TWI476146B - 一種利用動態與靜置交替之儲氫裝置及其方法 - Google Patents

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Description

一種利用動態與靜置交替之儲氫裝置及其方法
本發明係關於一種儲存氫氣的技術，特別是關於一種利用動態與靜置交替之儲氫裝置及其方法。
儲氫材料以吸附型儲氫材料最具潛力，通常是利用具有高比表面積的碳基材料來吸附氫氣，例如：活性碳、奈米碳管、及有機金屬微孔材料等。習知之多孔性儲氫材料，其儲氫技術多採用靜態儲氫過程，也就是使用固定的氫氣壓力於整個儲氫過程，其儲氫的功效有限。因此，發展更佳的儲氫技術有其必要性。
由於儲氫材料吸氫時是放熱反應，當試樣數量較多時，很可能因為沒有將熱量移除之故，造成溫度上升無法吸氫，因此，透過可控溫高壓熱重分析儀(thermogravimetry analysis,TGA)，發現降低系統溫度，雖有可能伴隨著減低氫氣外溢(spillover)的作用；但相對的，也可能移除吸氫時放出的熱量而幫助儲氫材料吸氫。由於系統溫度降低後，吸附速率略為提升，除了代表移除吸附熱有助於氫氣的吸附外，以動態模式與靜置模式交替之儲氫方式所產生的驅動力，也有助於抵銷降溫所產生的負效應，而氫氣外溢機制中的氫原子吸附並不會因為溫度的降低而終止。或許是因為上述兩個原因，系統溫度的降低，仍有助於整體氫氣的吸附。
事實上spillover的機制，目前尚不完備也還有爭議， 最近由希臘學者在Chem.Commun.2011,47,7933-7943文獻中提出一種說明氫氣外溢的機制。當氫分子吸附於奈米觸媒金屬粒子的表面，分解後一個氫原子吸附於觸媒上，另一個氫原子則藉由擴散或藉由氣相傳遞到附近的石墨結構上，此時在石墨結構表面間將形成兩種形式，一種是有強鍵結能的化學吸附態，最終形成氫原子聚集島(island of hydrogen atoms)，或是弱鍵結能的物理吸附態；後者可以較輕易在石墨結構表面移動。此時氫原子可在氣相及石墨結構的表面間進行置換，達到飽和吸附平衡。但由文獻的機制推論，傳統靜置儲氫方式吸附氫氣的量有限，主因為氫原子擴散到石墨結構的距離有限，當奈米金屬粒子附近的石墨結構沾滿氫原子後，即達到飽和。然而，在此篇文章中也點出一個觀念，所謂儲氫材料之飽和吸附量，並非在某一個溫度下之熱平衡值，應該是一種動態之平衡值。也就是說，單位時間內流動而被吸附於儲氫材料的氫原子量和被由流動氣相氫原子，藉由ER(Eley-Rideal)作用而引出並結合成氫分子的氫原子量相等。由此論點觀之，頗適合解釋熱重分析儀在流動氫氣下，量測到擔持奈米觸媒金屬顆粒的儲氫能力，有較傳統只靠熱平衡吸附量高出許多的道理。
此外，若一味只借助斷續流動(intermittent flow)氫氣，雖然可以靠流動的氫氣而使較多的氫原子吸附在儲氫材料上，但同時也會發生較多的氣相氫原子，借助ER機制帶出原來已被吸附的氫原子而損失吸氫量。因此，結合上一段所述較低溫度的運作，並在斷續流動之間採用靜置的熱 平衡吸附，使得在動態平衡之餘還可藉由低溫使得被吸附的氫原子落入更穩定的位置，而可以在下一個斷續流動時，減少被ER機制帶出原已被吸附的氫原子而提升吸氫速率與吸氫量，因此，有本發明的提出。
本發明提出一種利用動態與靜置交替之儲氫裝置及其方法。以動態模式與靜置模式交替的新型氫氣填充方式，能改善傳統靜置儲氫達飽和後即失去把氫原子推到更遠的石墨結構的動力，適時的提供壓差做為驅動力，當靜置吸附達平衡後，適時的切換壓力差做為驅動力；同時配合在低溫下的運作，能補償因儲氫材料吸氫時放熱所造成吸氫能力降低的負效應。因此，能有效的加快氫氣的吸附速率及增加總氫氣吸附值。
在一實施例中，本發明提供一種利用動態與靜置交替之儲氫方法，其包含下列步驟：提供一儲氫材料；設定一氫氣的一操作壓力值及一震盪壓力值；供應該氫氣予該儲氫材料；以一增壓程序增加該氫氣的壓力值直到壓力值等於該操作壓力值與該震盪壓力值之合；以一降壓程序降低該氫氣的壓力值直到壓力值等於該操作壓力值與該震盪壓力值之差；於一動態時段內，反覆該增壓程序與該降壓程序；回復該氫氣之壓力值至該操作壓力值，並維持一靜置時段；以及，重複上述之該動態時段及該靜置時段。
