TWI427174B

TWI427174B - 濺鍍系統、靶材組件以及將圓柱靶材的末端連接至端塊的鄰近心軸的方法

Info

Publication number: TWI427174B
Application number: TW095118563A
Authority: TW
Inventors: Leszek Malaszewski; Olaf Gert Gawer
Original assignee: Applied Films Corp
Priority date: 2005-06-10
Filing date: 2006-05-25
Publication date: 2014-02-21
Also published as: KR20080042042A; WO2006135528A3; WO2006135528A2; EP1896628A2; JP2009512777A; RU2007148905A; JP5420240B2; EP1896628A4; US20060278519A1; TW200704805A; CN101374971A

Description

濺鍍系統、靶材組件以及將圓柱靶材的末端連接至端塊的鄰近心軸的方法

本發明大致關係於圓柱磁控管濺鍍系統。更明確地說，本發明關係於將圓柱靶材耦接至圓柱磁控管系統之端塊的方法。

例如建築玻璃片材之大基材可以被塗覆以各種材料，以修改其光學、熱及美學品質。例如，光學塗層可以用以降低可見光的透光率(太陽光控制塗層)、降低能量吸收率(低透射塗層)、或降低反射率(抗反射塗層)。名為“抗反射塗層及其相關方法”的美國專利第6,589,657號及名為“光學塗層及相關方法”之美國專利公開第2003/0043464號描述了影響玻璃基材的光學特性之塗層的形成與用途，該兩案係併入作為參考。

塗覆例如建築玻璃的大基材擁有特殊的問題。建築玻璃大致被生產為大片材形式，其到達2.3米×6米(126吋×236吋)。此等片材很難處理。塗覆系統(塗覆機)大致由多個串列排列的處理模組(室)構成，使得一基材可以由一處理模組到下一處理模組。基材大致被也支持基材的滾子所移動。基材大致一端進入塗覆機並通過多個處理模組，其中，其被塗覆以各種不同材料。基材可以被指向，使得它們為水平並沿著一水平板移動，但其他系統中，基材可以被安排呈垂直或接近垂直指向。第1圖顯示一具有多數處理模組102a-102e的塗覆機100的例子，諸處理模組係被安排使得基材104依序由一處理模組進行至下一處理模組。在一處理模組內，有多數執行不同處理的隔室或槽。

一種常見塗覆處理為當基材移動通過一靶材時，由一圓柱靶材濺鍍靶材材料至該基材。濺鍍大致發生在一真空環境中。塗覆例如使用圓柱磁控管的大玻璃片材料之大基材特別有問題。大基材必須靶材旋轉及靶材被濺射時，在真空下移動通過靶材。這需要維持濺射用真空環境，但也必須使得元件移動於真空環境中。另外，有需要一高功率電源作濺鍍用，及也需要冷卻水，以防止過量加熱。用以以此方式，沉積材料的系統與方法係描述於名為“具有符合驅動系統及改良電與熱隔絕的圓柱AC/DC磁控管”之美國專利第6,736,948號案中，該專利係併入作為參考。

第2圖為第1圖之處理模組102a隔室的剖面圖。第2圖顯示為滾子106所支持之基材104，當基材被以垂直於剖面圖的面之方向移動通過處理模組102a時。滾子大致支持及移動基材通過塗覆機。在基材104的上方，有一靶材208。靶材208為圓柱形並在其外(圓柱)表面上，具有靶材材料。靶材材料係由靶材208濺射出，其部份濺射出的材料被沉積在基材104上。因為靶材材料被濺射，所以，靶材208被旋轉，使得靶材材料均勻地侵蝕靶材208。

端塊210、212在其兩端支持靶材208。端塊210、212也支持在靶材208內之一陣列的永久磁鐵。端塊210、212也提供旋轉力，以旋轉靶材208，並提供電力給造成濺鍍的靶材208。另外，端塊210、212提供冷卻水，以流經靶材208的內部，以防止用以濺射靶材的高電力過度加熱。此端塊的詳細描述係提供在美國專利第6，736，948號案中。

將一靶材附著至端塊呈現了幾個問題。於靶材與端塊間之密封必須防水，因為冷卻水流經靶材的內部，如果洩漏可以對其造成損害。密封必須忍受一溫度範圍沒有故障，因為靶材在使用時相當地熱。附著必須足夠地強，以支持靶材並傳遞用以旋轉靶材的旋轉力。附著必須允許靶材由端塊附著及拆卸，而沒有不必要的困難並為導電性的。於製造環境中，因為靶材材料會被侵蝕，所以，靶材必須定期地改變。同時，吾人也想要能改變靶材，而不必特殊工具或特殊訓練。也可以使用各種用以將靶材附著至端塊的系統。

