TWI430453B - 有機光敏裝置 - Google Patents

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Description

有機光敏裝置
本發明大體而言係關於有機光敏光電子裝置。更具體言之，本發明係針對具有一施體－受體接面之有機光敏光電子裝置。
光電子裝置依賴於材料之光學及電子特性以電子地產生或偵測電磁輻射或自周圍的電磁輻射產生電流。
光敏光電子裝置將電磁輻射轉換成電流。太陽能電池(亦稱為光電(PV)裝置)為一種類型之光敏光電子裝置，其特定用於產生電能。可自除太陽光之外的光源產生電能的PV裝置可用於驅動功率消耗負載以提供(例如)照明、加熱、或給諸如計算器、無線電設備、電腦或遠端監控或通信設備之電子電路或裝置提供動力。此等功率產生應用亦常常涉及電池組或其它能量儲存裝置之充電，使得當來自太陽或其它光源之直接照明不可用時操作可繼續進行，或使PV裝置之功率輸出與特定應用的要求均衡。如本文所使用，術語"電阻性負載"係關於任何功率消耗或儲存電路、裝置、設備或系統。
另一種類型之光敏光電子裝置為光電導體電池。在此功能中，訊號偵測電路監控該裝置之電阻以偵測歸因於光吸收之改變。
另一種類型之光敏光電子裝置為光偵測器。在操作中，光偵測器與一可量測在光偵測器曝露於電磁輻射時所產生的電流的電流偵測電路結合使用且其可具有一所施加的偏壓。如本文所描述之偵測電路能夠將一偏壓提供至光偵測器並量測光偵測器對電磁輻射之電子回應。
可根據是否存在如以下所界定之整流接面且亦可根據是否使用一外部施加之電壓(亦稱為偏壓)來操作裝置而將此等三類光敏光電子裝置特徵化。光電導體電池不具有整流接面且通常使用一偏壓進行操作。PV裝置具有至少一整流接面且不使用偏壓進行操作。光偵測器具有至少一整流接面且通常但並非總是使用偏壓進行操作。通常，光電電池向電路、裝置或設備提供功率，但是並不提供訊號或電流以控制偵測電路或資訊自偵測電路之輸出。相反，光偵測器或光電導體則提供訊號或電流以控制偵測電路或資訊自偵測電路之輸出，但是不會向電路、裝置或設備提供功率。
傳統上，光敏光電子裝置已由許多無機半導體構造而成，例如，結晶矽、多晶矽及非晶矽、砷化鎵、碲化鎘及其它物質。本文中，術語"半導體"表示當由熱或電磁激勵來誘導電荷載流子時可傳導電流的材料。術語"光電導"大體而言係關於其中電磁輻射能被吸收且藉此被轉換成電荷載流子之激勵能從而使得該等載流子可在材料中傳導(意即，傳送)電荷的過程。本文使用術語"光電導體"及"光電導材料"以表示因具有吸收電磁輻射來產生電荷載流子之特性而被選擇的半導體材料。
PV裝置的特徵在於效率，其可以該效率將入射太陽能轉換成有用的電能。利用結晶矽或非晶矽之裝置在商業應用中佔優勢，且一些已達成了23%或更大之效率。然而，歸因於在生產大的晶體而沒有顯著效率降級缺陷中所固有的問題，製造有效的基於結晶的裝置(尤是具有大的表面面積的裝置)很難且很貴。另一方面，高效率的非晶矽裝置仍遭受穩定性之問題。當前市售非晶矽電池具有4%與8%之間的穩定化效率。更近的努力已集中於使用有機光電電池以達成可接受的光電轉換效率及經濟的生產成本。
為在標準照明條件(意即，1000 W/m2 的標準測試條件、AM1.5光譜照明)下產生最大電能、為使光電流乘光電壓之乘積最大，可最優化PV裝置。在標準照明條件下此電池之功率轉換效率取決於以下三個參數：(1)零偏壓下之電流，意即短路電流IS C ，(2)開路條件下之光電壓，意即開路電壓VO C ，及(3)填充因數ff 。
當跨過一負載連接PV裝置且該等PV裝置由光照射時，其產生一光生電流。當在無限負載的情況下照射PV裝置時，該PV裝置產生其最大可能之電壓：V開路或VO C 。當在其電觸點短接的情況下照射時，該PV裝置可產生其最大可能的電流：I短路或IS C 。當PV裝置實際上用於產生功率時，將其連接至一有限電阻性負載且由電流與電壓之乘積(I×V)給出功率輸出。由PV裝置產生之最大總功率固有地不能夠超過乘積IS C ×VO C 。當為最大功率提取而最優化負載值時，電流及電壓分別具有值Im a x 及Vm a x 。
PV裝置之品質因數為填充因數ff ，其被界定為：ff ＝{Im a x Vm a x }/{Is c Vo c } (1)其中，ff 總是小於1，因為在實際使用中從未同時獲得IS C 及VO C 。儘管如此，當ff 接近1時，裝置具有較少串聯電阻或內阻且因此在最優條件下將更大百分數之IS C 與VO C 乘積傳遞至負載。其中Pi n c 為傳到裝置上的功率，裝置的功率效率ηp可藉由下式來計算：ηP ＝ff *(IS C * Voc)/Pi n c
當具有適當能量之電磁輻射入射於半導體有機材料(例如，有機分子晶體(OMC)材料、或聚合物)上時，可吸收光子以產生分子激勵態。將此象徵性地表示為S0 ＋hv→S0 ＊ 。此處，S0 及S0 ＊ 分別表示分子基態及分子激勵態。將此能量吸收與電子自HOMO能級(其可為π－鍵)中之束縛態至LUMO能級(其可為π＊ －鍵)的增進(promotion)相關聯，或均等地，將此能量吸收與電洞自LUMO能級至HOMO能級的增進相關聯。在有機薄膜光電導體中，一般認為所產生之分子狀態為激子，意即，作為準粒子傳送之束縛態的電子－電洞對。激子在成雙的重組之前可具有可估計的壽命，其係關於原始之電子與電洞彼此重組的過程，其相逆於與來自其它對的電洞或電子重組。為了產生光電流，一般在兩個相異的接觸有機薄膜之間的施體－受體介面處電子－電洞對變得獨立。若電荷不獨立，則其可在成雙的重組過程(亦稱為淬滅)中輻射地藉由發射能量低於入射光的光或非輻射地藉由產生熱而重組。此等結果中之任一者均不是光敏光電子裝置中所要的。
電場或觸點處之不均勻性可導致激子淬滅而不是在施體－受體介面處解離，從而導致沒有對電流之淨貢獻。因此，需要保持光生激子遠離觸點。此具有限制激子擴散至接面附近之區域的效果，從而使得相關聯之電場具有增加之機會來隔離因解離接面附近之激子而被釋放的電荷載流子。
為了產生佔據實質容量之內部所產生的電場，通常的方法為並置具有經適當選擇之傳導特性(尤其關於其分子量子能量狀態之分佈)的材料的兩個層。將此等兩種材料之介面稱為光電異質接面。在傳統的半導體理論中，已將用於形成PV異質接面之材料表示為通常屬於n型或p型。此處n型表示大多數載流子類型為電子。可將此視為具有許多呈相對自由之能量狀態的電子的材料。P型表示大多數載流子類型為電洞。該材料具有許多呈相對自由之能量狀態的電洞。背景之類型(意即，並非光生之大多數載流子濃度)主要取決於由缺陷或雜質引起之無意識的摻雜。雜質之類型及濃度判定了在最高佔據分子軌域(HOMO)能級與最低未佔據分子軌域(LUMO)能級之間的間隙(稱為HOMO－LUMO間隙)內的費米能量值或能級值。該費米能量表現由能量值所表示之分子量子能量狀態的統計性佔據的特徵，其佔據之機率等於1/2。接近LUMO能級的費米能量指示電子為主要載流子。接近HOMO能級的費米能量指示電洞為主要載流子。因此，費米能量為傳統半導體之主要特徵化特性且原型PV異質接面傳統地為p－n介面。
