TWI436107B - 轉印結構及其製造方法 - Google Patents

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Description

轉印結構及其製造方法
本發明是關於轉印結構及其製造方法，特別是用於彩色顯示裝置及其製造方法。
近年來，平面顯示器的發展已趨成熟，在市場的帶動下，許多公司及研究單位紛紛投入電子紙顯示裝置的發展。電子紙顯示裝置具有低功耗、攜帶方便且可捲曲、及無視角限制的優點。根據其所使用的材料分為電泳型顯示材料(Electrophoretic Display Material)、電激發光顯示材料(Electrochromic Display Material)、及螺旋株型顯示材料(Twist ball Display Material)。電泳是由帶電粒子散佈於懸浮液中所形成，藉由外加電場可控制帶電粒子的移動，以顯示所需要呈現的影像。但是由於粒子會影響光的反射，因此傳統的電泳型顯示裝置只能提供單色的顯示，而無法提供全彩的顯示。
新式的電泳型顯示裝置提供了彩墨層(Color ink layer)以解決無法全彩顯示的問題。根據美國專利號US6,228,543 B1的美國發明專利，彩色光阻層可藉由熱轉移(Thermal transfer)的方法被轉移至電泳層(Electrophoretic Layer)。
請參閱第一圖(a)，其為習知熱轉移結構的示意圖。該熱轉移結構10包含一施體基板102(donor substrate)、一光熱轉換層104(Light to heat conversion layer)、及一彩墨層106(Color ink layer)。
請參閱第一圖(b)，其為習知熱轉移結構受輻射作用的示意圖。受輻射作用的熱轉移結構11包含該施體基板102、該光熱轉換層104、該彩墨層106、及一受體基板118(accept substrate)。該光熱轉換層104典型地包含一輻射吸收體(未顯示)，該輻射吸收體可吸收一輻射110，例如雷射光。當該輻射110照射於該光熱轉換層104時，該光熱轉換層104吸收該輻射110且將所吸收輻射110的一部分轉成熱量，使該彩墨層106吸收該熱量而可轉移至該受體基板118，例如電泳層。
請參閱第一圖(c)，其為習知熱轉移結構轉移後的示意圖。轉移後的熱轉移結構12包含該施體基板102、該光熱轉換層104、該彩墨層106、及該受體基板118。由第一圖(c)可知該彩墨層106已被轉移至該受體基板118，而該光熱轉換層104從該彩墨層106分離。
雖然該彩墨層106經過熱轉移後會附著於該受體基板118上，但是由於附著力不佳會導致脫落剝離的問題。
鑑於上述缺點，一種轉印結構被提出，該轉印結構包含一基板、一彩墨層及一膠黏裝置。該彩墨層包括一作用區域，該膠黏裝置用以結合該作用區域及該基板。
依據上述構想，一種製造轉印結構之方法被提出，該方法包含下列步驟：(a)進行一黏合步驟，黏合一第一基板與一第二基板。(b)提供一彩墨層，該彩墨層包括一作用區域。(c)進行一膠黏步驟，以結合該作用區域及該第二基板。
依據上述構想，另一種製造轉印結構之方法被提出，該方法包含下列步驟：(a)提供一第一基板。(b)提供一彩墨層，該彩墨層包括一作用區域。(c)進行一膠黏步驟，以結合該作用區域及該基板。
當該彩墨層與受體基板之間未加上該膠黏裝置時已形成一黏附力，藉由本發明的實施，確實可以改善彩墨層與受體基板之間的黏附力，該膠黏裝置可使該彩墨層中的作用區域不容易從受體基板脫落或剝離。
請參閱第二圖，其為本案轉印結構的示意圖。該轉印結構6較佳地做為電子紙顯示裝置。該轉印結構6包含一第一基板2、一第二基板3、一彩墨層42、及一膠黏裝置43。在第二圖中，該第二基板3形成於該第一基板2上。該彩墨層42(color ink layer)較佳地為一彩色光阻層(color resist layer)。