在另一實施例中，本發明提供一種利用動態與靜置交替之儲氫裝置，其包含：一重量法氫氣吸附單元，其裝填 一儲氫材料；一氫氣進氣單元，用以提供該重量法氫氣吸附單元所需之一氫氣；一氫氣出氣單元，用以接受該重量法氫氣吸附單元排出之該氫氣；一第一導氣管，其連接至該重量法氫氣吸附單元，用以將該氫氣導入該重量法氫氣吸附單元；一第二導氣管，其連接至該重量法氫氣吸附單元，用以將該氫氣導出該重量法氫氣吸附單元；以及，一控制單元，其耦接至該重量法氫氣吸附單元，控制該重量法氫氣吸附單元的一氫氣壓力，該控制單元，根據一操作壓力值及一震盪壓力值，於一動態時段內，先進行一增壓控制，增加該氫氣的壓力值直到壓力值等於該操作壓力值與該震盪壓力值之合，再進行一降壓控制，降低該氫氣的壓力值直到壓力值等於該操作壓力值與該震盪壓力值之差，並於該動態時段內，反覆進行該增壓控制與該降壓控制之後，再回復該氫氣之壓力值至該操作壓力值，並使回復之該氫氣之壓力維持一靜置時段，該控制單元再重複該動態時段及該靜置時段之該氫氣之壓力控制。
請參閱圖1所示其係為本發明之一種利用動態與靜置交替之儲氫方法實施例流程圖。該充填方法100包括下列步驟：首先以步驟110提供一儲氫材料211。在本步驟中，該儲氫材料211可以為碳材，但不以此為限制。在另一實施例中，該儲氫材料更可添加一觸媒以增加氫氣之吸附效果。而該觸媒更可以選擇為鉑，但不以此為限制。接著進行步驟120，設定一氫氣的一操作壓力值及一震盪壓力值。 本步驟之該操作壓力值範圍介於950psi至1050psi，本實施例中該操作壓力值為1000psi。該震盪壓力值範圍介於3psi至7psi，在本實施例中，該震盪壓力值為5psi。隨後，再以步驟130供應該氫氣予該儲氫材料。接著執行步驟140，以一增壓程序增加該氫氣的壓力值直到壓力值等於該操作壓力值與該震盪壓力值之合，在本實施例中，增壓完後之壓力值為1050psi。然後執行步驟150，以一降壓程序降低氫氣的壓力值直到該壓力值等於該操作壓力值與該震盪壓力值之差，在本實施例中，降壓完後壓力值為950psi。反覆步驟140及步驟150數次，並將其所需時間稱為一動態時段，亦即在該動態時段內，該壓力值在950psi至1050psi之間震盪，如此稱為步驟160。接下來進行步驟170，回復該氫氣壓力至該操作壓力值1000psi，並且維持一靜置時段。最後，重複該動態時段及該靜置時段數次即完成步驟180。要說明的是，該動態時段與該靜置時段之時間長度係根據需求而定並無一定之限制。
請參閱圖2，接著說明本實施例之一種利用動態與靜置交替之儲氫裝置。該利用動態與靜置交替之儲氫裝置200，係用以執行圖1的流程，其係包含一重量法氫氣吸附單元210、一氫氣進氣單元220、一氫氣出氣單元230、一第一導氣管240、一第二導氣管250以及一控制單元260。在本實施例裡，該儲氫材料211為一碳材，並且添加鉑以作為觸媒。在本實施例中，該重量法氫氣吸附單元210外包覆有一夾套，用以對該重量法氫氣吸附單元210升溫及降溫來保持吸附環境之溫度。
該氫氣進氣單元220，用以提供該重量法氫氣吸附單元210所需之一氫氣。在本實施例中該氫氣進氣單元220包括有一氫氣源221以及一氫氣純化單元222，其中該氫氣純化單元222係透過液態氮，以水浴的方式純化該氫氣，以達重量法氫氣吸附方式對氫氣純度之要求。
該氫氣出氣單位230，用以接受該重量法氫氣吸附單元210排出之該氫氣。該第一導氣管240，連接該氫氣進氣單元220以及該重量法氫氣吸附單元210，用以將該氫氣導入該重量法氫氣吸附單元210。該第二導氣管250，其連接至該重量法氫氣吸附單元210，用以將該氫氣導出該重量法氫氣吸附單元210。該控制單元260，與該重量法氫氣吸附單元210耦接，用以控制該重量法氫氣吸附單元210之溫度、時間、該第一調壓閥242和該第二調壓閥252之壓力、以及該氫氣吸附重量之紀錄。該控制單元260，控制該重量法氫氣吸附單元210的一氫氣壓力，該控制單元260，根據一操作壓力值及一震盪壓力值，於一動態時段內，先進行一增壓控制，增加該氫氣的壓力值直到壓力值等於該操作壓力值與該震盪壓力值之合，在本實施例中為1050psi；接著再進行一降壓控制，降低該氫氣的壓力值直到壓力值等於該操作壓力值與該震盪壓力值之差，在本實施例中為950psi；並於該動態時段內，反覆進行該增壓控制與該降壓控制之後，再回復該氫氣之壓力值至該操作壓力值，在本實施例中為1000psi，並使回復之該氫氣之壓力維持一靜置時段，該控制單元再重複該動態時段及該靜置時段之該氫氣之壓力控制。
