TWI448857B - 真空處理裝置、圖表線顯示方法 - Google Patents
真空處理裝置、圖表線顯示方法 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI448857B TWI448857B TW099135754A TW99135754A TWI448857B TW I448857 B TWI448857 B TW I448857B TW 099135754 A TW099135754 A TW 099135754A TW 99135754 A TW99135754 A TW 99135754A TW I448857 B TWI448857 B TW I448857B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- time
- axis
- line
- measurement
- graph
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 89
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 464
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 345
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 181
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 63
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 53
- 230000009471 action Effects 0.000 claims description 37
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 29
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 28
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 13
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 19
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 230000004044 response Effects 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000009489 vacuum treatment Methods 0.000 description 2
- 238000009530 blood pressure measurement Methods 0.000 description 1
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000010835 comparative analysis Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000007567 mass-production technique Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02612—Formation types
- H01L21/02617—Deposition types
- H01L21/0262—Reduction or decomposition of gaseous compounds, e.g. CVD
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02612—Formation types
- H01L21/02617—Deposition types
- H01L21/02631—Physical deposition at reduced pressure, e.g. MBE, sputtering, evaporation
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Testing And Monitoring For Control Systems (AREA)
- Measurement Of Unknown Time Intervals (AREA)
Description
本發明,係有關於真空處理裝置之技術領域,特別是有關於使用有真空處理裝置之量產技術。
真空處理技術,係存在有濺鍍方法、CVD方法、蒸鍍方法等之成膜技術,或者是蝕刻技術、表面改質技術、雜質注入技術、真空乾燥技術等,而被使用在廣泛的領域中。
當經由真空處理技術來對於同一品種之製品進行量產的情況時,對於相同規格之處理對象物,係進行相同之真空處理,但是,在品質上係會產生偏差。
在對於產生品質之偏差的原因作確認的情況時、或者是在以不會使偏差造成不良品之產生的方式來對於製造工程作管理的情況時,係進行有:對於動作中之真空處理裝置的狀態作測定,並在批次間而對於測定結果作比較、檢視。
特別是,想要在批次間或者是真空處理裝置間而對於真空處理裝置內之機器的動作電流量、溫度、壓力等之物理量的差異作定量性確認的情況時,係在製造工程中對於各種之物理量作測定,並預先將測定值作記憶,再經由檢查裝置來將測定值圖表化,並進行其之形態的比較。
然而,真空處理裝置內之測定對象的機器係日益增加
,又,身為所測定之項目的物理量之種類亦係增加,要將大量之測定值作圖表化並進行比較一事,係變得困難。
特別是,雖然將測定值之重要的部分作圖表化並進行比較一事係為重要,但是,要從多量之測定資料來將想要觀察之部分作抽出的作業,係為繁雜,並且,對於抽出之資料彼此間作比較一事,亦為困難。
又,最近,能夠經由視認來對裝置資料作比較一事係成為重要,但是,當將相對於複數之真空處理的測定值進行圖表化時,雖然若是能夠將複數之圖表線作重合而作比較,則係能夠將視認性提升,然而,對於測定時刻或者是測定值進行操作並使其相重合一事,係非常耗費時間以及精力。
更進而,在先前技術中,當想要在批次間或者是真空處理裝置間而對於真空處理裝置內之機器的動作電流量、溫度、壓力等之差異作定量性確認的情況時,係將在製造工程中所測定之測定值預先作記憶,再經由檢查裝置來將測定值圖表化,並進行其之形態的比較,然而,真空處理裝置內之測定對象的機器係日益增加,且身為所測定之項
目的物理量之種類亦係增加,要將大量之測定值作圖表化並進行比較一事,係變得困難。
[專利文獻1]日本特開2009-80844號公報
本發明,係以提供一種能夠解決上述之先前技術的問題點之技術一事,作為課題,在本發明中,第1發明,係以提供一種能夠從多種多量之測定值中來將所欲觀察之部分簡單且正確地抽出,並將每一者之抽出了的測定值作圖表化並進行比較的技術,作為目的。
又,若依據本發明中之第2發明,則係以提供一種能夠將多種多量之測定值簡單且正確地作重合並進行比較之技術作為目的。
又,若依據本發明中之第3發明,則係成為能夠對於多種多量之測定值簡單且正確地作比較。
如同上述一般,本發明,係提供一種能夠將真空處理之分析簡單且正確地進行之技術。
為了解決上述課題,本發明之第1發明,係為一種真空處理裝置,係具備有:對於被配置在真空槽內之處理對象物進行真空處理的真空處理部、和將前述真空處理部所輸出了的複數之測定值,與測定時刻一同地而與前述真空
處理相附加對應地作記憶之記憶裝置、和對於前述測定值作演算之演算裝置、和將前述演算裝置之演算結果作顯示之顯示裝置,該真空處理裝置,其特徵為:在前述記憶裝置中,係被記憶有資料分析程式;前述資料分析程式,係如同下述一般地被構成:若是從被記憶在前述記憶裝置內的複數之前述測定值而選擇了將圖表線作顯示之測定值,則係將被選擇了的前述測定值之前述測定時刻,換算為身為從特定之基準時刻起之後的時間之X軸上換算時刻,將X-Y座標之X軸上的特定位置,作為前述基準時刻之位置,並根據前述X軸上換算時刻來求取出前述測定值之前述X軸上的位置,且根據前述測定值之大小來求取出Y軸上的位置,再藉由測定時刻為相連續的複數之前述測定值的前述X軸上之位置與前述Y軸上之位置,來產生第1次圖表線,並與前述X-Y座標一同地而顯示在顯示裝置處,將作了顯示的前述第1次圖表線之前述測定時刻的其中一者,作為抽出起點時刻,將前述第1次圖表線之前述測定值中的前述測定時刻成為前述抽出起點時刻以後之時刻的前述測定值抽出,將前述起點開始時刻作為前述基準時刻,並根據所抽出了的前述測定值與前述測定時刻,而在前述X-Y座標上顯示第2次圖表線。
又,本發明之第1發明,係為一種真空處理裝置,其中,前述資料分析程式,係根據前述測定值而產生複數之前述第1次圖表線,並顯示於前述顯示裝置處,將1個的前述一次圖表線之前述測定值的其中一者,作為該前述第
1次圖表線之前述抽出起點時刻,並求取出其他的前述第1次圖表線之前述抽出起點時刻,再根據所顯示了的前述第1次圖表線來產生前述第2次圖表線,並顯示於前述顯示裝置處。
又,本發明之第1發明,係為一種真空處理裝置,其中,前述資料分析程式,係將所顯示了的前述第2次圖表線中之被作了選擇了前述第2次圖表線,在前述顯示裝置上而與前述X軸平行地作移動。
又,本發明之第1發明,係為一種真空處理裝置,其中,前述資料分析程式,係將與作了移動的前述第2次圖表線之前述測定值相對應的前述X軸上換算時刻,進行作了移動的前述第2次圖表線之前述X軸上的移動量之修正。
又,本發明之第1發明,係為一種真空處理裝置,其中,係從前述控制裝置而輸出控制訊號,該控制訊號,係包含有使進行前述真空處理之處理裝置動作的動作訊號、和使動作停止之停止訊號,前述控制訊號,係與使前述動作開始之動作開始時刻和使前述動作之停止開始的動作停止時刻一同地而被記憶在前述記憶裝置中,前述資料分析程式,係構成為:對於被記憶在前述記憶裝置中之前述動作開始時刻與前述動作停止時刻,而求取出該些之身為從前述基準時刻起所經過之時間的時間軸上換算時刻,在前述顯示裝置上,係在與前述X軸相分離了的位置處,而與前述X軸相平行地來顯示時間軸,以使與前述Y軸相
平行之一直線的與前述X軸和前述時間軸相交叉的交點所分別代表的前述X軸上換算時刻和前述時間軸上換算時刻成為相同時刻的方式,來求取出前述動作開始時刻與前述動作停止時刻之在前述時間軸上的位置,在前述顯示裝置上,係在前述時間軸上,藉由具備有代表前述動作訊號與前述停止訊號之高度相異的橫線之時序表,來顯示前述控制訊號,設為能夠將所期望之前述動作開始時刻或者是前述動作停止時刻指定為前述抽出起點時刻。
又,本發明之第1發明,係為一種真空處理裝置,其中,前述資料分析程式,係將前述時序表之較前述起點抽出時刻而更遲的時刻之前述動作開始時刻或者是前述動作停止時刻,指定為抽出終點時刻,並將與前述抽出起點時刻和前述抽出終點時刻之間的前述測定時刻相對應之前述測定值抽出,而產生前述第2次圖表線。
又,本發明之第1發明,係為一種圖表顯示方法,係為將真空處理裝置之被記憶在記憶裝置中的測定值之圖表線顯示在顯示裝置上之圖表顯示方法,該真空處理裝置,係具備有:對於被配置在真空槽內之處理對象物進行真空處理的真空處理部、和將前述真空處理部所輸出了的複數之測定值,與測定時刻一同地而與前述真空處理相附加對應地作記憶之記憶裝置、和對於前述測定值作演算之演算裝置、和將前述演算裝置之演算結果作顯示之顯示裝置,該圖表顯示方法,其特徵為:若是從被記憶在前述記憶裝置內的複數之前述測定值而選擇了將圖表線作顯示之測定
值,則係將被選擇了的前述測定值之前述測定時刻,換算為身為從特定之基準時刻起之後的時間之X軸上換算時刻,將X-Y座標之X軸上的特定位置,作為前述基準時刻之位置,並根據前述X軸上換算時刻來求取出前述測定值之前述X軸上的位置,且根據前述測定值之大小來求取出Y軸上的位置,再藉由測定時刻為相連續的複數之前述測定值的前述X軸上之位置與前述Y軸上之位置,來產生第1次圖表線,並與前述X-Y座標一同地而顯示在顯示裝置處,將作了顯示的前述第1次圖表線之前述測定時刻的其中一者,作為抽出起點時刻,將前述第1次圖表線之前述測定值中的前述測定時刻成為前述抽出起點時刻以後之時刻的前述測定值抽出,將前述起點開始時刻作為前述基準時刻,並根據所抽出了的前述測定值與前述測定時刻,而在前述X-Y座標上顯示第2次圖表線。
又,本發明之第1發明,係為一種圖表顯示方法,其中,前述資料分析程式,係根據前述測定值而產生複數之前述第1次圖表線,並顯示於前述顯示裝置處,將1個的前述一次圖表線之前述測定值的其中一者,作為該前述第1次圖表線之前述抽出起點時刻,並求取出其他的前述第1次圖表線之前述抽出起點時刻,再根據所顯示了的前述第1次圖表線來產生前述第2次圖表線,並顯示於前述顯示裝置處。
又,本發明之第1發明,係為一種圖表顯示方法,其中,係從所顯示了的前述第2次圖表線中而選擇所期望者
,被選擇了的前述第2次圖表線,係在前述顯示裝置上而與前述X軸平行地作移動。
又,本發明之第1發明,係為一種圖表顯示方法,其中,係將與作了移動的前述第2次圖表線之前述測定值相對應的前述X軸上換算時刻,進行作了移動的前述第2次圖表線之前述X軸上的移動量之修正。
又,本發明之第1發明,係為一種圖表顯示方法,其中,係從前述控制裝置而輸出控制訊號,該控制訊號,係包含有使進行前述真空處理之處理裝置動作的動作訊號、和使動作停止之停止訊號,前述控制訊號,係與使前述動作開始之動作開始時刻和使前述動作之停止開始的動作停止時刻一同地而被記憶在前述記憶裝置中,該圖表顯示方法,係構成為:對於被記憶在前述記憶裝置中之前述動作開始時刻與前述動作停止時刻,而求取出該些之身為從前述基準時刻起所經過之時間的時間軸上換算時刻,在前述顯示裝置上,係在與前述X軸相分離了的位置處,而與前述X軸相平行地來顯示時間軸,以使與前述Y軸相平行之一直線的與前述X軸和前述時間軸相交叉的交點所分別代表的前述X軸上換算時刻和前述時間軸上換算時刻成為相同時刻的方式,來求取出前述動作開始時刻與前述動作停止時刻之在前述時間軸上的位置,在前述顯示裝置上,係在前述時間軸上,藉由具備有代表前述動作訊號與前述停止訊號之高度相異的橫線之時序表,來顯示前述控制訊號,設為能夠將所期望之前述動作開始時刻或者是
前述動作停止時刻指定為前述抽出起點時刻。
又,本發明之第1發明,係為一種圖表顯示方法,其中,係將前述時序表之較前述起點抽出時刻而更遲的時刻之前述動作開始時刻或者是前述動作停止時刻,指定為抽出終點時刻,並將與前述抽出起點時刻和前述抽出終點時刻之間的前述測定時刻相對應之前述測定值抽出,而產生前述第2次圖表線。
又,本發明之第2發明,係為一種真空處理裝置,係具備有:對於被配置在真空槽內之處理對象物進行真空處理的真空處理部、和將前述真空處理部所輸出了的複數之測定值,與前述測定值之測定時刻一同地而與前述真空處理相附加對應地作記憶之記憶裝置、和對於前述測定值作演算之演算裝置、和將前述演算裝置之演算結果作顯示之顯示裝置,並將當對於特定枚數之前述處理對象物而連續同樣地進行了前述真空處理時之前述測定值設為1個批量(lot),而將複數之前述批量的前述測定值記憶在前述記憶裝置中,該真空處理裝置,其特徵為:在前述記憶裝置中,係被記憶有資料分析程式;前述資料分析程式,係如同下述一般地被構成:若是從被記憶在前述記憶裝置內的複數之前述測定值而選擇了將圖表線作顯示之測定值,則係將被選擇了的前述測定值之前述測定時刻,換算為身為從特定之基準時刻起之後的時間之X軸上換算時刻,將X-Y座標之X軸上的特定位置,作為前述基準時刻之位置,並根據前述X軸上換算時刻來求取出前述測定值
之前述X軸上的位置,且根據前述測定值之大小來求取出Y軸上的位置,再藉由測定時刻為相連續的複數之前述測定值的前述X軸上之位置與前述Y軸上之位置,來產生圖表線,並與前述X-Y座標一同地而顯示在顯示裝置處,若是對於作了顯示的前述圖表線中之任一者的前述圖表線作了選擇,則屬於被作了選擇的前述圖表線之前述批量的其他之被作了顯示的前述圖表線,亦係被一同作選擇,被作了選擇的前述圖表線,係能夠在前述X-Y座標上,朝向前述X軸所延伸的方向而一同作相同距離之移動。
又,本發明之第2發明,係為一種真空處理裝置,其中,係從前述控制裝置而輸出控制訊號,該控制訊號,係包含有使進行前述真空處理之處理裝置動作的動作訊號、和使動作停止之停止訊號,前述控制訊號,係與使前述動作開始之動作開始時刻和使前述動作之停止開始的動作停止時刻一同地而被記憶在前述記憶裝置中,前述資料分析程式,係構成為:若是從被記憶在前述記憶裝置內的複數之前述測定值而選擇了將圖表線作顯示之測定值,則係將被選擇了的前述測定值之前述測定時刻,換算為身為從特定之基準時刻起之後的時間之X軸上換算時刻,在前述顯示裝置上,係在與前述X軸相分離了的位置處,而與前述X軸相平行地來顯示時間軸,將前述時間軸上之特定位置,設為前述基準時刻,以使與前述Y軸相平行之一直線的與前述X軸和前述時間軸相交叉的交點所分別
代表的前述X軸上換算時刻和前述時間軸上換算時刻成為相同時刻的方式,來求取出前述動作開始時刻與前述動作停止時刻之在前述時間軸上的位置,在前述顯示裝置上,係在前述時間軸上,藉由具備有代表前述動作訊號與前述停止訊號之高度相異的橫線之時序表,來顯示前述控制訊號,與被作了選擇的前述圖表線屬於相同之前述批量的前述時序表,係與被作了選擇的前述圖表線一同地而與前述時間軸平行地來朝向相同方向作相同距離之移動。
又,本發明之第2發明,係為一種真空處理裝置,係具備有:對於被配置在真空槽內之處理對象物進行真空處理的真空處理部、和將前述真空處理部所輸出了的複數之測定值,與測定時刻一同地而與前述真空處理相附加對應地作記憶之記憶裝置、和對於前述測定值作演算之演算裝置、和將前述演算裝置之演算結果作顯示之顯示裝置,並將連續地被進行了真空處理之特定枚數的基板設為1個批量,且將當對於特定枚數之前述處理對象物而連續同樣地進行了前述真空處理時之前述測定值設為1個批量,而將複數之前述批量的前述測定值記憶在前述記憶裝置中,包含有使進行前述真空處理之裝置動作的動作訊號和使前述動作停止之停止訊號的控制訊號,係與使前述動作開始之動作開始時刻和使前述動作停止的動作停止時刻一同地而被與前述真空處理附加有對應地來記憶在前述記憶裝置中,該真空處理裝置,其特徵為:在前述記憶裝置中,係被記憶有資料分析程式;前述資料分析程式,係如同下述一
