TWI402634B

TWI402634B - The supply device for the developer

Info

Publication number: TWI402634B
Application number: TW095136736A
Authority: TW
Inventors: Kenji Sugimoto; Ryouta Tanahashi
Original assignee: Mitsubishi Chem Eng Corp
Priority date: 2005-12-19
Filing date: 2006-10-03
Publication date: 2013-07-21
Also published as: KR20070065209A; JP2007171232A; TW200728938A; JP4839820B2

Description

顯影液之供應裝置

本發明係關於一種顯影液之供給裝置，具體為於管理自液晶電路板及印刷電路板之顯影步驟所回收之顯影液的鹼濃度及樹脂濃度的同時，以一定濃度再調製之顯影液供給於顯影步驟之顯影液供給裝置。

製造液晶電路板及印刷電路板時光阻劑之顯影步驟中，將四甲基氫氧化銨(TMAH)等鹼性水溶劑作為顯影液使用。諸如此類之顯影液先前由於電路板尺寸的大型化及步驟的進步而被大量使用，就降低成本之觀點來看期待顯影步驟可循環，然而在反覆循環時，與樹脂中的酸反應、與空氣中的二氧化碳及氧氣反應因此鹼濃度降低，此外，籍由光阻用樹脂之溶解使樹脂濃度上升，光阻形式之尺寸精度及未曝光部之膜厚的精度因此降低，因此將鹼濃度及溶解樹脂濃度盡可能地管理乃必要之條件。

當作自顯影步驟排出的使用完畢之顯影液再生後循環之顯影液的供給裝置，係備有調製必須供給之顯影液之供給儲槽(調製槽)，與將使用完畢之顯影液暫時收容於回收液儲槽輸送至前述供給儲槽的回收液供給機構，與供給新顯影液原液至供給儲槽之原液供給機構，及供給稀釋水至供給儲槽之稀釋水供給機構，依據供給儲槽之顯影液的鹼濃度及樹脂濃度，可控制經原液供給機構之顯影液原液的輸送及經稀釋水供給機構之稀釋水的輸送。

如上述之顯影液供給裝置中，自顯影步驟回收使用完畢之顯影液的鹼濃度低於目標濃度時，追加供給高濃度之顯影液原液(例如25質量%之TMAH)，當使用完畢的顯影液之樹脂濃度高於目標濃度時，藉由追加供給前述顯影液原液及稀釋用純水，可調製適宜濃度之顯影液。並且，籍由顯影液之超音波傳導速度及電池導電率可高精度檢測鹼濃度及樹脂濃度，因此可將已調節正確濃度之顯影液供給至步驟中。

[專利文獻1]特開2003－248326號

然而，前述顯影液之供給裝置中，當自顯影步驟至調製槽之使用完畢的顯影液之回收量多於自調製槽至顯影步驟之供給量、或顯影液原液與新的顯影液之追加供應量多於預定以上時，因為調製之顯影液的全體量超過供給儲槽(調製槽)之容許量，不得不自調製槽廢棄剩餘之顯影液。因此，追加供給之顯影液原液及新顯影液的一部分被廢棄而損失成本。

另一方面，於顯影處理中，隨著被處理物之變更步驟處理條件亦隨之改變，此外，一般而言於多數步驟中各自以不同的處理條件運轉。並且，近來顯影液中之樹脂濃度已確認其適宜之濃度範圍依顯影步驟之處理條件而異。亦即，存在顯影液中之樹脂濃度低時顯影步驟安定，而樹脂濃度較高時顯影步驟安定之狀況。

相對於此，前述顯影液之供給裝置中係以1個顯影步驟為對象所調製之顯影液，所回收之使用完畢顯影液之中的剩餘部分，假設其他之顯影步驟中即使可再使用亦被廢棄。因此，就顯影步驟中降低處理成本之觀點而言，與其回收使用完畢之顯影液不如期待顯影液有效再利用。