於部份系統中，靶材係以一螺紋耦合加以附著。第3圖顯示一心軸314與一靶材316間之旋上耦合的剖面圖。靶材316包含一靶材管318，其有靶材材料320覆蓋於靶材管318的一部份之外表面上。靶材316的外表面在接近末端處，具有螺紋部份322。心軸314係為心軸環324所包圍，該心軸環具有一螺紋內表面，以完成與靶材316的螺紋部份322的耦合。彈簧326係被插入於心軸環324與靶材3136之間，使得其嚙合兩心軸環324與靶材316的螺紋部份。當心軸環324與靶材316被螺旋在一起時，心軸314與靶材316被強迫在一起、壓縮o形環328並形成一密封。此系統類型的例子係在美國專利第5,591,314號案所述(摩根專利)。

另一旋上附著系統系統使用形成在靶材上之凸出部以嚙合一軸環。該軸環具有螺紋內表面，以允許其嚙合一放置在心軸後面的扣環。藉由螺旋該扣環與軸環在一起，心軸與靶材被強迫在一起，壓縮了o型環並形成一密封。此類型系統的例子係如美國專利第6,375,815號案所述(林專利)。

用於這些例子中之螺接具有若干缺點。螺接面需要精確地加工，這將很昂貴並且困難。特別是，當靶材為難以加工的材料時，形成一螺紋面係很昂貴的。同時，螺接在靶材與心軸間並不一直給予均勻密封。如果o型環未被均勻壓縮，則可能即使耦合似乎很緊時，仍會在部份點發生洩漏。也可以在此系統之心軸與靶材間發生欠對準，使得靶材繞著不與靶材軸同心的軸旋轉。此欠對準產生較差的密封。使用螺接的靶材例子係經常被稱為快拆靶材(QCT)。

改良之附著系統也被描述於名為“具有自清洗靶材之圓柱磁控管”的美國專利申請第2004/0163943及2005/0051422號案，該等案係併入作為參考。這些系統使用夾具，並不需要在靶材上有一螺紋面或一螺旋環。這使得靶材的結構簡單便宜，允許靶材更容易更換，並藉由更均勻地壓縮在心軸與靶材間之o形環，而提供較佳之密封。靶材與心軸的同心性也得以改良。一包含附著的夾具系統之商業上成功的端塊係為來自真空塗覆技術公司的VAC－MAG端塊。

雖然使用夾具而不使用螺接的系統具有很多優點，但很多塗覆機在使用時仍有螺接。同時，很多靶材係以用以附著之螺紋部份加以販售，而不是被架構有夾具。部份已經安裝有使用夾持的新技術的使用者仍具有需要螺紋靶材的塗覆機，並且，可能具有螺紋靶材的庫存。因此，有需要一種適用螺紋靶材的方法，以允許其能用於夾持架構中。也需一種適用一端塊的方法，其係架構用以螺紋靶材，使得靶材可以被夾持至此等端塊。也需要用於此等適用法的適當設備。

具有螺紋部份以類似地螺接端塊元件的靶材係被修改，使得其可以被夾持。該修改包含在接近靶材的末端，形成圓形凹槽，並將凹槽中，插入一扣環，以夾持住包圍靶材末端的凸緣環。凸緣環係被作成大小使得夾環可以配合於其上及在端塊心軸上，以將靶材夾持至心軸。靶材可以在現場以此方式加以修改，使得其可以被使用於一被架構用於夾持的端塊。凸緣環及扣環可以被移除，靶材仍可以使用螺紋部份加以附著。圓形凹槽並未干擾附著的螺紋系統的使用。並未具有螺紋部份的靶材也可以以此方式加以附著。於部份例子中，不同靶材在心軸中，需要被附著至不同o形環位置，也需要部份修改該心軸。

藉由移除螺紋心軸環及加入一轉接凸緣，架構以螺紋靶材的端塊也可以適用至夾持型附著。轉接凸緣也可以簡單地被螺栓至現行在轉接凸緣與心軸間具有o型密封的凸線上。這通常需要採用一水端塊心軸。轉接凸緣具有圓形凹槽以夾持住密封靶材的o形環。一夾緊圈被放置繞著該凸緣，及一靶材凸緣被放置在靶材末端。

