的溝槽。針對密封環23－2、23－3也是形成為完全和密封環23－1的構成相同。

不過，各密封環會因掃瞄軸7的滑動作用逐漸磨損唇部的部份，但該磨損高度是和面壓及滑動距離成比例。就3段的密封環23－1、23－2、23－3而言，最接近大氣側的密封環23－3，因除了彈簧體的反力以外還要承受大氣壓所以是承受最大的面壓，因此磨損較快。

此外，已確認出真空特性於3段密封環形成的3層密封和2段密封環形成的2層密封之間並無差別。然而，根據試驗結果，形成為3層密封時，可確認有下述狀況。試驗開始後，在某一定期間的滑動距離，最接近大氣側的第3段密封環23－3就會達到磨損極限。然後，才開始成為由密封環23－1、23－2構成的2層密封，使指定的真空特性又可維持至一段期間的滑動距離，能夠確保又一有段的滑動期間。即，根據3層密封時，能夠以較長期間維持所期望的相同真空特性。

其次，回到第1A圖、第1B圖、第2圖針對吹掃部4進行說明。吹掃部4，具有內壁具吹掃空間形成用凹部的吹掃環41。於此，吹掃空間是形成比第2差動排氣部24－2的排氣空間還大。於吹掃環41的上端，具有外徑較細的縮口部42，該縮口部42是可進入密封殼2下端(大氣側端部)內壁的凹部成為嵌套構造。從吹掃部4的吹掃空間形成有通往吹掃環41外部的通道41a。於通道41a透過連接器連接著氣體吹埽用的泵浦。吹掃環41是由螺栓等固定在密封殼2。特別是，吹掃部4的吹掃空間是透過掃瞄軸7外圍和吹掃環41的縮口部42內壁之間的密封空間形成為和第2差動排氣部24－2的排氣空間連通著。

吹掃部4是吹掃氮等乾燥的惰性氣體或乾燥空氣。所吹掃的氣體一部份是通過掃瞄軸7外圍和縮口部42內壁之間的密封空間流入第2差動排氣部24－2的排氣空間。所吹掃的氣體其餘部份是通過掃瞄軸7外圍和吹掃環41內壁之間的縫隙空間排出大氣側。

即使在大氣側成為露出狀態有可能附著大氣中水份的掃瞄軸7上昇進入吹掃部4內，來自於吹掃部4的氣體吹掃是能夠充分去除附著在掃瞄軸7外圍的水份。

接著，是連同參照第4圖對具有彈性部份的連接構件5進行說明。具有彈性部份的連接構件5是形成為可擺動，其包括做為彈性部份的蛇腹管51和凸緣環53及複數(於此為4支)的支承桿55。蛇腹管51，其上端側(真空處理室側)是固定在真空處理室1牆壁6連絡口6a外側開口周緣所固定的凸緣(導出用引導部)52。於牆壁6和凸緣52之間，裝設有密封環54。另一方面，蛇腹管51的下端側(大氣側)是固定在被組裝於密封殼2上部的凸緣環53上端。藉此，使蛇腹管51密閉著開口6a和凸緣環53之間的掃瞄軸7周圍。

支承桿55，即使是在掃瞄軸7傾動時還是能夠容許密封殼2及蛇腹管51的擺動，另一方面是可限制密封殼2的軸方向活動和旋轉。因此，支承桿55，上端側是固定在凸緣52，下端側是固定在凸緣環53。另一方面，本實施例中，密封殼2是透過被安裝在凸緣環53的球面或球關節形成的軸承結合於凸緣環53。凸緣環53，其內側具有圓筒空間，但外側為了形成為4支支承桿55的固定部而形成平面形狀大致四角形。於本實施例，為了實現密封殼2的擺動自如構造是採用球面軸承。因此，於2支支承桿55的下端部，設有螺紋軸55－1可兼為該2支支承桿55和凸緣環53固定用的螺絲，於螺紋軸55－1的下端部設有緊固球(球狀體)55－2。

如第1B圖所示，所謂4支支承桿當中的2支，是指位於四角形對角線上的2支。其餘的2支支承桿，是由螺絲55－3固定在凸緣環53。形成為僅2處由球面軸承支撐的理由是需視軸承支撐構造其設置空間上的問題而定。若能確保有3支份量以上的設置空間時，也可採3支以上由軸承支撐著。此外，支承桿其本身形成為5支以上。