本發明係鑒於上述實情，旨在提供一種於管理自液晶電路板及印刷電路板之顯影步驟所回收之顯影液的鹼濃度及樹脂濃度的同時，以一定濃度再調製之顯影液供給於顯影步驟之顯影液供給裝置，可降低再調製中所使用之新顯影液之消耗量之顯影液供給裝置。此外，本發明旨在提供一種可更有效利用自顯影步驟回收之使用完畢的顯影液之顯影液供給裝置。

本發明為防止調整槽中過多的再調製之顯影液，且防止顯影液原液或新顯影液的流失，檢測調整槽內使用完畢之顯影液中的鹼濃度、樹脂濃度及調整槽之液面，使再調製之顯影液之全體量為調整槽之容許範圍內例如最大容量，計算再調製所必須之顯影液原液、新顯影液或稀釋水之追加供給量及使用完畢的顯影液之使用量，當調整槽內回收使用完畢之顯影液的量超過前述使用量時，自顯影步驟回流使用完畢之顯影液將不供給至調製槽而排出裝置外。

此外，本發明中為更有效利用自顯影步驟所回收之使用完畢的顯影液，自其他顯影步驟排出之使用完畢的顯影液暫時儲存於回收儲槽之同時，再調製對象之顯影步驟的顯影液時，依據所需之樹脂濃度利用回收儲槽之使用完畢的顯影液。例如，當作調製對象之顯影步驟用的顯影液時，自其他之顯影步驟排出之低樹脂濃度的使用完畢之顯影液作為稀釋液使用。此外，當作調製對象之顯影步驟用之顯影液時，自其他顯影步驟排出之高樹脂濃度之使用完畢的顯影液使用為調節樹脂濃度。

亦即，本發明由3個要旨所構成，第1要旨係由鹼性水溶液所成之顯影液供給於顯影步驟的顯影液之供給裝置，其特徵為於備有裝設供給顯影液原液之機構及供給新顯影液或稀釋水之機構之調整槽、及將自顯影步驟回收之使用完畢的顯影液輸送至前述調整槽之回收流路、及將於前述調整槽再調整之顯影液輸送至前述顯影步驟之供給流路，前述調整槽中裝設有檢測鹼濃度及樹脂濃度之濃度計及液面計，前述回收流路中裝設有自前述顯影步驟輸送之使用完畢顯影液排出裝置外之排出流路，並且檢測前述調整槽之顯影液之鹼濃度、樹脂濃度及液面，使再調製之顯影液的量如前述調整槽之容許範圍內預先設定之最高限量，計算出使用完畢顯影液之使用量、構成後當前述調整槽回收之使用完畢顯影液的量超過前述使用量時可自前述排出流路排出使用完畢之顯影液。

此外，本發明之第2要旨係與上述第1要旨相關之裝置，其由備有儲存自其他顯影步驟回收之使用完畢顯影液之回收儲槽、與自該回收儲槽將使用完畢之顯影液輸送至調整槽之混合流路所構成，當前述回收儲槽之使用完畢之顯影液的樹脂濃度亦低於前述調整槽顯影液的樹脂濃度時，於將前述調整槽之樹脂濃度降低時，使前述回收儲槽之使用完畢之顯影液自前述混合流路供給至前述調整槽。

再者，本發明之第3要旨係與上述第1要旨相關之裝置，其由備有儲存自其他顯影步驟回收之使用完畢之顯影液的回收儲槽、與自該回收儲槽之將使用完畢之顯影液輸送至調整槽之混合流路所構成，當前述回收儲槽之使用完畢之顯影液的樹脂濃度高於前述調整槽顯影液的樹脂濃度時，於將前述調整槽之樹脂濃度提高時，使前述回收儲槽中使用完畢之顯影液自前述混合流路供給至前述調整槽。