於部份例子中，端塊可能需要修改，以允許靶材的夾緊。部份驅動端塊具有心軸，其可以當沒有靶材時，簡單地藉由將心軸滑出而將心軸加以移除。此等心軸容易替換或移除作修改。一心軸可以被修改，以具有較大之整體直徑，並可以使用對應於靶材的新o形環的位置。

於第一實施例中，在接近其末端具有螺紋部份的靶材係被轉用於夾持架構中，以一對應螺紋環耦接至一端塊。第4圖顯示在其外表具有螺紋部份432的靶材430。使用依據本發明之轉接組，靶材430被夾持在一心軸434。一圓形圓周凹槽436係位在靶材430的螺紋部份432與靶材430的末端之間。凹槽436可以在製造時加以形成，使得靶材430可以與不同附著系統一起使用。或者，凹槽436可以在使用或儲存靶材的工廠現場才作好，使得靶材可以適用於不同端塊。“C”或其他形狀的扣環438係被放置在圓形凹槽436中，使得其包圍靶材430。扣環的例子為一開口環，其係由單件金屬所形成為環形，但在末端有一開口，使得開口能展開以移動至定位。一凸緣環440延伸繞著靶材430。凸緣環440的位置係由扣環438所建立。夾緊環442延伸繞著心軸434及凸緣環440，並強迫凸緣環440與心軸434在一起。因為扣環438將凸緣環440固定住不會沿著靶材430的軸移動，所以，當夾緊環422緊固時，靶材430被強迫靠著心軸434。一O形環444係定位在形成在心軸434的前面449中之圓形凹槽447中，以強迫靶材430。O形環444放置在靶材430配合心軸434處，使得當靶材430與心軸434被強迫在一起時，O形環444被壓縮並在靶材430與心軸434間形成一密封。於靶材430與心軸434間之力量可以均勻繞著O形環444分佈，使得可以形成一良好密封。沒有了凸緣環440與扣環438，靶材430可以與先前技藝所述之螺紋軸環一起使用。圓形凹槽436的加入並未排除在螺紋附著系統中使用螺紋部份432。應注意的是，不需要O形環，所以，在凸緣環440與心軸434間沒有密封。在此架構中，在凸緣環440與靶材430間也不必密封。因此，凸緣環440與扣環438並不必作得很精確，並不需要高度研磨密封表面。

第5圖顯示靶材430的末端，其具有靶材管446中，為靶材材料448所覆蓋的部份550及靶材管446中，未為靶材材料448所覆蓋的部份552。一螺旋凹槽554係位在該靶材管446的曝露部份552中，形成螺紋部432。雖然螺旋凹槽554只略微繞著靶材管446超出360度，但其他架構也是可能的。一圓形凹槽436係位在螺旋凹槽554與靶材430的末端之間。我們發現具有依據先前附著系統所形成之螺紋部份的靶材在螺紋部份與靶材管之末端間留下足夠空間，以允許凹槽被加工。否則，此靶材表面的此部份未被使用，並且，在此區域加工一凹槽並不會負面影響該靶材。此例子的圓形凹槽436在離開靶材430的末端一固定距離處，完整地繞著靶材(360度)。凸緣環及扣環可以容易地附著或由靶材430卸下。因此，相同靶材可以適用於各種所需之端塊。

第6A圖顯示沿著靶材660的軸668分開之靶材660、凸緣環662、扣環664與心軸666的分解圖。凸緣環662與扣環664係可移除的並不會永久地附著至靶材660。對夾持架構的轉換可以快速地完成，而不必特殊知識或設備。凸緣環662係滑動於靶材660上並被由靶材660的末端670推開。典型地，凸緣環662在此點以部份小餘隙的配合於靶材660上。然而，凸緣環662可以進一步防止沿著靶材660移動靠近靶材材料672。靶材672具有一靶材管674(背管)，其外表面的一部份上有靶材材料672。然而，也可以使用其他靶材結構。例如，整個靶材可以由靶材材料形成。不同材料的軸環可以被在靶材的末端處加上。當凸緣環662被推離開靶材660的末端667時，凹槽675被露出及扣環664可以插入凹槽675中。扣環664係由彈簧類材料作成，例如鋼或其他金屬作成。扣環664繞著靶材660延伸並因為其作動為一彈簧以固持住靶材660，所以其會停留於定位。一扣環可以延伸於整個360度或接近360度。扣環可以延伸超出360度，使得扣環的端部彼此重疊。一旦扣環664於定位，則凸緣環662可以被移動向669的末端670，該凸緣環662係為扣環664所止動。靶材660被移動至定位靠著心軸666，使得靶材660的末端670對準O形環676。一夾緊環(夾具)然後放置繞著凸緣環662與心軸666。夾緊環被緊縮，使得凸緣環662(及靶材)被強迫靠向心軸666，因此，壓縮O形環676並密封於靶材660與心軸666間之空隙。雖然此系統係被用以轉接一螺紋靶材，但這也可以用於其他靶材，其沒有螺紋部份者。此將靶材附著至一端塊的方法可以用於設計用於其他附著系統的靶材或者可以用於特別設計用於此附著方法的靶材。