請參閱第三圖，其為本案轉印結構的詳細結構圖。該第一基板2包含一第一基板基底21與一薄膜電晶體(TFT Transistor)TFT。該薄膜電晶體TFT的材料較佳為一矽半導體或一氧化物半導體，該氧化物半導體較佳為氧化鋅鎵銦(InGaZnO)。在第三圖中，該薄膜電晶體TFT可以是閘極在底部的型式的電晶體，該閘極22形成於該第一基板基底21上，該閘極22可由金屬、或具有導電性的聚合物所形成。閘極絕緣層23將該閘極22包覆，該閘極絕緣層23可由有機材料或無機材料形成。該閘極絕緣層23可以是單一層或是多層。一源極24a與一汲極24b形成於該閘極絕緣層23上，一主動區25形成於該源極24a與該汲極24b之間且在該閘極絕緣層23上，以連接該源極24a與該汲極24b。該主動區25可由具有彈性的有機或無機半導體材料所形成。在形成該薄膜電晶體TFT後，該絕緣層26形成而覆蓋於該薄膜電晶體TFT上，然後一畫素電極27(pixel electrode)形成於該絕緣層26上。該畫素電極27用於耦接該薄膜晶體TFT的汲極24b。
接下來形成該第二基板3。該第二基板3可藉由一膠黏層35附著於該第一基板2。該第二基板3包含一第二基板基底31、一共電極32、及一電泳層33。該共電極32形成於第二基板基底31上，該電泳層33形成於該共電極32上。該電泳層33舉例來說包含複數個電泳球34。在每一個該電泳球34中包含複數個第一電泳粒子34b與複數個第二電泳粒子34c，該第一電泳粒子34b與該第二電泳粒子34c彼此顏色不相同而散佈在一電泳媒體34a中。在第三圖中，當提供一電壓差VD 於該畫素電極27與該共電極32之間時，該第一電泳粒子34b與該第二電泳粒子34c分別被該共電極32與該畫素電極所吸引而移動，因此可使該轉印結構6顯示預定的影像。
請參閱第四圖(a)，其為本案第一實施例轉印結構6的示意圖。該轉印結構6包含該第二基板3、該彩墨層42、及該膠黏裝置43。該彩墨層42包括一紅色彩墨42a、一綠色彩墨42b、及一藍色彩墨42c。該膠黏裝置43包含一第一膠黏物43a、一第二膠黏物43b、及一第三膠黏物43c，該膠黏裝置43的厚度較佳為0.8~2.5μm。在第三圖中，該彩墨層42與該畫素電極27對齊，以使顏色能夠被感知。在第四圖(a)中，該彩墨層42包括一作用區域4，該膠黏裝置43係一體成形於該作用區域4的一黏性材料，用以黏附該第二基板3。該膠黏裝置43的材料為環氧樹脂(Epoxy)、聚氨基甲酸脂(poly-urethane)、氰胺壓克力(cyano-acrylic)、或矽狀樹脂(silicon type resin)。
請參閱第四圖(b)，其為本案第一實施例另一轉印結構9的示意圖。該轉印結構9包括一彩色濾光片7(color filter)、該第一基板2、及該第二基板3。該彩色濾光片7包含一黑色矩陣71、該彩墨層42、及該膠黏裝置43。在該第二基板3中包含一間隔物8。在第三圖中，該第二基板3中的電泳球34可 利用其他不同的物質取代，例如：膽固醇液晶(Cholesteric Liquid Crystal Display,CHLCD)、或快速反應液態粉(Quick Response Liquid Powder Display,QRLPD)。若是以上述兩種物質來製造時，則需要支撐物以支撐及分隔該彩色濾光片7與該第一基板2，例如該間隔物8。除此之外電泳球34亦可用微杯(Micro Cup)來取代。該黑色矩陣71用以遮蔽從畫素的其他地方出來的光。
請參閱第五圖(a)~(d)，其為本案第二實施例製造該轉印結構6的方法的示意圖。在第五圖(a)中，該第一基板2附著於該第二基板3，在第五圖(c)中，該彩墨層53包含該作用區域50，從第三圖與第五圖(a)可知，先黏合該第一基板2與該第二基板的好處在於省去該作用區域4與該畫素電極27對齊的問題。
在第五圖(b)中，一施體基板5包含一施體基板基底51、一光熱轉換層52、一彩墨層53、及一膠黏裝置54。
在第五圖(c)中，該施體基板5與該第二基板3、及該第一基板2疊合，然後以一輻射501照射一作用區域50，該作用區域50與該畫素電極27對齊，該輻射較佳地為一雷射光束(Laser Beam)，該作用區域50與該畫素電極27對齊，該雷射光束可以精確地選擇照射至該作用區域50，該作用區域50附近的該光熱轉換層52將所吸收的一部分雷射光束轉換成熱量，而該作用區域50的該彩墨層53與該作用區域50附近的該膠黏裝置54吸收該熱量，因該彩墨層53與該膠黏裝置54的熔點比該光熱轉換層52低，所以熔化而附著於該第二基板3，也就是說該彩墨層53與該膠黏裝置54被轉印到該第二基板3。藉由上述的方式，其他作用區域(未顯示)也可以附著於該第二基板3。
