TWI457653B - 液晶顯示裝置及其製造方法 - Google Patents

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Description

液晶顯示裝置及其製造方法
本發明係關於一種液晶顯示裝置，並且特別地，本發明關於一種液晶顯示裝置及其製造方法。
直到近來，液晶顯示裝置通常使用陰極射線管(CRT)。目前，做出很多努力及研究用以開發不同類型的平面顯示裝置，例如液晶顯示裝置(LCD)、電漿顯示面板(Plasma Display Panel,PDP)、場發射顯示裝置、以及電致發光顯示裝置(Electro-Luminescence Displays,ELD)作為陰極射線管(CRT)之替代物。在這些平面顯示裝置之中，液晶顯示裝置(LCD)具有許多優點，例如一更高之解析度、一更輕之重量、一更薄之外形、一更緊湊之結構、以及低壓電源需求。
一般而言，一液晶顯示裝置(LCD)包含有兩個彼此相間隔且面對之基板以及這兩個基板之間的一液晶材料。這兩個基板包含有彼此相面對的電極，以使得一作用於電極之間的電壓感應一穿過液晶材料之電場。液晶材料之中的液晶分子的配向根據感應之電場強度變化為感應的電場之方向，由此改變液晶顯示裝置(LCD)之透光率。因此，此液晶顯示裝置(LCD)透過改變感應的電場之強度顯示影像。
「第1圖」係為根據習知技術之一液晶顯示裝置(LCD)之透視圖。
請參閱「第1圖」，液晶顯示裝置(LCD)1包含有一陣列基板10、一彩色濾光基板20以及一液晶層30。陣列基板10包含有位於第一基板12之上的一閘極線14以及一資料線16，閘極線14與資料線16彼此相交叉用以定義一畫素區域P。一畫素電極18與一用作開關元件的薄膜電晶體Tr定位於每一畫素區域P之中。薄膜電晶體Tr鄰近於閘極線14與資料線16相交叉的一位置，並且在第一基板12之上形成為一矩陣形式。彩色濾光基板20包含有一彩色濾光層26、一黑矩陣25、以及一共同電極28，其中彩色濾光層26包含有在一第二基板22之上的各畫素區域P中的紅色(R)、綠色(G)以及藍色(B)濾光圖案26a、26b以及26c，黑矩陣25位於紅色(R)至藍色(B)彩色濾光圖案26a至26c之間，以及共同電極28位於彩色濾光層26及黑矩陣25之上。
複數個間隔物位於陣列基板10與彩色濾光基板20之間用以在其間維持一單元間隙。這些間隔物可為一球形間隔物或一圖案化之間隔物。進一步而言，一密封圖案沿著陣列基板10與彩色濾光基板20之外圍部份形成，用以將陣列基板10與彩色濾光基板20附加在一起且防止液晶層30之液晶分子洩漏。進一步而言，一極化片可形成於陣列基板10及彩色濾光基板20之外表面至少一個之上。進一步而言，一供給光線之背光單元位於陣列基板10之下。
「第2圖」係為根據習知技術之一具有圖案化間隔物的液晶顯示裝置(LCD)之平面圖，以及「第3圖」係為沿「第2圖」之III-III線之橫截面圖。
請參閱「第2圖」，液晶顯示裝置(LCD)35包含有陣列基板的第一基板40上的一閘極線43以及一資料線55，用以定義一畫素區域P。紅色(R)、綠色(G)以及藍色(R)濾光圖案76a、76b以及76c分別形成於彩色濾光基板之紅色(R)、綠色(G)以及藍色(R)畫素區域P之中。在每一畫素區域P之中，形成有一與閘極線43相連接之閘極45、一與資料線55相連接之源極58、以及一與源極58相間隔之汲極60。
汲極60通過一汲極接觸孔65與一畫素電極67相連接。閘極45、與源及汲極58及60形成一薄膜電晶體Tr。
圖案化間隔物83形成於第一基板40與一第二基板70之間且彼此相間隔。
請參閱「第3圖」，閘極45及閘極線43形成於第一基板40之上，以及一閘極絕緣層47形成於閘極線43之上。一半導體層50形成於閘極45上方的閘極絕緣層47之上。半導體層50包含有一活性層50a以及一歐姆接觸層50b。源及汲極58及60形成於歐姆接觸層50b之上。一鈍化層63形成於源及汲極58及60之上。畫素電極67形成於鈍化層63之上且通過汲極接觸孔65與汲極60相接觸。
一黑矩陣73形成於第二基板70之上且包含有複數個開口。一彩色濾光層76包含有對應於黑矩陣73之各開口的紅色(R)、綠色(G)以及藍色(R)濾光圖案76a、76b以及76c。一共同電極79形成於彩色濾光層76之上。
一配向層形成於畫素電極67及共同電極79之每一個之上。一液晶層90形成於陣列基板與彩色濾光基板之間。
通常，圖案化間隔物83形成於彩色濾光基板之上，用以附加彩色濾光基板與陣列基板且彼此之間維持一單元間隙。圖案化間隔物83與彩色濾光基板及陣列基板分別相接觸。然而，當按壓液晶顯示裝置(LCD)35時，在按壓部份至其起始單元間隙的恢復力變弱產生按壓缺陷或一觸摸缺陷之結果。這是因為圖案化間隔物83之彈性相比較於由矽晶材料製造之球形間隔物之彈性為小。因此，由於圖案化間隔物83與陣列基板之間的磨擦，圖案化間隔物83不容易恢復。
為了解決上述問題，開發一種具有兩個不同類型的圖案化間隔物之液晶顯示裝置(LCD)。
這兩個圖案化間個物之一第一圖案化間隔物與一陣列基板以及一彩色濾光基板均相接觸，用以功能上維持一單元間隙。這兩個圖案化間隔物之一第二圖案化間隔物與第一圖案化間隔物相間隔。在一常規的狀態下，第二圖案化間隔物之一端與彩色濾光基板相接觸且第二圖案化間隔物之另一端不與陣列基板相接觸。當作用一外部壓力時，第二圖案化間隔物之另一端與陣列基板相接觸。因此，第二圖案化間隔物與第一圖案化間隔物一起抵抗外部壓力，維持單元間隙且提高恢復力，並且因此減少按壓缺陷或觸摸缺陷。換句話而言，第二圖案化間隔物功能上作為一按壓防止間隔物。
然而，當作用外部壓力且第二圖案化間隔物與陣列基板相接觸之時，由於透過第二圖案化間隔物之壓力，陣列基板之配向層可具有缺陷。這使得缺陷部份之上的液晶分子不規則排列且不正常作業而產生光線洩漏。
