TWI430316B - 電磁繼電器 - Google Patents

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TWI430316B
TWI430316B TW99140189A TW99140189A TWI430316B TW I430316 B TWI430316 B TW I430316B TW 99140189 A TW99140189 A TW 99140189A TW 99140189 A TW99140189 A TW 99140189A TW I430316 B TWI430316 B TW I430316B
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Hiroyuki Kita
Katumi Tatibana
Yukiko Okumura
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Panasonic Corp
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    • H01H51/2236Polarised relays comprising pivotable armature, pivoting at extremity or bending point of armature

Description

電磁繼電器
本發明是有關於一種電磁繼電器,其包括鐵芯、佈置于鐵芯周圍的線軸(bobbin)、纏繞在線軸上的導電線圈、操作件以及觸點結構。在電流供應通過導電線圈時,操作件被吸引至鐵芯的端部。隨同操作件的這個運動一起進行,觸點機構的各觸點以電流流動的狀態彼此連接。
傳統繼電器包括板形基部、設在基部上的鐵芯、佈置于鐵芯周圍的線軸、纏繞在線軸上的導電線圈、連接至鐵芯一個端部的軛以及可擺動地支撐於軛上的操作件。在操作件擺動時,觸點機構的多個觸點能彼此接觸或遠離。
以這種電磁繼電器,在電流流過纏繞在線軸上的導電線圈時,操作件被吸引至鐵芯的端部。隨同操作件的這個運動一起進行,觸點機構的各觸點以電流流動的狀態彼此連接(參見例如日本專利申請公開No. 2009-009710(JP2009-009710A))。
在JP2009-009710A中公開的電磁繼電器中,需要持續地激勵導電線圈以保持觸點機構的各觸點彼此連接。
由於這種結構特點,JP2009-009710A中公開的電磁繼電器存在著能耗降低的困難。因而,一直存在著改進這種電磁繼電器的需要。
考慮到以上情況,本發明提供了一種能降低能耗的電磁繼電器。
根據本發明的一個方面,提供了一種電磁繼電器,其包括:鐵芯;佈置于鐵芯周圍並纏繞有導電線圈的線軸;主軛,其包括連接至鐵芯的一個端部並且在線軸的徑向上延伸的基部端部、以及連接至基部端部並與鐵芯平行地佈置的豎立部分;操作件,其包括沿著豎立部分延伸的第一被吸引部分以及可朝向或遠離該鐵芯的另一端部移動的第二被吸引部分,第一被吸引部分和第二被吸引部分以大致L形形狀彼此連接,操作件佈置為繞著豎立部分的末端擺動;由操作件的操作來驅動的觸點機構;副軛,其沿著主軛的豎立部分延伸並且通過磁性連接部分而磁性地連接至豎立部分;佈置於主軛的豎立部分和副軛之間的永磁體;以及磁飽和部分,其設在豎立部分或副軛的佈置於操作件的第一被吸引部分附近的與永磁體相應的一部分和該磁性連接部分之間,其中電磁繼電器設計為允許永磁體的磁通量在第二被吸引部分與鐵芯的另一端部間隔開且導電線圈保持為未被激勵時流過豎立部分、操作件、磁性連接部分和副軛,並且在第二被吸引部分被吸引至鐵芯的另一端部且導電線圈保持為未被激勵時流過豎立部分、操作件、鐵芯、基部端部、磁性連接部分和副軛。