般地被構成:若是從被記憶在前述記憶裝置內的複數之前述測定值而選擇了將圖表線作顯示之測定值,則係將被選擇了的前述測定值之前述測定時刻,換算為身為從特定之基準時刻起之後的時間之X軸上換算時刻,將X-Y座標之X軸上的特定位置,作為前述基準時刻之位置,並根據前述X軸上換算時刻來求取出前述測定值之前述X軸上的位置,且根據前述測定值之大小來求取出Y軸上的位置,再藉由測定時刻為相連續的複數之前述測定值的前述X軸上之位置與前述Y軸上之位置,來產生複數之圖表線,並與前述X-Y座標一同地而顯示在顯示裝置處,對於被記憶在前述記憶裝置中之前述動作開始時刻與前述動作停止時刻,而求取出該些之身為從前述基準時刻起所經過之時間的時間軸上換算時刻,在前述顯示裝置上,係在與前述X軸相分離了的位置處,而與前述X軸相平行地來顯示時間軸,以使與前述Y軸相平行之一直線的與前述X軸和前述時間軸相交叉的交點所分別代表的前述X軸上換算時刻和前述時間軸上換算時刻成為相同時刻的方式,來求取出前述動作開始時刻與前述動作停止時刻之在前述時間軸上的位置,在前述顯示裝置上,係在前述時間軸上,藉由具備有代表前述動作訊號與前述停止訊號之高度相異的橫線之時序表,來顯示前述控制訊號,若是對於所顯示了的前述時序表中之任一個的前述時序表作選擇,則與屬於被作了選擇的前述時序表所屬之前述批量相同批量的其他之被顯示了的前述時序表,亦係一同被作選擇,
被作了選擇的前述時序表,係能夠在前述時間軸上,朝向前述時間軸所延伸的方向而一同作相同方向相同距離之移動,與所選擇了的前述時序表屬於相同之前述批量的前述圖表線,係成為與被選擇了的前述時序表一同地作相同方向相同距離之移動。
又,本發明之第2發明,係為一種真空處理裝置,其中,係根據被移動了的前述圖表線之前述測定值的前述X軸之位置,而再度計算前述X軸上換算時刻,從被顯示在前述顯示裝置處的複數之前述圖表線中,將2個以上的前述圖表線作為第1選擇群而選擇之,若是前述X軸上之前述X軸換算時刻被指示為第1時刻,則將身為前述第1選擇群之各前述圖表線的與在前述X軸上換算時刻中之最接近前述第1時刻的前述X軸上換算時刻相對應之測定值,作為各前述圖表線的各別之第1測定值,而在前述顯示裝置上,於對前述第1測定值作了選擇之前述圖表的每一者中作顯示,構成為將前述第1測定值彼此之差作顯示。
又,本發明之第2發明,係為一種真空處理裝置,其中,係從被顯示在前述顯示裝置處之前述第1選擇群以外的複數之前述圖表線中,而選擇第2選擇群之圖表線,若是將前述X軸上之前述X軸換算時刻指示為第2時刻,則將身為前述第2選擇群之各前述圖表線的與在前述X軸上換算時刻中之最接近前述第2時刻的前述X軸上換算時刻相對應之測定值的第2測定值,作為各前述圖表線
的各別之第2測定值,構成為將前述第1測定值與前述第2測定值之差,顯示於前述顯示裝置處。
又,本發明之第2發明,係為一種真空處理裝置,其中,係在前述顯示裝置處,顯示與前述Y軸相平行之第1、第2主測量線,將前述第1選擇群之各前述圖表線與前述第1主測量線之間的交點處之前述X軸上換算時刻,設為各前述圖表之各別的前述第1時刻,將前述第2選擇群之各前述圖表線與前述第2主測量線之間的交點處之前述X軸上換算時刻,設為各前述圖表之各別的前述第2時刻,並構成為能夠對於前述第1、第2主測量線之位置作變更,且構成為若是前述第1、第2主測量線之位置被作變更,則前述第1、第2時刻係分別被變更為被作了變更後之前述第1、第2主測量線所展示的前述X軸上換算時刻。
又,本發明之第2發明,係為一種圖表顯示方法,係為將被記憶在真空處理裝置之記憶裝置中之測定值的圖表線顯示在顯示裝置上之圖表顯示方法,該真空處理裝置,係具備有:對於被配置在真空槽內之處理對象物進行真空處理的真空處理部、和將前述真空處理部所輸出了的複數之測定值,與前述測定值之測定時刻一同地而與前述真空處理相附加對應地作記憶之記憶裝置、和對於前述測定值作演算之演算裝置、和將前述演算裝置之演算結果作顯示之顯示裝置,並將當對於特定枚數之前述處理對象物而連續同樣地進行了前述真空處理時之前述測定值設為1個批
量(lot),而將複數之前述批量的前述測定值記憶在前述記憶裝置中,該圖表顯示方法,其特徵為:若是從被記憶在前述記憶裝置內的複數之前述測定值而選擇了將圖表線作顯示之測定值,則係將被選擇了的前述測定值之前述測定時刻,換算為身為從特定之基準時刻起之後的時間之X軸上換算時刻,將X-Y座標之X軸上的特定位置,作為前述基準時刻之位置,並根據前述X軸上換算時刻來求取出前述測定值之前述X軸上的位置,且根據前述測定值之大小來求取出Y軸上的位置,再藉由測定時刻為相連續的複數之前述測定值的前述X軸上之位置與前述Y軸上之位置,來產生圖表線,並與前述X-Y座標一同地而顯示在顯示裝置處,並構成為能夠從被作了顯示的前述圖表線中來選擇所期望之圖表線,若是任一者的前述圖表線被作了選擇,則屬於被作了選擇的前述圖表線之前述批量的其他之被作了顯示的前述圖表線,亦係被一同作選擇,被作了選擇的前述圖表線,係能夠在前述X-Y座標上,朝向前述X軸所延伸的方向而一同作相同距離之移動。
又,本發明之第2發明,係為一種圖表顯示方法,其中,係從前述控制裝置而輸出控制訊號,該控制訊號,係包含有使進行前述真空處理之處理裝置動作的動作訊號、和使動作停止之停止訊號,前述控制訊號,係與使前述動作開始之動作開始時刻和使前述動作之停止開始的動作停止時刻一同地而被記憶在前述記憶裝置中,若是從被記憶
在前述記憶裝置內的複數之前述測定值而選擇了將圖表線作顯示之測定值,則係將被選擇了的前述測定值之前述測定時刻,換算為身為從特定之基準時刻起之後的時間之X軸上換算時刻,在前述顯示裝置上,係在與前述X軸相分離了的位置處,而與前述X軸相平行地來顯示時間軸,將前述時間軸上之特定位置,設為前述基準時刻,以使與前述Y軸相平行之一直線的與前述X軸和前述時間軸相交叉的交點所分別代表的前述X軸上換算時刻和前述時間軸上換算時刻成為相同時刻的方式,來求取出前述動作開始時刻與前述動作停止時刻之在前述時間軸上的位置,在前述顯示裝置上,係在前述時間軸上,藉由具備有代表前述動作訊號與前述停止訊號之高度相異的橫線之時序表,來顯示前述控制訊號,與被作了選擇的前述圖表線屬於相同之前述批量的前述時序表,係與被作了選擇的前述圖表線一同地而與前述時間軸平行地來朝向相同方向作相同距離之移動。
又,本發明之第2發明,係為一種圖表顯示方法,係為將被記憶在真空處理裝置之記憶裝置中之測定值的圖表線顯示在顯示裝置上之圖表顯示方法,該真空處理裝置,係具備有:對於被配置在真空槽內之處理對象物進行真空處理的真空處理部、和將前述真空處理部所輸出了的複數之測定值,與測定時刻一同地而與前述真空處理相附加對應地作記憶之記憶裝置、和對於前述測定值作演算之演算裝置、和將前述演算裝置之演算結果作顯示之顯示裝置,
並將連續地被進行了真空處理之特定枚數的基板設為1個批量,且將當對於特定枚數之前述處理對象物而連續同樣地進行了前述真空處理時之前述測定值設為1個批量,而將複數之前述批量的前述測定值記憶在前述記憶裝置中,包含有使進行前述真空處理之裝置動作的動作訊號和使前述動作停止之停止訊號的控制訊號,係與使前述動作開始之動作開始時刻和使前述動作停止的動作停止時刻一同地而被與前述真空處理附加有對應地來記憶在前述記憶裝置中,該圖表顯示方法,其特徵為:若是從被記憶在前述記憶裝置內的複數之前述測定值而選擇了將圖表線作顯示之測定值,則係將被選擇了的前述測定值之前述測定時刻,換算為身為從特定之基準時刻起之後的時間之X軸上換算時刻,將X-Y座標之X軸上的特定位置,作為前述基準時刻之位置,並根據前述X軸上換算時刻來求取出前述測定值之前述X軸上的位置,且根據前述測定值之大小來求取出Y軸上的位置,再藉由測定時刻為相連續的複數之前述測定值的前述X軸上之位置與前述Y軸上之位置,來產生複數之圖表線,並與前述X-Y座標一同地而顯示在顯示裝置處,對於被記憶在前述記憶裝置中之前述動作開始時刻與前述動作停止時刻,而求取出該些之身為從前述基準時刻起所經過之時間的時間軸上換算時刻,在前述顯示裝置上,係在與前述X軸相分離了的位置處,而與前述X軸相平行地來顯示時間軸,以使與前述Y軸相平行之一直線的與前述X軸和前述時間軸相交叉的
交點所分別代表的前述X軸上換算時刻和前述時間軸上換算時刻成為相同時刻的方式,來求取出前述動作開始時刻與前述動作停止時刻之在前述時間軸上的位置,在前述顯示裝置上,係在前述時間軸上,藉由具備有代表前述動作訊號與前述停止訊號之高度相異的橫線之時序表,來顯示前述控制訊號,若是對於所顯示了的前述時序表中之任一個的前述時序表作選擇,則與屬於被作了選擇的前述時序表所屬之前述批量相同批量的其他之被顯示了的前述時序表,亦係一同被作選擇,被作了選擇的前述時序表,係能夠在前述時間軸上,朝向前述時間軸所延伸的方向而一同作相同方向相同距離之移動,與所選擇了的前述時序表屬於相同之前述批量的前述圖表線,係成為與被選擇了的前述時序表一同地作相同方向相同距離之移動。
又,本發明之第2發明,係為一種圖表顯示方法,其中,係根據被移動了的前述圖表線之前述測定值的前述X軸之位置,而再度計算前述X軸上換算時刻,從被顯示在前述顯示裝置處的複數之前述圖表線中,將2個以上的前述圖表線作為第1選擇群而選擇之,若是前述X軸上之前述X軸換算時刻被指示為第1時刻,則將身為前述第1選擇群之各前述圖表線的與在前述X軸上換算時刻中之最接近前述第1時刻的前述X軸上換算時刻相對應之測定值的第1測定值,作為各前述圖表線的各別之第1測定值,而在前述顯示裝置上,於對前述第1測定值作了選擇之前述圖表的每一者中作顯示,將前述第1測定值彼
此之差作顯示。
又,本發明之第2發明,係為一種圖表顯示方法,其中,係從被顯示在前述顯示裝置處之前述第1選擇群以外的複數之前述圖表線中,而選擇第2選擇群之圖表線,若是將前述X軸上之前述X軸換算時刻指示為第2時刻,則將身為前述第2選擇群之各前述圖表線的與在前述X軸上換算時刻中之最接近前述第2時刻的前述X軸上換算時刻相對應之測定值的第2測定值,作為各前述圖表線的各別之第2測定值,並將前述第1測定值與前述第2測定值之差,顯示於前述顯示裝置處。
又,本發明之第2發明,係為一種圖表顯示方法,其中,係在前述顯示裝置處,顯示與前述Y軸相平行之第1、第2主測量線,將前述第1選擇群之各前述圖表線與前述第1主測量線之間的交點處之前述X軸上換算時刻,設為各前述圖表之各別的前述第1時刻,將前述第2選擇群之各前述圖表線與前述第2主測量線之間的交點處之前述X軸上換算時刻,設為各前述圖表之各別的前述第2時刻,並構成為能夠對於前述第1、第2主測量線之位置作變更,且構成為若是前述第1、第2主測量線之位置被作變更,則前述第1、第2時刻係分別被變更為被作了變更後之前述第1、第2主測量線所展示的前述X軸上換算時刻。
又,本發明之第3發明,係為一種真空處理裝置,係具備有:對於被配置在真空槽內之處理對象物進行真空處
理的真空處理部、和將前述真空處理部所輸出了的複數之測定值,與測定時刻一同地而與前述真空處理相附加對應地作記憶之記憶裝置、和對於前述測定值作演算之演算裝置、和將前述演算裝置之演算結果作顯示之顯示裝置,並將連續地被進行了真空處理之特定枚數的基板設為1個批量,且將當對於特定枚數之前述處理對象物而連續同樣地進行了前述真空處理時之前述測定值設為1個批量,而將複數之前述批量的前述測定值記憶在前述記憶裝置中,包含有使進行前述真空處理之裝置動作的動作訊號和使前述動作停止之停止訊號的控制訊號,係與使前述動作開始之動作開始時刻和使前述動作停止的動作停止時刻一同地而被與前述真空處理附加有對應地來記憶在前述記憶裝置中,該真空處理方法,其特徵為:在前述記憶裝置中,係被記憶有資料分析程式,前述資料分析程式,若是從被記憶在前述記憶裝置內的複數之前述測定值而選擇了將圖表線作顯示之測定值,則係將被選擇了的前述測定值之前述測定時刻,換算為身為從特定之基準時刻起之後的時間之X軸上換算時刻,將X-Y座標之X軸上的特定位置,作為前述基準時刻之位置,並根據前述X軸上換算時刻來求取出前述測定值之前述X軸上的位置,且根據前述測定值之大小來求取出Y軸上的位置,再藉由測定時刻為相連續的複數之前述測定值的前述X軸上之位置與前述Y軸上之位置,來產生複數之圖表線,並與前述X-Y座標一同地而顯示在顯示裝置處,若是從被顯示在前述顯示裝
置處的複數之前述圖表線中而將2個以上的前述圖表線作為第1選擇群而作選擇,並在前述顯示裝置處顯示與前述Y軸相平行之第1主測量線,則係將前述第1選擇群之各前述圖表線與前述第1主測量線之間的交點處之前述X軸上換算時刻,設為各前述圖表之各別的第1時刻,將身為前述第1選擇群之各前述圖表線的與在前述X軸上換算時刻中之最接近前述第1時刻的前述X軸上換算時刻相對應之測定值的第1測定值,作為各前述圖表線的各別之第1測定值,而在前述顯示裝置上,於對前述第1測定值作了選擇之前述圖表的每一者中作顯示,並將前述第1測定值彼此之差作顯示。
又,本發明之第3發明,係為一種真空處理裝置,其中,若是除了前述第1時刻之外,而更指示了被包含在前述X軸中之前述X軸上換算時刻之範圍內的第2時刻,則係在前述第1選擇群之前述每一圖表處,將前述X軸上換算時刻為最接近前述第2時刻之前述測定值,作為第2測定值而特定出來,並構成為將1個的前述圖表之前述第1測定值和其他的前述圖表之前述第2測定值的兩者間之差的值,與前述第2測定值一同顯示在前述顯示裝置處。
又,本發明之第3發明,係為一種真空處理裝置,其中,係能夠從被作了顯示的前述圖表中而選擇2個以上的前述圖表,從被作了選擇的前述圖表中所包含之測定值,來特定出前述第1、第2測定值。
又,本發明之第3發明,係為一種真空處理裝置,其中,係亦將相異之前述圖表間的前述第2測定值彼此間之差的值,顯示在前述顯示裝置處。
又,本發明之第3發明,係為一種真空處理裝置,其中,前述第1時刻與前述第2時刻,係被顯示在前述顯示裝置處。
又,本發明之第3發明,係為一種真空處理裝置,其中,身為前述第1時刻與前述第2時刻之間之差的時間,係被顯示在前述顯示裝置處。
又,本發明之第3發明,係為一種真空處理裝置,其中,若是除了前述第1主測量線,而亦在前述顯示裝置處顯示與前述Y軸相平行之第2主測量線,則係將前述第1選擇群之各前述圖表線與前述第1主測量線之間的交點處之前述X軸上換算時刻,設為各前述圖表之各別的前述第1時刻,將前述第2選擇群之各前述圖表線與前述第2主測量線之間的交點處之前述X軸上換算時刻,設為各前述圖表之各別的前述第2時刻,並構成為若是前述第1、第2主測量線之位置被作變更,則前述第1、第2時刻係分別被變更為被作了變更後之前述第1、第2主測量線的前述X軸上換算時刻。
又,本發明之第3發明,係為一種真空處理裝置,其特徵為:係從前述控制裝置而輸出控制訊號,該控制訊號,係包含有使進行前述真空處理之處理裝置動作的動作訊號、和使動作停止之停止訊號,前述控制訊號,係與使前
述動作開始之動作開始時刻和使前述動作之停止開始的動作停止時刻一同地而被記憶在前述記憶裝置中,前述資料分析程式,係構成為:對於被記憶在前述記憶裝置中之前述動作開始時刻與前述動作停止時刻,而求取出該些之身為從前述基準時刻起所經過之時間的時間軸上換算時刻,在前述顯示裝置上,係在與前述X軸相分離了的位置處,而與前述X軸相平行地來顯示時間軸,以使與前述Y軸相平行之一直線的與前述X軸和前述時間軸相交叉的交點所分別代表的前述X軸上換算時刻和前述時間軸上換算時刻成為相同時刻的方式,來求取出前述動作開始時刻與前述動作停止時刻之在前述時間軸上的位置,在前述顯示裝置上,係在前述時間軸上,藉由具備有代表前述動作訊號與前述停止訊號之高度相異的橫線之時序表,來顯示前述控制訊號。
又,本發明之第3發明,係為一種真空處理裝置,其中,係構成為:在前述X-Y座標上,係能夠將根據在經由被作了顯示的前述時序表之前述控制訊號而進行了的前述真空處理中所測定了的前述測定值而產生了的前述圖表線作顯示。
又,本發明之第3發明,係為一種真空處理裝置,其中,在前述第1、第2主測量線之延長線上,係分別顯示有與前述控制訊號之顯示相交叉的第3、第4主測量線,並構成為:若是前述第1、第2主測量線之位置被作變更,則前述第3、第4主測量線,係被移動至位置被作了變
更的前述第1、第2主測量線之延長線上位置處,若是前述第3、第4主測量線之位置被作變更,則前述第1、第2主測量線,係分別被移動至位置被作了變更的前述第3、第4主測量線之延長線上的位置處。
又,本發明之第3發明,係為一種圖表顯示方法,係為將被記憶在真空處理裝置之記憶裝置中之測定值的圖表線顯示在顯示裝置上之圖表顯示方法,該真空處理裝置,係具備有:對於被配置在真空槽內之處理對象物進行真空處理的真空處理部、和將前述真空處理部所輸出了的複數之測定值,與測定時刻一同地而與前述真空處理相附加對應地作記憶之記憶裝置、和對於前述測定值作演算之演算裝置、和將前述演算裝置之演算結果作顯示之顯示裝置,並將連續地被進行了真空處理之特定枚數的基板設為1個批量,且將當對於特定枚數之前述處理對象物而連續同樣地進行了前述真空處理時之前述測定值設為1個批量,而將複數之前述批量的前述測定值記憶在前述記憶裝置中,包含有使進行前述真空處理之裝置動作的動作訊號和使前述動作停止之停止訊號的控制訊號,係與使前述動作開始之動作開始時刻和使前述動作停止的動作停止時刻一同地而被與前述真空處理附加有對應地來記憶在前述記憶裝置中,該圖表顯示方法,其特徵為:從被記憶在前述記憶裝置內的複數之前述測定值,而選擇將圖表線作顯示之測定值,並將被選擇了的前述測定值之前述測定時刻,換算為身為從特定之基準時刻起之後的時間之X軸上換算時刻