依據本發明第1要旨之相關顯影液供給裝置，為使調整槽所回收之使用完畢的顯影液的量超過再調製必須使用量時自調整槽之上流側的排出流路排出使用完畢之顯影液，可防止調整槽中過多之再調製顯影液，與廢棄顯影液原液或新顯影液的流失。此外，依據本發明之第2及第3要旨之相關顯影液之供給裝置，因為回收儲槽所回收之其他顯影步驟使用完畢的顯影液可有效再利用，因此顯影步驟中之處理成本可更為低廉。

[實施本發明之最佳狀態]

本發明之相關顯影液之供給裝置的實施狀態以圖面說明。圖1係與本發明之第1狀態相關之顯影液供給裝置的主要構成要素的流程圖，第1狀態中相關顯影液之供給裝置係為防止過多的再調製顯影液、防止顯影液原液或新顯影液之流失的裝置。此外，圖2係與本發明之第2狀態及第3狀態相關之顯影液供給裝置的主要構成要素的流程圖，第2狀態及第3狀態之相關顯影液的供給裝置，係有效利用自其他顯影步驟排出之使用完畢顯影液的裝置。以下，實施狀態之說明中將顯影液之供給裝置略記為「供給裝置」。

本發明之供給裝置，係製造液晶電路板及印刷電路板時之光阻劑的顯影步驟，例如含自旋顯影機(spin developer)裝置等之顯影裝置之顯影步驟(圖中符號(8)所示)，係一種供給由鹼性水溶劑所成之顯影液裝置，具有將自顯影步驟所回收之使用完畢的顯影液再調製為一定鹼濃度及樹脂濃度之顯影液，及將再調製之顯影液供給於顯影步驟之功能。

本發明中，鹼性顯影液可列舉如氫氧化鈣、氫氧化鈉、磷酸鈉、矽酸鈉等單一無機鹼或由混合物所成之無機鹼性水溶劑，及氫氧化四甲銨(TMAH)、氫氧化三甲基乙醇銨(trimethylmonoethyl ammonium hydroxide)(膽鹼)等有機鹼性水溶液等。

首先說明與本發明之第1狀態的相關供給裝置。本發明之供給裝置如圖1所示，係備有供給顯影液原液之機構、及裝設供給新顯影液或稀釋水之機構之調整槽(1)、及將自顯影步驟(8)回收之使用完畢的顯影液輸送至調整槽(1)之回收流路(22)、及將於調整槽(1)再調整之顯影液輸送至顯影步驟(8)之供給流路(21)。

調整槽(1)裝設有將回收之使用完畢的顯影液的鹼濃度調節至一定目標值，並且將樹脂濃度調節至一定範圍之再生使用完畢之顯影液，及再生之顯影液視需要供給於顯影步驟(8)之功能，例如由備有100~2,000公升左右內容積之耐腐蝕性容器所構成。

調整槽(1)中為使儲存之顯影液以均一的濃度調節且維持，裝設有由抽水機及循環流路所構成之攪拌裝置(圖示省略)。如上述經循環之攪拌裝置，與螺旋器等之攪拌裝置相較，不但塵埃發生少、且可降低顯影液之污染。再者，為了以後述之濃度計(12)正確地測量顯影液之濃度，雖然無圖示，調整槽(1)中裝設調節該調整槽內顯影液可維持一定溫度之裝置。諸如此類之溫度調節裝置，例如由上述之攪拌裝置之循環流路或其他途徑裝設之循環流路、及於該循環流路途中所配置之恆溫槽所構成。

供給顯影液原液之機構，由自原液儲槽(圖示省略)至調整槽(1)之原液供給流路(32)，及該新液供給流路之途中所裝設之開關閥(52)所構成，籍由控制開關閥(52)，必要時可將顯影液原液供給至調整槽(1)。再者，上述原液儲槽中預先儲存之顯影液原液係未使用之高濃度顯影液，列舉如濃度為25質量%TMAH之顯影液。

