TWI422878B - Polarizing plate and its manufacturing method - Google Patents

Polarizing plate and its manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
TWI422878B
TWI422878B TW096109775A TW96109775A TWI422878B TW I422878 B TWI422878 B TW I422878B TW 096109775 A TW096109775 A TW 096109775A TW 96109775 A TW96109775 A TW 96109775A TW I422878 B TWI422878 B TW I422878B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
film
adhesive
weight
polyvinyl alcohol
based resin
Prior art date
Application number
TW096109775A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200745634A (en
Inventor
Nobuyuki Hatanaka
Kiyoshi Muto
Narutoshi Hayashi
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co filed Critical Sumitomo Chemical Co
Publication of TW200745634A publication Critical patent/TW200745634A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI422878B publication Critical patent/TWI422878B/zh

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18Manufacture of films or sheets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L1/00Compositions of cellulose, modified cellulose or cellulose derivatives
    • C08L1/08Cellulose derivatives
    • C08L1/10Esters of organic acids, i.e. acylates
    • C08L1/12Cellulose acetate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L23/00Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L23/02Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C08L23/04Homopolymers or copolymers of ethene
    • C08L23/08Copolymers of ethene
    • C08L23/0807Copolymers of ethene with unsaturated hydrocarbons only containing more than three carbon atoms
    • C08L23/0815Copolymers of ethene with aliphatic 1-olefins
    • C08L23/0823Copolymers of ethene with aliphatic cyclic olefins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L29/00Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical; Compositions of hydrolysed polymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L29/02Homopolymers or copolymers of unsaturated alcohols
    • C08L29/04Polyvinyl alcohol; Partially hydrolysed homopolymers or copolymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3025Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2301/00Characterised by the use of cellulose, modified cellulose or cellulose derivatives
    • C08J2301/08Cellulose derivatives
    • C08J2301/10Esters of organic acids