此外，該儲氫裝置200更包括有一第一流量控制器241、一第二流量控制器251、複數個第一調壓閥242以及複數個第二調壓閥252。該第一流量控制器241以及該複數個第一調壓閥242位於該第一導氣管240上，在本實施例中，於該第一流量控制器241的前後各有一個第一調壓閥242，而該第一流量控制器241搭配該第一調壓閥242，透過該控制單元260之控制，使該氫氣的進氣速率以及該震盪壓力值的大小和頻率得到適當的控制；同時，該第一流量控制器241控制由常壓加到該操作壓力值1000psi的進氣流量為1700sccm。要說明的是，本發明中所有數據皆已扣除浮力所造成的影響。該第二導氣管250，連接該重量法氫氣吸附單元210以及該氫氣出氣單元230；並且，該第二流量控制器251以及該複數個第二調壓閥252位於該第二導氣管250上，在本實施例中，於該第二導氣管250上有一個該第二調壓閥252；而該第二流量控制器251係用以控制該氫氣之出氣流量使之介於1~3000sccm之間。該真空單元280，連接於該重量法氫氣吸附單元210，用以維持該重量法氫氣吸附單元210之真空度，使之介於10-7 torr到10-9 torr間。該防爆洩壓單元270，連接於該重量法氫氣吸附單元210，用以控制該重量法氫氣吸附單元之壓力值。
為了驗證本實施例，請參閱圖3。該圖為本實施例在0℃/1000 psi下，不同儲氫模式的儲氫量量測結果。在0℃，以一般傳統靜置模式吸附平衡量測法，其吸附速率為2.93×10-5 mg/min，吸附20小時後，吸附量為0.34 mg(0.26 wt%)；使用動態模式，其吸附速率為8.74×10-4 mg/min，較 傳統靜置模式吸附的吸附速率提高了30倍，吸附20小時後，吸附量為1.15 mg(0.91 wt%)，較傳統靜置吸附的總吸附量提高了3.5倍；最後，使用動態模式與靜置模式交替，其吸附速率為1.30×10-3 mg/min，較傳統靜置吸附的吸附速率提高了44.4倍，吸附17小時後，吸附量為1.26 mg(0.97 wt%)，較傳統靜置吸附的總吸附量提高了3.7倍。因此，本發明較佳之充填模式為動態模式與靜置模式交替。
接著對溫度參數進行說明。由於儲氫材料吸氫時是放熱反應，當試樣數量較多時，很可能因為沒有將熱量移除之故，而造成溫度上升無法吸氫。因此，透過可控溫高壓熱重分析儀，以動態模式儲氫法改變不同溫度觀察其儲氫速率變化。結果如圖4所示，隨溫度降低，吸附速率由常溫的6.62×10-4 mg/min增加至10℃的7.06×10-4 mg/min與0℃的8.74×10-4 mg/min。因此，本發明之較佳溫度為0℃，且其變化範圍可由-1℃至1℃。
綜上所述，結合較佳之充填氫氣模式以及溫度參數，本實施例的一個較佳組合條件為使用動態模式0.5小時搭配靜置模式2小時，而此較佳組合條件可由圖5獲得驗證。
綜上所述，以動態模式與靜置模式交替的新型氫氣充填方式並搭配0℃的低溫，相較於傳統靜置儲氫的方式，能在較短的時間內得到相同的氫氣儲存量，於實際運用上能縮短氫氣充填的時間，得到較高的運用價值。
唯以上所述者，僅為本發明之較佳實施例，當不能以之限制本發明的範圍。即大凡依本發明申請專利範圍所做之均等變化及修飾，仍將不失本發明之要義所在，亦不脫 離本發明之精神和範圍，故都應視為本發明的進一步實施狀況。
100‧‧‧利用動態與靜置交替之儲氫方法
110/120/130/140/150/160/170/180‧‧‧步驟
200‧‧‧利用動態與靜置交替之儲氫裝置
210‧‧‧重量法氫氣吸附單元
211‧‧‧儲氫材料
220‧‧‧氫氣進氣單元
221‧‧‧氫氣源
222‧‧‧氫氣純化單元
230‧‧‧氫氣出氣單元
240‧‧‧第一導氣管
241‧‧‧第一流量控制器
242‧‧‧第一調壓閥
250‧‧‧第二導氣管
251‧‧‧第二流量控制器
252‧‧‧第二調壓閥
260‧‧‧控制單元
270‧‧‧防爆洩壓單元
280‧‧‧真空單元
圖1根據本發明一實施例之利用動態與靜置交替之儲氫方法之流程圖。
圖2根據本發明一實施例之利用動態與靜置交替之儲氫裝置示意圖。
圖3本實施例在0℃/1000 psi下，不同儲氫模式的儲氫量量測結果。
圖4本實施例在不同溫度下，以動態的氫氣充填模式之儲氫量測結果。
圖5本實施例在0℃/1000 psi下，使用動態模式與靜置模式交替，搭配不同時間比例的儲氫量量測結果。
100‧‧‧利用動態與靜置交替之儲氫方法
110/120/130/140/150/160/170/180‧‧‧步驟