,將X-Y座標之X軸上的特定位置,作為前述基準時刻之位置,並根據前述X軸上換算時刻來求取出前述測定值之前述X軸上的位置,且根據前述測定值之大小來求取出Y軸上的位置,再藉由測定時刻為相連續的複數之前述測定值的前述X軸上之位置與前述Y軸上之位置,來產生複數之圖表線,並與前述X-Y座標一同地而顯示在顯示裝置處,從被顯示在前述顯示裝置處的複數之前述圖表線中而將2個以上的前述圖表線作為第1選擇群而作選擇,並在前述顯示裝置處顯示與前述Y軸相平行之第1主測量線,將前述第1選擇群之各前述圖表線與前述第1主測量線之間的交點處之前述X軸上換算時刻,設為各前述圖表之各別的第1時刻,將身為前述第1選擇群之各前述圖表線的與在前述X軸上換算時刻中之最接近前述第1時刻的前述X軸上換算時刻相對應之測定值的第1測定值,作為各前述圖表線的各別之第1測定值,而在前述顯示裝置上,於對前述第1測定值作了選擇之前述圖表的每一者中作顯示,並將前述第1測定值彼此之差的值作顯示。
又,本發明之第3發明,係為一種圖表顯示方法,其中,若是除了前述第1時刻之外,而更指示了被包含在前述X軸中之前述X軸上換算時刻之範圍內的第2時刻,則係在前述第1選擇群之前述每一圖表處,將前述X軸上換算時刻為最接近前述第2時刻之前述測定值,作為第2測定值而特定出來,並構成為將1個的前述圖表之前述
第1測定值和其他的前述圖表之前述第2測定值的兩者間之差的值,與前述第2測定值一同顯示在前述顯示裝置處。
又,本發明之第3發明,係為一種圖表顯示方法,其中,係能夠從被作了顯示的前述圖表中而選擇2個以上的前述圖表,從被作了選擇的前述圖表中所包含之測定值,來特定出前述第1、第2測定值。
又,本發明之第3發明,係為一種圖表顯示方法,其中,係亦將相異之前述圖表間的第2測定值彼此間之差的值,顯示在前述顯示裝置處。
又,本發明之第3發明,係為一種圖表顯示方法,其中,前述第1時刻與前述第2時刻,係被顯示在前述顯示裝置處。
又,本發明之第3發明,係為一種圖表顯示方法,其中,身為前述第1時刻與前述第2時刻之間之差的時間,係被顯示在前述顯示裝置處。
又,本發明之第3發明,係為一種圖表顯示方法,其中,若是除了前述第1主測量線,而亦在前述顯示裝置處顯示與前述Y軸相平行之第2主測量線,則係將前述第1選擇群之各前述圖表線與前述第1主測量線之間的交點處之前述X軸上換算時刻,設為各前述圖表之各別的前述第1時刻,將前述第2選擇群之各前述圖表線與前述第2主測量線之間的交點處之前述X軸上換算時刻,設為各前述圖表之各別的前述第2時刻,並構成為若是前述第1
、第2主測量線之位置被作變更,則前述第1、第2時刻係分別被變更為被作了變更後之前述第1、第2主測量線的前述X軸上換算時刻。
又,本發明之第3發明,係為一種圖表顯示方法,其特徵為:係從前述控制裝置而輸出控制訊號,該控制訊號,係包含有使進行前述真空處理之處理裝置動作的動作訊號、和使動作停止之停止訊號,前述控制訊號,係與使前述動作開始之動作開始時刻和使前述動作之停止開始的動作停止時刻一同地而被記憶在前述記憶裝置中,前述資料分析程式,係構成為:對於被記憶在前述記憶裝置中之前述動作開始時刻與前述動作停止時刻,而求取出該些之身為從前述基準時刻起所經過之時間的時間軸上換算時刻,在前述顯示裝置上,係在與前述X軸相分離了的位置處,而與前述X軸相平行地來顯示時間軸,以使與前述Y軸相平行之一直線的與前述X軸和前述時間軸相交叉的交點所分別代表的前述X軸上換算時刻和前述時間軸上換算時刻成為相同時刻的方式,來求取出前述動作開始時刻與前述動作停止時刻之在前述時間軸上的位置,在前述顯示裝置上,係在前述時間軸上,藉由具備有代表前述動作訊號與前述停止訊號之高度相異的橫線之時序表,來顯示前述控制訊號。
又,本發明之第3發明,係為一種圖表顯示方法,其中,係構成為:在前述X-Y座標上,係能夠將根據在經由被作了顯示的前述時序表之前述控制訊號而進行了的前
述真空處理中所測定了的前述測定值而產生了的前述圖表線作顯示。
又,本發明之第3發明,係為一種圖表顯示方法,其中,在前述第1、第2主測量線之延長線上,係分別顯示有與前述控制訊號之顯示相交叉的第3、第4主測量線,並構成為:若是前述第1、第2主測量線之位置被作變更,則前述第3、第4主測量線,係被移動至位置被作了變更的前述第1、第2主測量線之延長線上位置處,若是前述第3、第4主測量線之位置被作變更,則前述第1、第2主測量線,係分別被移動至位置被作了變更的前述第3、第4主測量線之延長線上的位置處。
在本發明中,第1發明,由於係能夠將進行了真空處理之測定值的所期望之部分抽出並作圖表化,因此,係能夠容易地進行真空處理間之比較分析。
由於係能夠根據控制訊號或動作狀態訊號來作抽出,因此,係易於使作比較之圖表資料的作業之時刻成為一致。
又,第1發明,由於係能夠一面在畫面上作觀察一面進行抽出,因此,能夠對於控制訊號或者是動作狀態訊號中之雜訊作觀察,而能夠對於由於雜訊所導致之錯誤的抽出作防止。
又,第1發明,由於係能夠將由抽出了的測定值所得之圖表的所期望之部分作移動,因此,係能夠使峰值位置等位置在相同之X座標處,並正確地將圖表作重合而進行分析。
第2發明,由於係能夠將測定值之圖表線簡單地作重合並進行比較,因此,係能夠容易地進行真空處理之分析。
由於係能夠藉由使控制訊號或者是動作狀態訊號之折線相一致來將真空處理之測定值的圖表線作重合,因此,係能夠根據控制訊號或者是動作狀態訊號來進行比較。
由於係能夠使由於雜訊而被攪亂了的圖表起點相一致,因此,比較係成為正確。由於係能夠一面對於控制訊號或動作狀態訊號之折線、或者是圖表線之形狀作觀察,一面進行圖表線之移動,因此,修正係為簡單。
第3發明,由於係能夠對於真空處理彼此間之處理內容簡單地作比較,因此,係能夠進行真空處理之分析。
又,由於係能夠對於批次間之真空處理作比較,因此,係能夠在每一次之真空處理中而對於進行了真空處理之處理對象物的特定作檢討。
圖1之符號1,係為本發明中之第1發明的真空處理裝置之其中一例,並具備有真空處理部20和控制部21。
真空處理部20,係具備有真空槽11、和分別進行對於被配置在真空槽11之內部的處理對象物之真空處理的被配置於真空槽11內部之處理機器群23以及被配置在外部之處理機器群24。於此,處理對象物係為基板。
處理機器群23、24,係為進行對於身為處理對象物之基板的真空處理之裝置,真空槽11內部之處理機器群23,係包含有:被配置在真空槽11之底面的身為蒸鍍源之處理機器34、和對於身為蒸鍍源之處理機器34而照射電子線之身為EB槍的處理機器33、和被配置在身為蒸鍍源之處理機器34的上方處之身為保持裝置的處理機器31、以及被配置在保持裝置之處理機器31的內部之身為加熱器的處理機器32。
又,在真空槽11外部之處理機器群24中,係包含有複數之處理機器,於此,係包含有:身為蒸鍍用電源之處理機器35、和身為真空排氣系之處理機器36、和身為氣體導入系之處理機器37、以及身為加熱器用電源之處理機器38。
控制部21,係被配置於真空槽11之外部。
圖1之符號15,係為身為處理對象物之基板,並將成膜面朝向身為蒸鍍源之處理機器34地而被保持在保持裝置之處理機器31處。
真空排氣系之處理機器36和氣體導入系之處理機器37,係被與真空槽11作連接,並能夠使真空排氣系之處理機器36動作而對於真空槽11之內部座真空排氣。又,係可能夠使氣體導入系之處理機器37動作並將反應性氣體等之氣體從氣體導入系之處理機器37來導入至真空槽11之內部中。
加熱器用電源之處理機器38與蒸鍍用電源之處理機器35,係分別被與加熱器之處理機器32和EB槍之處理機器33作連接,並從加熱器用電源之處理機器38和蒸鍍用電源之處理機器35而分別對於加熱器之處理機器32和EB槍之處理機器33供給電力。
加熱器之處理機器32,係藉由所被供給之電力而發熱,並使保持裝置之處理機器31升溫,而在真空氛圍中將基板15作加熱。EB槍之處理機器33,係藉由所供給而來之電力來將電子束照射至蒸鍍源之處理機器34處,並將被配置在蒸鍍源之處理機器34內的蒸鍍材料加熱,而使蒸鍍材料之蒸氣放出至真空槽11內之真空氛圍中。
此蒸氣,係在真空氛圍或者是反應氣體氛圍中而到達基板15處,並在其之成膜面上形成薄膜。
在處理機器群23、24中,係亦包含有將溫度或壓力檢測出來之感測器、或者是根據感測器所檢測並輸出之訊號來進行溫度測定或壓力測定等之物理量的測定之測定裝置,又,亦包含有被配置在加熱器用電源之處理機器38或者是蒸鍍用電源之處理機器35等的處理機器之內部,
並對於電流或電壓等之物理量作測定之測定裝置。
所測定了的真空槽11內之壓力、基板15之溫度、氣體導入量、流動至身為加熱器之處理機器32處的電流量、供給至EB槍之處理機器33處的電力等之測定值,係與身為作了測定之時刻的測定時刻相對應地而從處理機器群23、24來輸出至控制部21處。
在控制部21處,係被配置有序列器41與電腦40,從處理機器群23、24所輸入而來之測定值與測定時刻,係透過序列器41而被輸入至電腦40處。
電腦40,係具備有演算裝置42、和記憶裝置43、和顯示裝置44、以及輸入裝置46,被輸入至電腦40處之測定值與測定時刻,係被記憶在記憶裝置43中。輸入裝置46,作為其中一例,係為鍵盤。
關於真空處理,例如,像是前處理、薄膜形成、蝕刻處理,係分別為一次之真空處理,在1個的真空槽11內,係對於複數之成膜對象物(基板15)而一次一枚或者是一次複數枚地來反覆的連續進行同種類之真空處理,基板15,係將被連續進行真空處理之每特定枚數,設為屬於相同之批次。
測定值所被作記憶之檔案名稱,係被設為能夠得知測定值所屬之批次、測定值之種類、得到測定值之處理機器以及真空處理之內容,並被記憶在記憶裝置43中。批次,係經由號碼來作區別。
1枚的基板15之一個真空處理的測定值,係以一定
之時間間隔而相連續,該測定值係被附加有檔案名稱地被作記憶。在檔案名稱中,係包含有批次號碼或者是批次名稱等之能夠對於批次作區別的標示,又,在1個的批次內,亦以能夠對於相異之真空處理作區別的方式,而包含有真空處理號碼等之能夠對於真空處理作區分的標示。故而,測定值,係根據其之檔案名稱,而被與批次和真空處理附加有對應。亦可設為:就算是將複數之真空處理的測定值經由1個的檔案名稱來作記憶,亦能夠從該檔案名稱之測定值來將所期望之真空處理的測定值作抽出。
在記憶裝置43中,係被記憶有進行測定值之圖表化與分析之資料分析程式,在序列器41中,係被記憶有使真空處理部20進行動作之處理程序。
序列器41,係對於處理機器群23、24,而輸出一面對於各項處理機器31~38(包含感測器)作控制一面使其動作並進行真空處理之控制訊號。在此控制訊號中,係至少包含有對於處理機器31~38而對動作之開始作指示的動作訊號、和對動作之停止作指示的停止訊號。控制訊號,係被輸出至包含在處理機器群24中之處理機器23、24中所包含之處理機器31~38處,並且亦被輸出至電腦40處。
處理機器31~38,係因應於控制訊號而使動作開始或者是結束,從處理機器31~38,係將身為代表「動作中」之訊號和代表「動作停止」之訊號的其中一者之動作狀態訊號,和使動作之狀態作了變更的變更時刻,透過序
列器41而輸出至電腦40處,並記憶在記憶裝置43中。
在動作狀態訊號中之「從動作停止而變更為動作中」的變更,係為動作開始,代表動作開始之時刻的變更時刻,係為動作開始時刻,「從動作中而變更為動作停止」的變更,係為動作停止,代表動作停止之時刻的變更時刻,係為動作停止時刻。
控制訊號,亦係被附加有經由控制訊號所進行了的真空處理之批次號碼或者是真空處理號碼等,而被與批次和真空處理附加有對應,對於動作之開始作指示之訊號的時刻,係成為動作開始時刻,對於動作之停止作指示的時刻,係成為動作停止時刻,並作為對於動作之開始或者是停止作指示的控制訊號而一同地被記憶在記憶裝置43中。
在此真空處理裝置1中,若是基板15在真空槽11內被作了處理,則係被搬出,而未處理之基板係被搬入,並成為在真空槽11內而連續地進行真空處理,如此這般,而進行複數批次之基板的真空處理。
在記憶裝置43中,係被記憶有:複數批次之真空處理的測定值、和與測定值相對應了的測定時刻、和對於該真空處理作了控制的控制訊號、和處理機器31~38之動作狀態訊號、以及被與動作狀態訊號附加了對應之變更時刻。在變更時刻中,係包含有動作開始時刻與動作停止時刻。
當對於複數之真空處理的測定結果作比較並進行分析時,電腦40,係根據將測定值作圖表化之資料分析程式
而進行動作。
測定值所被產生之批次號碼、基板15之號碼、真空處理之種類、測定值之種類,係被記載在測定值之檔案名稱中,經由檔案名稱,演算裝置42係能夠得到所期望之測定值以及測定時刻,還有與該測定值相關連之動作狀態訊號以及變更時刻。演算裝置42,係能夠將該些資訊從記憶裝置43而讀入至更為高速之記憶體等之中。
另外,被作分析比較之相異基板的測定值,係為相同之處理機器31~38或者是感測裝置、測定裝置之相同種類的物理量,測定時間之間隔,在1個真空處理中,係成為一定。又,在真空處理與真空處理之間,亦係進行有測定,該測定時刻之間隔,亦係被設為與在真空處理中者相同之一定值。
控制訊號或者是動作狀態訊號之與批次、基板、真空處理間的對應關係,或者是與測定值間的關係,係設為能夠從控制訊號之檔案的名稱或者是動作狀態訊號之檔案的名稱而得知者。
接下來,針對本發明中之第1發明的實施例作說明。
圖2之符號100,係展示有被與電腦40作了連接的顯示裝置44之畫面。亦可為經由LAN等之手段而與電腦40作通訊之其他的電腦之顯示裝置的畫面。
在畫面100中,係為了特定出進行圖表化之候補的測
定值、以及與該測定值相對應之控制訊號或者是動作狀態訊號,而設置有測定值特定欄110、和訊號特定欄120,並以能夠對應於測定值之變化和控制訊號或者是動作狀態訊號之變化而作視認的方式,而被區分為將測定值之圖表線作顯示的圖表顯示區域130、和將控制訊號或者是動作狀態訊號作顯示的時序表顯示區域140。
經由訊號特定欄120,係成為能夠特定出控制訊號,在時序表顯示區域140中,係以能夠對於動作訊號與停止訊號作區別並且得知動作開始時刻與停止時刻之位置的方式,而被顯示有控制訊號。
測定值,例如係使1枚基板之由一個的感測器所致的以等時間間隔而連續的複數之測定值,被附加有1個檔案名稱地而被作記憶,並成為能夠藉由測定值之檔案名稱151,來特定出批次和真空處理之種類以及測定值之種類(例如電流值、電壓、壓力等)。在測定值特定欄110中,係被設置有名稱顯示列111,該名稱顯示列111,係將被作為圖表之顯示的候補之各測定值的檔案名稱151(名稱1~6)以縱一列來作顯示。
又,在測定值特定欄110中,係被設置有顯示指示列114,該顯示指示列114,係用以對於作為圖表顯示之候補的測定值中之實際進行圖表顯示的測定值作指示。
在畫面100上作為圖表之一部分而作顯示的X-Y座標,係具備有左側與右側之2根的Y軸,並成為能夠使測定值與左側之Y軸的刻度或者是右側之Y軸的刻度中
之其中一者相對應。為了成為與其中一者之Y軸相對應,在測定值特定欄110中,係被設置有用以對於Y軸作選擇之Y軸指示列115,又,在測定值特定欄110中,係被設置有對於後述之主測量線的顯示作指示之主測量指示列113。
若是對於在顯示指示列114中而被作了縱一列之顯示的核選格(checkbox)154作了核選,則被附加有核選之測定值,係在圖表顯示區域130中成為曲線並被作顯示,並藉由曲線與X軸、Y軸來顯示圖表。
此時,藉由對於在Y軸指示列115處而分別被作了縱一列之顯示的左側之Y軸的核選格156和右側之Y軸的核選格155之其中一者作核選,而對於是使左邊或者是右邊之Y軸與測定值相對應一事作選擇。藉由對於在主測量指示列113處而被作了縱一列的配置之核選格153處附加1根用的記號或者是2根用的記號,而顯示所期望之主測量線。
又,在測定值特定欄110處,係被設置有用以對於圖表線之顏色作指示的顏色指示列112,藉由對於在顏色指示列112中而被作縱一列之顯示的顏色樣本152之顏色作變更,能夠對於所顯示之圖表線的顏色作變更。
各列111~114之核選格等的顯示內容,係以能夠容易地看出顯示內容與測定值之檔案名稱151間之對應關係的方式,而將顯示內容與檔案名稱151顯示在同一高度處。
關於訊號特定欄120,除了Y軸指示列115以外,係被設為與測定值特定欄110相同,而被設置有名稱顯示列121、和顏色指示列122、和測量指示列123、以及顯示指示列124。
藉由測量指示列123所指示了的主測量線與控制訊號之時序表(折線)間的交點處之控制訊號,當控制訊號係代表所指示之處理機器31~38的動作為動作中的情況時,係在畫面100上顯示代表HIGH的值,而當為停止中的情況時,則係顯示代表LOW的數值。
亦可並非為代表HIGH、LOW之數值,而是對於動作與停止作區別之圖形等的其他之顯示。
圖中,符號161係代表能夠特定出批次或者是真空處理之控制訊號的名稱(名稱11~16),符號162係代表顏色樣本,符號163、164係代表核選格。
使用測定值特定欄110與訊號特定欄120之核選格153~156、163、164,而將核選作記載,並從顯示候補之測定值中而選擇出實際作圖表化並作顯示的測定值。
在記憶裝置42中,係將由多量之測定值所成的一連串之測定值作為1個檔案來作記憶,在該些中之所期望的檔案係被作選擇,並如圖3中所示一般,在圖表顯示區域130處,係被顯示有由根據所選擇之檔案中的測定值而產生了的曲線所成之第1次圖表線132。此第1次圖表線132,係與X-Y座標131一同地被作顯示,而被進行圖表顯示。
在時序表顯示區域140處,係根據與所顯示了的測定值相對應之控制訊號,來將動作訊號與停止訊號作為藉由高度相異之橫線所構成的時序表142而作顯示,並與時間軸141一同地被作顯示。動作訊號之橫線,係被顯示在較停止訊號之橫線而更高出一定高度的位置處。時間軸141,係在畫面100上而位置於X-Y座標131的X軸之正下方,並與X軸相平行。
在此第1發明中、以及後述之第2、第3發明中,均同樣的,可以設為並非為顯示控制訊號,而是將動作狀態訊號設成在動作中與停止中而高度為相異之橫線並製作出折線,而在畫面100上作為時序表來作顯示。
針對第1~第3發明之時刻作說明。
所謂與測定值相對應之測定時刻、和控制訊號之動作開始時刻與動作停止時刻,係為將一天作為24小時並將凌晨12點作為起點的時刻,且為更進而包含有西曆年以及月、日的時刻。故而,就算是在24小時中為相同數值之時刻,只要西曆年、月或者是日的其中一者為相異,則係被判斷為相異之時刻。