術語"整流"尤其表示介面具有不對稱的傳導特徵，意即，介面支持電子電荷較佳在一個方向上之傳送。整流通常與在經適當選擇之材料之間的異質接面處發生之內置電場相關聯。
如本文所使用且如熟習此項技術者通常所理解，若第一能級更接近真空能級，則第一"最高佔據分子軌域"(HOMO)或"最低未佔據分子軌域"(LUMO)能級"大於"或"高於"第二HOMO或LUMO能級。由於游離電位(IP)是作為相對於真空能級的負能量來量測，因此較高HOMO能級對應於一具有較小絕對值的IP(負性較小的IP)。類似地，較高LUMO能級對應於一具有較小絕對值的電子親合性(EA)(負性較小的EA)。在真空能級處於頂部的習知能級圖表上，一種材料的LUMO能級高於相同材料的HOMO能級。與"較低"HOMO或LUMO能級相比，"較高"HOMO或LUMO能級出現在更接近此圖表的頂部之處。
在有機材料的內容中，術語"施體"及"受體"表示兩種接觸但不同的有機材料之HOMO及LUMO能級的相對位置。此與此等術語在無機內容中之使用相反，在無機內容中，"施體"及"受體"可表示可用於分別製造無機n及p型層的摻雜劑之類型。在有機內容中，若一種與另一種材料接觸的材料之LUMO能級較低，則該材料為受體。否則，其為施體。在不存在外部偏壓的情況下，處於施體－受體接面處的電子移入受體材料而電洞移入施體材料是積極有利的。
有機半導體中之重要特性為載流子遷移率。遷移率量測電荷載流子可回應於電場而移動穿過傳導材料的容易性。在有機光敏裝置的內容中，包括歸因於高電子遷移率而優先藉由電子來傳導之材料的層可稱為電子傳送層，或ETL。一包括歸因於高電洞遷移率而優先藉由電洞來傳導之材料的層可稱為電洞傳送層，或HTL。受體材料較佳但非必須為ETL，且施體材料較佳但非必須為HTL。
習知之無機半導體PV電池使用p－n接面以建立一內場。早期有機薄膜電池(諸如由Tang報導之Appl.Phys Lett. 48,183(1986))所包含的異質接面類似於在習知之無機PV電池中所使用的異質接面。然而，吾人現已認識到，除了建立p－n類型之接面外，異質接面之能級偏移亦起重要作用。
歸因於有機材料中之光生過程的基礎性質，吾人認為有機D－A異質接面處之能級偏移對有機PV裝置之操作很重要。當對有機材料進行光學激勵時，即產生區域化Frenkel或電荷轉移激子。為了發生電偵測或電流產生，必須將束縛激子解離成其組成部分的電子及電洞。可由內置電場誘導該過程，但是一般在有機裝置中所發現之電場(F~106 V/cm)處的效率很低。有機材料中之最有效的激子解離在施體－受體(D－A)介面處發生。在該介面處，具有低游離電位之施體材料與具有高電子親合性之受體材料一起形成一異質接面。取決於施體及受體材料之能級的對齊，激子在該介面處之解離可變得積極地有利，從而導致在受體材料中產生自由電子極化子且在施體材料中產生自由電洞極化子。
當與傳統的基於矽之裝置相比較時，有機PV電池具有許多潛在優勢。有機PV電池重量輕，在材料使用方面經濟，且可被安置於諸如可撓性塑料箔片之低成本基板上。然而，一些有機PV裝置一般具有相對低的外部量子效率，約為1%或更少。吾人認為此部分地歸因於固有光電導過程之二階性質。即，載流子產生需要激子產生、擴散及游離或收集。存在與此等過程中的每一者相關聯的效率η。可如下使用下標：P表示功率效率；EXT表示外部量子效率；A表示光子吸收；ED表示激子擴散；CC表示電荷收集；且INT表示內部量子效率。使用此符號表示法：ηP ~ηE X T ＝ηA *ηE D *ηC C ηE X T ＝ηA *ηI N T
激子之擴散長度(LD )一般遠小於(LD ~50)光學吸收長度(~500)，從而需要在使用具有多個介面或高度折疊介面之厚且因此有電阻的電池或具有低光學吸收效率的薄電池之間權衡。
一般地，當光被吸收以在有機薄膜中形成激子時，可形成單重態激子。藉由系統間過渡之機制，該單重態激子可衰變成三重態激子。在此過程中能量損失，此將導致裝置之效率更低。若自系統間過渡無能量損失，則將需要使用能產生三重態激子的材料，因為三重態激子較單重態激子一般具有更長的壽命，且因此具有更長的擴散長度。
本發明提供一種感光性裝置。該裝置包括一第一電極、一第二電極及一安置於該第一電極與該第二電極之間並電連接至該第一電極與該第二電極的感光性區域。該感光性區域進一步包括可形成一施體－受體異質接面之有機施體層及有機受體層。該有機施體區域中的電洞遷移率及該有機受體區域中的電子遷移率相差至少100倍，且更佳地相差至少1000倍。有機施體區域中的電洞遷移率及有機受體區域中的電子遷移率中至少一者大於0.001 cm2 /V－sec，且更佳地大於1 cm2 /V－sec。異質接面可為多種類型，包括一平面異質接面、一本體異質接面、一混合異質接面及一混合之平面－混合異質接面。
本發明提供了一種有機光敏光電子裝置。本發明之實施例之有機裝置可用於(例如)自入射電磁輻射產生一可用電流(例如PV裝置)或可用於偵測入射電磁輻射。本發明之實施例可包含一陽極、一陰極及一位於陽極與陰極之間的感光性性區域。該感光性區域為光敏裝置吸收電磁輻射以產生激子之一部分，其中該等激子可解離以產生電流。有機光敏光電子裝置亦可包括至少一透明電極以允許該裝置吸收入射輻射。美國專利第6,657,378號、6,580,027號及6,352,777號描述了若干pV裝置材料及組態，該等專利以全文引用的方式倂入本文。
圖1展示了有機光敏性光電子裝置100。不必將該等圖按比例繪製。裝置100可包括基板110、陽極115、陽極平滑層120、施體層125、受體層130、阻斷層135及陰極140。陰極140可為一具有第一傳導層及第二傳導層之複合陰極。可藉由按順序沉積所描述之層來製造裝置100。電荷分離可主要發生在施體層125與受體層130之間的有機異質接面處。藉由相互接觸而形成異質接面的兩種材料之間的HOMO－LUMO能級差來判定異質接面處的內置電位。施體與受體材料之間的HOMO－LUMO間隙偏移在施體/受體介面處產生一電場，其促進在該介面之激子擴散長度內所產生的激子的電荷分離。
圖1中所說明之層的特定排列僅為例示性，且並不意慾具有限制性。舉例而言，可忽略其中一些層(諸如阻斷層)。可添加其它層(諸如反射層或額外之受體及施體層)。可改變諸層之次序。可使用除彼等特定描述之排列以外的排列。