第4圖是表示密封殼2的緊固球55－2的軸承支撐部周邊的剖面構造。密封殼2雖是形成為圓筒狀，但在緊固球55－2的軸承支撐部周邊為確保有該軸承支撐部的空間其平面形狀是具有大致四角形的部份。在該四角形的角部中位於對角線上的2個角部，是形成有緊固球55－2承接用的具有球面21a的底座。如此一來，例如當掃瞄軸7稍微有些傾斜時，藉由球面軸承的作用可使密封殼2無損密封功能地也隨著稍微傾斜。於該狀況時，蛇腹管51也會和密封殼2一起形成稍微傾斜。

另，具有球面21a的底座，為要讓緊固球55－2能裝脫，如第1B圖所示，將緊固部28透過鉸鍊等(未圖示)形成可從密封殼2分離。緊固部28大約具有1/2部份的球面21a。如此一來，將緊固球55－2收容在球面21a時，就能夠將緊固部28從密封殼2分離。接著，當緊固球55－2配設在密封殼2側的指定位置上後就將緊固部28放回原位，用固定鐵件(未圖示)將緊固部28固定在密封殼2。於球關節軸承的狀況時，在密封殼2側的底座設置半球形的突部，於緊固球55－2側設有承部，該承部具有可對該突部加以承接的球面。

密封殼2的中間密封位置，即，第2密封環23－2的配置位置是比球面軸承的擺動中心位置還稍微靠近大氣側，藉此使中間密封位置的擺動盡量成為較小。如此一來，第1差動排氣部24－1及第1密封環23－1的配置處就會成為比球面軸承的擺動中心位置還稍微靠近真空處理室側，第2差動排氣部24－2及第3密封環23－3的配置處就會成為比球面軸承的擺動中心位置還稍微靠近大氣側。

為FPD製造用摻雜裝置的真空處理室時，如第7圖所說明，是利用直動驅動機構使玻璃基板通過射束照射區加以掃瞄。隨著該掃瞄，掃瞄軸7會上下活動在密封殼2及蛇腹管5內。在密封殼2內是以3處緊貼著密封環23－1~23－3於掃瞄軸7周圍。另一方面，於第1差動排氣部24－1是以精密真空泵浦的高真空度執行真空抽引，於第2差動排氣部24－2是以粗真空泵浦執行粗真空抽引。再加上，密封殼2和真空處理室1的牆壁6之間的掃瞄軸7周圍是以蛇腹管5密封著。又加上，在密封殼2的附近是於吹掃部4吹出乾燥氣體對附著在掃瞄軸7周圍的水份加以去除。

如以上所述，根據本實施例的真空密封機構時，當然是能夠防止大氣侵入真空處理室內，此外還能夠防止大氣中的水份流入真空處理室內，能夠防止真空處理室內的真空度隨著時間經過而惡化。

第5圖，是表示未進行如本實施例的乾燥氣體吹掃就驅動掃瞄軸時其真空處理室的真空度隨時間經過產生變化的測定結果圖。從第5圖得知，真空處理室的真空度是有隨時間經過形成惡化的傾向。

另一方面，第6圖，是表示未導入乾燥氣體的狀況(黑色四角)，及，以N₂ 為乾燥氣體從吹掃部4導入的狀況(白色三角)，掃瞄中的真空處理室真空度變化的測定結果以掃瞄速度為橫軸所示的測定結果圖。導入有N₂ 氣體時，掃瞄速度快則愈具有能減少真空度降低的效果，和未導入乾燥氣體的狀況相比真空處理室的真空度降低是可抑制成60%程度。