    • C08J2301/12Cellulose acetate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2323/00Characterised by the use of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Derivatives of such polymers
    • C08J2323/02Characterised by the use of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Derivatives of such polymers not modified by chemical after treatment
    • C08J2323/04Homopolymers or copolymers of ethene
    • C08J2323/08Copolymers of ethene
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2329/00Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal, or ketal radical; Hydrolysed polymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids; Derivatives of such polymer
    • C08J2329/02Homopolymers or copolymers of unsaturated alcohols
    • C08J2329/04Polyvinyl alcohol; Partially hydrolysed homopolymers or copolymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2203/00Applications
    • C08L2203/16Applications used for films

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Description

偏光板與其製造方法
本發明係關於,於由聚乙烯醇系樹脂所成之偏光薄膜的一側的面上,介由黏著劑使環烯烴系樹脂薄膜層合,於另一側的面上,介由黏著劑使乙酸纖維素系薄膜層合而成之偏光板,以及該偏光板的製造方法。更詳細地說是關於,即使是挾持此偏光薄膜之非對稱的構成,其係可抑制彎曲,且在黏貼於液晶晶胞時,較難發生氣泡混入之偏光板及其製造方法。
偏光板通常於由有二色性色素吸附配向的聚乙烯醇系樹脂所成之偏光薄膜的兩面上,介由黏著劑來層合透明樹脂薄膜,例如三乙醯基纖維素所代表之乙酸纖維素系的保護薄膜所構成。此外,因於偏光板上黏貼環烯烴系樹脂薄膜等被延伸之光學薄膜,而可使適用於液晶晶胞上而成為液晶顯示裝置時來自各個角度的視覺辨識性得以改良,以得到良好的視野角。
於聚乙烯醇系之偏光薄膜上黏貼環烯烴系樹脂薄膜亦已多為大眾所知,例如,特開平5-212828號公報(專利文獻1)中係記載著,於聚乙烯醇系薄膜的至少單面上,介由丙烯酸系黏著劑而層合熱可塑性飽和降冰片烯系樹脂薄膜,經過加熱壓著後成為偏光板。但是,丙烯酸系等之黏著劑(亦稱為感壓黏著劑)因為本體的厚度為10~50 μm之程度,不得不使液晶顯示裝置也變厚,而且,為使偏光薄膜與環烯烴系樹脂薄膜一片一片地黏貼也極其煩雜。
另一方面,於由聚乙烯醇系樹脂所成之偏光薄膜上,介由黏著劑黏貼環烯烴系樹脂薄膜既已為大眾所知,例如,特開2005-70140號公報(專利文獻2)、特開2005-181817號公報(專利文獻3)以及特開2005-208456號公報(專利文獻4)中係記載著,於由聚乙烯醇系樹脂所成之偏光薄膜上,介由胺基甲酸乙酯,特別是含有聚酯系離子鍵聚合物型胺基甲酸乙酯樹脂之水系黏著劑,來層合環烯烴系樹脂薄膜。根據此等之公報上所記載之技術,係可藉由連續製程(roll to roll)之方法,於聚乙烯醇系偏光薄膜上直接層合環烯烴系保護薄膜。
此等之中,在專利文獻2及3之各別的實施例2中係記載著,於聚乙烯醇系偏光薄膜之一側的面與另一側的面上,介由胺基甲酸乙酯系之黏著劑,分別黏貼環烯烴系樹脂中一種降冰片烯系樹脂之薄膜以及三乙醯纖維素薄膜,而成為偏光板;而在專利文獻4中則揭示有,於聚乙烯醇系偏光薄膜之一側的面上,介由含有聚酯系離子鍵聚合物型胺基甲酸乙酯樹脂與具有縮水甘油基羥基之化合物的水系第一黏著劑,而層合環烯烴系樹脂薄膜,且於另一側的面上,介由具有與前述第一黏著記不同組成之水系第二黏著劑,例如聚乙烯醇系樹脂的水溶液,來層合乙酸纖維素系薄膜而成偏光板。
特開2005-352011號公報(專利文獻5)中係揭示有,於偏光薄膜的單面層合環烯烴系樹脂薄膜,而於另一側的面上層合乙酸纖維素系薄膜之偏光板。
[專利文獻1]特開平5-212828號公報[專利文獻2]特開2005-70140號公報[專利文獻3]特開2005-181817號公報[專利文獻4]特開2005-208456號公報[專利文獻5]特開2005-352011號公報
如專利文獻2~5所揭示的,於聚乙烯醇系偏光薄膜的一側的面上,黏合有環烯烴系樹脂薄膜,而另一側的面上,則黏合有乙酸纖維素系薄膜之偏光板,與於聚乙烯醇系偏光薄膜的兩面上黏貼有乙酸纖維素系保護薄膜之偏光板相較之下,損失了其對稱性與平面性。因而使環烯烴系保護薄膜的一側變成凹狀容易發生大彎曲,此時對液晶晶胞黏貼時則有氣泡混入之問題。
因此,本發明的目的在於,在由聚乙烯醇系樹脂所成之偏光薄膜之一側的面上,介由黏著劑層合環烯烴系樹脂薄膜,且在另一側的面上,介由黏著劑層合乙酸纖維素系薄膜所構成之偏光板,其係可抑制該處所容易發生的彎曲。