第6B圖顯示第6A圖之靶材660的端部的細部圖。靶材660具有螺旋凹槽678，用以螺接至一端塊。圓形凹槽675係位在螺旋凹槽678與靶材660的末端670之間。靶材660的末端670係為一表面，其係垂直於靶材660的軸。末端670提供一密封面，以密封於靶材660與心軸666之間。一密封面為一表面，其係被放置與一O形環或類似密封件接觸並且O形環係被向其抵靠壓縮。典型地，密封面應極端平滑，並可以高度研磨，以完成想要的平滑度。靶材660係為靶材的例子，其係原始製造作為螺接，但隨後被轉用以藉由形成凹槽而作夾持接合者。

第6C圖顯示另一靶材680的端部，其沒有螺旋凹槽。靶材680具有一圓形凹槽682，位在接近靶材680的末端，用以類似於靶材660夾持住一扣環。靶材680的末端具有一表面684，其係垂直於靶材680的軸。靶材680為一靶材例子，其並未被製造以用於螺接，因此，並沒有螺旋凹槽。此等靶材可以藉由夾持而被耦接，或者，可以被設計用於其他耦接系統或隨後修改用於夾持。

第6D圖顯示另一靶材686的端部。靶材686具有一圓形凹槽688，但並沒有螺旋凹槽或螺紋部份。靶材686具有一去角端，使得有一去角面690延伸繞著靶材686的內開口。去角面690可以形成一密封面，以密封一心軸。去角面690係較未被去角的端面(例如靶材680的表面684)不曝露及去角面690因此當靶材686被處理時，較不會受到損害。去角面690的尺寸及完工可以依據所用之心軸加以決定。其中，當有一去角面時，仍可以使用另一表面作為密封。因此，靶材686的表面690或表面692均可以為密封面。取決於靶材686所附著之心軸，表面690及692可以使用作為另一密封表面。例如靶材686的靶材之其他表面也可以使用作為密封表面。

如同於美國專利公開第2005/0051422號所述，一軸環可以使用作為圓柱靶材的一部份，以改良靶材壽命。於一例子中，凸緣環可以為一覆蓋靶材部件的軸環。於另一例子中，凸緣環可以為用於塗覆製程目的之靶材的一特殊部件或/及靶材的一體部件。一般而言，用於上述例子中之附著方法係可以與各種圓柱靶材一起使用，包含具有軸環的靶材及已經具有其他附著特性的靶材。

第7A圖顯示第4及5圖之扣環438與靶材430的細部剖面圖。扣環438保持在凹槽436內，因為其內徑係小於靶材430在該點的直徑。扣環438的外徑係大於在該點之靶材430的直徑，使得扣環438延伸超出靶材430的表面外，以停止凸緣環使之不會通過此點。

第7B圖顯示另一凹槽與扣環設計。其中，圓形凹槽794之剖面係為半圓形，及扣環796剖面為圓形。此設計降低由於形成凹槽794所造成之於靶材管798內之應力。典型地，形成一圓形凹槽並不會需要以少於10密耳(0.01吋)精度的加工。因此，形成凹槽並不會太貴或困難。

第7C圖顯示另一扣環設計。如剖面圖所示，扣環701具有兩部份701a及701b。這是為延伸超出360度的扣環例子，使得扣環的末端彼此重疊。所示之圖為重疊部份701a、701b的剖面圖。其他設計也可以使用以提供一扣環，其係沿著靶材的軸被捕獲，並對凸緣環呈現一阻障。雖然第7A、7B及7C圖顯示具有去角端的靶材，但各種端面也可以配合上所示之不同扣環。