在第五圖(d)中，在該作用區域50及在該作用區域50附近的該膠黏裝置54附著於該第二基板3後，其分別在該第二基板3上形成該彩墨層42與該膠黏裝置43，接著移除該施體基板5。該彩墨層53包含一非作用區域55，在移除該施體基板5時，該非作用區域55及在該非作用區域55附近的膠黏裝置54會與該第二基板3分離，在該彩墨層42及該作用區域50附近的該膠黏裝置43則會留在該第二基板基底31上，當該彩墨層42與該第二基板3之間未加上該膠黏裝置43時已形成一黏附力，而該彩墨層42與該第二基板3之間可藉由該膠黏裝置43改善該黏附力，該膠黏裝置43可使該彩墨層42不脫落或剝離。在該施體基板5被移除後，將一保護片(未顯示)貼附於該彩墨層42以保護其不受到污染。
從本案第二實施例可知，製造該轉印結構6的方法包含下列步驟：(a)進行一黏合步驟，以黏合該第一基板2與該第二基板3。(b)提供一彩墨層53，該彩墨層包括一作用區域50。(c)進行一膠黏步驟，以結合該作用區域50的該彩墨層53及該第二基板3。
請參閱第六圖(a)~(d)，其為本案第三實施例製造該轉印結構6的方法的示意圖。在第六圖(a)中，先提供該施體基板5，該施體基板5同樣包含該施體基板基底51、該光熱轉換層52、該彩墨層53、及該膠黏裝置54。接著將該彩墨層53及該膠黏裝置54朝向該第二基板基底31以進行疊合。
在第六圖(b)中，一輻射501照射於作用區域50，該作用區域50相關於畫素電極27的位置。該輻射501較佳地為一雷射光束(Laser Beam)，該雷射光束可以精確地選擇照射至該作用區域50，該作用區域50附近的該光熱轉換層52將所吸收的一部分雷射光束轉換成熱量，而該作用區域50與該作用區域50附近的該膠黏裝置54吸收該熱量，因該彩墨層53與該膠黏裝置54的熔點比該光熱轉換層52低，所以熔化而附著於該第二基板3，也就是說該彩墨層53與該膠黏裝置54被轉印到該第二基板3。藉由上述的方式，其他作用區域(未顯示)也可以附著於該第二基板3。
在第六圖(c)中，在該作用區域50及該作用區域50附近的該膠黏裝置54附著於該第二基板3後，其分別在該第二基板3上形成該彩墨層42與該膠黏裝置43，接著移除該施體基板5。該彩墨層53包含一非作用區域55，在移除該施體基板5時，該非作用區域55及該非作用區域55附近的膠黏裝置54會與該第二基板3分離，在該彩墨層42及該作用區域50附近的該膠黏裝置43則會留在該第二基板基底31上，當該彩墨層42與該第二基板3之間未加上該膠黏裝置43時已形成一黏附力，而該彩墨層42與該第二基板3之間可藉由該膠黏裝置43改善該黏附力，該膠黏裝置43可使該彩墨層42不脫落或剝離。
在第六圖(d)中，該彩墨層42與該膠粘裝置43已黏附於該第二基板3上，接下來該第二基板3再與該第一基板2黏合，在黏合的過程中要注意的是該彩墨層42必須與該畫素電極27對齊，而在本案第二實施例中，因為該第一基板2與該第二基板3已經先黏合，所以在照射輻射的過程中，只要選擇性地照射該作用區域50就能將該彩墨層42轉印至該畫素電極27的區域，不需要使該彩墨層42與該畫素電極27對齊。
從本案的第三實施例可知，製造該轉印裝置6的方法包含下列步驟：(a)提供該第二基板3。(b)提供該彩墨層53，該彩墨層53包括一作用區域50。(c)進行一膠黏步驟，以結合該作用區域50的該彩墨層53及該第二基板3。
在本案第一實施例中，一種轉印結構包含一基板、一彩墨層、及一膠黏裝置。該彩墨層包括一作用區域，該膠黏裝置用以結合該作用區域與該基板。
其中，該膠黏裝置為設置於該作用區域及該基板之間的一膠黏層。
其中，該膠黏裝置係一體成形於該作用區域的一黏性材料，用以黏附該基板。
其中，該膠黏裝置的材料為環氧樹脂(Epoxy)、聚氨基甲酸脂(poly-urethane)、氰胺壓克力(cyano-acrylic)、或矽狀樹脂(silicon type resin)。
其中，該彩墨層更包含一非作用區域，該彩墨層為一彩色光阻層，該彩墨層介於一熱轉換層及該膠黏裝置之間。
其中，該膠黏裝置的厚度為0.8~2.5μm。