為了解決這些問題，對應於第二圖案化間隔物的一黑矩陣設計為具有一充分防止圍繞第二圖案化間隔物的光線洩漏的寬度。換句話而言，黑矩陣之寬度相比較於第二圖案化間隔物之寬度更寬50微米(um)。然而，黑矩陣的寬度之增加產生一孔徑比之減少。
一般而言，考慮恢復力以及壓力防止，第一及第二圖案化間隔物分別如「第3圖」所示具有一相同的圓柱形，並且具有一大約18微米(um)至20微米(um)之直徑。當圖案化間隔物之直徑係為大約18微米(um)時，黑矩陣形成為具有一大約68微米(um)(18微米(um)+50微米(um))之寬度。
如上所述，隨著黑矩陣的寬度之增加，孔徑比減少，產生顯示器的透射比及亮度之減少。
因此，鑒於上述問題，本發明之目的在於提供一種液晶顯示裝置及其製造方法，藉以消除由於習知技術之限制及缺陷所產生之一個或多個問題。
本發明之一優點在於提供一種液晶顯示裝置及其製造方法，其能夠提高孔徑比及亮度。
本發明其他的特徵和優點將可以透過本發明如下的說明得以部分地理解或者可以從本發明的實踐中得出。本發明的目的和其他優點可以透過本發明所記載的說明書和申請專利範圍中特別指明的結構並結合圖式部份，得以實現和獲得。
為了獲得本發明之目的之這些和其他優點，現對本發明作具體化和概括性的描述，本發明的一種液晶顯示裝置包含有一陣列基板，陣列基板包含有：在一第一基板上彼此相交叉的複數個閘極線及資料線，用以定義一畫素區域；以及位於一畫素區域中的一薄膜電晶體及一畫素電極；一彩色濾光基板，其包含有：一黑矩陣，其位於一第二基板之上且包含有一對應於畫素區域之開口；以及一填充開口的彩色濾光層；一第一圖案化間隔物，其具有一圓柱形，與陣列基板及彩色濾光基板相接觸，並且與薄膜電晶體相對應；以及一第二圖案化間隔物，其具有一沿著閘極線的一長度方向之第一寬度，以及一沿著閘極線之一寬度方向之第二寬度，第二寬度相比較於第一寬度為小；以及一位於陣列基板與彩色濾光基板之間的液晶層，其中第二圖案化間隔物與陣列基板相間隔，以及與閘極線相對應。
在另一方面中，一種液晶顯示裝置之製造方法包含：形成一彩色濾光基板，此彩色濾光基板包含有一位於一第一基板上的黑矩陣且包含有一開口，以及一填充此開口的彩色濾光層；形成一有機材料層於彩色濾光層之上；使用一光罩對有機材料層曝光，此光罩包含有一具有圓形之第一透射部份，一具有矩形且具有第一及第二寬度之第二透射部份，以及一阻擋部份；以及顯影曝光之有機材料層，用以形成一具有第一直徑且對應於黑矩陣的第一圖案化間隔物，以及一具有第三及第四寬度的第二圖案化間隔物。
根據本發明之一實施例，一種液晶顯示裝置包含有一陣列基板，陣列基板包含有在一第一基板上彼此相交叉的複數個閘極線及資料線，用以定義一畫素區域，以及位於畫素區域中的一薄膜電晶體及一畫素電極，一彩色濾光基板，其包含有一位於一第二基板之上黑矩陣，並且包含有一對應於畫素區域之開口，以及一填充開口的彩色濾光層，以及一位於陣列基板與彩色濾光基板之間的液晶層，液晶層包含有一第一圖案化間隔物，第一圖案化間隔物具有一圓柱形，與陣列基板及彩色濾光基板相接觸，以及與陣列基板之薄膜電晶體相對應，以及一第二圖案化間隔物，其具有一沿著閘極線的一長度方向之第一寬度，以及一沿著閘極線之一寬度方向之第二寬度，第二寬度相比較於第一寬度為小，第二圖案化間隔物與彩色濾光基板相接觸且與陣列基板相間隔，以及與閘極線相對應。
根據本發明之一實施例，一種液晶顯示裝置之製造方法包含：形成一彩色濾光基板，此彩色濾光基板包含有一位於一第一基板上的黑矩陣且包含有一開口，以及其中一彩色濾光層填充此開口，形成一有機材料層於彩色濾光層之上，使用一光罩對有機材料層曝光，此光罩包含有一具有圓形之第一透射部份，一具有矩形且之第二透射部份，以及一阻擋部份，其中第二透射部份包含有第一及第二寬度，以及顯影曝光之有機材料層，用以形成一第一圖案化間隔物以及一第二圖案化間隔物。
根據本發明之一實施例，一種液晶顯示裝置之結構，此液晶顯示裝置包含有一陣列基板、一彩色濾光基板以及陣列基板與彩色濾光基板之間的一液晶層，此種液晶顯示裝置之結構包含有：一具有一第一形狀的第一圖案化間隔物，第一圖案化間隔物與陣列基板及彩色濾光基板相接觸且與陣列基板之一薄膜電晶體相對應，以及一具有一第二形狀的第二圖案化間隔物，第二形狀之一頂部區域相比較於一底部區域更大，頂部區域與彩色濾光基板相接觸且底部區域與陣列基板相間隔，其中第一形狀與第二形狀彼此不相同。
可以理解的是，如上所述的本發明之概括說明和隨後所述的本發明之詳細說明均是具有代表性和解釋性的說明，並且是為了進一步揭示本發明之申請專利範圍。
以下將結合圖式部份，詳細描述本發明之實施例。
「第4圖」係為本發明一實施例之一液晶顯示裝置(LCD)之平面圖，以及「第5圖」係為沿「第4圖」之V-V線之橫截面圖。
請參閱「第4圖」至「第6圖」，液晶顯示裝置(LCD)101包含有一陣列基板、一彩色濾光基板、以及一位於陣列基板與彩色濾光基板之間的液晶層190。進一步而言，液晶顯示裝置(LCD)包含有第一及第二圖案化間隔物163及164。
在陣列基板之中，一閘極線113沿著一水平方向形成於一第一基板110之上，以及一閘極115與閘極線113相連接。閘極115可自閘極線113延伸出。或者，閘極115可為閘極線113之一部份。閘極線113及閘極115可由鋁(Al)、鋁合金(例如，釹鋁合金AlNd)、銅(Cu)、銅合金、鉬(Mo)、以及鉬鈦合金(MoTi)之至少一個形成。
一閘極絕緣層117形成於閘極線113及閘極115之上。閘極絕緣層117可由具有氧化矽(SiO2)及氮化矽(SiNx)的一無機絕緣材料形成。
一半導體層120形成於閘極113之上的閘極絕緣層117之上。半導體層120包含有一由本質非晶矽製造的活性層120a，以及一由非本質非晶矽製造的歐姆接觸層120b。