供給新顯影液之機構，係由自顯影液儲槽(圖示省略)至調整槽(1)之新液供給流路(31)及該新液供給流路之途中所裝設之開關閥(51)所構成，籍由控制開關閥(51)，必要時可將新顯影液供給至調整槽(1)。此外，上述之顯影液儲槽中預先儲存之顯影液係濃度被調節至使用濃度之顯影液，列舉如濃度為2.38質量%TMAH之顯影液。

此外，本發明之供給裝置中，籍由裝設如上述之供給顯影液原液之裝置，可取代供給新顯影液之裝置，可裝設供給稀釋水之裝置。雖無圖示，例如供給稀釋水之裝置，係由自純水製造裝置至調整槽(1)之純水供給流路，及該純水供給流路中裝設之開關閥所構成，籍由供給上述顯影液原液之裝置的同時使其運轉，供給純水至調整槽(1)，於調整槽(1)中調製新顯影液。

再者，上述調整槽(1)中裝設有檢測鹼濃度及樹脂濃度之濃度計(12)及液面計(11)。為了檢測調整槽(1)內顯影液之濃度，濃度計(12)配置於如調整槽(1)中所裝設之取樣用之循環流路(圖示省略)途中。本發明之供給裝置中，為使樹脂濃度之變動不受影響且高精度的檢測樹脂濃度及鹼濃度，使用特定之濃度計。具體為濃度計(12)係檢測顯影液中超音波傳播速度及顯影液之電磁導電率，依據預先作成之所定溫度及所定濃度中超音波傳播速度及電磁導電率之關係(矩陣)，使用檢測鹼濃度及樹脂濃度之多成分濃度計。

上述多成分濃度計，藉由測量一定溫度溶液中之超音波傳播速度及電磁導電率，係可同時測量3成分系溶液之2成分濃度的濃度計。亦即，多成分濃度計，當溶液溫度一定時，依據各成分濃度之液中超音波傳播速度及電磁導電率根本上特定之原理，主要由超音波變換器、超音波發信器、電磁導電率變換器、電磁導電率發信器及進行所定之演算的微處理機所成。

上述之多成分濃度計適用於顯影液之濃度測量時，預先將鹼濃度及樹脂濃度之各種組合於一定溫度條件下所預先測量之超音波傳播速度及電磁導電率之關係作為矩陣，依據該矩陣，由測量值可正確推算鹼濃度及樹脂濃度。如上述之多成分濃度計，適合使用聞名之富士工業公司製造商品名「FUD－1 Model－51」的液體用超音波多成分濃度計。再者，本發明中之濃度計可分別裝設鹼濃度檢測用濃度計及樹脂濃度檢測用濃度計。

液面計(11)可使用差壓型、浮標型、光電感應型、超音波型等各種可輸出信號之液面量測機器。液面計(11)檢測調整槽(1)內之顯影液液面，係為了控制前述之開關閥(51)、(52)及後述切換閥(4)而使用。亦即，液面計(11)係檢測調整槽之容許範圍內預先設定之最高限量(H)(例如最大容量)、及可安全供給操作至顯影步驟(8)而預先設定之最低限量(L)，分別輸出所定信號的同時，一直檢測以調整槽(1)之液量為基準之液面標準且設定為輸出信號。

本發明之供給裝置，係裝設自顯影步驟(8)至調整槽(1)且裝設抽水機(圖示省略)之回收流路(22)，自顯影步驟(8)排出之使用完畢顯影液經回收流路(22)回收至調整槽(1)。此外，裝設自調整槽(1)至顯影步驟(8)且裝設抽水機(71)之供給流路(21)，調整槽(1)中再調製之顯影液經供給流路(21)供給顯影步驟(8)。