就這一點,副軛可佈置於豎立部分靠近或遠離導電線圈的一側處。副軛可以磁性地連接至豎立部分。例如,能採用其中副軛佈置為與豎立部分緊密接觸而在其間留下最小間隙的結構。一單獨的元件可插入在副軛和豎立部分之間,只要期望的磁通量能流過其中即可。於是,副軛可與豎立部分一體地或分開地形成。
磁飽和部分的例子包括形成來減小豎立部分或副軛以及設在豎立部分或副軛中的非磁性元件或絕緣元件的特定區段的橫截面積的通孔、凹陷部分或狹縫(slit)。
以這種構造,即使導電線圈未被激勵,佈置於豎立部分和副軛之間的永磁體也能保持第二被吸引部分與鐵芯的另一端部間隔開或被吸引至鐵芯的另一端部。
換言之,僅在從操作件的操作起始時刻至其操作結束時刻的時期中消耗電能。因此,與傳統電磁繼電器相比可減少能耗。
另外,由於本發明的電磁繼電器與傳統電磁繼電器相比可降低所需電能,就可採用小尺寸的線圈並減小電磁繼電器的總體尺寸。
副軛可佈置於豎立部分的與導電線圈相同的一側處並且磁飽和部分可設在豎立部分中。
以這種構造,與其中副軛佈置於豎立部分的與導電線圈相反的一側處的情況相比,能擴大第一被吸引部分。這使得能簡化操作件的結構。
主軛和副軛可形成為單個零件。
以這種構造,無需單獨地製造副軛。這有助於防止製造過程變複雜同時減小零件數目。
磁飽和部分可藉由減小豎立部分的特定區段的橫截面積來形成。
在本發明中,磁飽和部分包括例如通孔、凹陷部分或狹縫。因此,與非磁性元件或絕緣元件提供為磁飽和部分的情形相比,能以簡單可靠的方式獲得磁飽和部分。
磁飽和部分可包括形成於豎立部分中的通孔。
以這種構造,藉由適當地選擇通孔的位置、形狀和尺寸能獲得期望的磁飽和度。
豎立部分和副軛的相對表面中的至少一個可包括用於保持永磁體就位的臺階(step)部分。
就這一點,臺階部分的例子包括能與永磁體的端面接合的凹陷部分或升高部分。臺階部分不需與永磁體的所有端面相接合。臺階部分可佈置於任意位置,只要其能將永磁體保持就位即可。
以這種構造,永磁體由臺階部分保持就位。這減小了永磁體由於振動或其它原因而移動離開其位置的可能性,這使得能長時間地維持永磁體的初始性能。
臺階部分可包括形成於豎立部分和副軛之一中的凹陷部分、或者形成於豎立部分和副軛之一中的升高部分。
本發明的電磁繼電器提供的有利作用在於,在被吸引部分被吸引至鐵芯的另一端部時的能耗可藉由將永磁體佈置於豎立部分和副軛之間來降低。
另外,與傳統電磁繼電器相比,本發明的電磁繼電器可降低所需電能。這提供的有利作用在於能採用小尺寸的線圈並降低電磁繼電器的總體尺寸。
為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯易懂,下文特舉較佳實施例,並配合所附圖式,作詳細說明如下。
現在將參照附圖來描述根據本發明實施例的電磁繼電器10。
(第一實施例)
如圖1至圖3所示,根據本發明第一實施例的電磁繼電器10包括基部11、從基部11豎立的鐵芯12、設在鐵芯12周圍的線軸13、與線軸13以間隔開的關係設置的主軛14、由主軛14支撐的操作件15、由操作件15支撐的觸點機構16、與主軛14以相對的關係佈置的副軛17、設置於副軛17和主軛14之間的永磁體18、設在主軛14中的磁飽和部分21、以及佈置於基部11上用於容納鐵芯12、線軸13、主軛14、操作件15、觸點機構16、副軛17、永磁體18和磁飽和部分21的蓋板22。
如圖3至圖5所示,鐵芯12在一端固定至基部11並且從基部11呈直線延伸。也就是說,鐵芯12從基部11豎直地升高。
線軸13由絕緣材料製成並且相對於鐵芯12而同軸地設置以使得其能覆蓋鐵芯12。導電線圈24纏繞在線軸13上。
主軛14包括連接至鐵芯12的一個端部12a並且在線軸13的徑向上延伸的基部端部26、以及連接至基部端部26並與鐵芯12平行地佈置的豎立部分27。具有基部端部26和豎立部分27的主軛14在側視圖中觀看時具有大致L形形狀。