基板可為能提供所要之結構特性的任何適當之基板。基板可具有可撓性或剛性、具有平面性或非平面性。基板可為透明、半透明或不透明。塑膠及玻璃為較佳之剛性基板材料之實例。塑膠及金屬箔片為較佳之可撓性基板材料之實例。可選擇基板之材料及厚度以獲得所要的結構特性及光學特性。
以引用方式倂入本文的美國專利第6,352,777號提供了可用於光敏光電子裝置的電極或觸點之實例。當用於本文中時，術語"電極"及"觸點"係關於能提供一用於將光生電流傳遞至外部電路或將偏壓提供給裝置之媒介的層。意即，電極或觸點提供有機光敏光電子裝置之主動區域與用於將電荷載流子傳送至外部電路或自外部電路傳送電荷載流子之電線、引線、跡線或其它構件之間的介面。在光敏光電子裝置中，需要允許來自裝置外部之最大量的周圍電磁輻射進入光電導主動內部區域。意即，電磁輻射必須到達一或多個光電導層，在此處其可藉由光電導吸收而被轉換成電。此通常指示其中至少一電觸點應最小地吸收且最小地反射入射電磁輻射。意即，該觸點應大體上透明。相對之電極可為反射性材料使得已穿過電池而不被吸收之光經由該電池而被反射回來。如本文所使用，當一材料層或不同材料之若干層的一序列允許相關波長下的至少50%之周圍電磁輻射透射穿過該層或該等層時，將該層或該等層稱為"透明的"。類似地，將允許相關波長下的周圍電磁輻射之一些但少於50%透射的層稱為"半透明的"。
如本文所使用，"頂部"意謂離基板最遠，而"底部"意謂最靠近基板。舉例而言，對於具有兩個電極之裝置而言，底部電極為離基板最近之電極，且其一般為所製造的第一電極。底部電極具有兩個表面：一最靠近基板的底部表面及一離基板較遠的頂部表面。在將第一層描述為"安置於"第二層上時，安置該第一層以使其離基板較遠。除非指定第一層"實體接觸"第二層，否則可在第一層與第二層之間存在其它層。舉例而言，可將陰極描述為"安置於"陽極上，即使其間存在各種有機層。
電極較佳地包含金屬或"金屬替代物"。此處，術語"金屬"用於包括包含基本純金屬(例如Mg)與金屬合金二者之材料，該等金屬合金為包含兩種或兩種以上基本純金屬的材料(例如Mg與Ag一起，表示為Mg：Ag)。此處，術語"金屬替代物"係關於一種材料：其在標準定義內並非為金屬，但是其在某些適當的應用中具有所要的類金屬特性。通常針對電極及電荷轉移層所使用之金屬替代物將包括經摻雜之寬能帶隙半導體，例如，諸如氧化銦錫(ITO)、氧化鎵銦錫(GITO)及氧化鋅銦錫(ZITO)之透明的傳導氧化物。詳言之，ITO為具有約3.2 eV之光學能帶隙的經高度摻雜的簡並n＋半導體，從而使其對於大於約3900之波長而言為透明的。另一適當之金屬替代物為透明的傳導性聚合物聚苯胺(PANI)及其化學關係物。金屬替代物可進一步選自廣泛範圍之非金屬材料，其中術語"非金屬"意謂包括廣泛範圍之材料，其限制條件為該材料不含化學上呈現未結合之形式的金屬。當金屬以其化學上未結合之形式而存在時，單獨地或與一或多種其它金屬組合成為合金，則該金屬或者可被稱為以其金屬形式存在或為"游離金屬"。因此，有時可將本發明之金屬替代物電極稱為"不含金屬"，其中術語"不含金屬"表達上意謂包括一種不含呈其化學上未結合形式之金屬的材料。游離金屬一般具有由許多價電子產生之某種形式的金屬鍵結，該等價電子可貫穿金屬晶格而在電子導帶中自由移動。儘管金屬替代物可包含金屬組份，但是在若干基上其為"非金屬"。其既非為純游離金屬也非為游離金屬之合金。當金屬以其金屬形式而存在時，電子導帶易於提供(在其它金屬特性中)高的電傳導性以及高的對光學輻射的反射性。
本發明之實施例可包括(作為光敏光電子裝置之一或多個透明電極)一高度透明的、非金屬的、低電阻的陰極(諸如Parthasarathy等人之美國專利第6,420,031號中所揭示("Parthasarathy '031"))或一高度有效的、低電阻的金屬/非金屬複合陰極(諸如Forrest等人之美國專利第5,703,436號中所揭示("Forrest '436"))，該等專利之全部內容以引用的方式併入本文。較佳地，在一製造過程中製造每一類型之陰極，該製造過程包括以下步驟：將一ITO層濺鍍沉積至有機材料(諸如銅酞菁(CuPc))上以形成一高度透明的、非金屬的、低電阻的陰極或將ITO層濺鍍沉積至一薄Mg：Ag層上以形成一高度有效的、低電阻的金屬/非金屬複合陰極。
本文中，以以下方式使用術語"陰極"。在周圍輻射下且與一電阻性負載連接且無外部施加之電壓的非堆疊之PV裝置或堆疊之PV裝置的單一單元(例如，PV裝置)中，電子自光電導材料移動至陰極。類似地，在本文中使用術語"陽極"使得在照明下的PV裝置中，電洞自光電導材料移動至陽極，其相當於電子以相反方式移動，應注意，當在本文中使用該等術語時，陽極及陰極可為電極或電荷轉移層。
有機光敏裝置將包含至少一感光性區域，在該感光性區域中光被吸收以形成激發態或"激子"，該激子隨後可解離成一電子及一電洞。激子之解離一般將在藉由受體層及施體層之並置而形成的異質接面處發生。舉例而言，在圖1之裝置中，"感光性區域"可包括施體層125及受體層130。
受體材料可包含(例如)苝、萘、芙或奈米管。受體材料之一實例為3,4,9,10－苝四羧酸雙－苯幷咪唑(PTCBI)。或者，受體層可包含如美國專利第6,580,027號中所描述的芙材料，該專利之全部內容以引用方式併入本文。一有機施體類型材料層相鄰於該受體層。受體層及施體層之邊界形成可產生一內部產生之電場的異質接面。施體層之材料可為酞菁或卟啉或其衍生物或過渡金屬錯合物，諸如銅酞菁(CuPc)。可使用其它合適之受體及施體材料。
經由在感光性區域中使用有機金屬材料，併入該等材料之裝置可有效地利用三重態激子。吾人已發現，單重態－三重態混合對於有機金屬化合物而言可如此堅固從而使得吸收涉及自單重態基態直接至三重態激勵態的激勵過程，從而消除了與自單重態激勵態至三重態激勵態之轉換相關聯的損失。相比於單重態激子，三重態激子之更長的壽命及擴散長度可允許使用更厚的感光性區域，因為三重態激子可擴散更大的距離以到達施體－受體異質接面，而無需犧牲裝置效率。
在本發明之一較佳實施例中，該等堆疊之有機層包括一或多個激子阻斷層(EBL)，如Peumans等人之美國專利第6,097,147號Applied Physics Letters 2000,76,2650－52及於1999年11月26日申請之同在申請中的申請案第09/449,801號中所述，該等兩個專利以引用的方式併入本文。已藉由包括一EBL以將光生激子限制至解離介面附近的區域並阻止光敏有機/電極介面處之寄生激子淬滅來達成較高的內部及外部量子效率。除了限制激子可擴散的體積之外，EBL亦可充當一阻斷在電極之沉積期間所引入的物質的擴散障壁。在某些情況下，可將EBL製得足夠厚以填充可否則使有機PV裝置變得無功能的針孔或短接缺陷。EBL因此可幫助保護易碎之有機層免於在將電極沉積至有機材料上時所產生的損壞。