根據以上的構成，特別是可確實保有掃瞄速度快，低劑量投入的再現性。

以上是針對本發明的最佳實施例進行了說明，但本發明並不限定於上述實施例。以下，列舉本發明變更例。

1.差動排氣部

1－1.第2差動排氣部24－2是設置在比球面軸承的擺動中心位置還靠近真空處理室側。

1－2.於第1差動排氣部24－1設有中間室或排氣埠。

2.第1、第2差動排氣部及吹掃部4的關係

2－1.第1差動排氣部和第2差動排氣部的排氣空間是形成為相同大小。

2－2.第1差動排氣部的排氣空間是形成比第2差動排氣部的排氣空間還大。

2－3.吹掃部的吹掃空間是形成和第2差動排氣部的排氣空間相同大小。

2－4.吹掃部的吹掃空間是形成比第2差動排氣部的排氣空間還小。

2－5.吹掃部的吹掃空間是形成比第1差動排氣部的排氣空間還大。

2－6.吹掃部的吹掃空間和第1差動排氣部的排氣空間是形成為相同大小。

2－7.吹掃部的吹掃空間是形成比第1差動排氣部的排氣空間還小。

3.第1、第2差動排氣部及吹掃部和排氣路線的關係

3－1.第1、第2差動排氣部的排氣路線是對掃瞄軸連接成大致垂直。

3－2.第1、第2差動排氣部的排氣路線一方，是對掃瞄軸連接成大致垂直，另一方，是對掃瞄軸連接成傾斜。

3－3.吹掃部的給氣路線是對掃瞄軸連接成傾斜。

3－4.吹掃部的給氣路線是對掃瞄軸連接成垂直。

4.真空密封機構的構成

4－1.掃瞄軸的真空密封機構，是以密封殼、吹掃部構成。

4－2.從真空處理室側往大氣側依順序連接著具有彈性部份的連接構件、密封殼，吹掃部是分離配置成不連接於密封殼。

本發明的真空密封機構，並不限於FPD製造用摻雜裝置的真空處理室或真空處理裝置，也可應用在具備有真空驅動軸的直動機構，以減壓狀態執行任何處理所需的減壓處理室或減壓處理裝置。

1．．．真空處理室

2．．．密封殼

21a．．．球面

23－1．．．第一密封環

23－11．．．環體

23－11a．．．唇部

23－12．．．彈簧體

23－2．．．第2密封環

23－3．．．第3密封環

24－1．．．第1差動排氣部

24－1a．．．通往密封殼2外部的通道

24－2．．．第2差動排氣部

24－2a．．．通往密封殼2外部的通道

25．．．密封環

28．．．緊固部

4．．．吹掃部

41．．．吹掃環

41a．．．通往吹掃環

41．．．外部的通道

42．．．縮口部

5．．．具有彈性部份的連接構件

51．．．蛇腹管

52．．．凸緣(導出用引導部)

53．．．凸緣環(中間連接構件)

54．．．密封環

55．．．支承桿

55－1．．．螺紋軸

55－2．．．緊固球(球狀體)

55－3．．．螺絲

6．．．真空處理室1的牆壁

6a．．．連絡口

7．．．掃瞄軸

100．．．真空處理室

101．．．真空處理室100的牆壁

110．．．玻璃基板

120．．．帶狀波束

130．．．基板保持器

140．．．掃瞄軸

150．．．封裝式真空密封機構

160．．．滾珠螺桿機構

161．．．掃瞄用馬達

162．．．移動部

170．．．馬達殼

171．．．線性軸承

180．．．纜線殼

200．．．箭頭符號

第1A圖為本發明的真空密封機構側面圖，第1B圖為第1A圖所示真空密封機構從下方看時的底視圖。

第2圖為第1A圖、第1B圖所示真空密封機構的縱剖面圖。

第3圖為本發明中所使用的密封環一例說明用剖面圖。

第4圖為應用在本發明中的具有彈性部份的連接構件之支承桿的支撐構造說明用剖面圖。

第5圖為表示未進行乾燥氣體吹掃就驅動掃瞄軸時其真空處理室的真空度隨時間經過產生變化的測定結果圖。

第6圖為表示以N₂ 為乾燥氣體從吹掃部導入時掃瞄中的真空處理室其真空度變化的測定結果圖。

第7圖為表示FPD製造用的帶狀射束型摻雜裝置的一部份，針對玻璃基板的直動驅動機構說明用的圖。

1．．．真空處理室

2．．．密封殼

23－1．．．第1密封環

23－2．．．第2密封環

23－3．．．第3密封環

24－1．．．第1差動排氣部

24－2．．．第2差動排氣部

24－1a．．．通往密封殼2外部的通道

24－2a．．．通往密封殼2外部的通道

25．．．密封環

4．．．吹掃部

41．．．吹掃環

41a．．．通往吹掃環41外部的通道

42．．．縮口部

5．．．連接構件

51．．．蛇腹管

52．．．凸緣(導出用引導部)

