CN111733389A - 用于镜片覆层的装置 - Google Patents

Abstract

提出了用于对镜片进行覆层的装置，待覆层的镜片成对地布置在平行的管状靶材上方，这样它们分别地覆盖靶材的均质沉积区域和不均质沉积区域，并且镜片旋转，所以实现了特别均匀的覆层。

Description

用于镜片覆层的装置

本申请是申请日为2016年6月16日、申请号为201680034762.0、发明名称为“用于镜片覆层的装置、方法和用途”的中国发明专利申请的分案申请。

本发明涉及根据权利要求1的前序部分的一种用于对镜片进行覆层(coating，镀层，涂覆)的装置。

本发明一般涉及通过溅射进行的镜片覆层，而溅射也被称为阴极溅射。在此过程中，原子通过高能离子冲击而与固体(即所谓的靶材)分离，并且进入气相。特别地，本发明涉及所谓的磁控溅射，其中除了所施加的电场之外，在阴极和/或靶材之后还存在磁场。

实际上，即使现有技术公开了许多不同的用于溅射的装置和方法，但仍难以实现待覆层的镜片的均匀覆层。

DE 40 10 495 C2公开了一种用于通过溅射用材料给基板覆层的装置，该基板能够围绕固定轴线旋转，并且保持倾斜于基板表面的两个靶材被分配给基板。在此，无法实现或者至多只能费很大努力才能实现均匀的覆层。

DE 295 05 497 U1公开了一种用于通过溅射对镜片进行覆层的覆层站，镜片以行星式布置在平面溅射源上方移动。在此，构建的努力是相当大的，并且以待覆层的镜片进行的对覆层站的进料是复杂的。此外，无法实现或者只能费很大努力才能实现最佳的均匀覆层。

WO 03/023813A1公开了一种用于通过脉冲磁控溅射对镜片进行覆层的设备，镜片沿着平行伸长的两个管状靶材的纵向延伸线性地移动，并且在此过程中还旋转。在此，无法实现或者至多只能费很大努力才能实现镜片的均匀覆层。

本发明的目的是提供用于对镜片进行覆层的一种装置，能够以简单的结构和/或以简单的进料来实现镜片的特别是曲面的非常均匀的覆层。

上述目的通过权利要求1所要求保护的装置来实现。有利的改进方案是从属权利要求的主题。

根据本发明的一个方面，装置优选地具有细长的或管状的靶材，并且待覆层的镜片可以围绕相对于靶材固定的轴线旋转。特别地，在此过程中，镜片不能线性地移动，但是优选的是固定的布置，靶材和镜片优选地各自围绕固定的轴线旋转。因此，在低构建努力下可以实现尤其均匀的镜片覆层。

根据本发明的另一方面，待覆层的镜片优选地在靶材的移除速率曲线的至少基本上均质的第一区域以及非均质的第二区域中都被保持在靶材上方，并且在此过程中旋转。因此，特别是曲镜片表面的尤其均匀的覆层成为可能。

特别地，待覆层的镜片在端部区域或其附近被保持在优选细长的或管状的靶材上方。因此，可以尤其好地利用刚好朝向靶材的端部增加的输送速率，并因此提高雾化的靶材料的利用可以发生。

根据本发明的另一方面，优选地使用两个细长的和/或管状的，特别是平行的靶材来对镜片的曲面进行覆层，镜片成对地布置在靶材上方，并且优选地围绕一个固定的轴线旋转。这使得简单且紧凑的结构成为可能，可以获得非常均匀的镜片覆层。

根据本发明的另一方面，装置优选地包括一个支架(承载件，carrier)，该支架可与至少两个镜片一起可拆卸。这使得非常简单且快速的装置进料成为可能。

根据本发明的同样可独立实施的另一方面，优选地，具有在其轴向延伸或纵向延伸上变化的外直径的一个靶材被用于对镜片进行覆层。因此，特别地可以影响速率曲线，特别地使其均匀化，和/或可以实现或促进在镜片上特别地非常均匀或者更均匀的覆层，或者镜片上的一些其他覆层特性。