也就是說,根據本發明,係可提供一種偏光板,其係在由聚乙烯醇系樹脂所成之偏光薄膜的一側的面上,介由黏著劑層合環烯烴系樹脂薄膜,且在另一側的面上,介由黏著劑層合乙酸纖維素系薄膜而成,其乙酸纖維系薄膜係於層合前,調整含水率為0.5%以上。如此,因乙酸纖維素系薄膜之含水率係於黏貼至偏光薄膜之前進行調整,故可抑制偏光板上容易發生的彎曲。
此外,依本發明,亦可提供一種偏光板的製造方法,其係在由聚乙烯醇系樹脂所成之偏光薄膜的一側的面上,介由黏著劑層合環烯烴系樹脂薄膜,且在另一側的面上,介由黏著劑層合乙酸纖維素系薄膜而製造偏光板時,其乙酸纖維系薄膜係於層合之前,調整含水率為0.5%以上。
根據本發明,係可於聚乙烯醇系偏光薄膜的一側的面上及另一側的面上分別層合環烯烴系樹脂薄膜及乙酸纖維素系薄膜所成之非對稱構成的偏光板中,可減少彎曲的發生。
[實施發明的最佳型態]
以下,詳細說明本發明。本發明的偏光板,係在由聚乙烯醇系樹脂所成之偏光薄膜的一側的面上,介由黏著劑層合環烯烴系樹脂薄膜,且在另一側的面上,介由黏著劑層合乙酸纖維素系薄膜所成。
由聚乙烯醇系樹脂所成的偏光薄膜,具體地說,其係於單軸延伸之聚乙烯醇系樹脂薄膜中吸附配向有二色性色素者。
構成偏光薄膜之聚乙烯醇系樹脂,係藉由皂化聚乙酸乙烯系樹脂而得。聚乙酸乙烯系樹脂方面,除了有乙酸乙烯之單一聚合物之聚乙酸乙烯外,亦有乙酸乙烯與可與其共聚合之單體的共聚物等例示。可與乙酸乙烯共聚合之單體方面,係可舉出例如,不飽和羧酸類、不飽和磺酸類、烯烴類、乙烯醚類、具有銨基之丙烯醯胺類等。聚乙烯醇系樹脂的皂化度一般係85~100莫耳%之程度,較佳為98莫耳%以上。此聚乙烯醇系樹脂,亦可進一步改性,例如亦可使用以醛類所改性之聚乙烯醇縮甲醛、或聚乙烯醇縮醛等。此外,聚乙烯醇系樹脂的聚合度,通常為1,000~10,000之程度,較佳為1,500~5,000之程度。
將相關聚乙烯醇系樹脂製膜後,係用以為偏光薄膜的原料素材薄膜。聚乙烯醇系樹脂進行製膜之方法並無特別限制,可以習知的方法製膜。聚乙烯醇系原料素材薄膜的膜厚並無特別限定,可為例如10 μm~150 μm。
偏光薄膜一般,係經過如此將聚乙烯醇系樹脂薄膜進行單軸延伸之步驟、將聚乙烯醇系樹脂薄膜以二色性色素染色使其吸附二色性色素之步驟、將吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂薄膜以硼酸水溶液處理之步驟、以及經此硼酸水溶液處理後進行水洗之步驟,而予以製造。
單軸延伸可於染色之前進行,亦可與染色同時進行,也可於染色之後進行。若於染色後進行單軸延伸時,此單軸延伸係可於硼酸處理之前進行,亦可於硼酸處理中進行。當然,在此些複數個階段當中,也可進行單軸延伸。在單軸延伸中,可於圓周速度不同的輥軸之間進行單軸延伸,亦可使用熱輥進行單軸延伸。此外,可為於大氣當中進行延伸等之乾式延伸,亦可為於溶劑中使呈膨潤狀態下進行延伸之濕式延伸。延伸倍率通常為2~8倍之程度。
以二色性色素使聚乙烯醇系樹脂薄膜進行染色時,例如,若將聚乙烯醇系樹脂薄膜浸漬於含有二色性色素之水溶液中即可。二色性色素方面,具體地係使用碘或二色性染料。此外,聚乙烯醇系樹脂薄膜最好在染色處理之前,預先施以對水的浸漬處理。
使用碘作為二色性色素時,通常採用將聚乙烯醇系樹脂薄膜浸漬於含有碘及碘化鉀之水溶液中進行染色之方法。此水溶液中的碘含量,一般係每100重量份的水含0.01~1重量份之程度,而碘化鉀的含量一般則以每100重量份的水含0.5~20重量份之程度。用於染色的水溶液溫度通常為20~40℃之程度,且對此水溶液的浸漬時間(染色時間)一般為20~1,800秒之程度。
另一方面,使用二色性染料作為二色性色素時,通常採用將聚乙烯醇系樹脂薄膜浸漬於含有水溶性二色性染料之水溶液中進行染色之方法。此水溶液中二色性染料之含量,於每100重量份的水中通常為1×10-4 ~10重量份之程度,較佳為1×10-3 ~1重量份之程度。此水溶液亦可含有硫酸鈉等之無機鹽作為助染劑。用於染色之染料水溶液的溫度一般為20~80℃之程度,而且對此水溶液的浸漬時間(染色時間)一般為10~1,800秒之程度。
經二色性色素染色後的硼酸處理,係藉由使已染色的聚乙烯醇系樹脂薄膜浸漬於含有硼酸之水溶液中予以進行。含硼酸之水溶液中的硼酸含量,於每100重量份的水中,通常為2~15重量份之程度,較佳為5~12重量份之程度。使用碘作為二色性色素時,此含硼酸之水溶液係以含有碘化鉀者為佳。含硼酸之水溶液中的碘化鉀含量,每100重量份的水中通常為0.1~15重量份之程度,較佳為5~12重量份之程度。對含硼酸之水溶液的浸漬時間,一般為60~1,200秒之程度,較佳為150~600秒之程度,而200~400秒之程度則更佳。含硼酸之水溶液的溫度一般為50℃以上,較佳為50~85℃之程度,而60~80℃則更佳。
硼酸處理後的聚乙烯醇系樹脂薄膜,一般以水洗處理。水洗處理可藉由例如將經過硼酸處理之聚乙烯醇系樹脂薄膜浸漬於水中予以進行。水洗處理中的水溫通常為5~40℃之程度,浸漬時間一般為1~120秒之程度。水洗後,實施乾燥處理,可得偏光薄膜。乾燥處理一般係使用熱風乾燥機或遠紅外線加熱器進行。乾燥處理的溫度一般為30~100℃之程度,較佳為50~80℃。乾燥處理的時間一般為60~600秒之程度,較佳為120~600秒程度。
如此,於聚乙烯醇系樹脂薄膜上施以單軸延伸、藉二色性色素之染色以及硼酸處理後,可得偏光薄膜。此偏光薄膜的厚度係5~40 μm之程度。本發明中,於此偏光薄膜之一側的面上係介由黏著劑層合環烯烴系樹脂薄膜,於另一側的面上介由黏著劑層合乙酸纖維素系薄膜。