針對基板為相異之同樣的真空處理,係分別被設定有成為相異之時刻的基準時刻,在本例與後述之各例中,均係將與被作為顯示候補之測定值相對應的測定時刻,變換為身為「從設定了的基準時刻起而經過了的時間」之X軸上換算時刻。藉由此變換,就算是在相異之檔案中所包含之相異測定時刻的測定值,只要是從互為相異之基準時
刻起而經過了的時間為相同之值的測定值,便會成為具備有相同之X軸上換算時刻的測定值。
進行圖表顯示之測定值的測定時刻,係被換算為X軸上換算時刻,並與測定值附加有對應地而記憶在記憶體或者是記憶裝置43中。
在基準時刻處,係可使用在對於進行了被測定出作圖表顯示之測定值的真空處理之處理機器群24或者是處理機器群23而進行控制的控制訊號中所包含之動作開始時刻或者是動作停止時刻等。
於此,在基準時刻處,係採用在進行了作圖表顯示之測定值的真空處理之控制訊號中所包含的最初之動作開始時刻,在畫面100上,係以將預先所設定了的個數之組的動作訊號與停止訊號作顯示的方式,而對於第1次圖表線132與時序表142所被作顯示之時間範圍作決定。
於此情況,X軸之每單位長度的時間,係從鍵盤而作輸入,或者是從讀入之測定值的時間等而預先作算出,測定值之X座標,係藉由基準時刻之X軸上的位置和X軸之每單位長度的時間,來根據與測定值相對應了的X軸上換算時刻而求取出各測定點的X軸上之位置。
於此,係將X軸與被作了選擇的左側Y軸之交點,設為X-Y座標之原點,基準時刻之位置,係位置在較原點而更右側之X軸上的特定位置處。
相同之處理機器31~38,係以一定之相同時間間隔而被作測定,故而,測定時刻間之間隔,係成為一定之時
間。此測定時間之間隔,係設為:只要是相同之處理機器31~38的測定值,則就算是真空處理為相異,亦會成為相同的時間。
故而,若是將能夠成為複數之檔案的測定值之測定時刻的時刻,作為各檔案之基準時刻並算出X軸上換算時刻而將測定值作顯示,則係成為相對於1個的X軸上換算時刻而對應有複數之測定值。
在左右之Y軸中的經由Y軸指示列115所指定了的Y軸上之每單位長度的值、和Y軸上之特定位置的基準點之值,係經由輸入裝置46而被作輸入,或者是根據測定值之大小來作計算並求取出適當的值,並作為基準點之值來作設定。於此,係將X軸和被選擇了的Y軸間之交點設為基準點,但是,係並不被限定於此。
故而,藉由Y軸之基準點的測定值之值、和Y軸上之每單位長度的測定值之大小,係能夠根據各測定值之大小來將身為被選擇了的Y軸上之各測定值的位置之Y座標求取出來。
如此這般,所顯示之測定值的X座標與Y座標係被求取出來,並藉由將以X-Y座標而作了顯示的測定值之位置經由曲線或者是線來作連結並顯示為一根的線(曲線或者是折線),而進行圖表化。亦可藉由最小平方法等之產生曲線的方法來求取出並不通過測定值之X-Y座標的曲線,而進行圖表化。
圖3,係為將顯示指示列114內之對於核選格154而
作了核選的檔案之測定值,作為第1圖表線132來作顯示。
接下來,針對時序表顯示區域140之顯示作說明。
動作開始時刻與動作停止時刻,係以與測定值同樣的基準時刻作為基準,而被換算為身為從基準時刻起所經過了的時間軸141上的時間之時間軸上換算時刻。
時間軸141之原點,係為X-Y座標131之左側的Y軸之延長線與時間軸141所相交叉之點,時間軸141上之基準時刻的位置,係被設為通過X軸上之基準時刻並相對於X軸而相垂直的線之與時間軸141相交叉的點。時間軸之每單位長度的時間,係預先被作了決定,故而,動作開始時刻與動作停止時刻,係成為與該些之時間軸上換算時刻之值相對應了的時間軸141上之位置。
在本例中,時間軸之每單位長度的時間,係被設為與X軸之每單位長度的時間相同,故而,與X軸和時間軸141相垂直並交叉的直線,係成為通過相同之值的X軸上換算時刻與時間軸上換算時刻。
被包含在控制訊號中之動作訊號與停止訊號,係藉由與時間軸141平行且高度為相異之橫線而作顯示,在將動作開始時刻作了換算的時間軸上時刻處,經由將一個的停止訊號之終點與下一個的動作訊號之起點之間、和一個的動作訊號之終點以及下一個的停止訊號之起點之間,以垂直之縱線而作連結所形成了的時序表142,來顯示控制訊號。
縱線,係位置在將動作開始時刻或者是動作停止時刻作了換算的時間軸上之時刻處。在將動作狀態訊號作顯示的情況時,係為在將動作變更時刻換算為時間軸上之時刻後的位置處而被顯示有縱線之位置。
於本例中,如圖3中所示一般,在圖表顯示區域130與時序表顯示區域140處,係分別被顯示有1根的第1次圖表線132、和與該第1次圖表線132之測定值相對應了的控制訊號之時序表142。
在相對應於各測定值之控制訊號中,係包含有複數之動作開始時刻,在該些之開始時刻中,各檔案中之特定的處理裝置之最初的開始時刻,係被設為基準時刻。
在控制訊號之時序表142中,亦係包含有複數之停止時刻,由於動作訊號之橫線與停止訊號之橫線的高度係為相異,因此,對應於各開始時刻與各停止時刻,在第1次圖表線132中係可見到有凹凸。
為了對於第1次圖表線132中之此些的凹凸之一部分作選擇並作擴大而與其他之測定值作比較,而將第1次圖表線132之一部分特定出來,並將構成該部分之測定值抽出。若是將重要的部分抽出,則係能夠經由對於所抽出了的部分之比較來明顯獲知真空處理之相異處。
開始進行從第1次圖表線132之測定值的抽出之抽出起點、和使抽出結束之抽出終點,係可藉由使滑鼠游標移動至被顯示在畫面上的第1次圖表線132上之所期望的位置處並作點擊,來進行指定。又,亦可設為:藉由以輸入
裝置46來將X軸上換算時刻或者是時間軸上換算時刻作輸入,而將所輸入了的X軸上換算時刻或者是時間軸上換算時刻逆推算成測定時刻,並設為抽出起點時刻與抽出終點時刻。
又,亦可藉由使滑鼠指標移動至X軸上的任意之點處並作點擊,來進行指定。
於此,係成為:在與控制訊號相對應地而被作記憶的複數之開始時刻與停止時刻中,當以時刻順序來作了並排時,將身為較基準時刻而更後面的開始時刻且為從基準時刻起之第所期望之個數的開始時刻,作為抽出起點時刻,並將從抽出起點起所經過的時間經由輸入裝置46來作輸入,而對於抽出終點時刻作指定。
在時序表142中,係將從LOW而轉變為HIGH之位置的縱棒,稱作上揚,並將從HIGH而轉變為LOW之縱棒,稱作下挫,在圖3中,代表控制訊號中之開始時刻的縱棒,係標示為上揚148,代表停止時刻之縱棒,係標示為下挫149。
為了從第1次圖表線132而將身為第1次圖表線132之一部分的凸狀部分133抽出,係將第5個的上揚148指定為抽出起點,並將身為抽出起點之測定時刻的抽出起點時刻以後之測定點抽出。
在本例中,係經由輸入裝置46而將經過時間輸入至電腦40中,並將從抽出起點時刻而經過了所輸入之經過時間的時刻,作為抽出終點時刻,且將與在抽出起點時刻
與抽出終點時刻之間的範圍中所包含的測定時刻相對應之測定值抽出。
為了將經由所抽出的測定值而形成之圖表線作更大的顯示,係將在抽出中所使用了的抽出起點時刻設為基準時刻,並將基準時刻配置在X軸之特定位置處,再根據測定時間,來對於身為從基準時刻起的經過時間之X軸上換算時刻作再計算。
X軸之每單位長度的時間,亦係被作再設定,經由與所抽出了的測定值相對應之再計算所求取出的X軸上換算時刻,而將身為所抽出了的測定值之X軸上的位置之X座標求取出來。
若是藉由自動性之計算、或者是使用有輸入裝置46所進行之輸入,而使得Y軸上之每單位長度的測定值之大小亦被作再設定,且亦使得Y軸與X軸相交叉之交點位置的測定值被作再設定,則所抽出了的測定值之X軸、Y軸上的位置係被作再計算。
若是相較於將第1次圖表線132顯示在畫面100上時,而將Y軸上之每單位長度的測定值之大小縮小,並將X軸上之每單位長度的時間之長度縮短,則如圖4中所示一般,將測定值作連結而在畫面100上作了顯示的第2次圖表線134,係較第1次圖表線132而更被擴大,其結果,由第2次圖表線134與X軸Y軸所成之圖表顯示亦係被擴大。
時間軸141之基準時刻,亦係被設為抽出起點時刻,
時間軸141之每單位長度的時間,係被變更為與當將第2次圖表線134顯示在畫面100上時的X軸之每單位長度的時間相同之值。藉由此,位置在抽出起點時刻與抽出終點時刻之間的開始時刻與停止時刻之時間軸上時刻,係被作再計算,並求取出開始時刻與停止時刻之時間軸上的位置,而顯示一部份被作了擴大之由折線所成的時序表144。第2次圖表線134與時序表144之間的相對性之位置關係,係與第1次圖表線132與時序表142之間的相對性之位置關係相同。
當對於相異之真空處理的每一者而抽出測定值之一部分,並在真空處理間而對於所抽出了的測定值作比較的情況時,係在複數之真空處理的每一者處而讀入多量之測定值,在各真空處理間係以相同之基準而設定抽出起點時刻與抽出終點時刻,在複數之真空處理的每一者之測定值中,將測定時刻為位置在抽出起點時刻與抽出終點時刻之間的部分抽出,而如圖5中所示一般,在相同之X-Y座標131上,係被顯示有複數(於此係為2個)的第2次圖表線134a、134b。
於圖5中,在時間軸141上,係顯示有:經由與所抽出了的測定值相對應之部分的控制訊號而產生之由折線所成的複數之時序表144a、144b。
於此,被作了顯示的時序表144a、144b,係與被顯示了的第2次圖表線134a、134b相對應,複數之時序表144a、144b的控制訊號中,在1個的控制訊號處,係將
身為從停止訊號而變化為動作訊號的控制訊號之上揚之開始時刻作為基準時刻,並將測定值抽出,但是,在其他之控制訊號處,被包含於控制訊號中之雜訊147的上揚,係被設為基準時刻,並抽出了測定值。故而,與該些之控制訊號相對應的第2次圖表線134a、134b,係並未在畫面100上相重合。
在此資料分析程式中,於圖表顯示區域130處,係能夠顯示與X軸相垂直(與Y軸平行)之複數(在本例中係為2根)的主測量線,又,在時序表顯示區域140處,亦能夠顯示與時間軸141相垂直之複數(在本例中係為2根)的輔助測量線。
當分別使主測量線與輔助測量線作了顯示的情況時,係在測量線指示列113、123之核選格153、163處附加記號。
在本例中,主測量線與輔助測量線,係被構成為能夠作各1根或者是各2根的顯示,在本例中,係如圖6中所示一般,以分別通過第2次圖表線134a、134b之峰值位置的方式,而被顯示有第1、第2主測量線101、102。
又,在本例中,於時序表顯示區域140處,係成為在與第1、第2主測量線101、102所位置之X軸上換算時刻同時刻之時間軸上,與時間軸相垂直地而分別被顯示有第1、第2輔助測量線103、104。
第1、第2主測量線101、102與第1、第2輔助測量線103、104,係均能夠藉由將時刻或者是移動時間作輸
入、亦或是以滑鼠或者是游標來作移動,而進行移動。
當使第1、第2主測量線101、102作了移動的情況時,移動目標之X軸上換算時刻,係有必要身為能夠與測定值相對應之時刻。當為了進行移動所輸入之X軸上換算時刻或者是藉由滑鼠所作了指示的移動目標之X軸上換算時刻,係並非為能夠與被作圖表顯示之測定值中的時刻相對應之時刻的情況時,在被作圖表顯示之測定值中,與被設為移動目標之X軸上換算時刻最為接近並且具有被附加了對應之測定值的X軸上換算時刻,係成為移動目標,而,若是第1、第2主測量線101、102被移動至該時刻處,則第1、第2主測量線101、102係成為通過測定值。
第1、第2輔助測量線103、104,係分別被移動至身為與第1、第2主測量線101、102所被作了移動的X軸上換算時刻相同之時刻的時間軸上換算時刻處。
亦可並非使第1、第2主測量線101、102作移動並讓第1、第2輔助測量線103、104作追隨,而相反的先使第1、第2輔助測量線103、104作移動,再使第1、第2主測量線101、102分別移動至與被作了移動的第1、第2輔助測量線103、104之時間軸上換算時刻同時刻之X軸上換算時刻處。
在經由第1、第2輔助測量線103、104之移動而使第1、第2主測量線101、102作移動時,當在第1、第2主測量線101、102之移動目標的X軸上換算時刻處係對
應有測定值的情況時,第1、第2主測量線101、102係被移動至該X軸上換算時刻處,而第1、第2輔助測量線103、104則係被移動至該X軸上換算時刻同時刻之時間軸上換算時刻處。
在經由第1、第2輔助測量線103、104之移動而使第1、第2主測量線101、102作移動時,當第1、第2主測量線101、102之移動目標的X軸上換算時刻係並非為測定值所能夠位置之時刻的情況時,在被作圖表顯示的測定值中之時刻的與被設為移動目標之X軸上換算時刻最為接近且被與測定值附加有對應的X軸上換算時刻,係被設為移動目標,而第1、第2主測量線101、102與第1、第2輔助測量線103、104係分別被移動至該X軸上換算時刻處以及與該X軸上換算時刻同時刻之時間軸上換算時刻處。
若是將第1、第2主測量線101、102所位置之X軸上換算時刻設為第1、第2時刻,並將正被作顯示的第2次圖表線之測定值中之與第1、第2時刻附加有對應的測定值稱為第1、第2測定值,則第1、第2時刻,係以能夠得知其之位置的方式,而在畫面100處顯示有代表時刻之數值和身為第1、第2時刻間之差的時間差。
又,第1、第2測定值,係與對於第1、第2主測量線101、102和第2次圖表線134a、134b間之交點作區別的記號P1~P4一同地而被顯示在畫面100上,且亦顯示有相異之第2次圖表線134a、134b間的第1測定值彼此
間之差和第2測定值彼此間之差,進而,亦在畫面100上而顯示有在相同之第2次圖表線134a、134b之測定值中的第1測定值與第2測定值間之差。當第1測定值存在有3個以上的情況時,係能夠將相鄰接之第1測定值彼此間的差作顯示。關於第2測定值,亦同樣的,當存在有3個以上的情況時,係能夠將相鄰接之第2測定值彼此間的差作顯示。
接著,若是針對第2次圖表線134a、134b之移動作說明,則在本發明之第1發明中,係構成為能夠將被作了顯示的複數之第2次圖表線134a、134b中之一以上的所期望之個數的第2次圖表線134a、134b作選擇並作移動,而能夠對於所期望之第2次圖表線134a、134b,經由從滑鼠或者是鍵盤而來之輸入等而在畫面100上藉由進行點擊等而作選擇,並且經由將移動時間從輸入裝置46來作輸入或者是進行移動目標之X軸上換算時刻的輸入、由滑鼠之游標等所進行之指示等的手段,來使選擇了的第2次圖表線134a、134b與X軸相平行地作移動。
如同上述一般,測定值之測定時間,係為等間隔,因此,與測定值相對應之X軸上換算時刻,亦係成為等間隔。在與1個的第2次圖表線134a或者是134b中之1個的測定值相對應了的X軸上換算時刻處,係亦對應有其他之第2次圖表線134a或者是134b中之測定值,第2次圖表線134a、134b之移動量,係將相鄰接之X軸上換算時刻間的時間作為單位時間,並被設為單位時間之整數倍
。
作為第2次圖表線134a、134b之移動量而被作了指定的移動時間、或者是從被指定為移動目標之X軸上換算時刻所求取出之移動時間,係經由四捨五入、無條件進位、無條件捨去等而被變換為單位時間之整數倍的移動時間,各測定點之X軸上換算時刻,係根據被變換後的移動時間而被作變更,該測定值之第2次圖表線134a、134b,亦係根據移動後之X軸上換算時刻而被作改寫。
此時,與所選擇了的第2次圖表線134a、134b相關連之控制訊號,例如進行了所選擇了的第2次圖表線134a、134b之真空處理的控制訊號,係與將開始時刻和停止時刻之時間軸上變換時刻變更為X軸上換算時刻的移動時間作了相同時間之變更,而時序表114a、114b亦係與時間軸141平行地作了和第2次圖表線134a、134b之移動時間相同時間、相同方向的移動。
亦可對於被顯示在時序表顯示區域140中之時序表144a、144b之所期望者作選擇,並經由像是由輸入裝置46處之輸入所進行的移動、由移動目標之X軸上換算時刻之指定所進行的移動、由滑鼠之指標的移動所進行的移動、由游標之移動所進行的移動等的與第2次圖表線134a、134b之移動時相同的移動手段,來使其作移動,並使與被作了移動之控制訊號相關連的測定值之第2次圖表線134a、134b(例如由選擇了的時序表144a、144b之控制訊號所作了控制的真空處理中之被測定了的測定值之
第2次圖表線134a、134b)一起作移動。
於此情況,亦同樣的,若是將相鄰接之測定值的X軸上換算時刻間之時間作為單位時間,則移動量係成為單位時間之整數倍,被作了輸入的時間或者是移動目標之時間軸上換算時刻,係與上述相同的,經由四捨五入、無條件進位、無條件捨去等來變換為成為單位時間之整數倍的移動時間,被作了移動之控制訊號的時間軸上變換時刻或者是被作了移動之測定值的X軸上換算時刻,係根據被變換後之移動時間而作計算並被作顯示。
在圖6中,第1、第2主測量線101、102係分別被配置在第2次圖表線134a、134b之峰值位置處。
故而,並未相重合之2個的第2次圖表線134a、134b之峰值間的時間差,係作為第1、第2主測量線101、102間之時間差而被顯示在畫面100上,若是使被作了移動後的畫面100上所顯示之時間差成為0,則由於峰值係成為被配置在相同之X軸上換算時刻處,因此,係可對於其中一方之第2次圖表線134a或者是134b作選擇,並以使其相重合的方式來將被附加有符號而顯示了的時間差作輸入。
又,若是將第1、第2輔助測量線103、104配置在時間軸141上之開始時刻的位置處,並將時序表144a、144b之開始時刻的時間差顯示在畫面100上,則係可使第2次圖表線134a或者是134b作移動並使開始時刻位置在相同之時間軸上換算時刻處。
圖7,係為作移動並使第2次圖表線134a、134b作了重合的狀態之畫面100。
與被作了移動的第2次圖表線134a或者是1347b之測定值相對應的X軸上換算時刻,係被作所移動了的時間之量的修正。
在第1或第2主測量線101、102或者是第2次圖表線134a、134b作了移動後,在畫面100處,係被顯示有移動後之第1、第2時刻、或第1、第2測定值、以及該些之差。
另外,第1、第2測定值,係成為測定時刻為相等於修正後之X軸上換算時刻的測定值。故而,被作了指定的第1次圖表線132之第1測定值的差,係成為並未作移動的第1次圖表線132之第1測定值和移動後的第1次圖表線132之第1測定值間的差。