源及汲極128及130形成於歐姆接觸層120b之上。源及汲極128及130可具有一桿狀。或者，源極128可具有一凹進部份用以形成一〞U〞形，以及汲極130可插入至該凹進部份之中，並且在此種情況下，一通道具有一〞U〞形。然而，可以理解的是，源及汲極128及130可具有不同之結構。
閘極115、半導體層120與源及汲極128及130形成一薄膜電晶體Tr，薄膜電晶體Tr定位於一切換區域TrA之中。
一資料線127與源極128相連接。資料線127與閘極線113相交叉用以定義一畫素區域P。
一半導體圖案可形成於資料線127之下。此種情況下，半導體圖案可由與半導體層120相同之材料形成。舉例而言，該半導體圖案可包含有一由與活性層120a相同之材料製造的第一虛擬圖案，以及一由與歐姆接觸層120b相同之材料製造的第二虛擬圖案。或者，半導體圖案不需要形成於資料線127之下。
一鈍化層140形成於源及汲極128及130之上。鈍化層140可由具有氧化矽(SiO2)及氮化矽(SiNx)的一無機絕緣材料形成。鈍化層140包含有一暴露汲極130的汲極接觸孔143。
一畫素電極146形成於畫素區域P之中的鈍化層140之中。畫素電極146通過汲極接觸孔143與汲極130相接觸。畫素電極146可由具有氧化銦錫(Indium-Tin-Oxide,ITO)、氧化銦鋅(Indium-Zinc-Oxide,IZO)、以及銦錫鋅氧化物(Indium-Tin-Zinc-Oxide,ITZO)的一透明導電材料製造。
在彩色濾光基板之中，一黑矩陣153形成於一第二基板150之上。黑矩陣153包含有分別對應於畫素區域P的開口。黑矩陣153可對應於閘極線113、資料線127以及薄膜電晶體Tr之至少一個。當自平面圖上看，如果黑矩陣153與閘極線113、資料線127、或薄膜電晶體Tr部份或全部相重疊時，黑矩陣153對應於閘極線113、資料線127、或薄膜電晶體Tr之一個。
一彩色濾光層156形成於黑矩陣153之上。彩色濾光層156包含有對應於各畫素區域P的紅色(R)、綠色(G)以及藍色(R)濾光圖案156a、156b以及156c。紅色(R)、綠色(G)以及藍色(R)濾光圖案156a、156b以及156c填充黑矩陣153之各開口且與黑矩陣153相重疊。
一共同電極159形成於彩色濾光層156之上。共同電極159可由具有一氧化銦錫(ITO)、一氧化銦鋅(IZO)、以及銦錫鋅氧化物(ITZO)的一透明導電材料製造。
一塗覆層158可形成於彩色濾光層156與共同電極159之間。塗覆層158功能上用以平坦化彩色濾光基板。
在上述實施例之中，畫素電極146及共同電極159分別形成於不同基板，即，陣列基板及彩色濾光基板之中。或者，畫素電極146及共同電極159可形成於同一基板，例如陣列基板之上。此種情況下，複數個畫素電極與複數個共同電極相交替排列於每一畫素區域之中用以形成一共面電場，以及一與共同電極相連接之共同線可與閘極線113形成為同一水平。
第一及第二圖案化間隔物163及164可形成於彩色濾光基板，例如，共同電極159或塗覆層158之上。第一及第二圖案化間隔物163及164可具有一共同厚度或具有許多埃至數千埃的不同之厚度。
第一圖案化間隔物163可具有一圓柱形且對應於薄膜電晶體Tr。第二圖案化間隔物164可與第一圖案化間隔物163相間隔。第二圖案化間隔物164可具有一壩形，例如一橢圓柱形，以使得第二圖案化間隔物164沿著閘極線113之一長度方向drt1的一第一寬度w1相比較於第二圖案化間隔物164沿著閘極線113之一寬度方向的一第二寬度w2更大。進一步而言，第二圖案化間隔物164與彩色濾光基板相接觸的一頂部區域相比較於第二圖案化間隔物164與陣列基板相間隔的一底部區域更大。
較佳地，第一圖案化間隔物163之一直徑dm可在大約18微米(um)至大約20微米(um)之範圍內。較佳地，第二圖案化間隔物164之第一寬度w1可為大約22微米(um)至大約28微米(um)之範圍內，以及第二圖案化間隔物164之第二寬度可在大約5微米(um)至大約7微米(um)之範圍內。
相比較於習知技術的黑矩陣之中，第一及第二圖案化間隔物具有相同的圓柱形狀，該液晶顯示裝置(LCD)之黑矩陣153圍繞第二圖案化間隔物164的寬度中能夠減少至少大約12微米(um)，以使得能夠提高孔徑比。
如上所述，第二圖案化間隔物164配設為相對減少第二寬度w2且相對增加第一寬度w1。因此，甚至一外壓力對液晶顯示裝置(LCD)產生一按壓，第二圖案化間隔物164與第一圖案化間隔物163能夠防止壓壞。進一步而言，由於恢復力增加，當去除外部壓力時，第一及第二圖案化間隔物163及164快速恢復至維持液晶顯示裝置(LCD)之單元間隙的起始狀態。因此，本實施例的第一及第二圖案化間隔物163及164能夠功能上與習知技術之第一及第二圖案化間隔物一樣多。
第一圖案化間隔物163之具有第一厚度t1的一端與陣列基板，例如薄膜電晶體Tr上方的，可為陣列基板之一最頂層的一第一配向層相接觸。第二圖案化間隔物164與陣列基板相間隔且與閘極線113相對應。
第一及第二圖案化間隔物163及164可與每一畫素區域P相對應定位。或者，第一及第二圖案化間隔物163及164可位於至少兩個畫素區域，例如，兩個畫素區域至二十個畫素區域的一間隔。
以下將解釋本發明一實施例之液晶顯示裝置(LCD)之製造方法。
液晶顯示裝置(LCD)之陣列基板可在四個或五個光罩製程中形成，並且可省去詳細之描述。
「第6A圖」至「第6H圖」係為根據本發明一實施例之液晶顯示裝置(LCD)之一彩色濾光基板之橫截面圖。