本发明的上述方面以及从进一步的描述中得出的特征和方面可以彼此独立地实施，但也可以以任何组合来实施。

从权利要求书和以下使用附图对一种优选的示例性实施方案的描述中，本发明的其他方面、优点和特征将变得显而易见。

图1示出了根据用于对镜片进行覆层的提案的装置的示意性截面；

图2示出了装置的示意性俯视图；

图3示出了具有示意性指示的速率曲线的装置的示意性侧视图；并且

图4示出了根据图2但具有交替布置的镜片的装置的示意性俯视图。

图1以非常示意性的截面示出了根据提案的用于对镜片2进行覆层的装置1，镜片优选地是光学或眼科镜片和/或眼镜镜片，特别是由塑料制成的镜片。

装置1特别地设计用于通过溅射，也称为阴极溅射，对镜片2进行覆层。尤其优选地，发生所谓的磁控溅射。除了电力地施加的场之外，在此过程中还使用和/或施加了磁场；这将在下面详述。

尤其优选地，根据本发明对镜片2的曲面，特别是凹面进行覆层。对于在右侧示出的镜片2，图1中示意性地指示了一个这样的曲面。然而，原则上也可以相应地对镜片2的凸面或其他表面进行覆层。

装置1具有至少一个溅射源3，此处优选为两个溅射源3。

装置1或相应的溅射源3具有一个靶材4，该靶材的材料在覆层和/或溅射期间中被移除，并且特别地与气氛的其他成分一起，在相应的镜片2或其待覆层的表面上形成所期望的覆层。

图2以示意性俯视图示出了装置1或溅射源3。

在所例示的实例中，将溅射源3和/或靶材4优选地制造成至少基本上细长的和/或管状的或圆柱形的。

将靶材4特别地制造成中空的圆柱形的和/或管状的。

溅射源3和/或靶材4优选地布置为彼此平行。

优选地，靶材4可以围绕旋转轴线D转动或旋转。如图1和图2所指示的，旋转轴线D优选地在一个共同的平面中和/或特别地彼此平行地伸长，但是替代地，也可以彼此倾斜。旋转轴线D优选地对应于溅射源3的纵向轴线。

尤其优选地，溅射源3和/或靶材4在结构上是相同的和/或相同地被构建，使得下面将主要仅详述一个溅射源3和/或一个靶材4的结构。然而，原则上也可以不同地制造溅射源3和靶材4。

溅射源3优选地具有磁体布置5，其被分配给相应的靶材4，用于生成已经提到的磁场并因此产生定向的溅射云S，如图1中示意性地所指示的。特别地，磁体布置5位于相应的靶材4之下和/或之中。

如图1所指示的，装置1具有电压源6，以便使溅射源3和/或靶材4特别是交替地作为阴极操作和/或以便能够特别地以脉冲的形式，将所需的电压施加到用于溅射的溅射源3和/或靶材4。

尤其优选地，溅射源3和/或靶材4交替地以直流电(脉冲)被操作和/或被暴露。这也被称为“双极DC”。然后一个溅射源3和/或靶材4交替地用作阴极，而另一溅射源3和/或另一靶材4用作阳极。

替代地，用交流电或其他模式操作是有可能的。

替代地或额外地，可以使用一个或多个额外的或独立的阳极，即使这不是优选的。

装置1优选地具有一个覆层室7，在其中进行覆层和/或溅射源3位于其中。

溅射源3和/或靶材4优选地交替地作为阴极和阳极操作，导致壳体侧或确定的反电极不是必需的。特别地，覆层室7不被用作反电极。以这种方式，可以最小化反电极上的靶材料的不希望的脏污和/或沉积，和/或不管覆层室7的脏污，也可以实现尤其稳定的方法或覆层。因此，以这种方式可以减少所需的清洁和维护。

此外，可以非常轻松地更换靶材4。这也有利于服务。

能够以所期望的方式排空覆层室7，特别地借助于在此仅示意性指示的设备8(例如连接器、真空泵等)。

装置1和/或覆层室7优选地具有示意性指示的气体供给装置9，特别是以延伸到覆层空间中的气体喷枪的形式。

如图1所指示的，装置1优选地具有用于保持镜片2的一个支架10。

为了说明的目的，支架10在图2和其他附图中未示出。

待覆层的镜片2可以优选地各自围绕轴线A转动或旋转。装置1和/或支架10被设计用于镜片2的相应的旋转保持，并且特别地用于镜片的相应的驱动。特别地，装置1具有在图1中仅示意性地指示的相应的旋转驱动器11，优选地以便共同驱动支架10的所有镜片2。