操作件15包括沿著豎立部分27延伸的第一被吸引部分31和朝向或遠離鐵芯12的另一端部12b而移動的第二被吸引部分32。第一被吸引部分31和第二被吸引部分32彼此連接以形成大致L形形狀。操作件15是繞著豎立部分27的末端27a而擺動的元件。
觸點機構16包括卡片部34、通過卡片部34而連接至操作件15的可移動端子35以及與可移動端子35相對的固定端子36。響應於操作件15的操作,觸點機構16的卡片部34繞著樞軸34a擺動。可移動端子35與卡片部34一起移動。可移動端子35相對於固定端子36保持於接觸狀態或非接觸狀態。
在固定端子36和可移動端子35處於接觸狀態時,觸點37(由固定端子36和可移動端子35構成)進入電流流動狀態。如果固定端子36和可移動端子35處於非接觸狀態,觸點37進入電流中斷狀態。
如圖3、圖5和圖6所示,副軛17佈置於豎立部分27的與導電線圈24相同的一側處同時沿著豎立部分27延伸(參見圖3)。副軛17通過磁性連接部分41而磁性地連接至豎立部分27。也就是說,豎立部分27(主軛14)和副軛17通過磁性連接部分41而彼此間整體地形成。因而,無需單獨地製造副軛17。這有助於在減少零件數目的同時防止製造過程變得複雜。
具有大致U形形狀的臺階部分42(參見圖7)形成於副軛17的與主軛14的豎立部分27相對的表面17a上,從而限定用於容納永磁體18的凹陷部分43(參見圖7)。副軛17包括設在凹陷部分43下面並且靠近磁性連接部分41的彎曲部分44。彎曲部分44彎曲為延伸而遠離豎立部分27。
由於彎曲部分44形成於副軛17中,在副軛17與主軛14相對的狀態下,用於容納永磁體18的容納空間45(參見圖3)由凹陷部分43和主軛14限定。容納空間45具有上部開口46(圖3),永磁體18能由此插入容納空間45中。開口46在本發明中不是必需的,而是可以藉由適當地改變電磁繼電器10的結構或製造過程來省略。
通過將永磁體18佈置於副軛17的凹陷部分43內,能將永磁體18保持於臺階部分42中的特定位置。這減少了永磁體18由於振動或其它原因而移動離開其位置的可能性,這使得能長時間地維持永磁體18的初始性能。
由於永磁體18的位置偏差能藉由在副軛17中形成凹陷部分43以獲得臺階部分42來防止,就能抑制吸引力(磁力)偏離目標值並且獲得穩定的操作性質。
以下將參照圖7來描述用於形成副軛17、主軛14和磁性連接部分41的方法。
永磁體18形成為大致矩形形狀並且通過如圖3所示的開口46而插入容納空間45。因而,永磁體18佈置於豎立部分27和副軛17之間。
如圖3和圖5所示,在豎立部分27連接至第一被吸引部分31的一側處,磁飽和部分21設在豎立部分27的與永磁體18相應的部分47和磁性連接部分41之間。
磁飽和部分21是形成於豎立部分27中的大致矩形的開口。磁飽和部分21設置來減小豎立部分27的特定區段中的橫截面積,從而保持流過豎立部分27的磁通量處於飽和狀態。
藉由形成呈通孔形式的磁飽和部分21,與非磁性元件或絕緣元件提供作為磁飽和部分的情況相比,能以簡單可靠的方式獲得磁飽和部分21。
另外,藉由形成呈通孔形式的磁飽和部分21,能藉由適當地選擇通孔的位置、形狀和尺寸以獲得期望的磁飽和程度。
在電磁繼電器10中,副軛17佈置於豎立部分27的與導電線圈24相同的一側處,並且磁飽和部分21設在豎立部分27中。因此,與副軛17佈置於豎立部分27的與導電部分24相反的一側處的情況相比,第一被吸引部分31能與彎曲部分44距豎立部分27的臺階距離成比例地放大。電磁繼電器10中使用這種構造使得能簡化該操作件15的結構。
如圖1所示,蓋板22佈置於基部11上並且形成為大致長方體形狀(盒形形狀)以使得其能容納鐵芯12、線軸13、主軛14、操作件15、觸點機構16、副軛17、永磁體18和磁飽和部分21。