所謂環烯烴系樹脂,例如,具有像降冰片烯或多環降冰片烯系單體之環狀烯烴(環烯烴)所成之單體單位的熱可塑性樹脂。此環烯烴系樹脂除了有上述環烯烴之開環聚合物及使用2種以上之環烯烴之開環共聚物的氫化物之外,亦有環烯烴與鏈狀烯烴或具有乙烯基之芳香族化合物等之加成共聚物。而且,導入有極性基者也有效。
若為環烯烴與鏈狀烯烴或具有乙烯基之芳香族化合物之共聚物時,鏈狀烯烴的例子方面,係可舉出乙烯或丙烯等,又具有乙烯基之芳香族化合物的例子方面,可舉出有苯乙烯、α-甲基苯乙烯、經核烷基取代之苯乙基等。如此之共聚物中,由環烯烴所成之單體的單位係50莫耳%以下,例如可為15~50莫耳%之程度。特別是當其為環烯烴與鏈狀烯烴與具有乙烯基之芳香族化合物之三元共聚物時,由環烯烴所成之單體的單位係可為較少的量。相關的三元共聚物中,由鏈狀烯烴所成之單體的單位一般為5~80莫耳%之程度,由具有乙烯基之芳香族化合物所成之單體的單位一般為5~80莫耳%之程度。
市售的熱可塑性環烯烴系樹脂方面,係有德國的Ticona公司所販售的「Topas」、JSR(股)所販售的「ARTON」、日本ZEON所販售的「ZEONOR」以及「ZEONEX」、三井化學(股)所販售的「APL」等(任一者均為商品名)。如此之環烯烴系樹脂進行製膜後雖成為薄膜,但於製膜時,係以使用溶劑澆鑄法、熔融擠壓法等習知的方法為適。經過製膜的環烯烴系樹脂薄膜既已販售,係有例如,積水化學工業(股)所販售之「S西拿」以及「SCA40」、(股)OPTES所販售的「ZeonorFilm」等(任一者皆為商品名)
環烯烴系樹脂薄膜係可予以單軸或二軸延伸,亦可為顯示所定的多折射特性者。此時的延伸倍率一般為1.1~5倍之程度,較佳為1.1~3倍。
本發明中,為另一側之保護薄膜的乙酸纖維素系薄膜,係纖維素的部分或完全乙酸酯化物,可舉出有例如,三乙醯纖維素薄膜或二乙醯纖維素薄膜等。市售的三乙醯纖維素薄膜方面,係有富士寫真薄膜(股)所販售的「FUJITAC TD80」、「FUJITAC TD80UF」及「FUJITAC TD80UZ」、KONICA MINOLTA OPTO(股)所販售的「KC8UX2MW」及「KC8UY」等。
為了提高與黏著劑的黏著力,係以於乙酸纖維素系薄膜之表面預先實施皂化處理為佳。皂化處理係可藉由浸漬於如氫氧化鈉或氫氧化鉀等鹼性水溶液中之方法而得以進行。
其次,本發明中,在將乙酸纖維素系薄膜黏貼於聚乙烯醇系偏光薄膜之前,使乙酸纖維素系薄膜的含水率為0.5重量%以上。如此可發現,藉由調整乙酸纖維素系薄膜的含水率,可大大地抑制所得偏光板的彎曲。含水率的上限係容許至3重量%之程度為止。
在調整乙酸纖維素系薄膜之含水率上,係可採用例如,浸漬於水中,接著使其達到固定的含水率為止進行乾燥之方法作為該薄膜的黏貼前處理。此前處理的第一處理步驟中,係於10~60℃、較佳為10~50℃之溫度下浸漬於水中1~60秒鐘使其膨潤。若此時的溫度過高,將會產生筋線狀的缺陷,故較佳為50℃以下之溫度,最好於10~45℃之溫度下進行之。即使可讓浸漬於水中的時間延長,但因吸水量有其上限,一般在30秒以內就已十分足夠。
接著的第二處理步驟,即是進行乙酸纖維素系薄膜表面的乾燥處理。乾燥處理一般係使用熱風乾燥機或遠紅外線加熱器予以進行。乾燥處理的溫度通常為30~100℃,乾燥處理的時間一般在20~600秒之程度,係以可以保持乙酸纖維素系薄膜的含水率為0.5重量%以上的條件下進行乾燥處理。也就是說,乾燥處理的進行,若在低溫下時間相對地長,而高溫下時間相對地短。乙酸纖維素系薄膜的含水率因受其乾燥條件而影響極巨,最好是從乾燥溫度40~60℃、乾燥時間20~60秒之程度選擇適當的條件。
乙酸纖維素系薄膜,係可於其與偏光薄膜黏貼之面上與反側之面上實施防眩處理、硬塗膜處理、防靜電處理、防反射處理等之表面處理。而且,亦可形成由液晶性化合物或其高分子化合物等所成之塗膜層。
配置於偏光薄膜的兩面上之環烯烴系樹脂薄膜以及乙酸纖維素系薄膜各別的厚度,係以薄的為佳,但若過於薄,則強度將會降低,使加工性變差,另外,若過於厚,則容易發生透明性降低,偏光板的重量變大等之問題。因此,環烯烴系樹脂薄膜的適當厚度,例如為5~200 μm之程度,較佳為10~150 μm,而20~100 μm又更佳。此外,乙酸纖維素系薄膜的適當厚度係為20~200 μm之程度,較佳為20~100 μm。
在偏光薄膜之一側的面與另一側的面上,均藉由黏著劑並如以上所說明地分別層合環烯烴系樹脂薄膜與乙酸纖維系薄膜而形成偏光板。
用於黏合偏光薄膜與環烯烴系樹脂薄膜之黏著劑,以及用於黏合偏光薄膜與乙酸纖維素系薄膜之黏著劑,若由使黏著劑層變薄之觀點來看,係以水系者,意即使黏著劑成分溶解於水者或於水中分散者為佳。例如,較佳的黏著劑方面,係可舉出有使用聚乙烯醇系樹脂或胺基甲酸乙酯樹脂之組成物作為主要成分之黏著劑。此外,只要有適當的黏著性,適用於偏光薄膜的兩面上之黏著劑,係因可簡化製造步驟而以使用相同組成者為佳。
使用聚乙烯醇系樹脂作為黏著劑的主要成分時,其聚乙烯醇系樹脂除了部分皂化之聚乙烯醇或完全皂化之聚乙烯醇之外,亦可為羧基改性聚乙烯醇、乙醯乙醯基改性聚乙烯醇、羥甲基改性聚乙烯醇、胺基改性聚乙烯醇等之經改性的聚乙烯醇系樹脂。使用聚乙烯醇系樹脂的情況下,係以其水溶液為黏著劑。黏著劑中之聚乙烯醇系樹脂的濃度係相對於100重量份的水,一般為1~10重量份之程度,較佳為1~5重量份。