其中，該基板包括複數個電泳球(electrophoretic ball)及一薄膜電晶體，
其中，該薄膜電晶體的材料包括一矽半導體或一氧化物半導體。
其中，該氧化物半導體為氧化鋅鎵銦(InGaZnO)。
其中，一輻射選擇性地照射於該作用區域，而使該作用區域被轉印至該基板。
其中，該作用區域與該基板之間形成一黏附力，該作用區域與該基板之間藉由該膠黏裝置改善該黏附力。
其中，該轉印結構更包含一彩色濾光片、一黑色矩陣、及一間隔物。
在本案第二實施例中，一種製造轉印結構之方法包含下列步驟：(a)進行一黏合步驟，以黏合一第一基板與一第二基板。(b)提供一彩墨層，該彩墨層包括一作用區域。(c)進行一膠黏步驟，以結合該作用區域及該第二基板。
其中，在步驟(c)之後還包含下列步驟：該彩墨層包括一非作用區域，將該非作用區域與該第二基板分離。將一保護片貼附於該作用區域。
其中，一輻射選擇性地照射於該作用區域，而使該作用區域被轉印至該第二基板。
其中，該作用區域與該第二基板之間形成一黏著力，該作用區域與該第二基板之間藉由一膠黏裝置改善該黏著力。
其中，該彩墨層為一彩色光阻層，該彩墨層介於一熱轉換層及一膠黏裝置之間。
其中，該第二基板包含複數個電泳球(electrophoretic ball)，該第一基板包含一薄膜電晶體。
在本案第三實施例中，一種製造轉印結構之方法包含下列步驟：(a)提供一第一基板。(b)提供一彩墨層，該彩墨層包括一作用區域。(c)進行一膠黏步驟，以結合該作用區域及該基板。
其中，在步驟(c)之後還包含下列步驟：該彩墨層包括一非作用區域，將該非作用區域與該第一基板分離。黏合該第一基板與一第二基板。將一保護片貼附於該作用區域。
本發明的說明與實施例已揭露於上，然其非用來限制本發明，凡習知此技藝者，在不脫離本本發明的精神與範圍之下，當可做各種更動與修飾，其仍應屬在本發明專利的涵蓋範圍之內。
10．．．該熱轉移結構
11．．．受輻射作用的熱轉移結構
12．．．轉移後的熱轉移結構
2．．．第一基板
3．．．第二基板
43,54．．．膠黏裝置
22．．．閘極
25．．．主動區
24a．．．源極
24b．．．汲極
27．．．畫素電極
32．．．共電極
31．．．第二基板基底
43a．．．第一膠黏物
43b．．．第二膠黏物
43c．．．第三膠黏物
51．．．施體基板基底
8．．．間隔物
TFT．．．薄膜電晶體
5,102．．．施體基板
52,104．．．光熱轉換層
42,53,106．．．彩墨層
118．．．受體基板
6,9．．．轉印結構
21．．．第一基板基底
23．．．閘極絕緣層
26．．．絕緣層
35．．．膠黏層
34a．．．電泳媒體
34b．．．第一電泳粒子
34c．．．第二電泳粒子
34．．．電泳球
42a．．．紅色彩墨
42b．．．綠色彩墨
42c．．．藍色彩墨
7．．．彩色濾光片
71．．．黑色矩陣
第一圖(a)：習知熱轉移結構的示意圖；
第一圖(b)：習知習知熱轉移結構受輻射作用的示意圖；
第一圖(c)：習知熱轉移結構轉移後的示意圖；
第二圖：本案轉印結構的示意圖；
第三圖：本案轉印結構的詳細結構圖；
第四圖(a)：本案第一實施例轉印結構的示意圖；
第四圖(b)：本案第一實施例另一轉印結構的示意圖；
第五圖(a)~(d)：本案第二實施例製造該轉印結構的方法的示意圖；及
第六圖(a)~(d)：本案第三實施例製造該轉印結構的方法的示意圖。
2‧‧‧第一基板
3‧‧‧第二基板
43,54‧‧‧膠黏裝置
22‧‧‧閘極
25‧‧‧主動區
24a‧‧‧源極
24b‧‧‧汲極
27‧‧‧畫素電極
32‧‧‧共電極
31‧‧‧第二基板基底
43a‧‧‧第一膠黏物
43b‧‧‧第二膠黏物
43c‧‧‧第三膠黏物
51‧‧‧施體基板基底
5‧‧‧施體基板
52‧‧‧光熱轉換層
42,53‧‧‧彩墨層
TFT‧‧‧薄膜電晶體
6,9‧‧‧轉印結構
21‧‧‧第一基板基底
23‧‧‧閘極絕緣層
26‧‧‧絕緣層
35‧‧‧膠黏層
34a‧‧‧電泳媒體
34b‧‧‧第一電泳粒子
34c‧‧‧第二電泳粒子
34‧‧‧電泳球
42a‧‧‧紅色彩墨
42b‧‧‧綠色彩墨
42c‧‧‧藍色彩墨

Claims (8)