咸信EBL因具有一大體上大於相鄰有機半導體之LUMO－HOMO能隙的LUMO－HOMO能隙而獲得其激子阻斷特性，由此而阻斷激子。因此，歸因於能量考慮，禁止被限制之激子存在於EBL中。儘管對於EBL而言需要阻斷激子，但是對於EBL而言並不需要阻斷所有電荷。然而，歸因於相鄰能級之性質，EBL可阻斷電荷載流子之一標誌。藉由設計，EBL將存在於兩個其它層(通常為一有機光敏半導體層及一電極或電荷轉移層)之間。在上下文中，相鄰的電極或電荷轉移層將為陰極或陽極。因此，將選擇裝置中之給定位置中的EBL之材料，使得載流子之所要標誌將不會在至電極或電荷轉移層之其傳送過程中受到阻礙。合適的能級對準可確保不存在對電荷傳送之障壁，從而阻止了串聯電阻的增大。舉例而言，對於用作陰極端EBL之材料而言，需要具有與相鄰ETL材料之LUMO能級緊密匹配的LUMO能級使得對電子之任何非吾人所要之障壁得以最小化。
應瞭解，材料之激子阻斷性質並非為其HOMO－LUMO能隙之固有特性。一給定材料是否將充當激子阻斷劑取決於相鄰有機光敏材料之相對的HOMO及LUMO能級。因此，不可能將一類化合物孤立地識別為激子阻斷劑而不考慮其中可使用該等化合物之裝置環境。然而，使用本文之教示，一般的熟習此項技術者可在將一給定材料與一所選組之材料一起使用來構造一有機PV裝置時識別該給定材料是否將充當一激子阻斷層。
在本發明之一較佳實施例中，EBL位於受體層與陰極之間。EBL之較佳材料包含：2,9－二甲基－4,7－二苯基－1,10－菲啉(亦稱為浴銅靈或BCP)，其被認為具有約3.5 eV之LUMO－HOMO能級間隔；或雙(2－甲基－8－羥基喹啉)－苯酚鋁(III)(Alq2 OPH)。BCP為一可容易地將電子自受體層傳送至陰極的有效激子阻斷劑。
可以適當之摻雜劑摻雜該EBL層，該摻雜劑包括(但不限於)3,4,9,10－苝四羧酸二酐(PTCDA)、3,4,9,10－苝四羧酸二醯亞胺(PTCDI)、3,4,9,10－苝四羧酸－雙－苯幷咪唑(PTCBI)、1,4,5,8－萘四羧酸二酐(NTCDA)及其衍生物。吾人認為如在本裝置中所沉積之BCP為非晶的。當前顯然為非晶的BCP激子阻斷層可展示膜再結晶，其在高的光強度下速度尤其快。所得之對多晶材料的形態改變導致具有諸如短路、空隙或電極材料之侵入的可能缺陷的較低品質之膜。因此，已發現，摻雜一些藉由適當的、相對大的且穩定的分子而展示此效果的EBL材料(諸如BCP)可穩定EBL結構以阻止效能降級性形態改變。應進一步瞭解，將在一給定裝置中傳送電子之EBL與一具有接近EBL之LUMO能級的LUMO能級之材料摻雜將有助於確保不會形成可產生空間電荷聚集並降低效能的電子陷阱。另外，應瞭解，相對低的摻雜密度可在孤立的摻雜劑位置處使激子產生最小化。因為周圍的EBL材料有效地阻止了該等激子擴散，所以該等吸收減小了裝置光轉換效率。
代表性實施例亦可包含透明電荷轉移層或電荷重組層。如本文所描述，因為電荷轉移層常常(但並非必須)為無機層(通常為金屬)且一般選擇其不具有光電導主動之事實，所以電荷轉移層可區別於受體層與施體層。本文中使用術語"電荷轉移層"以涉及類似於但不同於電極之層，因為電荷轉移層僅將電荷載流子自一光電子裝置之一分段傳遞至相鄰分段。本文中使用術語"電荷重組層"以涉及類似於但不同於電極之層，因為電荷重組層允許重組級聯光敏裝置之間的電子與電洞且亦可增強一或多個主動層附近之內部光場強度。可由半透明的金屬奈米叢集、奈米粒子或奈米棒構造電荷重組層，如美國專利第6,657,378號所描述，該專利之全部內容以引用的方式併入本文。
在本發明之一較佳實施例中，陽極平滑層位於陽極與施體層之間。用於此層之較佳材料包含3,4－聚伸乙基二氧噻吩：聚苯乙烯磺酸鹽(PEDOT：PSS)之膜。在陽極(ITO)與施體層(CuPc)之間引入PEDOT：PSS層可導致極大地改良製造產率。此歸因於經旋塗的PEDOT：PSS膜平面化ITO之能力，否則該ITO之粗糙表面可經由薄分子層而導致短路。
在本發明之進一步實施例中，可在沉積下一層之前用電漿來處理一或多個該等層。舉例而言，可用適度的氬或氧電漿來處理該等層。因為此處理可減少串聯電阻，所以其為有利的。特別有利的是：在沉積下一層之前使PEDOT：PSS層經受適度之電漿處理。
通過非限制性實例提供了圖1中所說明之經簡單分層的結構，且應瞭解，可結合廣泛多種之其它結構來使用本發明之實施例。所描述之特定材料及結構本質上為例示性材料及結構，且可使用其它材料及結構。可藉由以不同方式組合所描述之各個層來達成功能性裝置，或可基於設計、效能及成本因數完全省略若干層。亦可包括未特定描述之其它層。可使用除了經特定描述之彼等材料之外的材料。儘管本文所提供之許多實例將多個層描述為包含單一材料，但是應瞭解，可使用若干材料之組合，諸如主體與摻雜劑之混合物或(更通常地)混合物。並且，該等層可具有各種子層。給予本文中各層之名稱並不意慾具有嚴格限制性。非為感光性區域之一部分的有機層(意即，通常不吸收對光電流作出重要貢獻之光子的有機層)可被稱為"非感光性層"。非感光性層之實例包括EBL及陽極平滑層。亦可使用其它類型的非感光性層。
用於光敏裝置之感光性層中的較佳有機材料包括環金屬化之有機金屬化合物。如本文所使用之術語"有機金屬"為如由一般的熟習此項技術者通常所理解且如(例如)"Inorganic Chemistry"(第二版)中由Gary L.Miessler及Donald A.Tarr,Pentice－Hall(1998)所給予的那樣。因此，術語有機金屬係關於具有一經由碳－金屬鍵而鍵結至金屬的有機基之化合物。此類本身並不包括配位化合物，其為僅具有來自雜原子之施體鍵的物質，諸如胺、鹵化物、類鹵化物(CN，等)及其類似物之金屬錯合物。實務上，除了至有機物質之一或多個碳－金屬鍵之外，有機金屬化合物通常包含來自雜原子之一或多個施體鍵。至有機物質之碳－金屬鍵係關於金屬與有機基(諸如苯基、烷基、烯基等)之碳原子之間的直接鍵，但是並非關於至諸如CN或CO之碳的"無機碳"之金屬鍵。術語環金屬化係關於包含一個雙齒有機金屬配位基使得在鍵結至金屬時即形成一包括該金屬作為其中一個環員之環結構的化合物。
可使用真空沉積、旋塗、有機氣相沉積、噴墨印刷及此項技術中已知之其它方法來製造有機層。
本發明之實施例之有機光敏光電子裝置可充當PV、光偵測器或光電導體。只要本發明之有機光敏光電子裝置充當PV裝置，即可選擇用於光電導有機層中之材料及其厚度(例如)以最優化該裝置之外部量子效率。只要本發明之有機光敏光電子裝置充當光偵測器或光電導體，即可選擇用於光電導有機層中之材料及其厚度(例如)以使該裝置對所要之光譜區域的敏感性最大化。