由聚乙烯醇系樹脂之水溶液所成之黏著劑中,為了提高黏著性,係以添加乙二醛或水溶性環氧樹脂等之硬化性成分乃至交聯劑為佳。水溶性環氧樹脂係例如在像二乙撐三胺、三乙撐四胺之聚烷撐多元胺與像己二酸之二羧酸反應所得的聚醯胺多元胺中,使環氧氯丙烷反應而可得之聚醯胺環氧樹脂。相關的聚醯胺環氧樹脂之市售品方面,係有住友化學(股)所販售之「Sumirez Resin 650」或「Sumirez Resin 675」、日本PMC(股)所販售之「WS-525」等。此等硬化性成分乃至交聯劑的添加量,相對於100重量份的聚乙烯醇系樹脂,作為固體成分一般為1~100重量份,較佳為1~50重量份。若添加量太少的話,則黏著性提升的效果變小,另一方面,若其添加量太多,則黏著劑層會有變脆的傾向。
使用胺基甲酸乙酯樹脂作為黏著劑的主要成分時,適當的黏著劑組成物的例子方面,係可舉出聚酯系離子鍵聚合物型胺基甲酸乙酯樹脂與含有縮水甘油基羥基之化合物的混合物。在此所述之聚酯系離子鍵聚合物型胺基甲酸乙酯樹脂,係指於具有聚酯骨架之胺基甲酸乙酯樹脂中導入少量離子性成分(親水成分)者。相關的離子鍵聚合物型胺基甲酸乙酯樹脂,因可於不使用乳化劑之下直接在水中乳化為乳劑,故適用為水系的黏著劑。聚酯系離子鍵聚合物型胺基甲酸乙酯樹脂本身既已為習知,例如特開平7-97504號公報中,係有以使苯酚系樹脂分散於水性溶劑中用的高分子分散劑為例之記載,而且在前述的專利文獻2~4中,係顯示有以聚酯系離子鍵聚合物型胺基甲酸乙酯樹脂與含有縮水甘油基羥基之化合物的混合物作為黏著劑,於由聚乙烯醇系樹脂所成之偏光薄膜上黏貼環烯烴系樹脂薄膜之型態。
聚酯系離子鍵聚合物型胺基甲酸乙酯樹脂,係可藉由使含親水性基之化合物、聚酯多元醇以及聚異氰酸酯反應所得之含親水性基胺基甲酸乙酯於水中乳化之方法而製造。此時,除了聚酯多元醇,還可併用其他高分子量多元醇成分或者低分子量之含活性氫化合物。高分子量多元醇方面,係可舉出例如聚醚多元醇、聚碳酸酯多元醇、聚甲醛多元醇、聚丙烯酸酯多元醇、聚酯醯胺多元醇、聚硫醚多元醇等。此外,低分子量之含活性氫化合物方面,係可舉出例如乙二醇、季戊二醇、1,6-己二醇、丙三醇、三羥甲基丙烷之聚羥基化合物;如乙撐二胺、哌嗪之二胺化合物等。其中,更以併用低分子量之含活性氫化合物為較佳之型態。
聚酯系離子鍵聚合物型胺基甲酸乙酯樹脂,係以重量平均分子量為5,000以上為佳,重量平均分子量為10,000以上300,000以下則更佳。當其重量平均分子量小於5,000時,其黏著劑無法獲得足夠的強度,而當重量平均分子量大於300,000時,以其當作水分散液時的黏度變高,使用變得困難。
相關的聚酯系離子鍵聚合物型胺基甲酸乙酯樹脂分散於水中之狀態下,係可作為水系黏著劑。此水系黏著劑的黏度係以2,000 mPa.sec以下時在使用上較佳,而於1,000 mPa.sec以下,特別於500 mPa.sec以下時更好。黏度愈低,則黏著劑的塗佈愈容易進行,而且,所得的偏光板的外觀亦隨之變佳。此水系黏著劑中之聚酯系離子鍵聚合物型胺基甲酸乙酯樹脂的固體成分濃度,若由黏度與黏著強度的觀點來看,係以10~70重量%之範圍為佳,特別是20重量%以上,且50重量%以下更佳。
聚酯系離子鍵聚合物型胺基甲酸乙酯樹脂的水分散液中,亦可進一步添加聚乙二醇或聚氧乙烯等,或是界面活性劑等。甚至,亦可添加聚羥基乙基甲基丙烯酸酯、聚羥基乙基丙烯酸酯、聚丙烯酸、聚乙烯醇系樹脂等之水溶性樹脂。
市售的聚酯系離子鍵聚合物型胺基甲酸乙酯樹脂方面,係可舉出大日本油墨化學工業(股)所販售的「HYDRAN AP-20」、「HYDRAN APX-101H」等。
由聚酯系離子鍵聚合物型胺基甲酸乙酯樹脂之水分散液所成之黏著劑係更進一步以含具有縮水甘油基羥基之化合物者為佳。藉由具有縮水甘油基羥基之化合物之併用,係使偏光薄膜與層合於其上之環烯烴系樹脂薄膜或乙酸纖維素系薄膜之黏著性向上提升。此處所謂的縮水甘油基羥基,在純化學領域中應是被稱為2,3-環氧丙氧基者。具有縮水甘油基羥基之化合物的例子方面,係可舉出聚乙二醇二縮水甘油醚、聚丙二醇二縮水甘油醚、聚四甲二醇二縮水甘油醚、季戊二醇二縮水甘油醚、二丙三醇二縮水甘油醚、乙二醇二縮水甘油醚、丙二醇二縮水甘油醚、1,4-丁二醇二縮水甘油醚、1,6-己二醇二縮水甘油醚、雙苯酚A二縮水甘油醚、雙苯酚F二縮水甘油醚、間苯二酚二縮水甘油醚、丙三醇三縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、季戊四醇聚縮水甘油醚、山梨糖醇聚縮水甘油醚、山梨糖醇酐聚縮水甘油醚、聚丙三醇聚縮水甘油醚等。
聚酯系離子鍵聚合物型胺基甲酸乙酯樹脂與具縮水甘油基羥基化合物的混合比,相對於聚酯系離子鍵聚合物型胺基甲酸乙酯樹脂的固體成分100質量份而言,具有縮水甘油基羥基之化合物係以5~100重量份程度之範圍適當選擇為宜,而較佳是選擇具有縮水甘油基羥基之化合物為5~60重量份,特別是以5~30重量份最好。若是具有縮水甘油基羥基之化合物的比率過低,就無法獲得充分的黏著強度,而若其比率過大,則黏著劑黏度變高,使用上將變得困難。
含有聚酯系離子鍵聚合物型胺基甲酸乙酯樹脂與具縮水甘油基羥基化合物之水系黏著劑,因為在實質上並無需使用有機溶劑,所以不管是從環境上或從業者健康上的觀點來看均較佳,且因併用具縮水甘油基羥基化合物而賦予其高黏著力。
使用聚酯系離子鍵聚合物型胺基甲酸乙酯樹脂作為黏著劑時,為了提昇對乙酸纖維素系薄膜之黏著性,係以併用具有異氰酸根基之化合物,特別是分子內具有至少2個異氰酸根基之聚異氰酸酯化合物為佳。相關的具異氰酸根基之化合物方面,係可舉出例如2,4-甲苯撐二異氰酸酯、苯撐二異氰酸酯、4,4’-二苯基甲烷二異氰酸酯、1,6-六甲撐二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯等之單體或寡聚物、或是此等化合物與多元醇之反應物。此處所使用之多元醇方面,係可舉出1,3-丙二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇等。此等含異氰酸根基之化合物的分子量,即使為上述的寡聚物或是與多元醇之反應物時,係以重量平均分子量5,000以下為佳。較適的市售之含異氰酸根基之化合物方面,可舉出例如大日本油墨化學工業(股)所販售的「HYDRAN ASISTA-C1」等。