接下來,將參照圖7來詳細描述用於形成副軛17、主軛14和磁性連接部分41的方法的一個示例。
如圖7所示,首先將平面材料(金屬板)衝壓(punched)為特定形狀,從而形成副軛17、主軛14和磁性連接部分41。接著,在副軛17與主軛14的豎立部分27相對的表面17a上將臺階部分42按壓而形成(press-formed)為大致U形形狀,從而形成用於容納永磁體18的凹陷部分43。凹陷部分43可與將平面材料(金屬板)衝壓為特定形狀同時地形成。
隨後,作為磁飽和部分21的通孔形成於豎立部分27中,此後在副軛17中形成彎曲部分44。於是,通過將副軛17帶入與主軛14成相對的關係,用於容納永磁體18的容納空間45(參見圖3)能限定於凹陷部分43和主軛14之間。
此後,主軛14的基部端部26以直角朝著豎立部分27彎曲以使得具有基部端部26和豎立部分27的主軛14在側視圖中觀看時能具有大致L形形狀。然後,永磁體18通過開口46(參見圖3)而插入容納空間45中以使得其能保持於容納空間45中的凹陷部分43內。
接著,將參照圖8A至圖8C來描述用於保持第二被吸引部分32被吸引至鐵芯12的另一端部12b的方法(也就是,用於將觸點37從電流中斷狀態切換至電流流動狀態的方法)的一個示例。
如圖8A所示,操作件15以如此的狀態佈置以使得其第二被吸引部分32與鐵芯12的另一端部12b間隔開。操作件15的第一被吸引部分31與豎立部分27相接觸。
在這個狀態下,永磁體18的磁通量50流過主軛14的豎立部分27、操作件15、磁性連接部分41和副軛17。因此,在永磁體18的磁通量50的作用下,操作件15的第二被吸引部分32被保持為與鐵芯12的另一端部12b間隔開。
在導電線圈24如圖8B所示保持為被激勵時,操作件15的第二被吸引部分32如箭頭C所示被吸引至鐵芯12的另一端部12b。操作件15的第一被吸引部分31如箭頭D所示移動而遠離豎立部分27。
導電線圈24如圖8C所示保持為未被激勵。在這個狀態下,永磁體18的磁通量50流過主軛14的豎立部分27、操作件15、鐵芯12、主軛14的基部端部26、磁性連接部分41和副軛17。因此,在永磁體18的磁通量50的作用下,操作件15的第二被吸引部分32保持為被吸引至鐵芯12的另一端部12b。第二被吸引部分32被吸引至另一端部12b,因此圖3所示的觸點37(也就是,固定端子36和可移動端子35)被保持於電流流動狀態。
接著,將參照圖9A至圖9C來描述用於保持操作件15的第二被吸引部分32與鐵芯12的另一端部12b間隔開的方法(也就是,用於將觸點37從電流流動狀態切換至電流中斷狀態的方法)的一個示例。
如圖9A所示,操作件15以如此的狀態佈置以使得其第二被吸引部分32被吸引至鐵芯12的另一端部12b。操作件15的第一被吸引部分31與豎立部分27分離。
在這個狀態下,永磁體18的磁通量50流過主軛14的豎立部分27、操作件15、鐵芯12、主軛14的基部端部26、磁性連接部分41和副軛17。因此,在永磁體18的磁通量50的作用下,操作件15的第二被吸引部分32保持為被吸引至鐵芯12的另一端部12b。
在導電線圈24如圖9B所示保持為被激勵時,操作件15的第二被吸引部分32如箭頭E所示移動而遠離鐵芯12的另一端部12b。操作件15的第一被吸引部分31如箭頭F所示朝著豎立部分27移動,從而與豎立部分27相接觸。
導電線圈24如圖9C所示保持為未被激勵。在這個狀態下,永磁體18的磁通量50流過主軛14的豎立部分27、操作件15、磁性連接部分41和副軛17。因此,在永磁體18的磁通量50的作用下,操作件15的第一被吸引部分31保持為與豎立部分27相接觸(也就是,操作件15的第二被吸引部分32保持與鐵芯12的另一端部12b間隔開)。第二被吸引部分32與另一端部12b間隔開,因此圖3所示的觸點37(也就是,固定端子36和可移動端子35)被保持於電流中斷狀態。