可藉由考慮可在層厚度之選擇中使用的若干準則來達成此結果。因為據信大多數激子解離將在介面處發生，所以需要激子擴散長度LD 大於或比得上層厚度L。若LD 小於L，則許多激子可在解離之前重組。進一步需要總的光電導層厚度為約電磁輻射吸收長度1/α(其中，α為吸收係數)，使得可吸收入射於PV裝置上的幾乎所有輻射以產生激子。此外，光電導層厚度應盡可能薄以避免歸因於有機半導體之高的體電阻率而產生過量串聯電阻。
因此，此等競爭準則固有地需要在選擇光敏光電子電池之光電導有機層的厚度時進行權衡。因此，一方面，需要一可比得上或大於吸收長度的厚度(對於單一電池裝置而言)以便吸收最大量之入射輻射。另一方面，隨著光電導層厚度增大，增加了兩種不良的影響。一種影響為：歸因於有機半導體之高的串聯電阻，增加之有機層厚度增加了裝置電阻並降低了效率。另一不良的影響為：增加光電導層厚度會增加將遠離電荷分離介面處之有效場而產生激子的可能性，從而導致成雙之重組的機率提高且再次使效率降低。因此，需要一裝置組態，其以可為整個裝置產生高的外部量子效率之方式在此等競爭影響之間平衡。
有機光敏光電子裝置可充當光偵測器。在此實施例中，該裝置可為多層式有機裝置，例如如2003年11月26日申請之美國申請案第10/723,953號中所描述，該申請案之全部內容以引用的方式併入本文。在此種狀況下，一般施加一外部電場以促進對分離之電荷的提取。
可使用一集中器或捕集組態以增加有機光敏光電子裝置之效率，其中強迫光子多次穿過薄吸收區域。美國專利第6,333,458號及第6,440,769號(該等專利之全部內容以引用的方式併入本文)藉由使用結構性設計處理了此問題，該等結構性設計藉由為高吸收及為與可增加收集效率之光學集中器一起使用而最優化光學幾何結構來增強光敏光電子裝置之光轉換效率。光敏裝置之該等幾何結構藉由將入射輻射捕集於反射腔或波導結構內，且藉此藉由光敏材料之多次反射來再循環光從而大體上增加穿過材料之光徑。因此，美國專利第6,333,458號及第6,440,769號中所揭示之幾何結構在不導致體電阻實質增加的情況下提高了裝置之外部量子效率。被包括於該等裝置之幾何結構中的為：第一反射層；一透明絕緣層，其應在所有的維度中均長於入射光之光學相干長度以防止光學微腔干擾效應；一與該透明絕緣層相鄰之透明第一電極層；一與該透明電極相鄰之光敏異質結構；及一亦具有反射性之第二電極。
可使用塗層將光能集中於裝置之所要區域內。以全文引用之方式倂入本文的美國專利申請案第10/857,747號提供了該塗層之實例。
儘管諸多說明涉及了一平面異質接面，但本發明之實施例可結合多種類型之異質接面來使用，其包括下列接面：當施體材料層與受體材料層之間的介面藉由一表面粗糙度不大於一些分子之表面來界定時產生平面異質接面。受體與施體間觸點之表面積近乎等同於個別層之面積。當施體材料層與受體材料層之間的介面具有顯著的表面粗糙度時產生一本體異質接面，使得受體與施體間觸點之表面積顯著大於個別層之橫截面面積。混合異質接面係一類藉由共沈積受體與施體材料所產生之本體異質接面。混合式平面－混合異質接面包括至少一受體或施體材料層，同時亦包括一混合層，如於2004年8月5日申請之Forrest的美國專利申請案第10/911,559號中進一步詳細描述，該專利以全文引用的方式倂入本文。
在(例如)有機DA PV電池中發現的施體－受體(DA)接面處可觀察到令吾人吃驚之高載流子分離效率。參見C.W.,Tang,Appl.Phys.Lett.48,183(1986)；J.J.M.Halls,C.A.Walsh,N.C.Greenham,E.A.Marseglia,R.H.Friend,S.C.Moratti及A.B.Holmes,Nature 376,498(1995)；G.Yu,J.Gao,J.Hummelen,F.Wudi及A.J.Heeger,Science 270,1789(1995)。然而，有機DA PV電池之光電流的電壓依賴性可限制可得到的極限功率效率。此與習知半導體p－n接面相反，其中在高達一顯著超過內置電位Vb i 之施加電壓的情況下，光電流係恆定的。
由於小的電子頻寬及聲子至電子態之強耦合，使得有機固體中之光學激勵可迅速鬆弛以形成激子，該激子藉由自EB ＝0.1變化至2 eV的結合能而被限定至一或一些分子上。I.G.Hill,A.Kahn,G.Soos及R.A.Pascal,Chem.Phys.Lett.327,181(2000)。藉由激子解離而產生自由電子及電洞，該激子解離過程為一可由電場F~106 V/cm之誘導的過程。然而，在一典型有機PV電池中，1 V之內置電位及1000之主動層厚度導致約105 V/cm之F，從而導致低的外部量子效率(ηE Q E <1%，典型)，ηE Q E 及aηE X T 均係指外部量子效率。
在DA介面處，一具有低游離電位之施體材料與一具有高電子親合力之受體材料形成一異質接面使得進入自由電荷載流子內的激子解離係積極有利的。對於施體(受體)材料中之激子而言，若最低未佔據(最高佔據)分子軌域之能量差異EL U M O (EH O M O )超過施體(受體)激子之結合能EB , D (EB , A )，則此條件可滿足。
在如圖2所示之四個連續步驟中發生在介面處光子至電荷之轉化。圖2展示了一用於陽極210、施體層220、受體層230及陰極240之能級圖表。施體及受體之傳送能隙分別由符號EG , D 及EO , A 來指示。HOMO及LUMO帶偏移分別由符號△EH O M O 及△EL U M O 指示。施體中之電洞準費米級(Fh , D )及受體中之電子準費米級(Fe , A )展示為虛線。準費米級與施體－受體介面之差異表示歸因於電阻損失及重組之電化學能量損失。對自入射光產生光電流之四個連續步驟進行了說明。(1)光子吸收導致產生激子，其吸收效率為ηA ；(2)激子擴散至DA介面，其效率為ηE D ；(3)在一DA介面處由CT解離激子，其效率為ηC T ；及(4)分離電荷載流子，緊接著將其傳送至其各自之電極，其電荷收集效率為ηC C 。總量子效率為其乘積：ηE Q E ＝ηA ．ηE D ．ηC T ．ηC C 。提取光子能量作為電子－電洞對之電化學能，其由受體/陰極觸點處之電子準費米能量與施體/陽極觸點處之電洞準費米能量之差異給出。由於ηC T ．ηC C 可為100%或接近100%(步驟(3)及步驟(4))，因此有機DA雙層之ηE Q E 一般受步驟(1)與(2)之效率的限制。應注意，ηC C 在短路之情況下可為約100%。在實際電池運作期間，太陽能電池可處於正向偏壓下並傳遞一與該偏壓抗衡之電流。可提取之最大電池功率可視ηC C 如何隨所施加電壓變化而定。本發明之實施例處理了如何在正向偏壓下保持ηC C 高之問題。