聚酯系離子鍵聚合物型胺基甲酸乙酯樹脂與含異氰酸根基之化合物的混合比,相對於100重量份聚酯系離子鍵聚合物型胺基甲酸乙酯樹脂的固體成分而言,係以適當地選擇5~100重量份程度範圍的含異氰酸根基之化合物為佳,而選擇5~60重量份,特別是5~30重量份範圍的含異氰酸根基之化合物者又更佳。若含異氰酸根基之化合物的比率過低,將無法獲得充分的黏著強度,而若其比率過高,將使黏著劑的黏度變高,使用上變難。
在偏光薄膜上以黏著劑黏合環烯烴系樹脂薄膜或乙酸纖維素薄膜之方法,係以一般習知之方法即可進行,可舉出有例如流延法、輥塗佈法、凹板塗佈法、擠壓塗佈法、浸漬塗佈法、噴霧法等,於偏光薄膜及/或黏合於其上之薄膜的黏著面上塗佈黏著劑,使兩者重疊貼合之方法。所謂的流延法係將被塗佈物之薄膜呈概略垂直方向、概略水平方向、或介於兩者之間的傾斜方向,邊使其移動邊於其表面上使黏著劑流下而擴散分佈之方法。塗佈黏著劑之後,係使偏光薄膜與黏合於其上之薄膜以壓延輥挾持後使其貼合。
接著,為提升黏著性,亦可對黏著表面適當地施以電漿處理、電量放電處理、紫外線照射處理、火焰處理、皂化處理等之表面處理。
在偏光薄膜之一側的面上層合環烯烴系樹脂薄膜,於另外一側的面上層合乙酸纖維素系薄膜之後,係實施乾燥處理。乾燥處理例如可藉由熱風吹拂而進行,當下的溫度可適當地選擇於40~100℃程度,較佳為60~100℃之範圍。乾燥時間為20~1,200秒之程度。乾燥後之黏著劑層的厚度,一般為0.001~5 μm之程度,較佳為0.01 μm以上,而以2 μm以下為佳,更好是1 μm以下。黏著劑層的厚度若過大,易導致偏光板的外觀不良。
貼合之後,置於室溫以上的溫度至少半天,一般係以實施數日間以上的熟成,可得充分的黏著強度。較佳的熟成溫度係30~50℃,更佳為35~45℃。當熟成溫度為50℃以上時,輥捲取狀態中容易發生「捲曲」。此外,熟成時的溼度不管是否適當,若相對溼度為0%RH~70%RH程度之範圍即可。熟成時間通常要1~10日,較佳為2~7日。
本發明的偏光板中,環烯烴系樹脂薄膜與配置於另一側的乙酸纖維素薄膜之表面上,亦可介由黏著劑黏貼光學機能性薄膜。光學機能性薄膜方面,係可舉出例如,於基材表面塗佈液晶性化合物而配向之光學補償薄膜、使某種偏光的光透過,而與該性質呈相反地使偏光的光反射之反射型偏光分離薄膜、表面具有凹凸形狀之附防眩機能薄膜、附表面防反射處理之薄膜、具有反射機能之反射薄膜、兼具反射機能與透過機能之半透過反射薄膜等。與於基材表面塗佈液晶性化合物而配向之光學補償薄膜相當的市售品方面,係有富士寫真薄膜(股)所販售的「WV FILM」、新日本石油(股)所販售的「NH FILM」或「NR FILM」(任一者皆為商品名)等。相當於使某種偏光的光透過,而與該性質呈相反地使偏光的光反射之反射型偏光分離薄膜之市售品方面,係有Minnesota Mining and Manufacturing公司(3M公司)(在日本為住友3M(股))所販售之「DBEF」(商品名)等。
[實施例]
以下,藉由實施例更詳細地說明本發明,但本發明不受限於此等之例。例中,表示含量乃至使用量之「%」及「份」,若無特別說明下,即為重量基準。
〔製造例1〕偏光薄膜的製作
在平均聚合度約2,400、皂化度99.9莫耳%以上,將厚度75 μm的聚乙烯醇薄膜以乾式進行約5倍之單軸延伸,進而在持續保持其拉緊狀態下,浸漬於60℃的純水1分鐘之後,在28℃下浸漬於碘/碘化鉀/水之重量比為0.05/5/100的水溶液中60秒。然後,在72℃下浸漬於碘化鉀/硼酸/水之重量比為8.5/8.5/100的水溶液中300秒。接著,以26℃的純水進行20秒之洗淨後,於65℃下進行乾燥後,可得聚乙烯醇樹脂中有碘吸附配向之偏光薄膜。
〔製造例2〕黏著劑的調製
於100份的水中,添加3份的羧基改性聚乙烯醇(自(股)Kuraray公司取得之「Kuraray Poval KL318」)與1.5份的水溶性聚醯胺環氧樹脂(自住友化學(股)取得之「Sumirez Resin 650」(固體成分濃度30%的水溶液)),調製成聚乙烯醇系黏著劑。
〔參考例1〕三乙醯基纖維素薄膜的前處理
將厚度80 μm的三乙醯基纖維素薄膜(自KONICA MINOLTA OPTO(股)取得之「KC8UX2MW」)進行皂化處理,接著浸漬於表1中表示於溫度項溫度的水中10秒鐘進行膨潤處理,其後,再以表1中表示於乾燥溫度項的溫度下分別實施乾燥53秒鐘後,提供以下比較例1~2以及實施例1~3中之黏貼。
此狀態的含水率係以如下所述之重量減少法求得。也就是,從相同的薄膜剪切出100 mm×100 mm之小薄片,在同上述之條件下進行水中浸漬並乾燥後,測定其重量,接著,使該樣品在100℃的烘箱中放置1小時之後,測定其重量,由兩者的重量差可求得其含水率。取5片樣品進行測定所得之平均值,係如表1中所示之結果。
[比較例1~2以及實施例1~3]
於製造例1中所得的偏光薄膜的單一面,介由製造例2中所製作之黏著劑,黏合由降冰片烯系樹脂所成厚度73 μm的保護膜,並於偏光薄膜的另一面上,介由同樣的黏著劑,黏合已實施參考例1之前處理的三乙醯基纖維素薄膜之後,於50~90℃之溫度下乾燥5分鐘後獲得偏光板。
將各別的偏光板,相對於其吸收軸(延伸方向)而言,以各邊呈45°之角度切成15 cm×20 cm大小的長方形,於溫度23℃、相對溼度50%下調節溼度1個小時之後,測定彎曲量。其結果如表1所示。