Claims (20)

  1. 一種利用動態與靜置交替之儲氫方法，其包含下列步驟：提供一儲氫材料，該儲氫材料裝填於一重量法氫氣吸附單元內，該重量法氫氣吸附單元包括：一第一導氣管，其連接至該重量法氫氣吸附單元，用以將該氫氣導入該重量法氫氣吸附單元；一第一流量控制器，其設置於該第一導氣管的管路中，用以調整該重量法氫氣吸附單元之氫氣進氣流量；複數個第一調壓閥，其設置於該第一導氣管的管路中，用以調整該重量法氫氣吸附單元的氫氣進氣壓力；一第二導氣管，其連接至該重量法氫氣吸附單元，用以將該氫氣導出該重量法氫氣吸附單元；及一第二流量控制器，其設置於該第二導氣管的管路中，用以調整該重量法氫氣吸附單元之氫氣出氣流量；至少一第二調壓閥，其設置於該第二導氣管的管路中，用以調整該重量法氫氣吸附單元的氫氣出氣壓力；設定一氫氣的一操作壓力值及一震盪壓力值；供應該氫氣予該儲氫材料；以一增壓程序增加該氫氣的壓力值直到壓力值等於該操作壓力值與該震盪壓力值之合； 以一降壓程序降低該氫氣的壓力值直到壓力值等於該操作壓力值與該震盪壓力值之差；於一動態時段內，反覆該增壓程序與該降壓程序；回復該氫氣之壓力值至該操作壓力值，並維持一靜置時段；重複上述之該動態時段及該靜置時段；及調控該儲氫裝置之溫度，使該溫度介於-1℃至1℃之間。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之利用動態與靜置交替之儲氫方法，其中該儲氫材料為一碳材。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之利用動態與靜置交替之儲氫方法，其中該儲氫材料可添加一觸媒。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之利用動態與靜置交替之儲氫方法，其中該觸媒可為鉑。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之利用動態與靜置交替之儲氫方法，其中該操作壓力值為1000psi。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之利用動態與靜置交替之儲氫方法，其中該操作壓力值之範圍可從950psi至1050psi。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之利用動態與靜置交替之儲氫方法，其中該震盪壓力值為5psi。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之利用動態與靜置交替之儲氫方法，其中該震盪壓力值之範圍可從3psi至7psi。
  9. 一種動態與靜置交替之儲氫裝置，其包含：一重量法氫氣吸附單元，其裝填一儲氫材料；一氫氣進氣單元，用以提供該重量法氫氣吸附單元所需 之一氫氣；一氫氣出氣單元，用以接受該重量法氫氣吸附單元排出之該氫氣；一第一導氣管，其連接至該重量法氫氣吸附單元，用以將該氫氣導入該重量法氫氣吸附單元；一第一流量控制器，其設置於該第一導氣管的管路中，用以調整該重量法氫氣吸附單元之氫氣進氣流量；複數個第一調壓閥，其設置於該第一導氣管的管路中，用以調整該重量法氫氣吸附單元的氫氣進氣壓力；一第二導氣管，其連接至該重量法氫氣吸附單元，用以將該氫氣導出該重量法氫氣吸附單元；一第二流量控制器，其設置於該第二導氣管的管路中，用以調整該重量法氫氣吸附單元之氫氣出氣流量；至少一第二調壓閥，其設置於該第二導氣管的管路中，用以調整該重量法氫氣吸附單元的氫氣出氣壓力；一控制單元，其耦接至該重量法氫氣吸附單元，控制該重量法氫氣吸附單元的一氫氣壓力，該控制單元，根據一操作壓力值及一震盪壓力值，於一動態時段內，先進行一增壓控制，增加該氫氣的壓力值直到壓力值等於該操作壓力值與該震盪壓力值之合，再進行一降壓控制，降低該氫氣的壓力值直到壓力值等於該操作壓力值與該震盪壓力值之差，並於該動態時段內，反覆進行該增壓控制與該降壓控制之後，再回復該氫氣之壓力值至該操作壓力值，並使回復之該氫氣之壓力維持一靜置時段，該控制單元再重複該動態時段及該 靜置時段之該氫氣之壓力控制，以及，調控該儲氫裝置之溫度，使該溫度介於-1℃至1℃之間。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之動態與靜置交替之儲氫裝置，其中該儲氫材料為一碳材。