本發明之供給裝置中，依規定當使用完畢之顯影液多於必要量時將回收至調整槽(1)，因此回路流路(22)中裝設將顯影步驟(8)輸送之使用完畢的顯影液排出裝置外之排出流路(23)。排出流路(23)為回收流路(22)途中所配置之切換閥(4)自回收流路(22)分歧而裝設。再者，含有如上述調整槽(1)、供給顯影液原液之機構、供給新顯影液或稀釋水之機構、供給流路(21)及回收流路(22)之系統內，為防止與顯影液之空氣接觸，被氮氣等不活性氣體密閉。

本發明之供給裝置中，運轉控制裝置全體之外，根據上述濃度計(12)及液面計(11)之測量裝設為控制開關閥(51)、(52)及切換閥(4)之具演算功能之控制裝置(圖示省略)。諸如此類之控制裝置，係含有各測量機器之信號數位變換之輸入裝置、程式控制器及電腦等演算處理裝置，及自演算處理裝置之控制信號變換為類比之輸出裝置。並且，本發明之供給裝置，籍由上述控制裝置之功能，檢測調整槽(1)中顯影液之鹼濃度、樹脂濃度及液面，使再調製之顯影液的量如調整槽(1)容許範圍內預先設定之最高上限量(H)，計算使用完畢顯影液的量，調整槽(1)所回收之使用完畢的顯影液的量超過前述使用量時，控制切換閥(4)，可自排出流路(23)將使用完畢之顯影液排出裝置外。

本發明之供給裝置的功能如下。亦即，本發明之供給裝置中，自顯影步驟(8)所排出之使用完畢的顯影液經回收流路(22)回收至調整槽(1)。調整槽(1)經攪拌方式攪拌使用完畢之顯影液，且經溫度調節方式將使用完畢之顯影液維持於一定溫度。並且，由濃度計(12)測量使用完畢顯影液之鹼濃度及樹脂濃度。

另一方面，控制裝置係根據上述濃度計(12)的信號，計算係以一定之鹼濃度(例如TMAH濃度2.38質量%)，及一定範圍之樹脂濃度的顯影液單存再調製為調整槽(1)之容許範圍內最高上限量(H)之使用完畢的顯影液的必須使用量(回收量)、及顯影液原液或新顯影液(或稀釋水)的追加供給量。

接著，控制裝置參考液面計(11)之信號，視需要控制開關閥(52)供給所需量之顯影液原液至調整槽(1)，此外，視需要控制開關閥(51)供給新顯影液(或稀釋水)之所需量至調整槽(1)。並且依據液面計(11)的信號，當調整槽(1)內回收之使用完畢之顯影液的量超過上述使用量(必須再調製之量)時，切換操作切換閥(4)，自顯影步驟(8)通過回收流路(22)輸送之使用完畢之顯影液經排出流路(23)排出。

再者，調節鹼濃度及樹脂濃度之顯影液原液及稀釋水或新顯影液(新液)之供給控制，係依據濃度計(12)之量測濃度，可串聯控制顯影液原液之供給量、稀釋水、新液之供給量，諸如此類之控制中可使用如特開平10－180076號公報所記載之「鹼性顯影原液之稀釋方法及稀釋裝置」中所明示之漸近法。

本發明之供給裝置中，如上述，使再調製之顯影液之全體量為調整槽(1)之容許範圍內如最高上限量(H)一樣，顯影液原液、新顯影液或稀釋水之追加供給量之同時，計算再調製必要之使用完畢的顯影液之使用量，關於超過該使用量之使用完畢的顯影液，不回收至調整槽(1)，而自調整槽(1)之上流側的排出流路(23)排出。如此可防止調整槽(1)中過多的再調製顯影液。結果可防止被廢棄之顯影液原液、新顯影液或稀釋水的流失。

附帶說明，為使上述第1狀態中相關之供給裝置運轉，於調整槽(1)再調製當作使用完畢之顯影液回收之TMAH水溶液，TMAH濃度以2.380質量%、樹脂濃度以1000±150ppm調節供給至顯影步驟(8)時，使用完畢之顯影液全體量與以往回收後再生之供給裝置相較，顯影原液及新顯影液(新液)之消費量以新液換算大約可減少30%。