如上參照圖8A至圖8C和圖9A至圖9C所述,佈置於豎立部分27和副軛17之間的永磁體18能保持第二被吸引部分32與鐵芯12的另一端部12b間隔開,即使導電線圈24未被激勵。同樣,永磁體18能保持第二被吸引部分32被吸引至鐵芯12的另一端部12b,即使在導電線圈24未被激勵時。
以上述電磁繼電器10,導電線圈24僅在從操作件15的操作起始時刻至其操作結束時刻的期間被激勵(也就是,消耗電能)。因此,與傳統電磁繼電器相比,在第二被吸引部分32保持為與鐵芯12的另一端部12b間隔開時或者在第二被吸引部分32保持為被吸引至鐵芯12的另一端部12b時可降低能耗。
另外,由於與傳統電磁繼電器相比電磁繼電器10能降低所需電能,就能採用小尺寸的線圈並減小電磁繼電器10的總體尺寸。
接著,將參照圖10至圖16來描述第二至第八實施例。在下面的描述中,與第一實施例的電磁繼電器10相同或類似的組件將用相同的參照標號來標識並且將省略描述。
(第二實施例)
參照圖10,根據第二實施例的主軛14和副軛17由單獨的元件形成。其它構造保持與第一實施例相同。
藉由單獨的元件形成主軛14和副軛17,就能製成厚度不同的主軛14和副軛17。這使得能將磁力控制為具有期望值。
(第三實施例)
參照圖11,第三實施例的豎立部分60不同於第一實施例的豎立部分27之處在於,設在第一實施例的豎立部分27中的磁飽和部分21改變為磁飽和部分61。其它構造保持與第一實施例相同。
本實施例的磁飽和部分61是形成於豎立部分27的與如圖3所示操作件15相對的表面62上的凹陷部分。
藉由在豎立部分60中形成凹陷部分以作為磁飽和部分61,與其中非磁性元件或絕緣元件提供作為磁飽和部分的情況相比,能減小豎立部分60的特定區段中的橫截面積並以簡單可靠的方式獲得磁飽和部分61。
另外,藉由形成呈凹陷部分形式的磁飽和部分61,能藉由適當地選擇凹陷部分的位置、形狀和尺寸以獲得期望的磁飽和度。
(第四實施例)
參照圖12,第四實施例的豎立部分70不同於第一實施例的豎立部分27之處在於,設在第一實施例的豎立部分27中的磁飽和部分21改變為磁飽和部分71。其它構造保持與第一實施例相同。
本實施例的磁飽和部分71包括多個形成於豎立部分70中的圓形通孔。
藉由在豎立部分70中形成通孔以作為磁飽和部分71,與非磁性元件或絕緣元件提供作為磁飽和部分的情況相比,能減小豎立部分70的特定區段中的橫截面積並以簡單可靠的方式獲得磁飽和部分71。
另外,藉由形成呈通孔形式的磁飽和部分71,能藉由適當地選擇通孔的位置、形狀和尺寸以獲得期望的磁飽和度。
(第五實施例)
參照圖13,第五實施例的豎立部分80不同於第一實施例的豎立部分27之處在於,設在第一實施例的豎立部分27中的磁飽和部分21改變為磁飽和部分81。其它構造保持與第一實施例相同。
本實施例的磁飽和部分81包括多個形成於豎立部分80的與圖3所示操作件15相對的表面82上的圓形盲孔(blind holes)。
藉由在豎立部分80中形成盲孔以作為磁飽和部分81,與非磁性元件或絕緣元件提供作為磁飽和部分的情況相比,能減小豎立部分80的特定區段中的橫截面積並以簡單可靠的方式獲得磁飽和部分81。
另外,如果磁飽和部分71形成為呈盲孔的形式,能通過適當地選擇盲孔的位置、形狀和尺寸以獲得期望的磁飽和度。
(第六實施例)
參照圖14,第六實施例的副軛90不同於第一實施例的副軛17之處在於,設在第一實施例的副軛17中的臺階部分42改變為臺階部分92。其它構造保持與第一實施例相同。
臺階部分92在副軛90的與圖3所示主軛14的豎立部分27相對的表面94上形成為大致L形形狀。用於保持永磁體18的凹陷部分93藉由在表面94上形成臺階部分93來限定。