請參閱「第6A圖」，一黑樹脂或具有鉻(Cr)及氧化鉻(CrOx)至少一個的一金屬材料形成於一第二基板150之上，以及執行一使用光罩170的曝光之光罩製程，一顯影等，用以形成包含有複數個開口第一至第三開口op1、op2以及op3的黑矩陣153。
當黑矩陣153由黑樹脂、一感光材料製造時，一黑樹脂層151透過使用黑樹脂塗覆第二基板150形成。然後，使用具有一阻擋部份BA以及一透射部份TA的光罩170，對黑樹脂層151執行一曝光。然後，使用一顯影液顯影黑樹脂層151。因此，黑矩陣153包含由分別對應於紅色、綠色以及藍色畫素區域的第一至第三開口op1、op2以及op3。
當黑矩陣153由金屬材料製造時，一金屬材料層形成於第二基板150之上且然後一光阻層形成於該金屬材料層之上。然後，對光阻層執行曝光及顯影過程用以形成一光阻抗蝕圖案。然後，使用光阻抗蝕圖案對金屬材料層執行一蝕刻過程，用以形成黑矩陣153。然後，通過一灰化或一剝離製程去除光阻抗蝕圖案。
在本發明之一實施例之中，描述由黑樹脂製造的黑矩陣153之一實例。
較佳地，對應於閘極線(「第4圖」之113)及資料線(「第4圖」之127)的黑矩陣153之一部份具有最多大約57微米(um)的一寬度(「第4圖」之BMw1)。
對應於閘極線形成的一第二圖案化間隔物(「第4圖」之164)具有大約5微米(um)至大約7微米(um)之一第二寬度(「第4圖」之w2)。由於一外部壓力之擠壓，考慮到一配向層之缺陷，黑矩陣153之一邊限係為大約25微米(um)。因此，為了防止圍繞第二圖案化間隔物164的光線洩漏，黑矩陣153之寬度BMw1設計為至多57微米(um)(例如，2*25um+7um)。
一相比較實例如「第7圖」所示，在「第7圖」之中，本實施例之元件透過本實施例之前述元件的參考標號加100表示。參考標號201、213、215、227、228、230、243、246以及263分別表示一液晶顯示裝置(LCD)、一閘極線、一閘極、一資料線、一源極、一汲極、一汲極接觸孔、一畫素電極以及一第一圖案化間隔物。請參閱「第7圖」，使用圓柱形第二圖案化間隔物264，考慮恢復力及按壓防止，第二圖案化間隔物264之一直徑dm係為大約18微米(um)。由於透過一外部壓力的擠壓，考慮配向層之缺陷，一黑矩陣253之邊限係為大約25微米(um)。因此，為了防止圍繞第二圖案化間隔物264的光線洩漏，黑矩陣253之寬度BMw2應為大約至少68(um)(例如，2*25um+18um)。
結果，本實施例之黑矩陣153對應於閘極線113(即，對應於第二圖案化間隔物163)的一部份具有寬度BMw1，該寬度當相比較於習知技術之時，減少大約9微米(um)至大約11微米(um)。因此，能夠增加孔徑比。
請參閱「第6C圖」，一紅色(R)光阻劑積於具有黑矩陣153的第二基板150之上用以形成一紅色光阻層155。然後，使用具有一阻擋部份BA以及一透射部份TA的光罩執行一曝光。一負型光阻劑可用作紅色光阻劑。將稍後詳細描述綠色及藍色光阻劑。
在曝光之中，光罩173之透射部份TA對應於第一開口op1。
請參閱「第6D圖」，顯影紅色光阻層155用以形成填充第一開口op1的一紅色(R)濾光圖案156a。紅色(R)濾光圖案156a可與黑矩陣153相重疊。
請參閱「第6E圖」，按照類似於形成紅色(R)濾光圖案156a之方式，綠色(G)及藍色(B)濾光圖案156b及156c形成為分別與第二及第三開口op2以及op3相對應。紅色(R)、綠色(G)以及藍色(B)濾光圖案156a、156b以及156c形成一彩色濾光層156。
請參閱「第6F圖」，一塗覆層158形成於彩色濾光層156及黑矩陣153之上。塗覆層158可由一有機材料，例如，一光丙烯酸或一光阻劑製造。
然後，一透明導電材料沉積於塗覆層158之上用以形成一共同電極159。
在上述之說明之中，塗覆層158與共同電極159形成於彩色濾光層156之上。或者，當共同電極159形成於彩色濾光基板之中時，塗覆層158可省去。
請參閱「第6G圖」及「第6H圖」，一透明有機材料層160形成於共同電極159之上。有機材料層160可由一負型感光材料，例如，一光丙烯酸或一光阻劑製造。
一光罩175位於有機材料層160之上，以及執行一曝光。光罩175可包含有第一及第二透射部份TA1及TA2、以及一阻擋部份BA。
第一及第二透射部份TA1及TA2分別對應於用於第一及第二圖案化間隔物163及164之區域。
將結合「第8A圖」、「第8B圖」以及「第9圖」，更詳細地解釋光罩175與第一及第二圖案化間隔物163及164。
「第8A圖」及「第8B圖」係為根據本發明之一實施例之用於形成第一及第二圖案化間隔物的光罩之實例之平面圖，以及「第9圖」係為使用「第8A圖」或「第8B圖」之光罩形成的第一及第二圖案化間隔物之平面圖。
請參閱「第8A圖」，用以形成第一及第二圖案化間隔物163及164的光罩175包含有第一透射部份TA1，第一透射部份TA1大致不損失光線以傳送光線且具有一圓形，一具有一矩形形狀的第二透射部份TA2，以及一阻擋光線的阻擋部份BA。
第一透射部份TA1包含有一大約10微米(um)至大約12微米(um)的直徑dm1。第二透射部份TA2具有一沿著閘極線之寬度方向drt2的大約9.5微米(um)至10.5微米(um)的第三寬度w3，以及一沿著閘極線之長度方向drt1的大約1.8微米(um)至2.2微米(um)的第四寬度w4。第三寬度w3之長度至少相比較於第四寬度w4之兩倍更大。
阻擋部份BA可定義為除光罩175的第一及第二透射部份TA1及TA2之外的部份。
請參閱「第8B圖」，第一透射部份TA1與「第8A圖」之第一透射部份TA1大致相同。第二透射部份TA2具有一第一區域A1以及一第二區域A2。第一區域A1與「第8A圖」之第二透射部份大致相同。第二區域A2位於第一區域A1之一中心區域且具有一具有大約2.8微米(um)至大約3.2微米(um)的長度11之正方形。因此，第二透射部份TA2具有一交叉(即，〞+〞)形。這裡，長度11之長度位於第三寬度w3與第四寬度w4之長度之內。