  11. 如申請專利範圍第9項所述之動態與靜置交替之儲氫裝置，其中該儲氫材料可添加一觸媒。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之動態與靜置交替之儲氫裝置，其中該觸媒可為鉑。
  13. 如申請專利範圍第9項所述之動態與靜置交替儲氫裝置，更包括：一真空單元，用以控制該重量法氫氣吸附單元的真空度，使之維持在10-7 torr到10-9 torr間；以及一防爆洩壓單元，用以控制該重量法氫氣吸附單元之壓力值。
  14. 如申請專利範圍第9項所述之動態與靜置交替儲氫裝置，其中該控制單元進一步控制該重量法氫氣吸附單元之溫度、時間及該第一及該第二調壓閥之壓力。
  15. 如申請專利範圍第9項所述之動態與靜置交替之儲氫裝置，其中該第一流量控制器，其流量值固定為1700sccm。
  16. 如申請專利範圍第9項所述之動態與靜置交替之儲氫裝置，其中該第二流量控制器，其流量變化範圍從1sccm~3000sccm。
  17. 如申請專利範圍第9項所述之動態與靜置交替儲氫裝置，其中該操作壓力值為1000psi。
  18. 如申請專利範圍第9項所述之動態與靜置交替儲氫裝置，其中該操作壓力值之範圍可從950psi至1050psi。
  19. 如申請專利範圍第9項所述之動態與靜置交替之儲氫裝置，其中該震盪壓力值為5psi。
  20. 如申請專利範圍第9項所述之動態與靜置交替之儲氫裝置，其中該震盪壓力值範圍可從3psi至7psi。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4551076A (en) * 1983-10-07 1985-11-05 Outboard Marine Corporation Fluid driven pump with one-way valve in fluid inlet
US6042960A (en) * 1997-10-15 2000-03-28 Ergenics, Inc. Automatic water vapor density control of hydrogen gas
US20040040316A1 (en) * 2002-08-29 2004-03-04 Nanomix, Inc. Operation of a hydrogen storage and supply system
JP2010127374A (ja) * 2008-11-27 2010-06-10 Nissan Motor Co Ltd 水素貯蔵システム
TW201217262A (en) * 2010-10-26 2012-05-01 Iner Aec Executive Yuan Dynamic hydrogen-storage apparatus and the method thereof

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4551076A (en) * 1983-10-07 1985-11-05 Outboard Marine Corporation Fluid driven pump with one-way valve in fluid inlet
US6042960A (en) * 1997-10-15 2000-03-28 Ergenics, Inc. Automatic water vapor density control of hydrogen gas
US20040040316A1 (en) * 2002-08-29 2004-03-04 Nanomix, Inc. Operation of a hydrogen storage and supply system
JP2010127374A (ja) * 2008-11-27 2010-06-10 Nissan Motor Co Ltd 水素貯蔵システム
TW201217262A (en) * 2010-10-26 2012-05-01 Iner Aec Executive Yuan Dynamic hydrogen-storage apparatus and the method thereof

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