由於臺階部分92在第六實施例的副軛90中形成為大致L形形狀,就能從副軛90的一個側面插入永磁體18。這使得能自由地設計永磁體18的插入步驟,例如,在最後步驟執行永磁體18的插入,從而簡化製造過程。
(第七實施例)
參照圖15A和圖15B,第七實施例的副軛100不同於第一實施例的副軛17之處在於,設在第一實施例的副軛17中的臺階部分42改變為臺階部分102。其它構造保持與第一實施例相同。
在第七實施例的副軛100中,臺階部分102包括多個形成於副軛100的與圖3所示主軛14的豎立部分27相對的表面103上的半球形銷(升高部分)。藉由在表面103上形成臺階部分102,臺階部分102能將永磁體18保持就位。
由於第七實施例的副軛100的臺階部分102包括半球形銷(dowels),與凹陷部分形成於副軛中的情況相比,能避免由於凹陷部分的深度引起的磁路的橫截面積的減小。
(第八實施例)
參照圖16,第八實施例的主軛14和副軛17不同於第一實施例之處在於主軛14的豎立部分27靠近線軸13而佈置,副軛17靠近操作件15而佈置,並且磁飽和部分21形成於副軛17中。其它構造保持與第一實施例相同。
這種構造的第八實施例能提供與前述第一實施例相同的有利作用。
根據本發明的電磁繼電器10不限於上述第一至第八實施例,而是能以很多不同形式來變化或改變。
例如,雖然在第一、第三、第四和第五實施例中通孔和凹陷部分已經示出為磁飽和部分21、61、71和81的示例。磁飽和部分可形成為狹縫等形式。
雖然根據第一、第六和第七實施例臺階部分42、92和102形成於副軛17、90和100中,但是本發明不限於此。臺階部分42、92和102可形成於豎立部分27中。
第一至第八實施例中採用的鐵芯12、線軸13、主軛14、操作件15、觸點機構16、副軛17、90和100、永磁體18、磁飽和部分21、61、71和81、導電線圈24、豎立部分27、60、70和80、第一被吸引部分31、第二被吸引部分32、磁性連接部分41、臺階部分42、92和102以及凹陷部分43的形狀和構造不限於所示那些,而是可適當地改變。
雖然本發明已經就實施例示出和描述,但是本領域技術人員將理解到,在不背離本發明如所附申請專利範圍所限定的範圍之下,可做出各種改變和變化。
雖然本發明已以較佳實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何熟習此技藝者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可作些許之更動與潤飾,因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
10...電磁繼電器
11...基部
12...鐵芯
12a...鐵芯12的一個端部
13...線軸
14...主軛
15...操作件
16...觸點機構
17...副軛
18...永磁體
21...磁飽和部份
22...蓋板
24...導電線圈
26...基部端部
27...豎立部分
27a...豎立部分的末端
31...第一被吸引部分
32...第二被吸引部分
34...卡片部
34a...樞軸
35...可移動端子
36...固定端子
37...觸點
41...磁性連接部分
42...臺階部分
43...凹陷部分
44...彎曲部份
45...容納空間
46...開口
47...與永磁體18相應的部分
50...磁通量
圖1是示出根據本發明第一實施例的電磁繼電器的透視圖,其中從繼電器移除了蓋板。
圖2是圖1所示電磁繼電器的放大透視圖。
圖3是圖2所示電磁繼電器的側視圖。
圖4是圖1所示電磁繼電器的透視圖,其中從繼電器移除了基部。
圖5是示出根據本發明第一實施例的主軛和副軛的透視圖。
圖6是示出圖5所示主軛和副軛的透視圖,其中從軛移除了豎立部分。