53．．．凸緣環

54．．．密封環

6．．．真空處理室的牆壁

6a．．．連絡口

7．．．掃瞄軸

Claims (11)

1. 一種真空驅動軸之真空密封機構，是構成將真空處理室內保持著被處理構件的保持部利用真空驅動軸驅動成往返移動，將該真空驅動軸貫穿該真空處理室牆壁所設置的連絡口導出外部由配置在該真空處理室外的驅動機構對其進行驅動，在從上述連絡口伸出至上述真空處理室外的部位具備有該真空驅動軸的導出用引導部的同時，於該真空驅動軸的大氣側周圍具備有密封殼，其特徵為：由複數差動排氣部及複數密封構件構成上述密封殼的同時，在上述真空驅動軸上，透過具有彈性部份形成可擺動的連接構件連結上述導出用引導部和上述密封殼；具有上述彈性部份的連接構件，是具有可擺動自如地支撐上述密封殼的中間連接構件。
2. 如申請專利範圍第1項所記載的真空驅動軸之真空密封機構，其中，上述複數密封構件，是由依序從真空處理室側朝大氣側配置的第1、第2、第3密封構件所形成，上述差動排氣部，是由：上述第1密封構件和上述第2密封構件之間設置在上述密封殼的第1差動排氣部，及上述第2密封構件和上述第3密封構件之間設置在上述密封殼的第2差動排氣部所構成。
3. 如申請專利範圍第2項所記載的真空驅動軸之真空密封機構，其中，上述第2差動排氣部的排氣空間，其排氣部的容積是形成比上述第1差動排氣部的排氣空間還大。
4. 如申請專利範圍第2項所記載的真空驅動軸之真空密封機構，其中，於上述第1差動排氣部連接著精密真空泵浦，於上述第2差動排氣部連接著粗真空泵浦。
5. 如申請專利範圍第1項所記載的真空驅動軸之真空密封機構，其中，上述密封構件，具有：剖面大致為U字形狀的環體；及收容在該環體大致U字形狀內將該大致U字形狀往擴張方向彈推的環狀彈簧體，大致U字形狀一方的邊是緊貼著上述真空驅動軸而收容在上述密封殼。
6. 如申請專利範圍第1項所記載的真空驅動軸之真空密封機構，其中，上述密封殼是在上述複數密封構件當中軸方向為最接近大氣側的密封構件其大氣側附近，設有可將乾燥惰性氣體或乾燥空氣噴吹在上述真空驅動軸周圍的吹掃部。
7. 如申請專利範圍第6項所記載的真空驅動軸之真空密封機構，其中，上述吹掃部包括能以嵌套構造嵌附在上述密封殼大氣側端部的吹掃環，該吹掃環內的吹掃空間是透過密封空間連通於上述各差動排氣部的排氣空間。
8. 如申請專利範圍第2項所記載的真空驅動軸之真空密封機構，其中，具有上述彈性部份的連接構件，包括：組裝在上述密封殼真空處理室側端部的上述中間連接構件；位於上述真空驅動軸的上述導出用引導部和上述中間連接構件之間，設置成可使上述真空驅動軸的周圍空間形成密封的蛇腹管；及設置在上述真空處理室和上述中間連接構件之間，可和上述中間連接構件一起作用形成容許 上述密封殼其擺動的同時對軸方向的活動和旋轉加以限制的複數支承桿。
9. 如申請專利範圍第8項所記載的真空驅動軸之真空密封機構，其中，上述複數支承桿是位於上述蛇腹管的外側，其一端側是固定在上述真空處理室側，另一方面，其另一端側是固定在上述中間連接構件，至少在2支支承桿的對應另一端側的部位，透過球面或球關節的軸承使上述中間連接構件和上述密封殼形成結合。
10. 如申請專利範圍第9項所記載的真空驅動軸之真空密封機構，其中，上述第1密封構件及上述第1差動排氣部，其有關上述軸承的位置是設置在靠近真空處理室側，上述第2密封構件其有關上述軸承的位置是設置在稍微錯開大氣側附近的位置，上述第2差動排氣部及上述第3密封構件其有關上述軸承的位置是設置在靠近大氣側。
11. 一種真空處理裝置，其特徵為：具備如申請專利範圍第1項至第10項中之任一項所記載的真空驅動軸之真空密封機構。