优选地，支架10可与同时在装置1和/或覆层室7中被覆层的至少两个镜片2或所有镜片2或此处的四个镜片2一起可拆卸。

特别地，支架10保持镜片2使得它们可以特别地围绕它们自己的和/或不同的轴线A旋转，尤其优选地使得它们可旋转地耦合。尤其优选地，如图1中示意性所指示的，支架10具有旋转耦合器12，例如经由相应的传动装置。

优选地，支架10本身在覆层期间不移动，而是仅由支架10保持的镜片2旋转。优选地，在将支架10插入或将支架10推入装置1和/或覆层室7时，支架10能够自动地驱动地或通过传动耦合或就驱动或传动装置而言耦合至特别是装置1的旋转驱动器11等。

支架10允许以待覆层的镜片2快速进料至装置1和/或覆层室7和/或快速移除已覆层的镜片2。

装置1和/或覆层室7可以优选地经由未示出的进口孔被进料有支架10和待覆层的镜片2。进口孔可以优选地借助于支架10或者通过未示出的封闭件而特别地被气密地密封。

覆层室7可以优选地被气密地密封以进行覆层。

支架10可以优选地一般用在用于对镜片2进行覆层的装置中，特别地因此还可以用于除溅射以外的其他覆层方法。

靶材4的旋转轴线D和/或纵向延伸L优选地在共同的平面内，尤其优选地在水平面内伸长。

镜片2优选位于上述平面的上方。

优选地，每个镜片2位于所分配的靶材4之上。术语“在……之上”可以涉及相对于所分配的靶材4的竖直高度和/或涉及镜片2的待覆层的表面具有与靶材4相交并且尤其优选地与其旋转轴线D相交的至少一个表面法线。

优选地，镜片2成对地分配给一个溅射源3和/或一个靶材4。

特别地，如图2中和根据图3的示意性侧视图中所指示的，两个镜片2在每种情况中位于共同的靶材4的上方。

尤其优选地，装置1和/或支架10被设计用于容纳两对镜片2，因此总共四个镜片2，两个镜片2在每种情况中被分配给共同的溅射源3和/或共同的靶材4。下面详述了分配给共同靶材4的一对这样的镜片2的优选布置和对准。这些陈述和解释特别地对应地适用于另一对镜片2，因为装置1和/或装置1中的镜片2的布置尤其优选地很大程度上关于中间平面M对称，在图1和图2中，中间平面M相对于图的平面垂直设置。

分配给共同靶材4的镜片2优选地在平行于靶材4的纵向延伸L和/或旋转轴线D的一个方向上偏移布置。特别地在图3中示意性指示的简图中，这个方向也被称为X方向或X轴线。

镜片2和/或它们的轴线A优选地相对于靶材4的纵向延伸L对称地布置，和/或在轴向方向或X方向上距靶材4的相应端部具有偏移或距离E。

特别地，如图1和图2所指示的，镜片2位于相应靶材4的一个端部区域或其附近。

图3中的简图定性地示出了根据轴向位置或X位置在覆层期间的靶材4的移除速率R。因此这样就在靶材4的纵向延伸L的方向上产生了速率R对X的速率曲线P。

速率曲线P在靶材4的中间轴向区域中具有至少基本上均质的第一区域B1。因此，第一区域B1中的速率R至少基本上恒定和/或沿着靶材4在该区域B1中的轴向延伸至多仅非常小地变化，特别地小于5％。优选地，根据本发明的“基本上恒定”的意思是，沿着纵向轴线L的速率R(在此在区域B1中)的变化小于5％。

此外，速率曲线P具有不均质或非均质的第二区域B2。在该第二区域B2中，速率R非常强烈地变化，特别是朝向靶材4的端部强烈地增加，尤其优选地超过10％。

在第二区域B2中朝向靶材4的端部和/或相应的磁体布置5增加的靶材4的移除速率R可以通过在端部区域增加的磁场强度来解释。

图3示出了第二区域B2在所指示意义上在靶材4的两侧和/或朝向相应端部邻接第一区域B1。

镜片2优选地各自(在此在靶材4上方的轴向延伸L和/或X方向上)布置，使得镜片2既位于第一区域B1中，还位于第二区域B2中或者与它们重叠。尤其优选地，相应镜片2的中部和/或轴线A位于从第一区域B1到第二区域B2的过渡部附近。轴线A与该过渡部的偏差优选地小于镜片直径的30％，特别地小于20％，尤其优选地小于10％。