第4－7圖顯示用以附著至使用夾具(例如VAC－MAG端塊)端塊的螺紋靶材(例如用於QCT附著的靶材)之轉換。於部份例子中，即使示於第4至7圖中之靶材被修改，使得它們可以被夾持，但這些靶材可以具有密封表，其並不在其所予以附著之對應於端塊中之O形環的位置。第7C圖顯示包含去角面703與端面705的密封面的位置。如果靶材的密封位置並未對應於O形環位置，則O形環凹槽必須形成在端塊心軸的對應位置，使得一O形環可以設在該處並完成一密封。一心軸也可以藉由如所需地加工此一凹槽加轉用，或者，一替換心軸也可以插入想要凹槽位置。一轉接心軸在不同靶材具有用於O形環的凹槽。例如，在心軸中之內圓形凹槽可以位在對應於QCT型靶材的密封面，而在相同心軸的一外圓形凹槽係位在對應於VAC－MAG靶材的密封表面。

上述說明係有關於耦接至一靶材的單一端塊。然而，在多數情形中，靶材的兩端具有類似特性及磁控管的兩端塊具有類似的耦接元件。因此，當一靶材的一端被修改用於夾持時，通常另一端也會被以相同方式修改。雖然有可能令靶材的一端螺旋入定位，及另一端夾持於定位，但通常這並不是想要的。同樣地，有可能在相同塗覆機上的不同靶材有不同附著架構，但一般而言，整個塗覆機使用單一之附著系統。

如第4至7圖所示之用於轉換靶材的轉接組可以包含兩凸緣環及兩扣環，一凸緣環及扣環用於靶材的一端。如果在靶材的兩端均作出凹槽，則這允許靶材予以架構為任何時間均可用以夾持。靶材也可以藉由將扣環移除並滑開凸緣環，而再被架構用於螺紋附著。

在另一實施例中，一端塊被轉接以與不同類型的靶材一起工作，而不進行原始架構。因為在塗覆工業中，有很多安裝端塊被架構用於螺紋靶材，所以，有時想要轉換此等端塊，而不是將之替換。藉由將此等端塊轉換以允許進行靶材的夾持，而不是將靶材螺固於定位，可以享有夾持靶材的部份優點，而沒有替換端塊的時間及成本。

由具有例如第3圖示之心軸及螺紋心軸的端塊開始，靶材被移除然後心軸環被移除。這可能需要切除心軸環或部份分解端塊。於部份設計中，心軸具有以平行於心軸的軸的螺栓栓在一起的一外部份及一內部份。外部份與內部份可以被卸下並分開以允許心軸環被移除。於外部份與內部份間之密合墊片可以然後在再次將兩部份螺栓在一起之前被替換。部份的螺栓可以被移除及一轉接凸緣可以使用先前用以固時所移除的螺栓的洞來螺栓於定位。相同的螺栓可以被再使用於此目的或者轉接凸緣也可能需要較長的螺栓。於一例子中，總數八個螺栓中之四個係由心軸上移除，然後，四個螺栓被使用以將轉接凸緣固持至心軸。第8圖顯示一例子，其中第3圖的水心軸314係由一內部份314a及外部份314b所構成。外部份314b具有一螺栓至其上的轉接凸緣807。在心軸314中之圓形凹槽809的O形環328密封於心軸314與轉接凸緣807之間。螺栓813被旋緊以足夠壓縮O形環328，以提供良好密封。另一圓形凹槽815係位在轉接凸緣807之面向靶材811的表面中。另一O形環817係位在凹槽815中，以密封轉接凸緣807與靶材811之間。於此例子中，靶材811具有靶材凸緣819，以促成夾持。一靶材凸緣可以被焊接至靶材管或者可以與靶材管一體成型。於部份例子中，一靶材凸緣被形成在一由低濺鍍率材料作成之軸環中。一靶材凸緣也可以是如前所述之由扣環所固時之凸緣環。一夾環821係放置繞著轉接凸緣807與靶材凸緣819。因為夾緊環821被緊固，所以靶材凸緣819與轉接凸緣807被強迫在一起，壓縮O形環817與提供良好密封。壓縮可以更大於螺接組件，使得洩漏被降低。同時，因為夾緊環821為緊固，所以，力量係被徑向向內施加，強迫靶材811與心軸314對準。