回到「第6G圖」、「第6H圖」以及「第4圖」，通過上述使用光罩175的曝光製程以及顯影製程，對應於第一及第二透射部份TA1及TA2且暴露於光線的有機金屬層之一部份保留，以及對應於阻擋部份BA且不暴露於光線的有機金屬層160的一部份被去除。因此，形成第一及第二圖案化間隔物163及164。
更詳細而言，當對於有機金屬層160執行顯影製程時，具有一第一高度h1及大約18微米(um)至大約20微米(um)的直徑dm之圖案化間隔物163對應於第一透射部份TA1形成。進一步而言，具有沿著閘極線的長度方向drt1大約22微米(um)至大約28微米(um)的第一寬度w1，沿著閘極線之寬度方向drt2的大約5微米(um)至7微米(um)的第二寬度w2，以及一等於或大於第一高度h1的一第二高度h2之第二圖案化間隔物164形成為對應於第二透射部份TA2且具有一壩形，例如一橢圓柱形。
在形成根據本發明之一實施例的第一及第二圖案化間隔物163及164之中，第二透射部份TA2具有與第二圖案化間隔物164之一平面形狀大致相反的平面形狀。
更詳細而言，請參閱「第8A圖」、「第8B圖」以及「第9圖」，第二透射部份具有一平面內的大致矩形，其中沿著閘極線的寬度方向drt2的第三寬度w3係為大約9.5微米(um)至10.5微米(um)，以及沿著閘極線的長度方向drt1的第四寬度w4係為大約1.8微米(um)至2.2微米(um)。而使用第二透射部份TA2形成的第二圖案化間隔物164具有平面內的大致圓形的矩形形狀，其中沿著閘極線的長度方向drt1的第一寬度w1係為大約22微米(um)至大約28微米(um)，以及沿著閘極線的寬度方向drt2的第二寬度w2係為大約5微米(um)至7微米(um)。換句話而言，第二圖案化間隔物164具有類似於第二透射部份TA2的平面形狀旋轉90度之平面形狀。這是因為光線之衍射。也就是說，第二透射部份TA2係為一狹縫，以及因此光線之衍射在一狹窄的寬度方向上產生。因此，光線在狹窄寬度之方向上相對更廣泛地照射。因此，如上所述，第二圖案化間隔物164在閘極線之寬度方向上形成為相對較寬。
通過第二透射部份TA2的每一單位面積的曝光量因為通過第二透射部份TA2的光線由於光線之衍射照射相對更大之面積，因此可相對較少。因此，第二圖案化間隔物之第二高度h2可相比較於通過第一透射部份TA1的第一圖案化間隔物163的第一高度h1更小。或者，第二高度h2可透過調節曝光之時間量，例如，透過相對增加通過第二透射部份TA2的曝光之時間量與第一高度h1相等。
請參閱「第8B圖」，甚至當使用交叉形的第二透射部份TA2時，第二圖案化間隔物164具有與使用「第8A圖」中的第二透射部份TA2形成的相同之高度及形狀。然而，因為交叉形透射部份相比較於矩形形狀透射部份可顯著減少旁瓣形成，因此可更期望「第8B圖」中之交叉形第二透射部份TA2。這裡，旁瓣為最終圖案中的不期望之影像。
通過上述之過程，能夠製造彩色濾光基板與第一及第二圖化間隔物163及164。進一步而言，用於彩色濾光基板的配向層可透過在具有第一及第二圖案化間隔物163及164的第二基板150之上列印配向層形成。
彩色濾光基板與陣列基板相結合且液晶層(「第5圖」之156)位於其間。因此，第一圖案化間隔物163對應於薄膜電晶體Tr與陣列基板相接觸。第二圖案化間隔物164對應於閘極線(「第4圖」之113)，例如，閘極線113之一中心部份。當陣列基板與彩色濾光基板相結合之時，一密封圖案配設為沿著陣列基板與彩色濾光基板之外圍部份。通過陣列基板與彩色濾光基板之結合，能夠製造該液晶顯示裝置(LCD)。
如上所述，第二圖案化間隔物具有大約7微米(um)或更少之第二寬度。因此，為了防止圍繞第二圖案化間隔物的光線洩漏，黑矩陣153能夠具有大約57微米(um)或更少的寬度。
因此，本實施例之黑矩陣具有之寬度相比較於習知技術更小大約68微米(um)。因此，能夠提高孔徑比。
進一步而言，為了形成高度不相等的第一及第二圖案化間隔物，具有阻擋部份以及不同類型的透射部份之光罩代替一昂貴的傳統半色調光罩或狹縫型光罩。因此，能夠減少生產成本。
對本領域之技術人員顯而易見的是，可在不脫離本發明之精神和範圍內，本發明可作些許之更動與潤飾，因此本發明在所附之專利保護範圍及其等價範圍內可作不同之變化及修改。
10．．．陣列基板
12．．．第一基板
14．．．閘極線
16．．．資料線
18．．．畫素電極
20．．．彩色濾光基板
22．．．第二基板
25．．．黑矩陣
26、76、156．．．彩色濾光層
26a、76a、156a．．．紅色濾光圖案
26b、76b、156b．．．綠色濾光圖案
26c、76c、156c．．．藍色濾光圖案
28．．．共同電極
30．．．液晶層
35、101、201．．．液晶顯示裝置
40、110．．．第一基板
43、113、213．．．閘極線
45、115、215．．．閘極
47、117．．．閘極絕緣層
50、120．．．半導體層
50a、120a．．．活性層
50b、120b．．．歐姆接觸層
55、127、227．．．資料線
58、128、228．．．源極
60、130、230．．．汲極
63、140．．．鈍化層
65、143、243．．．汲極接觸孔
67、146、246．．．畫素電極
70、150．．．第二基板
73、153、253．．．黑矩陣
79、159．．．共同電極
83．．．圖案化間隔物
90、190．．．液晶層
151．．．黑樹脂層
155．．．紅色光阻層
158．．．塗覆層
160．．．有機材料層
163、263．．．第一圖案化間隔物
164、264．．．第二圖案化間隔物
170、173、175．．．光罩