已经示出，考虑到在覆层期间镜片2围绕轴线A的旋转，镜片2在第一区域B1中和第二区域B2中的上述布置可以产生特别均匀的覆层。

在覆层期间镜片2旋转所围绕的轴线A优选地相对于靶材4或溅射源3或旋转轴线D是固定的或确定的。

特别地，避免了或排除了在一方面溅射源3和/或靶材4和/或旋转轴线D以及另一方面待覆层的一个镜片2或多个镜片2和/或轴线A之间的线性运动和/或重心运动，诸如圆周运动。这有利于尤其简单的结构。

镜片2的旋转轴线A与靶材4的相应端部的偏移或距离E优选地大于镜片直径和/或靶材直径的1.0倍或1.5倍。

距离E优选地是确定的。可选地，根据待覆层的镜片2或表面的直径和/或曲率和/或形状来适配或调整镜片2的旋转轴线A距靶材4的相应端部的距离E。

图1中指示看镜片2距所分配的靶材4的(竖直)距离Z，并且优选地大于镜片直径或靶材直径的1.0倍。

镜片2距所分配的靶材4的(竖直)距离Z优选地大于60mm和/或小于150mm，特别地小于130mm。

距离Z优选地是确定的。可选地，根据待覆层的镜片2或表面的直径和/或曲率和/或形状来适配或调整镜片2距所分配的靶材4的(竖直)距离Z。

靶材直径优选为约70至130mm。

优选地，靶材的(外)直径在整个长度上至少基本上恒定。

靶材4因此优选地被制造成圆柱形或空心圆柱形。

分配给共同靶材4的两个镜片2的轴线A优选地在一个共同的平面中并且特别地彼此平行地伸长。

轴线A优选地横向于或垂直于靶材平面和/或多个旋转轴线D的共同平面和/或所分配的靶材4的旋转轴线D而伸长。

轴线A在它们的共同平面中也可以相对于彼此倾斜，特别地朝向彼此或朝向外部或彼此远离地倾斜。因此，镜片2然后更靠近彼此或彼此远离地移动，特别地可选地使得两个镜片2的待覆层的表面稍微朝向彼此倾斜和/或稍微更指向相应靶材4的中部。因此，如图3所示，轴线A相对于旋转轴线D的倾斜角度N可以偏离优选的90°，并且可以小于90°，例如约70°至85°，或者大于90°，例如约95°到110°。

倾斜角度N优选地是确定的。然而，尤其优选地，根据待覆层的镜片2或表面的直径和/或曲率和/或形状可选地来适配或调整倾斜角度N。

镜片2的旋转轴线A也可以在Y方向上推移，因此在横向于水平方向上的旋转轴线D的和/或朝向靶材4的两个旋转轴线D之间的中部的方向上，特别地使得在镜片轴线A和所分配的靶材轴线D之间形成偏移或距离V，如图1中针对位于右侧的镜片2所指示的(当然，这优选地也适用于位于左侧的镜片2)。偏移或距离V优选地小于镜片直径和/或靶材直径的20％，特别地小于10％。

距离V优选地是确定的。可选地，根据待覆层的镜片2或表面的直径和/或曲率和/或形状来适配或调整镜片轴线A和所分配的靶材轴线D之间的距离V。

优选地，倾斜角度N和/或轴线A的位置或距离E、V和/或Z通过支架10确定。

气体供给装置9优选地位于溅射源3和/或靶材4之下和/或之间，尤其优选地位于装置1和/或覆层室7的中间平面M中。

气体供给装置9优选地设计成管状和/或杆状和/或设有指向上方的和/或优选地成排定位的气体出口。

在覆层期间产生的溅射云S，即所溅射的靶材料，借助于已经提到的磁场和/或磁体布置5在每种情况中至少基本上以所期望的方向被引导。在图1中由虚线指示的溅射云S的传播主方向H通过磁体布置5的相应布置或取向可被影响，特别地可被确定。

在所例示的实施例中，垂直于旋转轴线D的截面平面中的和/或两个靶材4的平面中的主方向H优选地彼此倾斜和/或以角度W(从平行取向开始)倾斜。优选地，可以特别地通过相应地调整或触发磁体布置5来设置或适配角度W。