另外,當在畫面100上被顯示有複數之第1次圖表線的情況時,若是對於該些之第1圖表線中之一個的第1次圖表線作選擇,並將被包含在該一個的第1次圖表線中之一個的測定時刻,設為一個的第1次圖表線之抽出起點時刻,則該抽出起點時刻的X軸上換算時刻,與在其他之第1次圖表線中所包含的測定時刻之X軸上換算時刻,係在每一個其他之第1次圖表線中而各有一個會成為相等。故而,在其他之第1次圖表線中,係只要將與一個的第1次圖表線之抽出起點時刻的X軸上換算時刻相對應了的測定值之測定時刻,設為抽出起點時刻即可。
本發明,係除了在上述第1發明中所說明了的內容以外,亦具備有下述所說明之第2發明的內容。
若是對於第2發明作說明,則圖8之符號200,係展示有被與電腦40作了連接的顯示裝置44之畫面。亦可為經由LAN等之手段而與電腦40作通訊之其他的電腦之顯示裝置的畫面。
在此畫面200中,係進行有由第2發明之動作所進行的顯示,並與上述第1發明之畫面100相同的,係為了將進行圖表顯示之測定值和與該測定值相對應之控制訊號特定出來,而被設置有測定值特定欄210、和訊號特定欄220。
又,在畫面200中,係以能夠對應於測定值之變化與控制訊號之變化地來作視認的方式,而被區分為將測定值之圖表線作顯示的圖表顯示區域230、和將控制訊號作顯示之時序表顯示區域240。在時序表顯示區域240中,係以能夠對於動作訊號與停止訊號作區別並且得知開始時刻與停止時刻之位置的方式,而被顯示有控制訊號。
測定值,係與第1發明相同的,將基板15一枚之測定值附加上檔案名稱251地而記憶在記憶裝置43中。
測定值之種類(例如電流值、電壓、壓力等),批次,真空處理之種類,係可根據檔案名稱而特定出來。在測定值特定欄210中,係被設置有名稱顯示列211,該名稱顯示列211,係將進行了讀入之各測定值的檔案名稱251
(名稱1~6)以縱一列來作顯示。
又,在測定值特定欄210中,係被設置有顯示指示列214,該顯示指示列214,係用以對於進行了讀入的測定值中之實際進行圖表顯示的測定值作指示。
與上述之畫面100相同的,所顯示之X-Y座標,係具備有左側與右側之2根的Y軸,並能夠使測定值與左右之Y軸的刻度或者是右側之Y軸的刻度之其中一者作對應地來將圖表作顯示,在測定值特定欄210中,係被設置有用以對於Y軸作選擇之Y軸指示列215,又,亦被設置有用以對於主測量線之顯示作指示的測量指示列213。
若是對於在顯示指示列214處而被作了縱一列之顯示的核選格254作核選,則被附加有核選之測定值,係在圖表顯示區域230處作為曲線而被作顯示,又,藉由對於在Y軸指示列215處而分別被作縱一列之顯示的左右之Y軸的核選格256和右側之Y軸的核選格255之其中一方附加核選,係對於測定值所對應之Y軸是左側或者是右側一事作選擇。藉由對於在測量指示列213處而被作了縱一列的配置之核選格253處附加1根用的記號或者是2根用的記號,而能夠顯示1根或者是2根的主測量線。
又,在測定值特定欄210處,係被設置有用以對於圖表線之顏色作指示的顏色指示列212,藉由對於在顏色指示列212中而被作縱一列之顯示的顏色樣本252之顏色作變更,能夠對於所顯示之圖表線的顏色作變更。
各列211~214之核選格等的顯示內容,係以能夠容
易地看出顯示內容與測定值之檔案名稱251間之對應關係的方式,而將顯示內容與檔案名稱251顯示在同一高度處。
關於訊號特定欄220,除了Y軸指示列215以外,係被設為與測定值特定欄210相同,而被設置有名稱顯示列221、和顏色指示列222、和測量指示列223、以及顯示指示列224。
藉由測量線指示列223所作了指示的主測量線和控制訊號之時序表(折線)間的交點,係將該交點所位置之部分的控制訊號係為動作訊號或者是停止訊號一事的訊號狀態,藉由代表HIGH之數值或代表LOW之數值來在畫面200上作顯示。亦可代替代表HIGH之數值與代表LOW之數值,而藉由記號或者是圖形等之其他的方法來標示訊號狀態。
圖中,符號261係代表能夠特定出批次或者是真空處理之控制訊號的名稱(「名稱11」~「名稱16」),符號262係代表顏色樣本,符號263、264係代表核選格。
若是使用測定值特定欄210與訊號特定欄220之核選格253~256、263、264,而將核選作記載並對於進行顯示之測定值作選擇,則如同圖9中所示一般,在圖表顯示區域230處,係被顯示有根據所選擇了的測定值而製作出之複數的圖表線232。此圖表線232,係在每一真空處理中作為互為相異之曲線而被顯示在X-Y座標231上。
在時序表顯示區域240處,係與時間軸141一同地而
被顯示有根據控制訊號所製作出之由折線所成的時序表234。時間軸241,係在畫面200上而位置於X-Y座標231的X軸之正下方,並與X軸相平行。
在本例中,亦同樣的,進行圖表顯示之測定值,係假設為屬於相異之批次的基板者,並將在對於得到了測定值之真空處理作了控制的控制訊號中所包含之最初的從動作停止而被變更為動作中之變更時刻,設定為基準時刻。
針對X軸之每單位長度的時間、Y軸之每單位長度的測定值之大小、各測定值之X軸上換算時刻、X-Y座標之原點、基準時刻之位置、時間軸上換算時刻等的X-Y座標或者是曲線、開始時刻、停止時刻、時序表之顯示方法,在本第2發明與後述之第3發明中,亦係如同前面所說明一般,可求取出各測定值之X座標與Y座標,並將一個基板之測定值藉由最小平方法等來作為1根的圖表線而作顯示,或者是將測定值之座標值的各點藉由線來作連接並作為圖表線而作顯示。
又,在本第2發明與後述之第3發明中,亦與第1發明相同的,測定值,係為代表處理機器31~38或者是感測裝置所輸出了的測定結果之值。
如圖9中所示一般,若是經由對於顯示指示列214之核選格254作核選而對於進行顯示之檔案名稱作指示,則被作了指示的檔案名稱之測定值係作為圖表線232而被作顯示。於此,圖表線232係為5根。
如圖9中所示一般,在圖表顯示區域230與時序表顯
示區域240中,係分別被顯示有複數之圖表線232與複數之時序表234,在相對於各測定值之控制訊號中的最初之開始時刻被設為了基準時刻的圖表線232中,係可見到圖表線232之峰值位置為位在左方的山峰形形狀之圖表線232a、和峰值位置為位在右方的山峰形形狀之圖表線232b。
在本發明之資料分析程式中,於圖表顯示區域230處,係能夠顯示與X軸相垂直之複數(在本例中係為2根)的主測量線,又,在時序表顯示區域240處,亦能夠顯示與時間軸241相垂直之複數(在本例中係為2根)的輔助測量線。
當分別使主測量線與輔助測量線作了顯示的情況時,係在測量線指示列213、223之核選格253、263處附加記號。
於本例中,電腦40,係構成為將主測量線與輔助測量線作各2根的顯示,在圖10中,係以使第1主測量線201通過左方之山峰形形狀的圖表線232a之峰值,並使第2主測量線202通過右方之山峰形形狀的圖表線232b之峰值的方式,而作了配置。
主測量線與輔助測量線,係能夠藉由將X軸上換算時刻或者是時間軸上換算時刻作輸入,來移動至所輸入了的X軸上換算時刻或者是時間軸上換算時刻,或者是藉由滑鼠等而作點擊,來進行與滑鼠之移動量相對應了的距離之移動。
第1主測量線201所位置之X軸上換算時刻,和第1輔助測量線203所位置之時間軸上換算時刻,係被設為成為相等,又,第2主測量線202所位置之X軸上換算時刻,和第2輔助測量線204所位置之時間軸上換算時刻,亦係被設為成為相等。
當使第1、第2主測量線201、202作移動的情況時,當在測量指示列213處而被附加有記號並作了選擇的測定值中,並不存在有與為了進行移動而作了輸入的X軸上換算時刻或者是由滑鼠之移動所指示的移動目標之X軸上換算時刻相對應之測定值的情況時,係將第1、第2主測量線201、202,移動至與在藉由記號而作了選擇的測定值中而最為接近所輸入了的X軸上換算時刻之與測定值相附加有對應的X軸上換算時刻處。
第1、第2輔助測量線203、204,係分別被移動至身為與第1、第2主測量線201、202所被作了移動的X軸上換算時刻相同之時刻的時間軸上換算時刻處。
相反的,若是使第1、第2輔助測量線203、204作移動,則第1主測量線201係被移動至與被作了移動的第1、第2輔助測量線203、204之時間軸上換算時刻相同時刻的X軸上換算時刻處。
此時,當在第1、第2主測量線201、202之移動目標的X軸上換算時刻處係對應有測定值的情況時,第1、第2主測量線201、202係被移動至該X軸上換算時刻處,而第1、第2輔助測量線203、204則係被移動至與該
X軸上換算時刻同時刻之時間軸上換算時刻處。
另一方面,當在移動目標之X軸上換算時刻處係並未對應有測定值的情況時,係對於在測量指示列213之藉由記號而作了選擇的測定值中之最為接近移動目標的X軸上換算時刻之與測定值相附加有對應的X軸上換算時刻作選擇,並將第1、第2主測量線201、202和第1、第2輔助測量線203、204分別移動至該X軸上換算時刻和與其同時刻之時間軸上換算時刻處。
又,若是在測量指示列213之被附加有記號並作了選擇的測定值中,將第1、第2主測量線201、202所位置之X軸上換算時刻設為第1、第2時刻,並將與第1、第2時刻相對應之測定值稱為第1、第2測定值,則係將第1、第2時刻以能夠得知其之位置的方式來作標示,並且與第1、第2時刻間之時間一同地作為圖10之「計算值1」來顯示在畫面200上,第1、第2測定值,係與用以對於第1、第2主測量線201、202和圖表線232間之交點作區別的記號「P1」~「P4」一同地而被顯示在畫面200上。
本發明,係對於被作了顯示的複數之圖表線232中的一以上之所期望個數的圖表線232作選擇,並將所選擇了的一個以上之圖表線232作為一個選擇群,而構成為能夠將在一個選擇群中所包含之圖表線232一起作移動,並成為能夠藉由:將作選擇並使其移動之X軸上的距離作為時間來以鍵盤作輸入,或者是將欲使圖表線232中之被指
定了的測定點作配置的X軸上換算時刻作輸入,或者是藉由滑鼠來選擇所期望之個數並使其與滑鼠之指標一同作移動,亦或是在選擇了特定個數之後,使其與鍵盤之特定鍵的按壓時間相對應地而作移動等之移動方法,來使所選擇了的所期望之個數的圖表線232與X軸相平行地移動。
若是將所選擇了的二個以上之圖表線作為第1選擇群,並將其他之所選擇了的二個以上之圖表線作為第2選擇群,則第1測定值,係為與在和主測量線作了交叉的第1選擇群中之各圖表線的最為接近所交叉之點之X軸上的換算時刻之X軸上換算時刻相對應的測定值,而第2測定值,係為與在和主測量線作了交叉的第2選擇群中之各圖表線的最為接近所交叉之點之X軸上的換算時刻之X軸上換算時刻相對應的測定值,根據此,來在每一圖表線中而設定第1、第2測定值。
第1、第2測定值,係亦可經由輸入裝置46來作輸入。
另外,如同上述一般,測定值之測定時間,係為等間隔,因此,與測定值相對應之X軸上換算時刻,亦係成為等間隔。與1個的圖表線232中之1個的測定值相對應了的X軸上換算時刻處,係亦對應有其他之圖表線232中之測定值,圖表線232之移動量,係將相鄰接之X軸上換算時刻間的時間作為單位時間,並被設為單位時間之整數倍。
故而,作為圖表線232之移動量而被作了指定的移動時間、或者是從被指定為移動目標之X軸上換算時刻所求取出之移動時間,係經由四捨五入、無條件近位、無條件捨去等而被變換為單位時間之整數倍的移動時間,各測定點之X軸上換算時刻,係根據被變換後的移動時間而被作變更,該測定值之圖表線232,亦係根據移動後之X軸上換算時刻而被作改寫。
此時,與所選擇了的圖表線232相關連之控制訊號,例如進行了所選擇了的圖表線232之真空處理的控制訊號,係與將開始時刻和停止時刻之時間軸上變換時刻變更為X軸上換算時刻的移動時間作了相同時間之變更,而時序表241亦係與時間軸241平行地作了和圖表線232之移動時間相同時間、相同方向的移動。
亦可對於被顯示在時序表顯示區域240中之時序表241中的所期望者作選擇,並經由像是以鍵盤所進行之輸入所進行的移動、由移動目標之X軸上換算時刻之指定所進行的移動、與滑鼠之指標的移動所一同進行的移動、由游標之移動所進行的移動等的與圖表線232之移動時相同的移動手段,來使其作移動,並使與被作了移動之控制訊號相關連的測定值之圖表線232(例如由選擇了的時序表234之控制訊號所作了控制的真空處理中之被測定了的測定值之圖表線232)一起作移動。
於此情況,亦同樣的,若是將相鄰接之測定值的X軸上換算時刻間之時間作為單位時間,則移動量係成為單
位時間之整數倍,被作了輸入的時間或者是移動目標之時間軸上換算時刻,係與上述相同的,經由四捨五入、無條件進位、無條件捨去等來變換為成為單位時間之整數倍的移動時間,被作了移動之控制訊號的時間軸上變換時刻或者是被作了移動之測定值的X軸上換算時刻,係根據被變換後之移動時間而作計算並被作顯示。
第1時刻與第2時刻間之差,係為左方之山峰形形狀的圖表線232a之峰值位置和右方之山峰形形狀的圖表線232b之峰值位置,其兩者間的時間差,若是經由滑鼠等來對於其中一方之山峰形形狀的圖表線232a或者是232b作選擇,並以使其與另外一方之山峰形形狀的圖表線232a或者是232b之間的峰值位置之時間差成為0的方式來作移動,則各圖表線232之峰值位置係如同圖11中所示一般地而相重合,而能夠對於各圖表線232a、232b之形狀或者是高度簡單地作比較。
又,時序表234,係將動作訊號描繪為上,並將停止訊號描繪為下,在時序表顯示區域240中,於時序表234處,可以得知,係存在有將以動作訊號之上揚281的時刻作為了基準時刻的形狀234a、和將被包含於控制訊號中之雜訊的上揚282誤認為動作訊號並以其作為了基準訊號之形狀234b。
各圖表線232,雖係將在與各圖表線232相對應了的控制訊號中所包含之最初的動作訊號之時間軸上換算時刻作為基準時刻,但是,係亦能夠以使被作了誤認的形狀
234b之正確的上揚283移動至基準時刻之位置處的方式,來使時序表234作移動,並使相對應之圖表線232一同作移動而作重合。
由於圖表線232係被移動,而與測定值相對應了的X軸上換算時刻係被作了與移動量相同之量的修正,因此,被顯示在畫面200中之第1、第2測定值,係成為測定時刻為與修正後之X軸上換算時刻相等的測定值。故而,被作了指定的圖表線232之第1測定值的差,係成為並未作移動的圖表線232之第1測定值和移動後的圖表線232之第1測定值間的差。
圖12,係為使各圖表線232之峰值相互一致後的狀態,藉由將第1、第2主測量線201、202移動至一致後之圖表線232上,係能夠使欲作觀察之位置的X軸上換算時刻或者是第1、第2測定值作顯示。
本發明,係除了在上述第1、第2發明中所說明了的內容以外,亦具備有下述所說明之第3發明的內容。
圖13之符號300,係展示有被與電腦40作了連接的顯示裝置44之畫面。亦可為經由LAN等之手段而與電腦40作通訊之其他的電腦之顯示裝置的畫面。
在畫面300中,亦與第1、第2發明之畫面100、200相同的,係為了特定出進行圖表化之測定值、以及與該測定值相對應之控制訊號,而設置有測定值特定欄310、和
訊號特定欄320,並以能夠對應於測定值之變化和控制訊號之變化而作視認的方式,而被區分為將測定值之圖表線作顯示的圖表顯示區域330、和將控制訊號作顯示的時序表顯示區域340。在時序表顯示區域340中,係以能夠對於動作訊號與停止訊號作區別並且得知開始時刻與停止時刻之位置的方式,而被顯示有控制訊號。
測定值之內容,係如同上述一般,在此畫面300中,係於測定值特定欄310處,被設置有名稱顯示列311,於該名稱顯示列中,係成為將以圖表顯示作為對象之測定值的檔案名稱351(名稱1~5)作縱一列的顯示。
又,在測定值特定欄310中,係被設置有顯示指示列314,該顯示指示列314,係用以對於進行圖表顯示之測定值作指示。
與上述之畫面100、200相同的,所顯示之X-Y座標,係具備有左側與右側之2根的Y軸,並能夠使測定值與左側之Y軸的刻度或者是右側之Y軸的刻度之其中一者作對應地來將圖表作顯示,在測定值特定欄310中,係被設置有用以對於Y軸作選擇之Y軸指示列315,又,亦被設置有對於後述之主測量線之顯示作指示的測量線指示列313。
若是對於在顯示指示列314處而被作了縱一列之顯示的核選格354作核選,則被附加有核選之測定值,係在圖表顯示區域330處被作圖表顯示,又,藉由對於在Y軸指示列315處而分別被作縱一列之顯示的左側之Y軸的
核選格356和右側之Y軸的核選格355之其中一方附加核選,係對於測定值所對應之Y軸是左側或者是右側一事作選擇,進而,藉由對於在測量線指示列313處而被作了縱一列的配置之核選格353附加1根用的記號或者是2根用的記號,所期望之主測量線係被作顯示。
又,在測定值特定欄310處,係被設置有用以對於圖表線之顏色作指示的顏色指示列312,藉由對於在顏色指示列312中而被作縱一列之顯示的顏色樣本352之顏色作變更,能夠對於所顯示之圖表線的顏色作變更。
各列311~314之核選格等的顯示內容,係以能夠容易地看出顯示內容與測定值之名稱351間之對應關係的方式,而將顯示內容與檔案名稱351顯示在同一高度處。
關於訊號特定欄320,除了Y軸指示列315以外,係被設為與測定值特定欄310相同,而被設置有名稱顯示列321、和顏色指示列322、和測量指示列323、以及顯示指示列324。
關於藉由測量線指示列323所指示了的主測量線與控制訊號之時序表(折線)間的交點之訊號狀態的顯示,係如同上述一般。
圖中,符號361係代表控制訊號的名稱,符號362係代表顏色樣本,符號363、364係代表核選格。
在第1~第3發明中,係能夠經由在名稱顯示列121、221、321處所顯示之控制訊號的名稱,來特定出控制訊號所被輸出之批次或者是控制訊號所進行了控制的真空
處理。
若是使用測定值特定欄310與訊號特定欄320之核選格353~356、363、364,而將核選作記載並對於作為圖表線而進行顯示之測定值的檔案名稱作選擇,則如同圖14中所示一般,在圖表顯示區域330處,係被顯示有根據所選擇了的檔案名稱之測定值而製作出之圖表線332。此圖表線332,係相對於每一相異之基板的測定值而分別在X-Y座標331上被與X-Y座標331一同作顯示。