BA．．．阻擋部份
TA．．．透射部份
TA1．．．第一透射部份
TA2．．．第二透射部份
drt1．．．長度方向
drt2‧‧‧寬度方向
w1‧‧‧第一寬度
w2‧‧‧第二寬度
w3‧‧‧第三寬度
w4‧‧‧第四寬度
A1‧‧‧第一區域
A2‧‧‧第二區域
l1‧‧‧長度
h1‧‧‧第一高度
h2‧‧‧第二高度
dm、dm1‧‧‧直徑
op1‧‧‧第一開口
op2‧‧‧第二開口
op3‧‧‧第三開口
BMw1、BMw2‧‧‧寬度
Tr‧‧‧薄膜電晶體
P‧‧‧畫素區域
TrA‧‧‧切換區域
第1圖係為根據習知技術之一液晶顯示裝置(LCD)之透視圖；
第2圖係為根據習知技術之一具有圖案化間隔物的液晶顯示裝置(LCD)之平面圖；
第3圖係為係為沿第2圖之III-III線之橫截面圖；
第4圖係為本發明一實施例之一液晶顯示裝置(LCD)之平面圖；
第5圖係為沿第4圖之V-V線之橫截面圖；
第6A圖至第6H圖係為根據本發明一實施例，第4圖之液晶顯示裝置(LCD)之一彩色濾光基板之橫截面圖；
第7圖係為根據本發明一實施例之一液晶顯示裝置(LCD)之一相比較實例之平面圖；
第8A圖及第8B圖係為根據本發明之一實施例之用於形成第一及第二圖案化間隔物的光罩之實例之平面圖；以及
第9圖係為使用第8A圖或第8B圖之光罩形成的第一及第二圖案化間隔物之平面圖。
101．．．液晶顯示裝置
113．．．閘極線
115．．．閘極
127．．．資料線
128．．．源極
130．．．汲極
143．．．汲極接觸孔
146．．．畫素電極
153．．．黑矩陣
163．．．第一圖案化間隔物
164．．．第二圖案化間隔物
drt1．．．長度方向
drt2．．．寬度方向
w1．．．第一寬度
w2．．．第二寬度
dm．．．直徑
BMw1．．．寬度
Tr．．．薄膜電晶體

Claims (21)

  1. 一種液晶顯示裝置，係包含有：一陣列基板，係包含有：複數個閘極線及複數個資料線，係在一第一基板上彼此相交叉用以定義一畫素區域；以及一薄膜電晶體及一畫素電極，係位於該畫素區域之中；一彩色濾光基板，係包含有：一黑矩陣，係位於一第二基板之上且包含有一對應於該畫素區域之開口；以及一彩色濾光層，係填充該開口；以及一液晶層，係位於該陣列基板與該彩色濾光基板之間，該液晶層係包含有：一第一圖案化間隔物，係具有一圓柱形，與該陣列基板及該彩色濾光基板相接觸，以及與該陣列基板之該薄膜電晶體相對應；以及一第二圖案化間隔物，係具有一沿著該閘極線的一長度方向之第一寬度，以及一沿著該閘極線之一寬度方向之第二寬度，該第二寬度相比較於該第一寬度為小，該第二圖案化間隔物與該彩色濾光基板相接觸且與該陣列基板相間隔，以及與該閘極線相對應，其中該黑矩陣之寬度取決於該第二圖案化間隔物之該第 二寬度。
  2. 如請求項第1項所述之液晶顯示裝置，其中該第一寬度係為22微米(um)至28微米(um)，以及該第二寬度係為5微米(um)至7微米(um)。
  3. 如請求項第2項所述之液晶顯示裝置，其中與該閘極線相平行之該黑矩陣之寬度係為55微米(um)至57微米(um)。
  4. 如請求項第1項所述之液晶顯示裝置，其中該彩色濾光基板更包含有一該彩色濾光層之上的共同電極。
  5. 如請求項第4項所述之液晶顯示裝置，其中該彩色濾光基板更包含有一位於該彩色濾光層與該共同電極之間的塗覆層。
  6. 如請求項第1項所述之液晶顯示裝置，其中該陣列基板更包含有一共同線以及一與該共同線相連接之共同電極，該畫素電極與該共同電極相交替排列於該畫素區域之中，以及其中該彩色濾光基板更包含有一該彩色濾光層之上的塗覆層。
  7. 如請求項第1項所述之液晶顯示裝置，其中該第二圖案化間隔物之一高度相比較於該第一圖案化間隔物之一高度相等或更小。
  8. 一種液晶顯示裝置之製造方法，係包含：形成一彩色濾光基板，該彩色濾光基板包含有一位於一第一基板上的黑矩陣且包含有一開口，其中一彩色濾光層填充該 開口；形成一有機材料層於該彩色濾光層之上；使用一光罩對該有機材料層曝光，該光罩包含有一具有圓形之第一透射部份，一具有矩形之第二透射部份，以及一阻擋部份，其中該第二透射部份包含有第一寬度及第二寬度；以及顯影該曝光之有機材料層，用以形成一第一圖案化間隔物及一第二圖案化間隔物，其中該第二圖案化間隔物，係具有一第一間隔物寬度與一比較於該第一間隔物寬度為小的第二間隔物寬度，其中該黑矩陣之寬度取決於該第二圖案化間隔物之該第二間隔物寬度。
  9. 如請求項第8項所述之液晶顯示裝置之製造方法，其中該彩色濾光基板更包含有一塗覆層，該塗覆層位於該彩色濾光層與該第一圖案化間隔物及該第二圖案化間隔物之間。
  10. 如請求項第8項所述之液晶顯示裝置之製造方法，其中該彩色濾光基板更包含有一共同電極，該共同電極位於該彩色濾光層與該第一圖案化間隔物及該第二圖案化間隔物之間。
  11. 如請求項第8項所述之液晶顯示裝置之製造方法，其中沿著一第一方向的該第一寬度係為1.8微米(um)至2.2微米(um)，沿著一第二方向的該第二寬度係為9.5微米(um)至10.5微米(um)。
  12. 如請求項第8項所述之液晶顯示裝置之製造方法，其中該第二圖案化間隔物具有沿著該第一方向的一第三寬度且該第三寬度之範圍自22微米(um)至28微米(um)，以及沿著該第二方向的該第二圖案化間隔物之一第四寬度且該第四寬度之範圍自5微米(um)至7微米(um)。
  13. 如請求項第8項所述之液晶顯示裝置之製造方法，其中對應於該第二圖案化間隔物的該黑矩陣之一寬度係為55微米(um)至57微米(um)。
  14. 如請求項第8項所述之液晶顯示裝置之製造方法，其中該第二圖案化間隔物之一高度透過調整該曝光之時間量，相比較於該第一圖案化間隔物之一高度相等或者為小。