儘管相互之庫侖吸引很強，但是在文獻中並未解釋靠近DA介面處自由電荷之高分離機率ηC C 。一種理論為共軛聚合物施體及小分子量之受體的情況，由於附近受體分子上電子之接近而遭受電位之聚合物鏈上電洞的基態能量充當一分離電子與電洞之排斥電位。V.Arkhipov,P.Heremans及H.Bassler,Appl.Phys.Lett 82,4605(2003)。此模型具有限制性，因為其假定聚合物鏈平行於DA介面之對準。另外，其要求沿聚合物鏈之電洞有效質量me f f <0.1 m0 ，其中m0 為電子之靜止質量，其未必被給予此類材料之小電子頻寬特徵。H.F.Meng及C.M.Lai,Phys.Rev.B55,13611(1997).E.A.Silinsh,Organic molecular crystals：interaction,localization,and transport phenomena(American Institute of physics Press,New York,1994)。最終，其未能解釋在介面之D與A側針對由小分子量材料組成之接面所觀測到的同等高的收集效率。L.A.A.pettersson；L.S.Roman,and O.Inganas,J.Appl.Phys.86,487(1999)；P.peumans,A.Yakimov及S.R.Forrest,J.Appl.Phys.93,3693(2003).
本發明之一實施例解釋了cc之量值及電壓依賴性。該分析係基於用於一無序固體之本體中之電荷對分離機率的Onsager模型。L.Onsager,Phys.Rev.54,554(1938).Onsager計算出兩個帶電相反之載流子由一外部電場F分離之機率(作為該等載流子之初始分離r0 與電場定向之函數)，其假定載流子運動藉由跳躍傳送來描述(參見圖3，感光性區域310)。對此模型之改進(H.Scher及S.Rackovsky,J.Chem.phys.81,1994(1984)；S.Rackovsky及H.Scher,Phys.Rev.Lett.52,453(1984))準確地預測了有機薄膜及單晶體之本體中的電荷分離機率作為F之函數。F.E.A.Silinsh,Organic molecular crystals：interaction,localization,and transport phenomena(American Institute of Physics Press,New York,1994)(下文中為"Silinsh")。描述實驗光電導性資料之初始分離r0 一般為約10－100且源自熱載流子之熱化，該等熱載流子在緊隨光激勵之激子的自電離後形成，參見Silinsh。藉由點電荷來約計電子及電洞，且假定介質之宏觀介電常數可以10－100長度階使用，初始電荷對之庫侖能為UB ＝q2 /4．Πε0 εi r0 ，其中q為電子電荷，ε0 為真空電容率，且εi 為有機材料之介電常數(一般約3－4)。對於r0 ＝20而言，UB 為約0.25 ev>>kT，使得當F>106 V/cm時發生本體中之成雙的對分離成自由載流子。
圖3說明了本體中之成雙的對解離，其與在存在DA介面之情況下成雙的對解離相反。感光性區域310僅展示了一單層312。一成雙的對330解離成一電洞332及一電子334。r0 C T 為熱化半徑。在感光性區域310中所說明之解離代表在L.Onsager,phys.Rev.54,554(1938)中所論述之解離。感光性區域320展示了一施體層322及一受體層324，其形成一DA介面(或接面)326，其中其彼此相互接觸。成雙的對330解離成一電洞332及一電子334。
可合理地假定DA介面處之CT過程類似於本體自電離過程，參見Silinsh。隨後施體中激子之過剩能量E＊ ＝△EL U M O －EB , D 與受體之過剩能量E＊ ＝△EH O M O －EB , A 被轉化成當進行CT時電子與電洞的動能。該等熱載流子藉由非彈性散射迅速熱化至晶格溫度，從而導致成雙的電荷對以如圖3之感光性區域320中所說明之初始半徑r0 C T 橫跨DA介面。感光性區域320中所說明之系統的邊界條件不同於L.Onsager,Phys.Rev.54,554(1938)中所假定之彼等邊界條件，因為在感光性區域320中，電子及電洞藉由DA接面處之能級偏移而各自被限制至半空間中(參見圖2)。
期望可大體上增強DA介面處成雙的電荷分離之機率以超過本體之情況，因為(1)可用於電子－電洞重組之體積被減少至一靠近DA介面之薄的部分；(2)該DA介面對電子－電洞對進行定向，其有利於在垂直於介面平面之方向上的載流子分離；(3)若電洞(電子)遷移率顯著高於電子(電洞)遷移率，則電洞(電子)將在電子(電洞)到達DA介面之前對較大的空間體積進行取樣。此增加了電洞(電子)將在彼時間期間逃逸且避免與自其分離之電子(電洞)重組的機率。相關遷移率係屬於感光性區域之受體部分中的電子及感光性區域之施體部分中的電洞。
可使用動力學蒙特卡羅模擬來核定ηC C 。該模擬之一實例可在D.P.Landau及K.Binder,Guide to Monte Carlo simulations in statistical physics(Cambridge University Press,Cambridge,UK,2000)中發現。可對一具有晶格常數d 之簡單立方晶格進行模擬。一電子及一電洞在晶格中產生，其被距離r0 C T 所分離，使得該電子及該電洞離DA介面之距離均為r0 C T /2＝r0 , e ＝r0 , h 。與re 處之電子及rh 處之電洞的組態對應之系統的能量為： 此處，re h ＝re －rh ，且UL U M O (r)與UH O M O (r)分別為LUMO與HOMO能級，其作為位置r的函數。第二項為存在於DNA介面處之電場中的偶極的能量F。隨後針對跳躍至六個最近鄰居上而計算電子(I＝1...6)或電洞(i＝7...12)跳躍率Ri： 其中嘗試頻率(v0 )與載流子遷移率成比例。將導致兩個載流子佔據相同晶格位之跳躍遵循載流子重組之速度常數Ri ＝τR － 1 。針對大量試驗Nt r i a l 來記錄電荷分離事件之數目S以作為模型參數之函數。接著電荷分離機率為ηC C ＝S/Nt r i a l 。標準偏差為σ(ηC C )＝sqrt(S)/Nt r i a l 。如圖4中所示，在不存在DA介面之情況下，對於各種熱化半徑r0 而言，離散模型近似於在L.Onsager,Phys.Rev.54,554(1938)中所發現的cc之分析表達式。