偏光板的彎曲量係如下述進行測定。意即,如圖1所示,於基準面5(例如,桌子上的平面等)上,使已經彎曲的偏光板1其凹面向上進行放置。此圖中,以四角形ABCD所表示之假想面3係假設偏光板上無彎曲時的面。接著,假想面3上所表示的一個角A係如彎曲偏光板1中的A1位置、另一角C係如彎曲偏光板1中的C1位置、又別的角B、D係如彎曲偏光板1中的B1、D1位置,B1與B表相同位置,D1與D亦表相同位置(也就是說,偏光板的角B與角D相當無浮起之狀態)。但是實際上,亦有偏光板的4個角中的3個角或4個角全部浮起的情況。因此,分別就偏光板的4個角A1、B1、C1、D1自基準面測定其高度H,當降冰片烯系樹脂薄膜一側呈凹面時為負彎曲,而當降冰片烯系樹脂薄膜一側呈凸面時為正彎曲,以該等之最小值與最大值表示彎曲量。表1中,如比較例1的「偏光板」「彎曲量」中所謂「<-50 mm」,意指在降冰片烯系樹脂薄膜一側呈凹面下之彎曲,且其絕對值大於50 mm,也就是,若附上正負符號來表示的話,即較-50 mm為小的意思。
由表1可知,藉由控制層合之前三乙醯基纖維素薄膜的含水率,係可抑制彎曲的發生。
1...彎曲的偏光板
3...假設偏光板上無彎曲時,基準面上的假想面
5...基準面
A,B,C,D...假想面上的角
A1,B1,C1,D1...彎曲偏光板的角
H...彎曲量(自基準面至偏光板的角為止之高度)
[圖1]使實施例中偏光板的彎曲量測定狀態以模式圖所示之側視圖。

Claims (4)

  1. 一種偏光板,其係於由聚乙烯醇系樹脂所成之偏光薄膜之一側的面上,介由黏著劑使環烯烴系樹脂薄膜層合,在另一側的面上,介由黏著劑使乙酸纖維素系薄膜層合而成之偏光板,其特徵為乙酸纖維素系薄膜係於層合之前,調整含水率為0.92重量%以上且1.24重量%以下。
  2. 一種偏光板的製造方法,其係於由聚乙烯醇系樹脂所成之偏光薄膜之一側的面上,介由黏著劑層合環烯烴系樹脂薄膜,於另一側的面上,介由黏著劑層合乙酸纖維素系薄膜後而製造偏光板時,其特徵為乙酸纖維素系薄膜係於層合之前,調整含水率為0.92重量%以上且1.24重量%以下。
  3. 如申請專利範圍第2項之方法,其乙酸纖維素系薄膜係於層合之前,施以水中浸漬處理以及其後的乾燥處理,以調整含水率為0.92重量%以上且1.24重量%以下。
  4. 如申請專利範圍第3項之方法,其乙酸纖維素系薄膜之水中浸漬處理係於10~45℃下實施1~60秒,而其後的乾燥處理係以於溫度40~60℃、實施時間20~60秒,且使處理後該薄膜中之含水率為0.92重量%以上且1.24重量%以下之條件下進行之。
TW096109775A 2006-03-23 2007-03-21 Polarizing plate and its manufacturing method TWI422878B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006080245A JP2007256568A (ja) 2006-03-23 2006-03-23 偏光板とその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200745634A TW200745634A (en) 2007-12-16
TWI422878B true TWI422878B (zh) 2014-01-11

Family

ID=38630873

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW096109775A TWI422878B (zh) 2006-03-23 2007-03-21 Polarizing plate and its manufacturing method

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2007256568A (zh)
KR (1) KR101436158B1 (zh)
CN (1) CN101042446B (zh)
TW (1) TWI422878B (zh)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5058953B2 (ja) * 2007-12-06 2012-10-24 日東電工株式会社 光学表示ユニットの製造方法およびそれに用いられるロール原反
US20090163686A1 (en) * 2007-12-20 2009-06-25 3M Innovative Properties Company Method of making an intrinsic polarizer
JP5267919B2 (ja) * 2008-08-06 2013-08-21 住友化学株式会社 偏光板、光学部材および液晶表示装置
KR101135089B1 (ko) * 2009-01-16 2012-04-16 주식회사 엘지화학 컬이 방지되는 편광판 제조방법 및 이에 따라 제조된 편광판
JP6076035B2 (ja) * 2012-10-26 2017-02-08 住友化学株式会社 偏光性積層フィルムの製造方法及び偏光板の製造方法
KR20140089623A (ko) * 2012-12-20 2014-07-16 동우 화인켐 주식회사 하드코팅된 편광판의 제조방법
JP6302293B2 (ja) * 2014-03-06 2018-03-28 住友化学株式会社 偏光板の製造方法
CN107111033B (zh) * 2014-11-04 2019-04-30 住友化学株式会社 偏振板片状体的制造方法