  1. 一種轉印結構，包含：一基板；一彩墨層，包括一作用區域；及一膠黏裝置，用以結合該作用區域及該基板，其中該膠黏裝置為設置於該作用區域及該基板之間的一膠黏層，及該膠黏裝置係一體成形於該作用區域的一黏性材料，用以黏附該基板。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的轉印結構，其中：該膠黏裝置的材料為環氧樹脂(Epoxy)、聚氨基甲酸脂(poly-urethane)、氰胺壓克力(cyano-acrylic)、或矽狀樹脂(silicon type resin)；該彩墨層更包含一非作用區域；該彩墨層為一彩色光阻層；該彩墨層介於一熱轉換層及該基板之間；該膠黏裝置的厚度為0.8~2.5μm；該基板包括複數個電泳球(electrophoretic ball)及一薄膜電晶體；及該薄膜電晶體的材料包括一矽半導體或一氧化物半導體；該氧化物半導體為氧化鋅鎵銦(InGaZnO)。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的轉印結構，其中：一輻射選擇性地照射於該作用區域，而使該作用區域被轉印至該基板；該作用區域與該基板之間形成一黏附力，該作用區域與該基板之間藉由該膠黏裝置改善該黏附力。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的轉印結構，更包含一彩色濾光片、一黑色矩陣、及一間隔物。
  5. 一種製造轉印結構之方法，該方法包含下列步驟：(a)進行一黏合步驟，以黏合一第一基板與一第二基板；(b)提供一彩墨層，該彩墨層包括一作用區域；(c)進行一膠黏步驟，以結合該作用區域及該第二基板(d)一輻射選擇性地照射於該作用區域，而使該作用區域被轉印至該第二基板；及(e)該作用區域與該第二基板之間形成一黏著力，該作用區域與該第二基板之間藉由一膠黏裝置改善該黏著力。
  6. 如申請專利範圍第5項所述的方法，其中在步驟(e)之後還包含下列步驟：該彩墨層包括一非作用區域，將該非作用區域與該第二基板分離；及將一保護片貼附於該作用區域。
  7. 如申請專利範圍第5項所述的方法，其中：該彩墨層為一彩色光阻層；該彩墨層介於一熱轉換層及該膠黏裝置之間；及該第二基板包含複數個電泳球(electrophoretic ball)，該第一基板包含一薄膜電晶體。
  8. 一種製造轉印結構之方法，該方法包含下列步驟：(a)提供一第一基板；(b)提供一彩墨層，該彩墨層包括一作用區域及一非作用區域；及(c)進行一膠黏步驟，以結合該作用區域及該基板(d)將該非作用區域與該第一基板分離；(e)黏合該第一基板與一第二基板；及(f)將一保護片貼附於該作用區域。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI566652B (zh) * 2015-09-16 2017-01-11 臻鼎科技股份有限公司 電路板及其製作方法
TWI744824B (zh) * 2020-03-18 2021-11-01 英業達股份有限公司 伺服器冷卻系統

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1202801B (de) * 1963-02-05 1965-10-14 Gerhard Ritzerfeld Verfahren zur Herstellung von Kopien oder Druckformen eines zu uebertragenden Musters bzw. Vorlage oder Vordruckes unter Anwendung von differenzierter Waerme- bzw. Infrarot-bestrahlung im Reflex- oder Durchleuchtungswege
US3834925A (en) * 1970-03-20 1974-09-10 Nissha Printing Transfer material
US4454179A (en) * 1982-05-10 1984-06-12 Minnesota Mining And Manufacturing Company Dry transfer article