角度W优选地小于10°，特别地小于7°，尤其优选地小于5°。

如已经指示的，两个溅射云S的主方向H也可以彼此平行地和/或垂直于靶材4的延伸平面和/或具有旋转轴线D的平面地而伸长。

优选地，主方向H竖直向上伸长或包含一个这样的方向分量。替代地，存在主方向H的水平对准。当然然后，必须相应地选择镜片2和溅射源3和/或靶材4的布置。

优选地，根据提案的装置1中的和根据提案的方法中的镜片2各自被保持在第一区域B1中和第二区域B2中，并且在此过程中旋转。这可以产生特别均匀的覆层。

尤其优选地，镜片2成对地被覆层，特别地同时对两对镜片2进行覆层。然而，原则上，也可以根据提案，在装置1中仅对一对镜片2进行覆层。为此，这两个镜片然后优选地位于共同的靶材4上方和/或两个靶材4之间，如示意性地在图4中的替代布置中所示。

优选地，速率曲线P不受装置1和/或覆层室7中的分布隔膜等影响或均质化。这特别地对于这种隔膜上的不希望的沉积是有利的。

根据本发明的也可以独立实施的一个方面，靶材4的外直径可以在靶材4的轴向延伸或长度或纵向延伸L上变化，如图3中通过双点虚线或靶材表面T示意性地所指示。

特别地，靶材4可以制造成例如中间比端部区域厚，和/或例如桶形。

在中部和/或镜片2的旋转轴线A的之间和/或在(另外形成的)区域B2之间，靶材4的外直径优选地至少基本上恒定和/或例如比靶材4的端部上的大超过4％，如图3所指示。

特别地，外直径也可以仅朝向靶材4的端部区域，特别地在区域B2中和/或仅在端部区域中减少或缩短小于靶材4的长度L的25％。

原则上，纵向延伸L中的外直径可以具有任何走向，如果需要，也可以是(部分)凸起的、凹入的或波纹状的。

优选地，靶材4的外直径在靶材4的纵向延伸或长度L上的变化超过4％。

尤其优选地，通过外直径在靶材4的长度L上的变化，以所期望的方式修改速率曲线P，例如使其(更)均匀。

替代地，或除了外直径的变化之外，磁体布置5的磁场和/或磁场强度也可以在靶材4的和/或溅射源3的长度L上变化，特别地可以朝向端部缩短和/或可以在中间区域中更大，特别地变化超过4％，以便以所期望的方式修改速率曲线P，尤其优选地以使其(更)均匀，和/或以即便在靶材4的外直径变化时，也能特别地在考虑可选地改变外直径的情况下，实现靶材表面上一定的或所期望的和/或至少基本上恒定的磁场强度。

外直径和/或磁场的上述变化优选地使速率曲线P(更)均匀，修改或确定速率曲线P使得特别地在考虑到待覆层的镜片2相对于靶材4的定位(例如镜片2的旋转轴线A的位置和镜片2的距离)的情况下和/或在考虑到待覆层的镜片2的表面的形状和/或尺寸的情况下，能够实现或实现了镜片2的所期望的覆层，该覆层特别地是均匀的或以某种其他方式定义的，或者该覆层可选地也是不均匀的，例如朝向边缘增加或减少。