圖7是示出一種用於生產圖5所示主軛和副軛的示例性方法的透視圖。
圖8A至圖8C是示出設在根據第一實施例的電磁繼電器中的觸點從電流中斷狀態轉換到電流流動狀態的示例的側視圖。
圖9A至圖9C是示出設在根據第一實施例的電磁繼電器中的觸點從電流流動狀態轉換到電流中斷狀態的示例的側視圖。
圖10是示出根據本發明第二實施例的主軛和副軛的透視圖。
圖11是示出根據本發明第三實施例的豎立部分的透視圖。
圖12是示出根據本發明第四實施例的豎立部分的透視圖。
圖13是示出根據本發明第五實施例的豎立部分的透視圖。
圖14是示出根據本發明第六實施例的副軛的透視圖。
圖15A和圖15B是示出根據本發明第七實施例的副軛的透視圖和橫截視圖。
圖16是示出根據本發明第八實施例的主軛和副軛的側視圖。
11...基部
12...鐵芯
12a...鐵芯12的一個端部
13...線軸
14...主軛
15...操作件
16...觸點機構
17...副軛
18...永磁體
21...磁飽和部份
24...導電線圈
26...基部端部
27...豎立部分
27a...豎立部分的末端
31...第一被吸引部分
32...第二被吸引部分
34...卡片部
34a...樞軸
35...可移動端子
36...固定端子
37...觸點
41...磁性連接部分
44...彎曲部份
45...容納空間
46...開口
47...與永磁體18相應的部分

Claims (8)

  1. 一種電磁繼電器,其包括:鐵芯;圍繞鐵芯而佈置並纏繞有導電線圈的線軸;主軛,其包括連接至鐵芯的一個端部並且在線軸的徑向上延伸的基部端部、以及連接至基部端部並與鐵芯平行地佈置的豎立部分;操作件,其包括沿著該豎立部分延伸的第一被吸引部分以及能夠朝向或遠離該鐵芯的另一端部移動的第二被吸引部分,第一被吸引部分和第二被吸引部分以大致L形形狀彼此連接,該操作件佈置為繞著該豎立部分的末端擺動;由操作件的操作來驅動的觸點機構;副軛,其沿著主軛的該豎立部分延伸並且通過磁性連接部分而磁性地連接至該豎立部分;佈置於主軛的該豎立部分和副軛之間的永磁體;以及磁飽和部分,其設在靠近該操作件的第一被吸引部分而佈置的豎立部分或副軛的與該永磁體相應的一部分和該磁性連接部分之間,其中該電磁繼電器設計為:當在導電線圈保持為未被激勵的狀態下第二被吸引部分與該鐵芯的另一端部間隔開時,允許該永磁體的磁通量流過該豎立部分、該操作件、該磁性連接部分和該副軛,並且當在導電線圈保持為未被激勵的狀態下第二被吸引部分被吸引至該鐵芯的另一端部時,允許該永磁體的磁通量流過該豎立部分、該操作件、該鐵芯、該基部端部、該磁性連接部分和該副軛。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的電磁繼電器,其中該副軛佈置於該豎立部分的與該導電線圈相同的一側處,並且該磁飽和部分設在該豎立部分中。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述的電磁繼電器,其中主軛和副軛形成為單個零件。
  4. 如申請專利範圍第2項所述的電磁繼電器,其中該磁飽和部分藉由減小該豎立部分的特定區段的橫截面積來形成。
  5. 如申請專利範圍第2項所述的電磁繼電器,其中該磁飽和部分包括形成於該豎立部分中的通孔。
  6. 如申請專利範圍第1或2項所述的電磁繼電器,其中該豎立部分和副軛的相對表面中的至少一個包括用於保持該永磁體就位的臺階部分。
  7. 如申請專利範圍第6項所述的電磁繼電器,其中該臺階部分包括形成於該豎立部分和副軛之一之中的凹陷部分。
  8. 如申請專利範圍第6項所述的電磁繼電器,其中該臺階部分包括形成於該豎立部分和副軛之一之中的升高部分。
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