第8圖所示之系統由螺紋附著至夾持附著，提供一簡單轉換。此轉換可以在原處完成，而不必特殊訓練或設備。這允許依據一標準完成的靶材(例如VAC－MAG相容靶材)予以與原始建立用於不同類型靶材(例如QCT相容靶材)的端塊一起使用。於靶材與凸緣間之密封位置係不同於靶材與心軸間之原始密封位置，使得有需要一較大的O形環817。第8圖顯示一在轉接凸緣807與心軸314間之開口。開口821允許冷卻水流動於心軸314與靶材811內側之間。供給冷卻水的端塊大致具有此類型開口的心軸並被稱為水端塊。在此圖中之特性並不依尺寸比例繪出，可以了解的是，本實施例並不限定於所示之特性。

於部份例子中，有可能附著一凸緣至固持一靶材的兩端塊的心軸，如第8圖所示。然而，這並不是一直如此。沿著靶材的軸方向可能沒有足夠空間以允許此等凸緣被插入。如果凸緣在被加入至心軸的兩端，則靶材可能無法在附著凸緣間配合。同時，在部份例子中，螺栓只出現在一端塊(水端塊)的心軸中。為了在此等狀態下，完成夾持附著設計，可能需要替換或重做一心軸以與夾持架構相容。

第9圖顯示一來自先前技藝驅動端塊的心軸931。此等心軸可以被用於類似於第3圖所示之剖面的端塊中。心軸931具有六角形的端部933，以允許一旋轉力量的耦接通過端塊到達心軸931，同時，允許心軸931沿著其軸自由移動。這允許當靶材被插入及向內移動向附著靶材時，心軸931予以推回。心軸931可以以具有額外部份935的心軸加以替換，或者心軸可以具有被附著有額外部份935，例如藉由焊接額外部份935至心軸931。額外部份935包含一圓形O形環凹槽，其被定位以密封一靶材。作為修改現行心軸的另一方法，一替換心軸也可以由劃出適當尺寸的夾持用痕跡加以完成。

第10A－10C圖顯示此一心軸如何被修改以與夾持架構相容。第10A圖顯示在修改前之心軸931的原始狀態。第一，心軸931的外部份被移除，如第10B圖所示。第二，額外部份935係被加入，如第10C圖所示。額外部份935擴展心軸931的直徑。額外部份935包含一新圓形O形凹槽937。圓形O形凹槽937具有一被選擇以密封被夾持靶材的靶材凸緣的直徑，因此，具有較原始O形環凹槽939為大的直徑。另外，O形環凹槽937的位置係沿著靶材的軸向外移動(離開靶材)。這對插入靶材，提供額外的空間。

典型地，當一端塊被轉接用於新靶材類型時，相同磁控管的相對端塊也被適用於相同靶材類型。當水端塊被以螺栓於轉接凸緣轉接如第8圖所示時，驅動端塊可以被修改如第10A－10C圖所示。第8圖之凸緣的密封面係沿著靶材的軸略微向內移動離開先前之密封表面位置，同時，第10圖之修改心軸的密封面係沿著靶材的軸略微向外移動離開原始密封面位置。因此，在這些密封面間之整個距離可以保持不變或被如所需地修改。這表示在這些表面間有足夠空間，以供靶材插入。

第11圖顯示可以與本發明之不同實施例一起使用的夾緊環1150的例子。夾緊環1150係由兩部件1152、1154所構成，其係為螺栓1156所附著在一起。旋下螺栓1156，夾緊環1150具有一內開口1158，允許它通過一凸緣或凸緣環。當夾緊環1150位在相反凸緣上時，螺栓1156被旋緊及夾緊環1150的內開口1158消失。這傾向於向凸緣的徑向施加向內力量，強迫凸緣為同心。夾緊環1150的內表面為有角度並與對應角度的凸緣面接觸。因此，當夾緊環1150旋緊時，夾緊環1150也由兩側向內施加一力量並將兩凸緣強迫在一起。

第12圖顯示強迫兩凸緣1260、1262在一起的夾緊環1150的剖面圖。力量1264係被顯示為徑向向內的方向。這強迫凸緣1260與凸緣1262為同心。同時，所示力量1266也被沿著靶材軸向內施加。一O形環1268係被顯示為以力量1266壓縮於凸緣1260、1262。一與轉接凸緣或修改主軸一起使用的夾緊環可以具有較其替換的螺紋心軸環為大之直徑。如果在心軸環圍繞有遮蔽，則遮蔽也可以被修改以允許夾緊環。典型地，遮蔽被維持繞在夾緊環旁，以具有暗區距離為小之游隙。