  15. 如請求項第8項所述之液晶顯示裝置之製造方法，更包含：形成一陣列基板，該陣列基板包含有在一第二基板上彼此相交叉的複數個閘極線及複數個資料線，一與該等閘極線及該等資料線相連接之薄膜電晶體，以及一與該薄膜電晶體相連接之畫素電極；以及結合該陣列基板與該彩色濾光基板且其間具有一液晶層，以使得該第一圖案化間隔物對應於該薄膜電晶體與該陣列基板相接觸，以及該第二圖案化間隔物對應於該閘極線且與該陣列基板相間隔。
  16. 如請求項第8項所述之液晶顯示裝置之製造方法，其中該第二 透射部份包含有一在其一中心部份的方形區域，該方形區域具有2.8微米(um)至3.2微米(um)之一長度，以及該第二透射部份具有一交叉形狀。
  17. 一種液晶顯示裝置之結構，該液晶顯示裝置包含有一陣列基板、具有一黑矩陣之一彩色濾光基板以及該陣列基板與該彩色濾光基板之間的一液晶層，該液晶顯示裝置之結構係包含有：一具有一第一形狀的第一圖案化間隔物，該第一圖案化間隔物與該陣列基板及該彩色濾光基板相接觸且與該陣列基板之一薄膜電晶體相對應；以及一具有一第二形狀的第二圖案化間隔物，該第二形狀之一頂部區域相比較於一底部區域更大，該頂部區域與該彩色濾光基板相接觸且該底部區域與該陣列基板相間隔，其中該第一形狀與該第二形狀彼此不相同，其中該第二圖案化間隔物，係具有一第一間隔物寬度與一比較於該第一間隔物寬度為小的第二間隔物寬度，其中該黑矩陣之寬度取決於該第二圖案化間隔物之該第二間隔物寬度。
  18. 如請求項第17項所述之液晶顯示裝置之結構，其中該第一形狀係為一圓柱形以及該第二形狀係為一橢圓柱形狀。
  19. 如請求項第17項所述之液晶顯示裝置之結構，其中該第二圖案化間隔物之該頂部區域具有沿著該閘極線的一長度方向的 一第一寬度，以及沿著該陣列基板中包含之一閘極線的一寬度方向的一第二寬度，以及該第一寬度之範圍自22微米(um)至28微米(um)，以及該第二寬度之範圍自5微米(um)至7微米(um)。
  20. 如請求項第17項所述之液晶顯示裝置之結構，其中該第二圖案化之一高度相比較於該第一圖案化間隔物之一高度相同或為小。
  21. 如請求項第17項所述之液晶顯示裝置之結構，其中與該陣列基板中包含之一閘極線相平行之該彩色濾光基板之該黑矩陣之寬度係為55微米(um)至57微米(um)。
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Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5837350B2 (ja) 2011-07-21 2015-12-24 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置
JP5917126B2 (ja) * 2011-12-19 2016-05-11 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置
KR101979011B1 (ko) * 2012-09-26 2019-05-17 엘지디스플레이 주식회사 컬러필터기판 및 이를 포함하는 액정표시장치
CN102955297B (zh) * 2012-10-22 2015-09-09 京东方科技集团股份有限公司 一种液晶显示面板及其制作方法
JP6203575B2 (ja) * 2013-08-29 2017-09-27 パナソニック液晶ディスプレイ株式会社 表示装置
KR102098304B1 (ko) * 2013-12-10 2020-05-27 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
CN103779360B (zh) * 2014-02-12 2017-02-15 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 显示基板及其制作方法、显示装置
CN104133325A (zh) * 2014-07-04 2014-11-05 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种显示基板、其制作方法及显示装置
KR101565818B1 (ko) * 2014-09-11 2015-11-06 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치
KR102224348B1 (ko) * 2014-09-22 2021-03-09 엘지디스플레이 주식회사 액정 표시 패널 및 그의 제조 방법
KR102367483B1 (ko) * 2014-09-23 2022-02-25 엘지디스플레이 주식회사 유기발광 다이오드 표시장치
CN104407475B (zh) * 2014-12-04 2017-04-05 厦门天马微电子有限公司 液晶显示面板
KR102289275B1 (ko) 2015-01-09 2021-08-12 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
CN104765202B (zh) * 2015-04-24 2018-09-11 合肥京东方光电科技有限公司 液晶显示面板及其制造方法、液晶显示装置
CN106094427B (zh) * 2016-08-17 2021-01-22 京东方科技集团股份有限公司 一种隔垫物的制备方法
CN106125390A (zh) * 2016-08-19 2016-11-16 武汉华星光电技术有限公司 液晶显示面板及液晶显示装置