接著說明與本發明之第2狀態相關之供給裝置。第2狀態之供給裝置，係自其他顯影步驟(8b)所排出之低樹脂濃度的使用完畢顯影液為對象之顯影步驟(8)可有效利用之裝置。第2狀態中，其他顯影步驟(8b)，係進行與對象之顯影步驟(8)不同的顯影處理(不同被處理物之處理與不同條件之處理)之步驟，第2狀態適用於自其他顯影步驟(8b)排出之使用完畢顯影液的樹脂濃度低於自對象之顯影步驟(8)排出之使用完畢顯影液的樹脂濃度之狀況。

本發明之供給裝置如圖2所示，裝設供給顯影液原液之機構、供給新顯影液或稀釋水之機構之調整槽(1)、及自顯影步驟(8)回收使用完畢之顯影液輸送至調整槽(1)之回收流路(22)、及將調整槽(1)中再調製之顯影液輸送至顯影步驟(8)之供給流路(21)。調整槽(1)、供給流路(21)、回收流路(22)之構成與前述第1狀態相同。此外，調整槽(1)中裝設與第1狀態相同之濃度計(12)及液面計(11)，回收流路(22)中裝設與第1狀態相同之排出流路(23)。

第2狀態之供給裝置係裝設回收儲槽(6)及混合流路(25)之處與前述狀態相異。亦即，圖2所示之供給裝置加上上述構成，備有儲存回收自其他顯影步驟(8b)之使用完畢之顯影液的回收儲槽(6)、及自該回收儲槽將使用完畢之顯影液輸送至調整槽(1)之混合流路(25)。

其他顯影步驟(8b)，設有來自舊型之其他顯影液供給裝置之顯影液，前述之其他顯影液供給裝置，裝設有調整槽(1b)、至其他顯影步驟(8b)之顯影液之供給流路(21b)、自其他顯影步驟(8b)排出之使用完畢之顯影液的回收流路(22b)，使用完畢之顯影液的一部分於回收流路(22b)中裝設切換閥(4b)，籍由操作該切換，通過自回收流路(22b)分歧之排出流路(24)可回收至上述之回收儲槽(6)。

回收儲槽(6)由備有如500~3000公升左右之內容積之耐腐蝕性容器所構成。雖然無圖示，回收儲槽(6)中如後述供給調整槽(1)時，為防止該調整槽內之顯影液的溫度變化濃度可正確測量，該回收儲槽內裝設將顯影液之溫度維持一定溫度之調節裝置。如此之溫度調節裝置與調整槽(1)相同，由如循環流路及其途中所配置之恆溫槽所構成。

混合流路(25)設置於自回收儲槽(6)開始至調整槽(1)，混合流路(25)中裝設輸送液體用之抽水機(72)及開關閥(53)。因此回收儲槽(6)中暫時回收之使用完畢的顯影液通過運轉抽水機(72)、開啟開關閥(53)，經混合流路(25)可供給至調整槽(1)。

此外，第2狀態中亦與第1狀態裝設相同之控制裝置(圖示省略)，籍由如此之控制裝置，與第1狀態相同，控制開關閥(51)、(52)及切換閥(4)的操作，可控制使用完畢之顯影液的回收及排出。再者，與第2狀態相關之控制裝置中切換閥(4b)之操作、抽水機(72)與開關閥(53)之操作亦由上述控制裝置所控制。