圖4展示了對於各種電子及電洞熱化半徑r0 而言來自L.Onsager,Phys.Rev.54,554(1938)之激子解離之機率的分析表達式(線)與本文所論述之動力學蒙持卡羅模型(符號)之間的比較。離散模型假定：d＝1、v0 , h ＝v0 , e ＝τR － 1 、T＝300 K、ε＝4及Nt r i a l ＝1000。此處，選擇d以使其遠小於分子間隔從而使該離散模型與點電荷之分析理論一致。對於低電場(F<105 V/cm)處之r0 ＝40而言分析表達式與kMC模型之間的偏差係歸因於有限的計算域效應：電子與電洞在模擬期間對一大於計算域之空間進行取樣。對於所有激子半徑而言在大電場(F>106 V/cm)處之偏差係歸因於有限粒子尺寸。曲線410、420及430分別展示瞭解離機率對照熱化半徑r0 為40、20及10之電場。
在本發明之一實施例中，可考慮DA雙層，其中選擇施體與受體材料之傳送能隙以使其相等EG , D ＝EG , A ＝EG 。在該種情況下，LUMO及HOMO偏移能量為△EL U M O ＝△EH O M O ＝△E。激子在到達DA介面時之過剩能量為E＊ ＝△E－EB 。在低電場處之DA接面處的CT對之解離之機率大體上高於本體中之機率，如圖6所展示。對於本體情況而言，假定初始偶極相對於施加電場之定向係隨機的(σα ＝2π)，然而對於具有DA接面之情況而言，假定該等初始偶極之定向為一半範圍之各向同性分佈(σα ＝π)。對於DA接面之情況而言，將解離機率展示為遷移率失配之函數，rμ ＝max(v0 , e /v0 , h ,v0 , h /v0 , e )＝1,100及1,000，其中v0 , e 及v0 , h 分別為電子及電洞的嘗試頻率(其與載流子遷移率成比例)。圖5說明了一稍微違反直覺之發現，即可藉由降低一特定電荷載流子之遷移率來增強PV裝置之效率，因為遷移率之比率對於解離機率係重要的。較佳地，遷移率之比率為至少100，且更佳為至少1000。由於具有高載流子遷移率亦為較佳，因此對於感光性區域之相關部分中的大多數移動電荷載流子而言，較佳將遷移率之高比率與高載流子遷移率組合。較佳地，具有最高遷移率之電荷載流子(施體中之電洞或受體中之電子)具有至少0.001 cm2 /V－sec之遷移率，且更佳具有至少1 cm2 /V－sec之遷移率。熟習此項技術者可基於載流子遷移率值來不難選擇合適的施體/受體材料組合以實施本發明之此實施例。舉例而言，可藉由調節沉積條件以獲得更多非晶系薄膜(例如，藉由在沉積期間使用較快的沉積速率與較低的基板溫度)，或藉由將空間基團添加至分子(例如，藉由使用八丁氧基－銅酞菁來代替銅酞菁)而降低一種低遷移率材料之遷移率。摻雜可有利於增加遷移率，例如在CuPc中將氟化四氰基對醌二甲烷用作一種p型摻雜劑。
為了將激子解離模型應用於PV電池，可計算靠近DA接面之內部電場分佈。假定施體層及受體層分別為p型摻雜及n型摻雜，因為此組合在短路情況下將導致產生一可分離電子與電洞之內置電場。對原型銅酞菁(CuPc)/3,4,9,10－苝四羧酸雙－苯幷咪唑(PTCBI)系統之電容－電壓量測已展示確為此情況，參見P.Peumans、A.Yakimov及S.R.Forrest,J.Appl.Phys.93,3693(2003)。施體及受體層中之自由載流子密度分別為ND 及NA 。接著施體材料中費米級相對於HOMO的位置為Ef , D ＝kT ln(NH O M O /ND )，其與受體材料中之費米級的表達式Ef , A 類似。此處，NL U M O 及NH O M O 分別為受體LUMO及施體HOMO之有效狀態密度。因此，DA接面之建置電壓為：Vb i ＝(EG －△E－Ef , D －Ef , A )/q. (3)
為了驗證該模型，可使用ND ＝NA ＝1×101 8 cm－ 3 、EG ＝1.7 eV及△E＝0.9 eV，其與對CuPc/PTCBI系統之量測一致，參見P.Peumans、A.Yakimov及S.R.Forrest,J.Appl.Phys.93,3693(2003)。此外，可假定NH O M O ＝NL U M O ＝102 1 cm－ 3 ，其近似對應於分子數密度。此導致Vb i ＝0.44 V，其與CuPC/PTCBI雙層電池之VO C 的量測一致。
圖5展示了ηC C 對照施加至PV電池之電壓V的曲線，其係基於本文所述之模型。由於Vb i ＝0.5 V，因此V＝0.5 V對應F＝0。該模型產生與對CuPC/C6 0 雙層PV電池之量測甚為一致的光電流特徵，其假定σα ＝π。實線510展示了根據P.Peumans及S.R.Forrest,Appl.Phys.Lett 79,126(2001)之PEDOT：PSS/200、CuPc/200、C60/150、BCP/800、Al裝置的光電流特徵。符號520及530展示了自本文所述之模擬產生之結果，其中σα ＝π(符號520)及σα ＝0(符號530)。離散模型之參數為：r0 , h C T ＝r0 , e C T ＝24、d＝r0 ＝8、v0 , h ＝15 v0 , e ＝100 τR － 1 、T＝300 K、ε＝4及Nt r i a l ＝10,000。針對初始偶極之各向同性半範圍分佈(σα ＝π)及針對垂直於施體－受體(DA)介面而對準之初始偶極(σα ＝0)運行該模型。為將在施體－受體介面處之電場F轉化成施加電壓V，使用表達式V＝Vb i －FW。對於0<V<Vb i 而言，由於在CuPc/PTCBI接面之情形中補償DA介面，因此耗盡層寬度W近似恆定，參見P.Peumans、V.Bulovic及S.R.Forrest,Appl.Phys.Lett.76,3855(2000)。內置電壓為Vb i ＝0.5 V且W＝125。在此分析之前，自光電流特徵減去對應於本體激子解離之線性函數＝＝(V－Vb i )以獲得源自DA介面處之光電流(實線)。藉由使一線性曲線適合V<－0.4 V之光電流而判定。
圖6展示了在存在及不存在施體－受體接面之情況下電荷分離機率(ηC C )及在存在DA接面之情況下各種電荷載流子遷移率比率的計算結果。離散模型之參數為：r0 , h C T ＝r0 , e C T ＝16、d＝r0 ＝8、v0 , h ＝ru v0 , e 、v0 , e ＝10 τR － 1 、T＝300 K、ε＝4及Nt r i a l ＝10,000。本體之情況假定一各向同性初始偶極分佈，而對於DA接面而言，假定初始偶極之定向為半範圍之各向同性分佈。電子遷移率與電洞遷移率之比率在rμ ＝1,100與1000中變化。該等線之厚度指示標準偏差。
該模型準確地預測經降低之光響應為V→Vb i 。此行為與習知半導體p－n接面相反，其中響應在正向電壓顯著超過Vb i 時保持恆定，且可表示對利用有機DA接面可獲得之極限功率效率的基本限制。