CN106569361B (zh) * 2016-10-20 2019-08-16 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制备方法和显示装置
CN106773351A (zh) * 2016-12-29 2017-05-31 惠科股份有限公司 一种显示面板和显示装置
US10459331B2 (en) * 2017-03-13 2019-10-29 Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Mask structure and COA type array substrate
CN107037653A (zh) * 2017-05-11 2017-08-11 惠科股份有限公司 显示面板及其制备方法、及显示器
CN107589596A (zh) * 2017-09-25 2018-01-16 惠科股份有限公司 显示面板及其制造方法
JP6640252B2 (ja) * 2018-01-19 2020-02-05 シャープ株式会社 液晶パネル
CN111413823A (zh) * 2019-01-07 2020-07-14 群创光电股份有限公司 电子装置
TWI707174B (zh) * 2019-05-06 2020-10-11 友達光電股份有限公司 顯示面板

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200411260A (en) * 2002-09-26 2004-07-01 Samsung Electronics Co Ltd Liquid crystal display, panel therefor, and manufacturing method thereof
US6897918B1 (en) * 2000-09-15 2005-05-24 Toray Industries, Inc. Color filter with protrusion
TW200745627A (en) * 2006-03-10 2007-12-16 Toppan Printing Co Ltd Color filter and mask for manufacturing thereof
KR20080081674A (ko) * 2007-03-06 2008-09-10 엘지디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
CN101430464A (zh) * 2007-11-09 2009-05-13 上海广电Nec液晶显示器有限公司 液晶显示装置及其制造方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100641002B1 (ko) * 2004-04-30 2006-11-02 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 표시 장치
KR20070047087A (ko) 2005-11-01 2007-05-04 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
JP2007128091A (ja) * 2005-11-03 2007-05-24 Samsung Electronics Co Ltd 表示基板及びその製造方法並びにそれを具備した表示パネル
KR20070074891A (ko) * 2006-01-11 2007-07-18 삼성전자주식회사 컬러 필터 기판 및 이를 포함한 액정 표시 패널
JP5028645B2 (ja) 2006-03-10 2012-09-19 凸版印刷株式会社 カラーフィルタ用フォトスペーサ製造用のフォトマスク
TWI362544B (en) * 2007-11-07 2012-04-21 Au Optronics Corp Liquid crystal display panel and manufacturing method thereof
CN102012576A (zh) * 2009-09-07 2011-04-13 北京京东方光电科技有限公司 液晶面板母板及其制作方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6897918B1 (en) * 2000-09-15 2005-05-24 Toray Industries, Inc. Color filter with protrusion
TW200411260A (en) * 2002-09-26 2004-07-01 Samsung Electronics Co Ltd Liquid crystal display, panel therefor, and manufacturing method thereof
TW200745627A (en) * 2006-03-10 2007-12-16 Toppan Printing Co Ltd Color filter and mask for manufacturing thereof
KR20080081674A (ko) * 2007-03-06 2008-09-10 엘지디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
CN101430464A (zh) * 2007-11-09 2009-05-13 上海广电Nec液晶显示器有限公司 液晶显示装置及其制造方法

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