镜片2优选地中心地围绕相应的轴线A旋转，特别地相对于镜片2的几何中心旋转。

根据一种未示出的变化形式，镜片2也可以可选地相对于旋转轴线A偏心地旋转和/或夹持。这里的偏心率优选地小于镜片2的半径，并且可选地也可以更大。

特别地，旋转轴线A因此与相应的镜片2相交。

轴线A优选地垂直于相应镜片2的主平面地伸长。

每个镜片2都优选地可以围绕其各自的轴线A旋转。

轴线A优选地横向于、可选地垂直于所分配的靶材4的纵向延伸或旋转轴线D而伸长。

特别地，相应镜片2的旋转轴线A如图1所指示地与所分配的靶材4相交，或者可选地与所分配的靶材4的纵向轴线或旋转轴线D相交。

在覆层和/或旋转期间，镜片2优选地始终以其待覆层侧指向所分配的靶材4或两个所分配的靶材4。

优选地，相应靶材4的旋转轴线D垂直于待覆层的镜片2或表面的任何或至少一个表面法线而伸长。

镜片2的光学或几何中心的表面法线可以倾斜于旋转轴线A或旋转轴线D。

镜片中心优选地在靶材4的X方向和/或纵向延伸中相对于相应靶材4对称地布置。

待覆层的镜片2和/或它们的几何或光学中心优选地至少基本上布置在共同的平面中，该平面尤其优选地平行于溅射源3和/或靶材4或旋转轴线D的延伸平面而伸长。

对于根据提案的装置1和/或根据提案的方法或管状平行靶材4的根据提案的用于对镜片2进行覆层的用途，优选地实现了0.001至20nm/s，特别是0.005nm/s至2.5nm/s的覆层率。

镜片2的旋转速度优选为10至200rpm，特别是约40至120rpm。

镜片2的直径优选为约40至85mm。

靶材4的旋转速度优选为约3至30rpm。

优选地，镜片2的旋转速度大于靶材4的旋转速度，特别地大于靶材4的旋转速度的2倍或3倍。

覆层时间优选为约4至7分钟。

根据提案的装置1或根据提案的方法或根据提案的用途优选地用于施加一个或多个抗反射层。

根据提案，特别地发生反应性覆层，其中通过相应地向工作气体(惰性气体)，特别是氩气，供应反应气体(例如氮气、氢气和/或氧气)，靶材料能够与其发生反应并且可以在镜片2上形成所期望的覆层。

在覆层期间，装置1和/或覆层室7优选被排空至约0.005Pa至0.5Pa的压力。

特别地，提出了用于对镜片2进行覆层的一种装置1、一种方法和一种用途，其中待覆层的镜片成对地布置在平行的管状靶材4上方，使得它们各自在靶材4的均质和不均质的移除区域B1、B2二者中重叠，并且其中镜片2旋转，使得可以实现特别均匀的覆层。

附图标记列表：

1 装置

2 镜片

3 溅射源

4 靶材

5 磁体布置

6 电压源

7 覆层室

8 设备

9 气体供给装置

10 支架

A 镜片的旋转轴线

B1 第一区域

B2 第二区域

D 靶材的旋转轴线

E 镜片轴线到靶材端部的距离

H 主方向

L 靶材的纵向延伸和/或长度

M 中间平面

N 倾斜角度

P 速率曲线

S 溅射云

T 靶材表面

V 镜片轴线到靶材轴线的距离

W 角度

Z 镜片到靶材的距离

Claims (10)

1.一种用于通过溅射对镜片(2)进行覆层的装置(1)，

具有至少一个靶材(4)，并且

具有用于保持至少一个待覆层的镜片(2)的支架(10)，

所述靶材(4)设计为细长的或管状的，并且所述镜片(2)能够围绕中心的和/或与所述镜片(2)相交的轴线(A)旋转，

其特征在于，

所述支架(10)能够与能旋转地保持的至少两个镜片(2)一起更换。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述支架(10)将至少两个所述镜片(2)保持在相对于所述靶材(4)固定的位置中。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述支架(10)将两个镜片(2)保持在所述靶材(4)的相对端部区域上方。

4.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述装置(1)具有两个细长的和/或管状的靶材(4)，所述靶材彼此平行地伸长和/或能够交替地作为阴极和阳极被操作，其中，四个镜片(2)位于或者被定位于所述靶材(4)上方，确切地说，在每种情况中两个镜片(2)在一个靶材(4)上方。

5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述镜片(2)的轴线(A)横向于或者垂直于靶材平面和/或所述靶材(4)的共同平面而伸长。

6.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述支架(10)保持能旋转地耦合的多个镜片(2)，其中所述镜片(2)能够围绕各自的轴线(A)旋转。

7.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述装置(1)被配置为使得所述支架(10)在被插入或推入所述装置(1)和/或其覆层室(7)中时就驱动或传动装置而言能够或者自动地与所述装置(1)的驱动器(11)耦合。

8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述驱动器(11)被配置成共同地驱动所述支架(10)的所有镜片(2)。

9.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述装置(1)包括覆层室(7)，所述支架(10)与所述镜片(2)一起经由进口孔被进给至所述覆层室。

10.根据权利要求9所述的装置，其特征在于，所述进口孔通过所述支架(10)被关闭。

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