熱化距離(r0 C T ，超過該距離發生載流子冷卻)取決於如圖7與8中示意性展示之自HOMO及LUMO偏移所獲得的過剩動能的量(△E)。根據方程式(3)，一種具有大能級偏移之材料組合將導致較小之Vb i ，但由於該激子之較大的過剩動能而使r0 C T 較大。因此吾人期望，對於具有大△E之DA組合而言，Voc係低的，但由於r0 C T 大，使得ηC C 作為提取電壓Vb i －V之函數而急劇上升至大值。另一方面，一具有小△E之DA組合物具有大的VO C ，但由於r0 C T 較小，使得ηC C 此時對電壓的依賴性不太強烈。
在此等考慮之後，圖7展示了乘積ηC C V(與總PV電池效率成比例)之最大值對照HOMO或LUMO能量偏移△E。所使用之參數為：d＝r0 ＝8、v0 , h ＝10v0 , e ＝10 τR － 、T＝300 K、ε＝4及Nt r i a l ＝1000。內置電壓為Vb i ＝1.7 eV－(△E－0.3 eV)/q。假定r0 , h ＝r0 , e ＝36eV－ 1 (△E－EB )。所繪製之定量與功率轉化效率成比例，ηP ＝max{ηC C V}S(λ)ηA ηE D dλ/Pi n c ，其中S(λ)為太陽光子光譜密度且Pi n c ＝S(λ)hc/λdλ為入射光能密度。對於△E0.55 eV而言，或更通常地對於△E＝0.5至0.65 eV而言，可達到最優的ηC C V。
有機PV電池之填充因數(FF)等於：
假定開路電壓VO C 約等於Vb i 。圖8展示了被繪製為△E之函數的FF，其中FF針對較大之能量偏移而增加。有機PV電池之最佳化可涉及高FF與高VO C 之間的權衡其中針對△E＝0.55 eV或更通常地針對△E＝0.5至0.65 eV而具有一最優值。所計算之FF＝0.55與系統之實驗觀察(其中△E＝0.9 eV)一致，參見P.Peumans、V.Bulovic及S.R.Forrest,Appl.Phys.Lett 76,2650(2000)。由於導致VO C <Vb i 並藉此增加FF之正向暗電流，因此使得FF之實際量測值有時可略微高於本文模型所預測的值。由於乘積VO C FF可保持恆定，因此此效應不會影響功率轉化效率。
圖8亦展示了一具有大△E、r0 C T 及低Vb i 之DA接面810及一具有小△E、r0 C T 及大Vb i 之DA接面820的示意圖。
在精細紋理之本體異質接面(BH)有機PV電池中，參見J.J.M.Halls、C.A.Walsh、N.C.Greenham、E.A.Marseglia、R.H.Friend、S.C.Moratti及A.B.Holmes,Nature 376,498(1995)；G.Yu、J.Gao、J.Hummelen、F.Wudi及A.J.Heeger,Science 270,1789(1995)，其中區域尺寸小於耗盡層寬度，內置電位下降可發生於整個裝置厚度上而非集中於一平坦接面附近，從而導致用於分離之驅動力減少。此外，電場F不必對準垂直於DA接面，且D及A分支中之狹窄收縮增強了反向擴散，從而導致解離機率降低。因此，吾人期望BH裝置之光電流－電壓特徵不太急劇，從而在短路情況下可導致FF較低且ηC C <1，此與實驗觀察一致，參見J.J.M.Halls、C.A.Walsh、N.C.Greenham、E.A.Marseglia、R.H.Friend、S.C.Moratti及A.B.Holmes,Nature 376,498(1995)；G.Yu、J.Gao、J.Hummelen、F.Wudi及A.J.Heeger,Science 270,1789(1995)。
儘管關於特定實例及較佳實施例而描述了本發明，但應瞭解，本發明並不限於此等實例及實施例。因此，熟習此項技術者將顯而易見，如主張之本發明可因此包括來自本文所描述之特定實例及較佳實施例之變化。
100．．．裝置
110．．．基板
115．．．陽極
120．．．陽極平滑層
125．．．施體層
130．．．受體層
135．．．阻斷層
140．．．陰極
210．．．陽極
220．．．施體層
230．．．受體層
240．．．陰極
310．．．感光性區域
312．．．單層
320．．．感光性區域
322．．．施體層
324．．．受體層
326．．．DA介面
330．．．成雙的對
332．．．電洞
334．．．電子
410．．．曲線
420．．．曲線
430．．．曲線
510．．．實線
520．．．符號
530．．．符號
圖1展示了一有機PV裝置，其包含一陽極、一陽極平滑層、一施體層、一受體層、一阻斷層及一陰極。
圖2展示了一對於理解本發明之實施例有用的能級圖表。
圖3說明了在本體中且於一異質接面處之成雙的對解離。
圖4展示瞭解離機率對照各種熱化半徑之電場(V/cm)的分析及模型化曲線。
圖5展示了ηC C 對照施加至PV電池之電壓V的曲線，其基於本文所描述之模型。
圖6展示了在存在及不存在施體－受體接面之情況下電荷分離機率ηC C 及在存在DA接面之情況下各種電荷載流子遷移率比率的計算結果。
圖7展示了乘積ηC C V(與總PV電池效率成比例)之最大值對照HOMO或LUMO能量偏移△E。
圖8展示了被繪製為△E之函數的FF。
210．．．陽極
220．．．施體層
230．．．受體層
240．．．陰極

Claims (8)

  1. 一種感光性裝置，其包括：一第一電極；一第二電極；一感光性區域，其安置於該第一電極與該第二電極之間並電連接至該第一電極與該第二電極，該感光性區域進一步包含：一有機施體層；一有機受體層，安置其使得該有機施體層及該有機受體層形成一施體-受體異質接面；其中該有機施體層中之電洞遷移率較該有機受體層中之電子遷移率大至少100倍；及該有機施體層中的該電洞遷移率大於0.001cm2 /V-sec。
  2. 如請求項1之裝置，其中其中該有機施體層中之該電洞遷移率較該有機受體層中之該電子遷移率大至少1000倍。
  3. 如請求項1之裝置，其中該有機施體層中的該電洞遷移率大於1cm2 /V-sec。
  4. 如請求項1之裝置，其中該施體-受體異質接面為一平面異質接面。
  5. 如請求項1之裝置，其中該施體-受體異質接面為一本體異質接面。
  6. 如請求項1之裝置，其中該施體-受體異質接面為一混合式異質接面。
  7. 如請求項1之裝置，其中該施體-受體異質接面為一混合式平面-混合異質接面。
  8. 如請求項1之裝置，其中該施體層之最高佔據分子軌域(HOMO)較該受體層之HOMO大0.5至0.65eV，且該施體層之最低未佔據分子軌域(LUMO)較該受體層之LUMO大0.5至0.65eV。
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