在時序表顯示區域340處,係與時間軸341一同地而被顯示有根據控制訊號所製作出之時序表334。與上述之例相同的,時間軸341,係在畫面300上而位置於X-Y座標331的X軸之正下方,並與X軸相平行。
又,在左右之Y軸中,經由Y軸指示列315而被作了指定的Y軸上之每單位時間的值、和X軸與被作了指示的Y軸間之交點(左側Y軸與X軸間之交點,係為X-Y座標331之原點)的值,係被作輸入,或者是根據測定值之大小而求取出來。
於本例中,亦如同圖14中所示一般,經由對於顯示指示列314之核選格354所作的核選而被指示了的測定值,係作為圖表線332而被作顯示,該控制訊號,係作為時序表334而被作顯示。開始時刻與停止時刻,係為與該時間軸上換算時刻之值相對應了的時間軸341上之位置。
在此資料分析程式中,於圖表顯示區域330中,係能夠顯示與X軸相垂直之1根或者是2根以上(在本例中
係為2根)的主測量線(第1、第2主測量線)。又,於時序表顯示區域340中,亦係能夠顯示與時間軸341相垂直之1根或者是2根以上(在本例中係為2根)的輔助測量線(第3、第4主測量線)。
當分別使1根的主測量線與1根的輔助測量線作了顯示的情況時,係在測量線指示列313、323之一個或者是複數個的核選格353、363處附加一根顯示用之記號。
圖15,係對於該狀態作展示,在測定值特定欄310與訊號特定欄320中,係分別在2個的核選格353、363中被附加有1根用的記號。若是被附加有1根用之記號,則係在圖表顯示區域330之預先所被設定了的位置處而顯示有第1主測量線301。此時,在時序表顯示區域340處,係在與第1主測量線301所位置之X軸上換算時刻同時刻的時間軸上換算時刻處,被顯示有第1輔助測量線303。
於此,係成為在從基準時刻之位置而離開了預先所設定了的距離之X軸上換算時刻以及時間軸上換算時刻之位置處,分別被顯示有第1主測量線301和第1輔助測量線303。
在被附加有1根用之記號並被作了選擇的測定值中,當存在有與第1主測量線301所被作顯示之位置的X軸上換算時刻相對應之測定值的情況時,該測定值,係將該測定值係身為交點一事、和在代表交點之「P」處添加數字所成之用以作區別的符號「P1」、「P2」一同地被顯示
在圖表顯示區域330中。
當並不存在有與第1主測量線301所被作顯示之位置的X軸上換算時刻相對應之測定值的情況時,係將第1主測量線301,移動至在藉由1根用之記號所選擇了的測定值中之最為接近第1主測量線301的X軸上換算時刻且與測定值相互附加有對應的X軸上換算時刻處。第1輔助測量線303,亦係被移動至身為與第1主測量線301所被作了移動的X軸上換算時刻同時刻之時間軸上換算時刻處。
而後,與移動後之X軸上換算時刻附加有對應之測定值,係如同上述一般,與用以對於交點作區別之記號「P1」、「P2」一同地而被顯示在圖表顯示區域330中。
此時,當對於複數之核選格353而附加了1根用之記號而對於複數之檔案名稱作了選擇的情況時,若是將被選擇了的檔案名稱之圖表線作為第1選擇群,則在第1選擇群中之圖表線中的測定值之中,與第1主測量線301之X軸上換算時刻相對應的測定值,係在每一圖表線中而互為相異,在相異的圖表線中之與第1主測量線301的X軸上換算時刻相對應之測定值彼此間的差,係被計算出來,並將該些差以及該些差是身為何者之圖表線332的測定值彼此間之差一事,顯示在畫面300中(「計算值1」)。
又,係以能夠得知第1輔助測量線303與時序表334之間的交點是身為動作訊號或者是停止訊號之何者之動作狀態的方式,而將能夠區別出交點是身為動作訊號或者是
停止訊號的值或者是記號,與用以對於交點作區別之記號「P1」、「P2」一同顯示在畫面300中。
第1主測量線301或第1輔助測量線303,以及後述之第2主測量線302或第2輔助測量線304,係可藉由將時刻作輸入亦或是以滑鼠或者是游標來作移動,而進行移動。
當使第1主測量線301作移動的情況時,第1輔助測量線303係被移動至與被作了移動的第1主測量線303之X軸上換算時刻同時刻的時間軸上換算時刻處,相反的,若是使第1輔助測量線303作移動,則第1主測量線301係被移動至與被作了移動的第1輔助測量線303之時間軸上換算時刻同時刻之X軸上換算時刻處。
此時,當在第1主測量線301之移動目標的X軸上換算時刻處係對應有測定值的情況時,第1主測量線301係被移動至該X軸上換算時刻處,而第1輔助測量線303則係被移動至與該X軸上換算時刻同時刻之時間軸上換算時刻處,被作顯示之測定值、和被作顯示之測定值彼此間的差,係被變更為使用有移動後之測定值者。
當在移動目標之X軸上換算時刻處係並未對應有測定值的情況時,係對於在測量指示列313之藉由記號而作了選擇的測定值中之最為接近移動目標的X軸上換算時刻之與測定值相附加有對應的X軸上換算時刻作選擇,並將第1主測量線301和第1輔助測量線303分別移動至該X軸上換算時刻和與其同時刻之時間軸上換算時刻處
,並設為使用有移動後之測定值與移動後之交點的訊號狀態之顯示。
亦可藉由時刻之輸入或者是在畫面上之滑鼠等的使用所進行之移動,來使第1輔助測量線303作移動,並使第1主測量線301連動性地作移動。
當在移動目標之時間軸上換算時刻以及X軸上換算時刻處係並未對應有測定值的情況時,係對於在測量指示列313之藉由記號而作了選擇的測定值中之最為接近與移動目標的時間軸上換算時刻同時刻的X軸上換算時刻之與測定值相附加有對應的X軸上換算時刻作選擇,並使第1主測量線301作移動。第1輔助測量線303,係被移動至與被作移動之X軸上換算時刻同時刻的時間軸上換算時刻處。關於測定值或者是差的顯示,係顯示使用有移動後之測定值的值。
接著,測量線指示列313、323之核選格353、363,係被構成為:在並未被附加有記號的狀態下,最初係能夠附加1根用之記號,接著,在被附加有1根用之記號時,係能夠將其改換為2根用之記號。係藉由圖15、圖16之記號的顏色而被作顯示。
若是被附加有2根用之記號,則除了第1主測量線301和第1輔助測量線303之外,如圖16中所示一般,係更進而在XY座標331上以及時間軸341上之預先所設定了的位置處,而分別被顯示有第2主測量線302與第2輔助測量線304。
針對第2主測量線302以及第2輔助測量線304,亦係和第1主測量線301以及第1輔助測量線303同樣的,第2主測量線302,係能夠位置在與測定值相對應了的X軸上換算時刻處,當在移動目標之X軸上換算時刻處並未對應有測定值的情況時,係藉由與第1主測量線301相同的處理程序,而移動至與測定值相對應了的X軸上換算時刻處,並將第2輔助測量線304移動至與該X軸上換算時刻同時刻之時間軸上時刻處。
又,針對第2主測量線302以及第2輔助測量線304,亦係與第1主測量線301以及第1輔助測量線303同樣的而能夠對位置作變更,而移動,係可藉由時刻之輸入來進行,亦可藉由滑鼠或游標等來作移動。
若是將第1主測量線301所位置之X軸上換算時間設為第1時刻,並將第2主測量線302所位置之時刻設為第2時刻,則在畫面300中,係顯示有第1時刻與第2時刻,且亦一同顯示有身為第1時刻與第2時刻間之差的時間。
又,係將所選擇了的測定值中之與第1時刻附加有對應的測定值設為第1測定值,並將各圖表線332間之第1測定值彼此間的差求取出來,又,若是將與第2時刻附加有對應之測定值設為第2測定值,則係求取出各圖表線332間之第2測定值彼此間的差並作顯示,進而,係在被附加有2根用之記號的測定值之圖表線332的每一者處,將身為被附加有2根用之記號的圖表線332中之測定值的
一個的圖表線332之第1測定值與第2測定值之間的差作顯示。在圖16中,係為「計算值2」之欄。
當在第1測定值或者是第2測定值中包含有複數之測定值的情況時,係亦可設為:求取出第1測定值之平均值或者是第2測定值之平均值,並求取出平均值彼此間的差、或者是求取出平均值與第1或者是第2測定值之間的差。
各差之值,係可包含有正負符號,亦可藉由絕對值來作展示。
藉由在圖表線332彼此之間,而對於1根的圖表線332之第1測定值與第2測定值之間的差作比較,能夠得知各圖表線332所描繪出之真空處理的狀態之差異,又,藉由對於被進行了真空處理之基板15的特性作了測定之結果的比較、和真空處理的比較,係成為能夠得知裝置之狀態等的變化。特別是,若是將被包含在處理機器群23、24中之處理機器31~38的動作被開始之時刻,作為基準時刻,並針對複數之真空處理,而分別求取出第1、第2時刻之間的差並作比較,則能夠對於與被作為比較對象之測定值相關的處理機器31~38之處理內容作比較。
1‧‧‧真空處理裝置
11‧‧‧真空槽
15‧‧‧處理對象物
20‧‧‧真空處理部
21‧‧‧控制部
23、24‧‧‧處理機器群
31~38‧‧‧處理機器
40‧‧‧電腦
42‧‧‧演算裝置
43‧‧‧記憶裝置
44‧‧‧顯示裝置
46‧‧‧輸入裝置
131‧‧‧X-Y座標
132‧‧‧第1次圖表線
134、134a、134b‧‧‧第2次圖表線
141‧‧‧時間軸
144a、144b‧‧‧時序表
201‧‧‧第1主測量線
202‧‧‧第2主測量線
203‧‧‧第1輔助測量線
204‧‧‧第2輔助測量線
231‧‧‧X-Y座標
241‧‧‧時間軸
301‧‧‧第1主測量線
302‧‧‧第2主測量線
303‧‧‧第3主測量線
304‧‧‧第4主測量線
331‧‧‧X-Y座標
332‧‧‧圖表
334‧‧‧時序表
341‧‧‧時間軸
[圖1]用以對於本發明中之第1發明的真空處理裝置作說明之區塊圖。
[圖2]用以對於第1發明之真空處理的分析方法作說
明之顯示裝置的畫面(1)。
[圖3]用以對於第1發明之真空處理的分析方法作說明之顯示裝置的畫面(2)。
[圖4]用以對於第1發明之真空處理的分析方法作說明之顯示裝置的畫面(3)。
[圖5]用以對於第1發明之真空處理的分析方法作說明之顯示裝置的畫面(4)。
[圖6]用以對於第1發明之真空處理的分析方法作說明之顯示裝置的畫面(5)。
[圖7]用以對於第1發明之真空處理的分析方法作說明之顯示裝置的畫面(6)。
[圖8]用以對於第2發明之真空處理的分析方法作說明之顯示裝置的畫面(1)。
[圖9]用以對於第2發明之真空處理的分析方法作說明之顯示裝置的畫面(2)。
[圖10]用以對於第2發明之真空處理的分析方法作說明之顯示裝置的畫面(3)。
[圖11]用以對於第2發明之真空處理的分析方法作說明之顯示裝置的畫面(4)。
[圖12]用以對於第2發明之真空處理的分析方法作說明之顯示裝置的畫面(5)。
[圖13]用以對於第3發明之真空處理的分析方法作說明之顯示裝置的畫面(1)。
[圖14]用以對於第3發明之真空處理的分析方法作說
明之顯示裝置的畫面(2)。
[圖15]用以對於第3發明之真空處理的分析方法作說明之顯示裝置的畫面(3)。
[圖16]用以對於第3發明之真空處理的分析方法作說明之顯示裝置的畫面(4)。
100‧‧‧畫面
101‧‧‧第1主測量線
102‧‧‧第2主測量線
103‧‧‧第1輔助測量線
104‧‧‧第2輔助測量線
110‧‧‧測定值特定欄
111‧‧‧名稱顯示列
112‧‧‧顏色指示列
113‧‧‧測量線指示列
114‧‧‧顯示指示列
115‧‧‧Y軸指示列
120‧‧‧訊號特定欄
121‧‧‧名稱顯示列
122‧‧‧顏色指示列
123‧‧‧測量線指示列
124‧‧‧顯示指示列
130‧‧‧圖表顯示區域
131‧‧‧X-Y座標
134a、134b‧‧‧第2次圖表線
140‧‧‧時序表顯示區域
141‧‧‧時間軸
144a、144b‧‧‧時序表
147‧‧‧雜訊
151‧‧‧檔案名稱
152‧‧‧顏色樣本
153‧‧‧核選格
154‧‧‧核選格
155‧‧‧Y軸核選格
156‧‧‧Y軸核選格
161‧‧‧名稱
162‧‧‧顏色樣本
163‧‧‧核選格
164‧‧‧核選格
Claims (39)
- 一種真空處理裝置,係具備有:對於被配置在真空槽內之處理對象物進行真空處理的真空處理部、和將前述真空處理部所輸出了的複數之測定值,與測定時刻一同地而與前述真空處理相附加對應地作記憶之記憶裝置、和對於前述測定值作演算之演算裝置、和將前述演算裝置之演算結果作顯示之顯示裝置,該真空處理裝置,其特徵為:在前述記憶裝置中,係被記憶有資料分析程式;前述資料分析程式,係如同下述一般地被構成:若是從被記憶在前述記憶裝置內的複數之前述測定值而選擇了將圖表線作顯示之測定值,則係將被選擇了的前述測定值之前述測定時刻,換算為身為從特定之基準時刻起之後的時間之X軸上換算時刻,將X-Y座標之X軸上的特定位置,作為前述基準時刻之位置,並根據前述X軸上換算時刻來求取出前述測定值之前述X軸上的位置,且根據前述測定值之大小來求取出Y軸上的位置,再藉由前述測定時刻為相連續的複數之前述測定值的前述X軸上之位置與前述Y軸上之位置,來產生第1次圖表線,並與前述X-Y座標一同地而顯示在顯示裝置處,將作了顯示的前述第1次圖表線之前述測定時刻的其中一者,作為抽出起點時刻,將前述第1次圖表線之前述測定值中的前述測定時刻 成為前述抽出起點時刻以後之時刻的前述測定值抽出,將前述抽出起點時刻作為前述基準時刻,並根據所抽出了的前述測定值與前述測定時刻,而在前述X-Y座標上顯示第2次圖表線,從前述控制裝置而輸出控制訊號,該控制訊號,係包含有使進行前述真空處理之處理裝置動作的動作訊號、和使動作停止之停止訊號,前述控制訊號,係與使前述動作開始之動作開始時刻和使前述動作之停止開始的動作停止時刻一同地而被記憶在前述記憶裝置中,前述資料分析程式,係構成為:對於被記憶在前述記憶裝置中之前述動作開始時刻與前述動作停止時刻,而求取出該些之身為從前述基準時刻起所經過之時間的時間軸上換算時刻,在前述顯示裝置上,係在與前述X軸相分離了的位置處,而與前述X軸相平行地來顯示時間軸,以使與前述Y軸相平行之一直線的與前述X軸和前述時間軸相交叉的交點所分別代表的前述X軸上換算時刻和前述時間軸上換算時刻成為相同時刻的方式,來求取出前述動作開始時刻與前述動作停止時刻之在前述時間軸上的位置,在前述顯示裝置上,係在前述時間軸上,藉由具備有代表前述動作訊號與前述停止訊號之高度相異的橫線之時序表,來顯示前述控制訊號, 設為能夠將所期望之前述動作開始時刻或者是前述動作停止時刻指定為前述抽出起點時刻,前述資料分析程式,係將前述時序表之較前述起點抽出時刻而更遲的時刻之前述動作開始時刻或者是前述動作停止時刻,指定為抽出終點時刻,並將與前述抽出起點時刻和前述抽出終點時刻之間的前述測定時刻相對應之前述測定值抽出,而產生前述第2次圖表線。
- 如申請專利範圍第1項所記載之真空處理裝置,其中,前述資料分析程式,係根據前述測定值而產生複數之前述第1次圖表線,並顯示於前述顯示裝置處,將1個的前述一次圖表線之前述測定值的其中一者,作為該前述第1次圖表線之前述抽出起點時刻,並求取出其他的前述第1次圖表線之前述抽出起點時刻,再根據所顯示了的前述第1次圖表線來產生前述第2次圖表線,並顯示於前述顯示裝置處。
- 如申請專利範圍第2項所記載之真空處理裝置,其中,前述資料分析程式,係將所顯示了的前述第2次圖表線中之被作了選擇的前述第2次圖表線,在前述顯示裝置上而與前述X軸平行地作移動。
- 如申請專利範圍第3項所記載之真空處理裝置,其中,前述資料分析程式,係將與作了移動的前述第2次圖 表線之前述測定值相對應的前述X軸上換算時刻,進行將作了移動的前述第2次圖表線之前述X軸上的移動量作了換算的時間之修正。
- 一種圖表線顯示方法,係為將真空處理裝置之被記憶在記憶裝置中的前述測定值之圖表線顯示在顯示裝置上之圖表顯示方法,該真空處理裝置,係具備有:對於被配置在真空槽內之處理對象物進行真空處理的真空處理部、和將前述真空處理部所輸出了的複數之測定值,與測定時刻一同地而與前述真空處理相附加對應地作記憶之記憶裝置、和對於前述測定值作演算之演算裝置、和將前述演算裝置之演算結果作顯示之顯示裝置,該圖表線顯示方法,其特徵為:若是從被記憶在前述記憶裝置內的複數之前述測定值而選擇了將圖表線作顯示之測定值,則係將被選擇了的前述測定值之前述測定時刻,換算為身為從特定之基準時刻起之後的時間之X軸上換算時刻,將X-Y座標之X軸上的特定位置,作為前述基準時刻之位置,並根據前述X軸上換算時刻來求取出前述測定值之前述X軸上的位置,且根據前述測定值之大小來求取出Y軸上的位置,再藉由前述測定時刻為相連續的複數之前述測定值的前述X軸上之位置與前述Y軸上之位置,來產生第1次圖表線,並與前述X-Y座標一同地而顯示在顯示裝置處,將作了顯示的前述第1次圖表線之前述測定時刻的其 中一者,作為抽出起點時刻,將前述第1次圖表線之前述測定值中的前述測定時刻成為前述抽出起點時刻以後之時刻的前述測定值抽出,將前述抽出起點時刻作為前述基準時刻,並根據所抽出了的前述測定值與前述測定時刻,而在前述X-Y座標上顯示第2次圖表線,從前述控制裝置而輸出控制訊號,該控制訊號,係包含有使進行前述真空處理之處理裝置動作的動作訊號、和使動作停止之停止訊號,前述控制訊號,係與使前述動作開始之動作開始時刻和使前述動作之停止開始的動作停止時刻一同地而被記憶在前述記憶裝置中,對於被記憶在前述記憶裝置中之前述動作開始時刻與前述動作停止時刻,而求取出該些之身為從前述基準時刻起所經過之時間的時間軸上換算時刻,在前述顯示裝置上,係在與前述X軸相分離了的位置處,而與前述X軸相平行地來顯示時間軸,以使與前述Y軸相平行之一直線的與前述X軸和前述時間軸相交叉的交點所分別代表的前述X軸上換算時刻和前述時間軸上換算時刻成為相同時刻的方式,來求取出前述動作開始時刻與前述動作停止時刻之在前述時間軸上的位置,在前述顯示裝置上,係在前述時間軸上,藉由具備有代表前述動作訊號與前述停止訊號之高度相異的橫線之時 序表,來顯示前述控制訊號,設為能夠將所期望之前述動作開始時刻或者是前述動作停止時刻指定為前述抽出起點時刻。
- 如申請專利範圍第5項所記載之圖表線顯示方法,其中,前述資料分析程式,係根據前述測定值而產生複數之前述第1次圖表線,並顯示於前述顯示裝置處,將1個的前述一次圖表線之前述測定值的其中一者,作為該前述第1次圖表線之前述抽出起點時刻,並求取出其他的前述第1次圖表線之前述抽出起點時刻,再根據所顯示了的前述第1次圖表線來產生前述第2次圖表線,並顯示於前述顯示裝置處。