再者，與第2狀態相關之供給裝置，籍由上述控制裝置之功能，如同前述當回收儲槽(6)之使用完畢顯影液之樹脂濃度低於調整槽(1)之顯影液的樹脂濃度時，調整槽(1)中進行降低樹脂濃度之操作，亦即，稀釋操作時，回收儲槽(6)之使用完畢之顯影液自混合流路(25)供給至調整槽(1)。再者，第2狀態中，對於調整槽(1)之使用完畢之顯影液的回收量控制，將自顯影步驟(8)排出之使用完畢顯影液之使用量，與自其他顯影步驟(8b)排出之使用完畢顯影液之使用量的合計量作為再調整中所利用之使用完畢顯影液之使用量。

本發明之與第2狀態相關之供給裝置的功能如下。亦即，與第2狀態相關之供給裝置中，籍由操作切換閥(4b)，依據前述其他顯影液供給裝置(含調整槽(1b)之裝置)的運轉狀況，將自其他顯影步驟(8b)排出之使用完畢的顯影液預先儲存於回收儲槽(6)中。

另一方面，第2狀態之供給裝置中，再調整顯影步驟(8)之顯影液時，與第1狀態相同，自顯影步驟(8)排出之使用完畢之顯影液回收至調整槽(1)的同時，以濃度計(12)量測使用完畢顯影液之鹼濃度及樹脂濃度。並且根據需要追加供給顯影液原液或新顯影液(或稀釋水)。

此時，經濃度計(12)測量，調整槽(1)內之顯影液的樹脂濃度判斷超過目標濃度時，啟動混合流路(25)之抽水機(72)並開放開關閥(53)。因此，自其他顯影步驟(8b)所回收之回收儲槽(6)之低樹脂濃度的使用完畢的顯影液供給至調整槽(1)。其結果沒有大量使用顯影液原液及稀釋水、或新顯影液，且調整槽(1)內之顯影液之樹脂濃度可降低至目標濃度。

如同上述，本發明之第2狀態之供給裝置中，再調製於調整槽(1)自顯影步驟(8)排出之使用完畢的顯影液時，自其他顯影步驟(8b)排出之低樹脂濃度的使用完畢的顯影液可當作稀釋用途而有效再利用，因此可減少顯影液及稀釋水、或新顯影液之追加供給量，顯影步驟(8)之處理成本可因而更加降低。

因此，使上述第2狀態中相關之供給裝置運轉，自顯影步驟(8)回收當作使用完畢之顯影液再調製TMAH水溶液時，自其他顯影步驟(8b)所回收之使用完畢顯影液(樹脂濃度500ppm)作為稀釋用使用，調整槽(1)中TMAH濃度以2.380質量%、樹脂濃度以1000±150ppm調節供給至顯影步驟(8)時，與自1個顯影步驟(8)回收使用完畢的顯影液之全體量回收再生之舊供給裝置相較，顯影原液及新顯影液(新液)之消費量以新液換算大約可減少45%。

接著說明與本發明之第3狀態相關的供給裝置。第3狀態之供給裝置，係以自其他顯影步驟(8b)排出的高樹脂濃度之使用完畢的顯影液為對象之顯影步驟(8)可有效利用之裝置。第3狀態中，其他顯影步驟(8b)與對象之顯影步驟(8)進行不同顯影處理(不同被處理物之處理及不同條件之處理)之步驟，第3狀態適用於自其他顯影步驟(8b)排出之使用完畢的顯影液的樹脂濃度仍高於自對象顯影步驟(8)排出之使用完畢的顯影液的樹脂濃度之狀況。

本發明之供給裝置，機械構成上與前述第2狀態之供給裝置相同。亦即，由裝設有如圖2所示之裝置所構成。並且，第3狀態中與第1狀態裝設同樣的控制裝置(圖示省略)，籍由如此之控制裝置，與第1狀態相同，可控制開關閥(51)、(52)及切換閥(4)的操作，控制使用完畢之顯影液的回收及排出。此外，第2狀態之供給裝置中，切換閥(4b)之操作、及抽水機(72)與開關閥(53)之操作亦由上述之控制裝置所控制。