US5269865A (en) * 1987-11-26 1993-12-14 Canon Kabushiki Kaisha Thermal transfer material and thermal transfer recording method
JP2001092388A (ja) * 1999-07-21 2001-04-06 Fuji Xerox Co Ltd 画像表示媒体の製造方法
US6228543B1 (en) 1999-09-09 2001-05-08 3M Innovative Properties Company Thermal transfer with a plasticizer-containing transfer layer
US6736484B2 (en) * 2001-12-14 2004-05-18 Seiko Epson Corporation Liquid drop discharge method and discharge device; electro optical device, method of manufacture thereof, and device for manufacture thereof; color filter method of manufacture thereof, and device for manufacturing thereof; and device incorporating backing, method of manufacturing thereof, and device for manufacture thereof
US7579061B2 (en) * 2002-09-30 2009-08-25 Polymeric Converting Llc Color changing tape, label, card and game intermediates
KR100530344B1 (ko) * 2002-12-02 2005-11-22 코리아케미칼 주식회사 금속층의 부분용해가 가능한 열전사지 및 그 제조방법
JP4560324B2 (ja) * 2004-04-07 2010-10-13 大日本印刷株式会社 パターン形成体の製造方法
JP4451193B2 (ja) * 2004-04-12 2010-04-14 大日本印刷株式会社 パターン形成体の製造方法
JP4945893B2 (ja) * 2004-11-11 2012-06-06 大日本印刷株式会社 パターン形成用基板
US8377630B2 (en) * 2005-07-29 2013-02-19 Anocoil Corporation On-press plate development without contamination of fountain fluid
US7513674B1 (en) * 2006-01-20 2009-04-07 Kevin Gerard Donahue See-through one-way light-emitting light guide
JP4436441B2 (ja) * 2007-06-08 2010-03-24 大日本印刷株式会社 電磁波シールド材及びその製造方法
DE102008036481A1 (de) * 2008-08-05 2010-02-11 Giesecke & Devrient Gmbh Verfahren zur Herstellung von Sicherheitselementen mit zueinander gepasserten Motiven
DE102008036480A1 (de) * 2008-08-05 2010-02-11 Giesecke & Devrient Gmbh Verfahren zur Herstellung von Sicherheitselementen mit gepasserten Motivschichten

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