JP5951870B1 (ja) * 2015-05-26 2016-07-13 住友化学株式会社 偏光板の製造方法
KR102587187B1 (ko) * 2015-05-26 2023-10-06 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 편광판의 제조 방법
CN114437385A (zh) * 2016-05-27 2022-05-06 三菱化学株式会社 聚乙烯醇系薄膜及其制造方法、以及利用该聚乙烯醇系薄膜的偏光膜
JP7175083B2 (ja) * 2017-12-25 2022-11-18 日東電工株式会社 光学部材の梱包物の製造方法
JP2022164140A (ja) 2021-04-16 2022-10-27 日東電工株式会社 光学積層体の製造方法
JP2022164139A (ja) 2021-04-16 2022-10-27 日東電工株式会社 光学積層体の製造方法
JP7322090B2 (ja) * 2021-04-23 2023-08-07 日東電工株式会社 光学積層体の製造方法
US20230185006A1 (en) * 2021-12-10 2023-06-15 Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. Display device

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003315551A (ja) * 2002-04-26 2003-11-06 Fuji Photo Film Co Ltd 偏光板およびそれを用いた画像表示装置
TW200526730A (en) * 2003-11-06 2005-08-16 Fuji Photo Film Co Ltd Cellulose acetate film, optical compensatory sheet, polarizing plate and liquid crystal display
JP2006030480A (ja) * 2004-07-14 2006-02-02 Nitto Denko Corp 偏光板の製造方法、それにより得られる偏光板、およびそれを用いた画像表示装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003315551A (ja) * 2002-04-26 2003-11-06 Fuji Photo Film Co Ltd 偏光板およびそれを用いた画像表示装置
TW200526730A (en) * 2003-11-06 2005-08-16 Fuji Photo Film Co Ltd Cellulose acetate film, optical compensatory sheet, polarizing plate and liquid crystal display
JP2006030480A (ja) * 2004-07-14 2006-02-02 Nitto Denko Corp 偏光板の製造方法、それにより得られる偏光板、およびそれを用いた画像表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
TW200745634A (en) 2007-12-16
CN101042446B (zh) 2011-08-24
JP2007256568A (ja) 2007-10-04
CN101042446A (zh) 2007-09-26
KR20070096826A (ko) 2007-10-02
KR101436158B1 (ko) 2014-09-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI422878B (zh) Polarizing plate and its manufacturing method
TWI485065B (zh) Polarizing plate and its manufacturing method
KR20050077018A (ko) 편광판 및 그의 제조 방법
JP2009109993A (ja) 偏光板のセット、ならびにこれを用いた液晶パネルおよび液晶表示装置
JP4432487B2 (ja) 偏光板及びその製造方法
JP2010054824A (ja) 偏光板およびその製造方法
JP6188868B1 (ja) 偏光板、及び液晶表示装置
KR20170021755A (ko) 곡면 화상 표시 패널용 볼록면측 편광판
CN108931833B (zh) 偏振板
JP6442435B2 (ja) 偏光板、及び液晶表示装置
JP4827369B2 (ja) 偏光板の製造方法
KR20170021754A (ko) 곡면 화상 표시 패널용 편광판
JP4707940B2 (ja) 偏光板及びその製造方法
JP2007065452A (ja) 偏光板
TWI776899B (zh) 接著劑組成物及偏光板
TWI772500B (zh) 偏光板
JP2018036655A (ja) 偏光板、及び液晶表示装置
JP2007065451A (ja) 偏光板とその製法、及びそれに用いる複屈折性保護フィルムの製造方法
JP2007256882A (ja) 偏光板及びそれを用いた液晶表示装置
JP2009025728A (ja) 偏光板およびその製造方法
JP2017211663A (ja) 偏光板、及び液晶表示装置