- 如申請專利範圍第6項所記載之圖表線顯示方法,其中,係從所顯示了的前述第2次圖表線中而選擇所期望者,被選擇了的前述第2次圖表線,係在前述顯示裝置上而與前述X軸平行地作移動。
- 如申請專利範圍第7項所記載之圖表線顯示方法,其中,係將與作了移動的前述第2次圖表線之前述測定值相對應的前述X軸上換算時刻,進行作了移動的前述第2次圖表線之前述X軸上的移動量之修正。
- 如申請專利範圍第5項所記載之圖表線顯示方法,其中, 係將前述時序表之較前述抽出起點時刻而更遲的時刻之前述動作開始時刻或者是前述動作停止時刻,指定為抽出終點時刻,並將與前述抽出起點時刻和前述抽出終點時刻之間的前述測定時刻相對應之前述測定值抽出,而產生前述第2次圖表線。
- 一種真空處理裝置,係具備有:對於被配置在真空槽內之處理對象物進行真空處理的真空處理部、和將前述真空處理部所輸出了的複數之測定值,與前述測定值之測定時刻一同地而與前述真空處理相附加對應地作記憶之記憶裝置、和對於前述測定值作演算之演算裝置、和將前述演算裝置之演算結果作顯示之顯示裝置,並將當對於特定枚數之前述處理對象物而連續同樣地進行了前述真空處理時之前述測定值設為1個批量(lot),而將複數之前述批量的前述測定值記憶在前述記憶裝置中,該真空處理裝置,其特徵為:在前述記憶裝置中,係被記憶有資料分析程式;前述資料分析程式,係如同下述一般地被構成:若是從被記憶在前述記憶裝置內的複數之前述測定值而選擇了將圖表線作顯示之測定值,則係將被選擇了的前述測定值之前述測定時刻,換算為身為從特定之基準時刻起之後的時間之X軸上換算時刻,將X-Y座標之X軸上的特定位置,作為前述基準時刻之位置,並根據前述X軸上換算時刻來求取出前述測定 值之前述X軸上的位置,且根據前述測定值之大小來求取出Y軸上的位置,再藉由前述測定時刻為相連續的複數之前述測定值的前述X軸上之位置與前述Y軸上之位置,來產生圖表線,並與前述X-Y座標一同地而顯示在顯示裝置處,若是對於作了顯示的前述圖表線中之任一者的前述圖表線作了選擇,則屬於被作了選擇的前述圖表線之前述批量的其他之被作了顯示的前述圖表線,亦係被一同作選擇,被作了選擇的前述圖表線,係能夠在前述X-Y座標上,朝向前述X軸所延伸的方向而一同作相同距離之移動,從前述控制裝置而輸出控制訊號,該控制訊號,係包含有使進行前述真空處理之處理裝置動作的動作訊號、和使動作停止之停止訊號,前述控制訊號,係與使前述動作開始之動作開始時刻和使前述動作之停止開始的動作停止時刻一同地而被記憶在前述記憶裝置中,前述資料分析程式,係構成為:若是從被記憶在前述記憶裝置內的複數之前述測定值而選擇了將圖表線作顯示之測定值,則係將被選擇了的前述測定值之前述測定時刻,換算為身為從特定之基準時刻起之後的時間之X軸上換算時刻,在前述顯示裝置上,係在與前述X軸相分離了的位置處,而與前述X軸相平行地來顯示時間軸,將前述時間軸上之特定位置,設為前述基準時刻, 以使與前述Y軸相平行之一直線的與前述X軸和前述時間軸相交叉的交點所分別代表的前述X軸上換算時刻和前述時間軸上換算時刻成為相同時刻的方式,來求取出前述動作開始時刻與前述動作停止時刻之在前述時間軸上的位置,在前述顯示裝置上,係在前述時間軸上,藉由具備有代表前述動作訊號與前述停止訊號之高度相異的橫線之時序表,來顯示前述控制訊號,與被作了選擇的前述圖表線屬於相同之前述批量的前述時序表,係與被作了選擇的前述圖表線一同地而與前述時間軸平行地來朝向相同方向作相同距離之移動。
- 一種真空處理裝置,係具備有:對於被配置在真空槽內之處理對象物進行真空處理的真空處理部、和將前述真空處理部所輸出了的複數之測定值,與測定時刻一同地而與前述真空處理相附加對應地作記憶之記憶裝置、和對於前述測定值作演算之演算裝置、和將前述演算裝置之演算結果作顯示之顯示裝置,將連續地被進行了前述真空處理之特定枚數的基板設為1個批量,且將當對於特定枚數之前述處理對象物而連續同樣地進行了前述真空處理時之前述測定值設為1個批量,而將複數之前述批量的前述測定值記憶在前述記憶裝置中,包含有使進行前述真空處理之裝置動作的動作訊號和使前述動作停止之停止訊號的控制訊號,係與使前述動作 開始之動作開始時刻和使前述動作停止的動作停止時刻一同地而被與前述真空處理附加有對應地來記憶在前述記憶裝置中,該真空處理裝置,其特徵為:在前述記憶裝置中,係被記憶有資料分析程式;前述資料分析程式,係如同下述一般地被構成:若是從被記憶在前述記憶裝置內的複數之前述測定值而選擇了將圖表線作顯示之測定值,則係將被選擇了的前述測定值之前述測定時刻,換算為身為從特定之基準時刻起之後的時間之X軸上換算時刻,將X-Y座標之X軸上的特定位置,作為前述基準時刻之位置,並根據前述X軸上換算時刻來求取出前述測定值之前述X軸上的位置,且根據前述測定值之大小來求取出Y軸上的位置,再藉由前述測定時刻為相連續的複數之前述測定值的前述X軸上之位置與前述Y軸上之位置,來產生複數之圖表線,並與前述X-Y座標一同地而顯示在顯示裝置處,對於被記憶在前述記憶裝置中之前述動作開始時刻與前述動作停止時刻,而求取出該些之身為從前述基準時刻起所經過之時間的時間軸上換算時刻,在前述顯示裝置上,係在與前述X軸相分離了的位置處,而與前述X軸相平行地來顯示時間軸,以使與前述Y軸相平行之一直線的與前述X軸和前述時間軸相交叉的交點所分別代表的前述X軸上換算時刻 和前述時間軸上換算時刻成為相同時刻的方式,來求取出前述動作開始時刻與前述動作停止時刻之在前述時間軸上的位置,在前述顯示裝置上,係在前述時間軸上,藉由具備有代表前述動作訊號與前述停止訊號之高度相異的橫線之時序表,來顯示前述控制訊號,若是對於所顯示了的前述時序表中之任一個的前述時序表作選擇,則與屬於被作了選擇的前述時序表所屬之前述批量相同批量的其他之被顯示了的前述時序表,亦係一同被作選擇,被作了選擇的前述時序表,係能夠在前述時間軸上,朝向前述時間軸所延伸的方向而一同作相同方向相同距離之移動,與所選擇了的前述時序表屬於相同之前述批量的前述圖表線,係成為與被選擇了的前述時序表一同地作相同方向相同距離之移動。
- 如申請專利範圍第10項或第11項所記載之真空處理裝置,其中,係根據被移動了的前述圖表線之前述測定值的前述X軸之位置,而再度計算前述X軸上換算時刻,從被顯示在前述顯示裝置處的複數之前述圖表線中,將2個以上的前述圖表線作為第1選擇群而選擇之,若是前述X軸上之前述X軸換算時刻被指示為第1時刻,則將身為前述第1選擇群之各前述圖表線的與在前述X軸上換算時刻中之最接近前述第1時刻的前述X軸 上換算時刻相對應之測定值的第1測定值,作為各前述圖表線的各別之第1測定值,而在前述顯示裝置上,於對前述第1測定值作了選擇之前述圖表線的每一者中作顯示,構成為將前述第1測定值彼此之差作顯示。
- 如申請專利範圍第12項所記載之真空處理裝置,其中,係從被顯示在前述顯示裝置處之前述第1選擇群以外的複數之前述圖表線中,而選擇第2選擇群之圖表線,若是將前述X軸上之前述X軸換算時刻指示為第2時刻,則將身為前述第2選擇群之各前述圖表線的與在前述X軸上換算時刻中之最接近前述第2時刻的前述X軸上換算時刻相對應之測定值的第2測定值,作為各前述圖表線的各別之第2測定值,構成為將前述第1測定值與前述第2測定值之差,顯示於前述顯示裝置處。
- 如申請專利範圍第13項所記載之真空處理裝置,其中,係在前述顯示裝置處,顯示與前述Y軸相平行之第1、第2主測量線,將前述第1選擇群之各前述圖表線與前述第1主測量線之間的交點處之前述X軸上換算時刻,設為各前述圖表線之各別的前述第1時刻,將前述第2選擇群之各前述圖表線與前述第2主測量 線之間的交點處之前述X軸上換算時刻,設為各前述圖表線之各別的前述第2時刻,構成為能夠對於前述第1、第2主測量線之位置作變更,且構成為若是前述第1、第2主測量線之位置被作變更,則前述第1、第2時刻係分別被變更為被作了變更後之前述第1、第2主測量線所展示的前述X軸上換算時刻。
- 一種圖表線顯示方法,係為將被記憶在真空處理裝置之記憶裝置中之測定值的圖表線顯示在顯示裝置上之圖表顯示方法,該真空處理裝置,係具備有:對於被配置在真空槽內之處理對象物進行真空處理的真空處理部、和將前述真空處理部所輸出了的複數之測定值,與前述測定值之測定時刻一同地而與前述真空處理相附加對應地作記憶之記憶裝置、和對於前述測定值作演算之演算裝置、和將前述演算裝置之演算結果作顯示之顯示裝置,並將當對於特定枚數之前述處理對象物而連續同樣地進行了前述真空處理時之前述測定值設為1個批量(lot),而將複數之前述批量的前述測定值記憶在前述記憶裝置中,該圖表線顯示方法,其特徵為:若是從被記憶在前述記憶裝置內的複數之前述測定值而選擇了將圖表線作顯示之測定值,則係將被選擇了的前述測定值之前述測定時刻,換算為身為從特定之基準時刻起之後的時間之X軸上換算時刻, 將X-Y座標之X軸上的特定位置,作為前述基準時刻之位置,並根據前述X軸上換算時刻來求取出前述測定值之前述X軸上的位置,且根據前述測定值之大小來求取出Y軸上的位置,再藉由前述測定時刻為相連續的複數之前述測定值的前述X軸上之位置與前述Y軸上之位置,來產生圖表線,並與前述X-Y座標一同地而顯示在前述顯示裝置處,構成為能夠從被作了顯示的前述圖表線中來選擇所期望之圖表線,若是任一者的前述圖表線被作了選擇,則屬於被作了選擇的前述圖表線之前述批量的其他之被作了顯示的前述圖表線,亦係被一同作選擇,被作了選擇的前述圖表線,係能夠在前述X-Y座標上,朝向前述X軸所延伸的方向而一同作相同距離之移動,從前述控制裝置而輸出控制訊號,該控制訊號,係包含有使進行前述真空處理之處理裝置動作的動作訊號、和使動作停止之停止訊號,前述控制訊號,係與使前述動作開始之動作開始時刻和使前述動作之停止開始的動作停止時刻一同地而被記憶在前述記憶裝置中,若是從被記憶在前述記憶裝置內的複數之前述測定值而選擇了將圖表線作顯示之測定值,則係將被選擇了的前述測定值之前述測定時刻,換算為身為從特定之基準時刻起之後的時間之X軸上換算時刻,在前述顯示裝置上,係在與前述X軸相分離了的位置 處,而與前述X軸相平行地來顯示時間軸,將前述時間軸上之特定位置,設為前述基準時刻,以使與前述Y軸相平行之一直線的與前述X軸和前述時間軸相交叉的交點所分別代表的前述X軸上換算時刻和前述時間軸上換算時刻成為相同時刻的方式,來求取出前述動作開始時刻與前述動作停止時刻之在前述時間軸上的位置,在前述顯示裝置上,係在前述時間軸上,藉由具備有代表前述動作訊號與前述停止訊號之高度相異的橫線之時序表,來顯示前述控制訊號,與被作了選擇的前述圖表線屬於相同之前述批量的前述時序表,係與被作了選擇的前述圖表線一同地而與前述時間軸平行地來朝向相同方向作相同距離之移動。
- 一種圖表線顯示方法,係為將被記憶在真空處理裝置之記憶裝置中之測定值的圖表線顯示在前述顯示裝置上之圖表顯示方法,該真空處理裝置,係具備有:對於被配置在真空槽內之處理對象物進行真空處理的真空處理部、和將前述真空處理部所輸出了的複數之測定值,與測定時刻一同地而與前述真空處理相附加對應地作記憶之記憶裝置、和對於前述測定值作演算之演算裝置、和將前述演算裝置之演算結果作顯示之顯示裝置,並將連續地被進行了真空處理之特定枚數的基板設為1個批量,且將當對於特定枚數之前述處理對象物而連續同樣地進行了前述真空處理時之前述測定值設為1個批量,而將複數之前述批量 的前述測定值記憶在前述記憶裝置中,包含有使進行前述真空處理之裝置動作的動作訊號和使前述動作停止之停止訊號的控制訊號,係與使前述動作開始之動作開始時刻和使前述動作停止的動作停止時刻一同地而被與前述真空處理附加有對應地來記憶在前述記憶裝置中,該圖表線顯示方法,其特徵為:若是從被記憶在前述記憶裝置內的複數之前述測定值而選擇了將圖表線作顯示之測定值,則係將被選擇了的前述測定值之前述測定時刻,換算為身為從特定之基準時刻起之後的時間之X軸上換算時刻,將X-Y座標之X軸上的特定位置,作為前述基準時刻之位置,並根據前述X軸上換算時刻來求取出前述測定值之前述X軸上的位置,且根據前述測定值之大小來求取出Y軸上的位置,再藉由前述測定時刻為相連續的複數之前述測定值的前述X軸上之位置與前述Y軸上之位置,來產生複數之圖表線,並與前述X-Y座標一同地而顯示在前述顯示裝置處,對於被記憶在前述記憶裝置中之前述動作開始時刻與前述動作停止時刻,而求取出該些之身為從前述基準時刻起所經過之時間的時間軸上換算時刻,在前述顯示裝置上,係在與前述X軸相分離了的位置處,而與前述X軸相平行地來顯示時間軸,以使與前述Y軸相平行之一直線的與前述X軸和前述時間軸相交叉的交點所分別代表的前述X軸上換算時刻 和前述時間軸上換算時刻成為相同時刻的方式,來求取出前述動作開始時刻與前述動作停止時刻之在前述時間軸上的位置,在前述顯示裝置上,係在前述時間軸上,藉由具備有代表前述動作訊號與前述停止訊號之高度相異的橫線之時序表,來顯示前述控制訊號,若是對於所顯示了的前述時序表中之任一個的前述時序表作選擇,則與屬於被作了選擇的前述時序表所屬之前述批量的其他之被顯示了的前述時序表,亦係一同被作選擇,被作了選擇的前述時序表,係能夠在前述時間軸上,朝向前述時間軸所延伸的方向而一同作相同方向相同距離之移動,與所選擇了的前述時序表屬於相同之前述批量的前述圖表線,係成為與被選擇了的前述時序表一同地作相同方向相同距離之移動。
- 如申請專利範圍第15項或第16項所記載之圖表線顯示方法,其中,係根據被移動了的前述圖表線之前述測定值的前述X軸之位置,而再度計算前述X軸上換算時刻,從被顯示在前述顯示裝置處的複數之前述圖表線中,將2個以上的前述圖表線作為第1選擇群而選擇之,若是前述X軸上之前述X軸換算時刻被指示為第1時刻,則將身為前述第1選擇群之各前述圖表線的與在前述X軸上換算時刻中之最接近前述第1時刻的前述X軸 上換算時刻相對應之測定值的第1測定值,作為各前述圖表線的各別之第1測定值,而在前述顯示裝置上,於對前述第1測定值作了選擇之前述圖表線的每一者中作顯示,將前述第1測定值彼此之差作顯示。
- 如申請專利範圍第17項所記載之圖表線顯示方法,其中,係從顯示在前述顯示裝置處之前述第1選擇群以外的複數之前述圖表線中,而選擇第2選擇群之圖表線,若是將前述X軸上之前述X軸換算時刻指示為第2時刻,則將身為前述第2選擇群之各前述圖表線的與在前述X軸上換算時刻中之最接近前述第2時刻的前述X軸上換算時刻相對應之測定值的第2測定值,作為各前述圖表線的各別之第2測定值,將前述第1測定值與前述第2測定值之差,顯示於前述顯示裝置處。
- 如申請專利範圍第18項所記載之圖表線顯示方法,其中,係在前述顯示裝置處,顯示與前述Y軸相平行之第1、第2主測量線,將前述第1選擇群之各前述圖表線與前述第1主測量線之間的交點處之前述X軸上換算時刻,設為各前述圖表線之各別的前述第1時刻,將前述第2選擇群之各前述圖表線與前述第2主測量 線之間的交點處之前述X軸上換算時刻,設為各前述圖表線之各別的前述第2時刻,構成為能夠對於前述第1、第2主測量線之位置作變更,且構成為若是前述第1、第2主測量線之位置被作變更,則前述第1、第2時刻係分別被變更為被作了變更後之前述第1、第2主測量線所展示的前述X軸上換算時刻。
- 一種真空處理裝置,係具備有:對於被配置在真空槽內之處理對象物進行真空處理的真空處理部、和將前述真空處理部所輸出了的複數之測定值,與測定時刻一同地而與前述真空處理相附加對應地作記憶之記憶裝置、和對於前述測定值作演算之演算裝置、和將前述演算裝置之演算結果作顯示之顯示裝置,將當對於特定枚數之前述處理對象物而連續同樣地進行了前述真空處理時之前述測定值設為1個批量,而將複數之前述批量的前述測定值記憶在前述記憶裝置中,包含有使進行前述真空處理之裝置動作的動作訊號和使前述動作停止之停止訊號的控制訊號,係與使前述動作開始之動作開始時刻和使前述動作停止的動作停止時刻一同地而被與前述真空處理附加有對應地來記憶在前述記憶裝置中,該真空處理裝置,其特徵為:在前述記憶裝置中,係被記憶有資料分析程式, 前述資料分析程式,係構成為:若是從被記憶在前述記憶裝置內的複數之前述測定值而選擇了將圖表線作顯示之測定值,則係將被選擇了的前述測定值之前述測定時刻,換算為身為從特定之基準時刻起之後的時間之X軸上換算時刻,將X-Y座標之X軸上的特定位置,作為前述基準時刻之位置,並根據前述X軸上換算時刻來求取出前述測定值之前述X軸上的位置,且根據前述測定值之大小來求取出Y軸上的位置,再藉由前述測定時刻為相連續的複數之前述測定值的前述X軸上之位置與前述Y軸上之位置,來產生複數之圖表線,並與前述X-Y座標一同地而顯示在顯示裝置處,若是從被顯示在前述顯示裝置處的複數之前述圖表線中而將2個以上的前述圖表線作為第1選擇群而作選擇,並在前述顯示裝置處顯示與前述Y軸相平行之第1主測量線,則係將前述第1選擇群之各前述圖表線與前述第1主測量線之間的交點處之前述X軸上換算時刻,設為各前述圖表線之各別的第1時刻,將身為前述第1選擇群之各前述圖表線的與在前述X軸上換算時刻中之最接近前述第1時刻的前述X軸上換算時刻相對應之測定值的第1測定值,作為各前述圖表線的各別之第1測定值,而在前述顯示裝置上,於對前述第1測定值作了選擇之前述圖表線的每一者中作顯示,並將前 述第1測定值彼此之差作顯示。
- 如申請專利範圍第20項所記載之真空處理裝置,其中,若是除了前述第1時刻之外,而更指示了被包含在前述X軸中之前述X軸上換算時刻之範圍內的第2時刻,則係在前述第1選擇群之前述每一圖表線處,將前述X軸上換算時刻為最接近前述第2時刻之前述測定值,作為第2測定值而特定出來,構成為將1個的前述圖表線之前述第1測定值和其他的前述圖表線之前述第2測定值的兩者間之差的值,與前述第2測定值一同顯示在前述顯示裝置處。
- 如申請專利範圍第21項所記載之真空處理裝置,其中,係能夠從被作了顯示的複數之前述圖表線中而選擇2個以上的前述圖表線,從被作了選擇的前述圖表線中所包含之測定值,來特定出前述第1、第2測定值。
- 如申請專利範圍第21項或第22項所記載之真空處理裝置,其中,係亦將相異之前述圖表線間的前述第2測定值彼此間之差的值,顯示在前述顯示裝置處。
- 如申請專利範圍第21項所記載之真空處理裝置,其中,前述第1時刻與前述第2時刻,係被顯示在前述顯示 裝置處。