用以轉接磁控管的兩端塊之轉接組可以包含一用於水端塊的轉接凸緣，及用於驅動端塊的替換心軸。在端塊轉接後，兩O形環也可以包含O形環尺寸不同。也可以包含兩夾緊環。如果在心軸旁的遮蔽並未配合繞在夾緊環旁，則也可以包含配合夾緊環旁的替換遮蔽。

雖然本發明之特定實施例與其優點已經加以顯示與說明，但應了解的是，各種變化、替換或取代可以在不脫離隨附申請專利範圍所界定的本發明精神與範圍下加以完成。

100．．．塗覆機

102a－e．．．處理模組

104．．．基材

106．．．滾子

210．．．端塊

212．．．端塊

208．．．靶材

314．．．心軸

316．．．靶材

318．．．靶材管

320．．．靶材材料

322．．．螺紋部份

324．．．心軸環

326．．．彈簧

328．．．O形環

430．．．靶材

432．．．螺紋部份

434．．．心軸

436．．．圓周凹槽

438．．．扣環

440．．．凸緣環

442．．．夾緊環

444．．．O形環

446．．．靶材管

447．．．圓凹槽

448．．．靶材材料

449．．．前面

550．．．覆蓋部份

552．．．曝露部份

554．．．螺旋凹槽

660．．．靶材

662．．．凸緣環

664．．．扣環

666．．．心軸

668．．．靶材軸

670．．．靶材端

672．．．靶材材料

674．．．靶材管

675．．．凹槽

676．．．O形環

678．．．螺旋凹槽

680．．．靶材

682．．．圓形凹槽

684．．．表面

686．．．靶材

688．．．圓形凹槽

690．．．去角面

692．．．表面

701．．．扣環

701a，b．．．扣環部份

703．．．去角面

705．．．端面

794．．．圓形凹槽

796．．．扣環

798．．．靶材管

314a．．．內部份

314b．．．外部份

807．．．轉接凸緣

809．．．圓形凹槽

811．．．靶材

813．．．螺栓

815．．．圓形凹槽

817．．．O形環

819．．．靶材凸緣

821．．．夾緊環

931．．．心軸

935．．．額外部份

937．．．O形環凹槽

939．．．O形環凹槽

1150．．．夾緊環

1152．．．夾緊環部件

1154．．．夾緊環部件

1156．．．螺栓

1158．．．開口

1260．．．凸緣

1262．．．凸緣

1264．．．力量

1266．．．力量

1268．．．O形環

第1圖為具有多數處理模組之先前技藝的塗覆機，一基材於處理時會通過其間。

第2圖為在第1圖之處理模組內的隔室之剖面圖，顯示先前技藝的圓柱磁控管濺射系統。

第3圖為第2圖之靶材附著至端塊的剖面圖，顯示靶材與心軸環的螺紋部份與依據先前技藝的相關螺紋內表面。

第4圖為依據本發明實施例之使用一扣環與凸緣環將靶材附著至一端塊的剖面圖。

第5圖顯示第4圖之靶材，除了螺旋凹槽外，具有圓形凹槽於接近靶材的末端。

第6A圖顯示靶材、凸緣環、扣環及心軸的分解圖。

第6B圖顯示第6A圖之靶材的端部的細部圖。

第6C圖顯示沒有螺旋凹槽的另一靶材的端部。

第6D圖顯示具有去角面的另一靶材的端部。

第7A圖顯示第4圖之扣環及圓形凹槽的細部圖。

第7B圖為另一扣環及圓形凹槽的細部圖。

第7C圖為另一扣環的細部圖。

第8圖顯示採用依據本發明實施例之轉接凸緣，而夾在一靶材的心軸。

第9圖顯示藉由加入新部份至一心軸，而夾在靶材的心軸的情形。

第10A圖顯示第9圖之心軸在修改前的原始狀態。

第10B圖顯示第9圖之心軸在修改中之中間狀態。

第10C圖顯示適用於夾在一靶材的最終狀態的第9圖之心軸。

第11圖為一夾緊環的示意圖。

第12圖為當凸緣為夾緊環所包圍當夾緊環緊密時，為夾緊環所施加之力量。