第3狀態相關之控制裝置籍由上述之控制裝置的功能，當回收儲槽(6)之使用完畢的顯影液之樹脂濃度高於調整槽(1)之使用完畢的顯影液的樹脂濃度時，調整槽(1)中進行增加樹脂濃度之操作，亦即，調節樹脂濃度操作時回收儲槽(6)之使用完畢的顯影液自混合流路(25)供給至調整槽(1)之處與前述第2狀態不同。再者，對於調整槽(1)之使用完畢的顯影液之回收量的控制，將自顯影步驟(8)排出之使用完畢的顯影液之使用量，與其他顯影步驟(8b)排出之使用完畢的顯影液之使用量的合計量作為再調整中所利用之使用完畢顯影液之使用量處理之處與第2狀態相同。

本發明之第3狀態相關之供給裝置的功能如下。亦即，於第3狀態相關之供給裝置中，與第2狀態相同，籍由操作切換閥(4b)，預先將自其他顯影步驟(8b)排出之使用完畢的顯影液儲存於回收儲槽(6)。並且，再調整自顯影步驟(8)所排出之顯影液時，與第1狀態相同，將自顯影步驟(8)所排出之使用完畢的顯影液回收至調整槽(1)的同時，以濃度計(12)測量使用完畢之顯影液的鹼濃度及樹脂濃度，視需要追加供給顯影液原液或新顯影液(或稀釋水)。

此時，經濃度計(12)之測量，當調整槽(1)內之顯影液的樹脂濃度判斷低於目標濃度時，啟動混合流路(25)之抽水機(72)並開放開關閥(53)，由其他顯影步驟(8b)所回收之回收儲槽(6)之高樹脂濃度之使用完畢的顯影液供給至調整槽(1)。如此可有效利用以往所廢棄之其他顯影步驟(8b)之使用完畢的顯影液。而且，對於對象顯影步驟(8)，因為可供給維持一般所需之樹脂濃度的顯影液，因此顯影步驟(8)可更加安定。

如上述，與本發明之第3狀態相關之供給裝置中，於調整槽(1)中再調製自顯影步驟(8)排出之使用完畢的顯影液時，自其他顯影步驟(8b)所排出之高樹脂濃度之使用完畢的顯影液作為調節樹脂濃度用因為可有效地再利用，因此含顯影步驟(8)及其他之顯影步驟(8b)之步驟總體上可降低處理成本，並且較高樹脂濃度之顯影液可使必要的顯影步驟(8)更加安定。

因此，使與上述第3狀態相關之供給裝置運轉，自顯影步驟(8)當作使用完畢顯影液回收之TMAH水溶液再調製時，其他顯影步驟(8b)所回收之高樹脂濃度之使用完畢的顯影液(樹脂濃度2000ppm)當作調節樹脂濃度使用，調整槽(1)中TMAH濃度以2.380質量%、樹脂濃度以1500±150ppm調節供給顯影步驟(8)。結果顯影步驟(8)安定，顯影處理之成品率大約提高5%。再者，與自1個顯影步驟(8)回收使用完畢的顯影液之全體量後再生之先前的供給裝置相較，作為步驟總體，顯影原液及新顯影液(新液)之消費量以新液換算大約可減少36%。

1．．．調整槽

11．．．液面計

12．．．濃度計

21．．．供給流路

22．．．回收流路

23．．．排出流路

24．．．排出流路

25．．．混合流路

31．．．新液供給流路(供給新顯影液之裝置)

32．．．原液供給流路(供給顯影液原液之裝置)

4．．．切換閥

51．．．開關閥

52．．．開關閥

53．．．開關閥

6．．．回收儲槽

71．．．抽水機

72．．．抽水機

8．．．顯影步驟

8b．．．其他之顯影步驟

[圖1]與本發明之第1狀態相關之顯影液供給裝置的主要構成要素如流程圖所示。

[圖2]與本發明之第2狀態及第3狀態相關之顯影液供給裝置的主要構成要素如流程圖所示。