- 如申請專利範圍第21項所記載之真空處理裝置,其中,身為前述第1時刻與前述第2時刻之間的差之時間,係被顯示在前述顯示裝置處。
- 如申請專利範圍第21項所記載之真空處理裝置,其中,若是除了前述第1主測量線,而亦在前述顯示裝置處顯示與前述Y軸相平行之第2主測量線,則係將前述第1選擇群之各前述圖表線與前述第1主測量線之間的交點處之前述X軸上換算時刻,設為各前述圖表線之各別的前述第1時刻,將前述第2選擇群之各前述圖表線與前述第2主測量線之間的交點處之前述X軸上換算時刻,設為各前述圖表線之各別的前述第2時刻,構成為若是前述第1、第2主測量線之位置被作變更,則前述第1、第2時刻係分別被變更為被作了變更後之前述第1、第2主測量線的前述X軸上換算時刻。
- 如申請專利範圍第26項所記載之真空處理裝置,其中,係從前述控制裝置而輸出控制訊號,該控制訊號,係包含有使進行前述真空處理之處理裝置動作的動作訊號、和使動作停止之停止訊號,前述控制訊號,係與使前述動作開始之動作開始時刻 和使前述動作停止之動作停止時刻一同地而被記憶在前述記憶裝置中,前述資料分析程式,係構成為:對於被記憶在前述記憶裝置中之前述動作開始時刻與前述動作停止時刻,而求取出該些之身為從前述基準時刻起所經過之時間的時間軸上換算時刻,在前述顯示裝置上,係在與前述X軸相分離了的位置處,而與前述X軸相平行地來顯示時間軸,以使與前述Y軸相平行之一直線的與前述X軸和前述時間軸相交叉的交點所分別代表的前述X軸上換算時刻和前述時間軸上換算時刻成為相同時刻的方式,來求取出前述動作開始時刻與前述動作停止時刻之在前述時間軸上的位置,在前述顯示裝置上,係在前述時間軸上,藉由具備有代表前述動作訊號與前述停止訊號之高度相異的橫線之時序表,來顯示前述控制訊號。
- 如申請專利範圍第27項所記載之真空處理裝置,其中,係構成為:在前述X-Y座標上,係能夠將根據在經由被作了顯示的前述時序表之前述控制訊號而進行了的前述真空處理中所測定了的前述測定值而產生了的前述圖表線作顯示。
- 如申請專利範圍第28項所記載之真空處理裝置,其中, 在前述第1、第2主測量線之延長線上,係分別顯示有與前述控制訊號之顯示相交叉的第3、第4主測量線,構成為:若是前述第1、第2主測量線之位置被作變更,則前述第3、第4主測量線,係被移動至位置被作了變更的前述第1、第2主測量線之延長線上位置處,若是前述第3、第4主測量線之位置被作變更,則前述第1、第2主測量線,係分別被移動至位置被作了變更的前述第3、第4主測量線之延長線上的位置處。
- 一種圖表線顯示方法,係為將被記憶在真空處理裝置之記憶裝置中之測定值的圖表線顯示在顯示裝置上之圖表顯示方法,該真空處理裝置,係具備有:對於被配置在真空槽內之處理對象物進行真空處理的真空處理部、和將前述真空處理部所輸出了的複數之測定值,與測定時刻一同地而與前述真空處理相附加對應地作記憶之記憶裝置、和對於前述測定值作演算之演算裝置、和將前述演算裝置之演算結果作顯示之顯示裝置,並將連續地被進行了真空處理之特定枚數的基板設為1個批量,且將當對於特定枚數之前述處理對象物而連續同樣地進行了前述真空處理時之前述測定值設為1個批量,而將複數之前述批量的前述測定值記憶在前述記憶裝置中,包含有使進行前述真空處理之裝置動作的動作訊號和使前述動作停止之停止訊號的控制訊號,係與使前述動作開始之動作開始時刻和使前述動作停止的動作停止時刻一同地而被與前述真空處理附加有對應地來記憶在前述記憶裝置中, 該圖表線顯示方法,其特徵為:從被記憶在前述記憶裝置內的複數之前述測定值,而選擇將圖表線作顯示之測定值,並將被選擇了的前述測定值之前述測定時刻,換算為身為從特定之基準時刻起之後的時間之X軸上換算時刻,將X-Y座標之X軸上的特定位置,作為前述基準時刻之位置,並根據前述X軸上換算時刻來求取出前述測定值之前述X軸上的位置,且根據前述測定值之大小來求取出Y軸上的位置,再藉由前述測定時刻為相連續的複數之前述測定值的前述X軸上之位置與前述Y軸上之位置,來產生複數之圖表線,並與前述X-Y座標一同地而顯示在顯示裝置處,從被顯示在前述顯示裝置處的複數之前述圖表線中而將2個以上的前述圖表線作為第1選擇群而作選擇,並在前述顯示裝置處顯示與前述Y軸相平行之第1主測量線,將前述第1選擇群之各前述圖表線與前述第1主測量線之間的交點處之前述X軸上換算時刻,設為各前述圖表線之各別的第1時刻,將身為前述第1選擇群之各前述圖表線的與在前述X軸上換算時刻中之最接近前述第1時刻的前述X軸上換算時刻相對應之測定值的第1測定值,作為各前述圖表線的各別之第1測定值,而在前述顯示裝置上,於對前述第1測定值作了選擇之前述圖表線的每一者中作顯示,並將前述第1測定值彼此之差的值作顯示。
- 如申請專利範圍第30項所記載之圖表線顯示方法,其中,若是除了前述第1時刻之外,而更指示了被包含在前述X軸中之前述X軸上換算時刻之範圍內的第2時刻,則係在前述第1選擇群之前述每一圖表線處,將前述X軸上換算時刻為最接近前述第2時刻之前述測定值,作為第2測定值而特定出來,構成為將1個的前述圖表線之前述第1測定值和其他的前述圖表線之前述第2測定值的兩者間之差的值,與前述第2測定值一同顯示在前述顯示裝置處。
- 如申請專利範圍第31項所記載之圖表線顯示方法,其中,係能夠從被作了複數顯示的前述圖表線中而選擇2個以上的前述圖表線,從被作了選擇的前述圖表線中所包含之測定值,來特定出前述第1、第2測定值。
- 如申請專利範圍第31項或第32項所記載之圖表線顯示方法,其中,係亦將相異之前述圖表線間的前述第2測定值彼此間之差的值,顯示在前述顯示裝置處。
- 如申請專利範圍第31項所記載之圖表線顯示方法,其中,前述第1時刻與前述第2時刻,係被顯示在前述顯示裝置處。
- 如申請專利範圍第31項所記載之圖表線顯示方法,其中,身為前述第1時刻與前述第2時刻之間的差之時間,係被顯示在前述顯示裝置處。
- 如申請專利範圍第31項所記載之圖表線顯示方法,其中,若是除了前述第1主測量線,而亦在前述顯示裝置處顯示與前述Y軸相平行之第2主測量線,則係將前述第1選擇群之各前述圖表線與前述第1主測量線之間的交點處之前述X軸上換算時刻,設為各前述圖表線之各別的前述第1時刻,將前述第2選擇群之各前述圖表線與前述第2主測量線之間的交點處之前述X軸上換算時刻,設為各前述圖表線之各別的前述第2時刻,構成為若是前述第1、第2主測量線之位置被作變更,則前述第1、第2時刻係分別被變更為被作了變更後之前述第1、第2主測量線的前述X軸上換算時刻。
- 如申請專利範圍第36項所記載之圖表線顯示方法,其中,係從前述控制裝置而輸出控制訊號,該控制訊號,係包含有使進行前述真空處理之處理裝置動作的動作訊號、和使動作停止之停止訊號,前述控制訊號,係與使前述動作開始之動作開始時刻和使前述動作停止之動作停止時刻一同地而被記憶在前述 記憶裝置中,前述資料分析程式,係構成為:對於被記憶在前述記憶裝置中之前述動作開始時刻與前述動作停止時刻,而求取出該些之身為從前述基準時刻起所經過之時間的時間軸上換算時刻,在前述顯示裝置上,係在與前述X軸相分離了的位置處,而與前述X軸相平行地來顯示時間軸,以使與前述Y軸相平行之一直線的與前述X軸和前述時間軸相交叉的交點所分別代表的前述X軸上換算時刻和前述時間軸上換算時刻成為相同時刻的方式,來求取出前述動作開始時刻與前述動作停止時刻之在前述時間軸上的位置,在前述顯示裝置上,係在前述時間軸上,藉由具備有代表前述動作訊號與前述停止訊號之高度相異的橫線之時序表,來顯示前述控制訊號。
- 如申請專利範圍第37項所記載之圖表線顯示方法,其中,係構成為:在前述X-Y座標上,係能夠將根據在經由被作了顯示的前述時序表之前述控制訊號而進行了的前述真空處理中所測定了的前述測定值而產生了的前述圖表線作顯示。
- 如申請專利範圍第38項所記載之圖表線顯示方法,其中,在前述第1、第2主測量線之延長線上,係分別顯示 有與前述控制訊號之顯示相交叉的第3、第4主測量線,並構成為:若是前述第1、第2主測量線之位置被作變更,則前述第3、第4主測量線,係被移動至位置被作了變更的前述第1、第2主測量線之延長線上位置處,若是前述第3、第4主測量線之位置被作變更,則前述第1、第2主測量線,係分別被移動至位置被作了變更的前述第3、第4主測量線之延長線上的位置處。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009243902A JP5133322B2 (ja) | 2009-10-22 | 2009-10-22 | 真空処理装置、グラフ線表示方法 |
JP2009243903A JP5133323B2 (ja) | 2009-10-22 | 2009-10-22 | 真空処理装置、グラフ線表示方法 |
JP2009243901A JP5033858B2 (ja) | 2009-10-22 | 2009-10-22 | 真空処理装置、グラフ線表示方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201133167A TW201133167A (en) | 2011-10-01 |
TWI448857B true TWI448857B (zh) | 2014-08-11 |
Family
ID=43900190
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW099135754A TWI448857B (zh) | 2009-10-22 | 2010-10-20 | 真空處理裝置、圖表線顯示方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20130028038A (zh) |
CN (1) | CN102576658A (zh) |
TW (1) | TWI448857B (zh) |
WO (1) | WO2011048961A1 (zh) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006237052A (ja) * | 2005-02-22 | 2006-09-07 | Nikon System:Kk | 情報表示方法、情報表示プログラム、情報表示装置及びデバイス製造システム、並びに基板処理装置 |
JP2008052577A (ja) * | 2006-08-25 | 2008-03-06 | Hitachi High-Technologies Corp | 稼働状況を提示することができる装置 |
JP2008267852A (ja) * | 2007-04-17 | 2008-11-06 | Hioki Ee Corp | 記録波形の表示方法およびその装置並びにデータの選択的表示方法 |
TW200935547A (en) * | 2007-12-11 | 2009-08-16 | Ulvac Inc | Substrate transfer apparatus, substrate transfer method, and vacuum processing apparatus |
TW200941576A (en) * | 2008-03-20 | 2009-10-01 | Ips Ltd | Vacuum processing apparatus |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7412345B2 (en) * | 2004-05-18 | 2008-08-12 | General Electric Company | System, method, and article of manufacture for obtaining data |
JP4221011B2 (ja) * | 2006-05-31 | 2009-02-12 | 株式会社日立製作所 | 作業動作分析方法、作業動作分析装置および作業動作分析プログラム |
JP4368905B2 (ja) * | 2007-05-11 | 2009-11-18 | シャープ株式会社 | グラフ描画装置および方法、その方法を実行する歩留り解析方法および歩留り向上支援システム、プログラム、並びにコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
JP4808809B2 (ja) * | 2007-05-29 | 2011-11-02 | 東京エレクトロン株式会社 | データ表示装置、データ表示方法、プログラム |
-
2010
- 2010-10-08 CN CN201080047322.1A patent/CN102576658A/zh active Pending
- 2010-10-08 KR KR1020127010344A patent/KR20130028038A/ko not_active Application Discontinuation
- 2010-10-08 WO PCT/JP2010/067719 patent/WO2011048961A1/ja active Application Filing
- 2010-10-20 TW TW099135754A patent/TWI448857B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006237052A (ja) * | 2005-02-22 | 2006-09-07 | Nikon System:Kk | 情報表示方法、情報表示プログラム、情報表示装置及びデバイス製造システム、並びに基板処理装置 |
JP2008052577A (ja) * | 2006-08-25 | 2008-03-06 | Hitachi High-Technologies Corp | 稼働状況を提示することができる装置 |
JP2008267852A (ja) * | 2007-04-17 | 2008-11-06 | Hioki Ee Corp | 記録波形の表示方法およびその装置並びにデータの選択的表示方法 |
TW200935547A (en) * | 2007-12-11 | 2009-08-16 | Ulvac Inc | Substrate transfer apparatus, substrate transfer method, and vacuum processing apparatus |
TW200941576A (en) * | 2008-03-20 | 2009-10-01 | Ips Ltd | Vacuum processing apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201133167A (en) | 2011-10-01 |
WO2011048961A1 (ja) | 2011-04-28 |
CN102576658A (zh) | 2012-07-11 |
KR20130028038A (ko) | 2013-03-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4568786B2 (ja) | 要因分析装置および要因分析方法 | |
CN101156061A (zh) | 基板检查装置 | |
JP6516865B2 (ja) | 測定対象の寸法特性を決定するための方法及び装置 | |
CN108369916A (zh) | 晶片逐点分析和数据呈现 | |
JP2002031525A (ja) | 半導体ウエハのパターン形状評価方法及び装置 | |
CN102221352A (zh) | 一种合金钢脱碳层深度的测量方法 | |
JP2009104523A (ja) | 不良要因抽出方法および装置、工程安定化支援システム、プログラム、並びにコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | |
JP5133323B2 (ja) | 真空処理装置、グラフ線表示方法 | |
TWI448857B (zh) | 真空處理裝置、圖表線顯示方法 | |
TWI801973B (zh) | 錯誤因素之推定裝置及推定方法 | |
TW200813879A (en) | Server and program | |
JP5133322B2 (ja) | 真空処理装置、グラフ線表示方法 | |
JP4627710B2 (ja) | 分析装置 | |
JP2022043848A (ja) | コンピュータプログラム、不良要因分析方法及び不良要因分析装置 | |
JP4253023B2 (ja) | 荷電粒子線装置及び走査電子顕微鏡の制御装置 | |
JP5100791B2 (ja) | グラフのグループ移動による表示プログラム | |
JP5033858B2 (ja) | 真空処理装置、グラフ線表示方法 | |
JP5401610B2 (ja) | グラフの特定期間の切り出し方法 | |
JP2010169573A (ja) | X線分析及び熱分析同時分析装置 | |
JP7193303B2 (ja) | データ記録システム | |
JP2011164009A (ja) | 硬さ試験機及びプログラム | |
JP7362468B2 (ja) | 加工面形状予測装置、及びその方法 | |
JP2007064785A (ja) | 分析装置 | |
WO2010125919A1 (ja) | エラー要因抽出の表示方法及びその表示システム | |
TWI291544B (en) | Apparatus and method for testing parameters of articles by predetermined a testing area |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |