TWI386734B - 供顯示裝置用之分隔件 - Google Patents
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Description
本發明係關於液晶顯示裝置(LCD)及其製造方法，且更特定地關於具有改良顯示品質的LCD及其製造方法。
今日，觸控螢幕技術已廣泛地應用至電子儀器，例如PDA(個人數位助理)或行動通訊裝置。
在一觸控式螢幕LCD裝置中，當使用者觸碰LCD面板的表面時，波紋現象有時會出現在LCD面板上。非常不希望有的波紋現象係為當使用者重覆地觸碰LCD面板之表面的某個區域時增大液晶所造成的。
在希望避免波紋現象的情況中，一柱狀間隔件已形成在LCD面板的內側以支撐在使用過程中觸碰的表面。然而，由於柱狀間隔件均勻地分布在LCD面板的內側，其使用通常伴隨著在其他方面之效益/品質的耗損，例如影像品質。這是因為LCD面板變形之發生及程度的變動係依據使用者觸碰之面板的位置，即使使用者以相同的力量觸碰不同的位置。
本發明提供具有改良品質的液晶顯示裝置，及適於用
來製造上述液晶顯示裝置的方法。
本發明包括光發射裝置，其包括1)第一基板，其具有實質上透射光的第一區域，及實質上阻斷光的第二區域，2)第二基板，附加至第一基板以便於形成一位於第一及第二基板間之預定距離的晶胞間隙，3)設置在晶胞間隙上的液晶層，及4)分隔件，其設置於第二區域之第一基板及第二基板間，以便於實質地維持晶胞間隙而不會阻擋沒有被第二區域阻斷的光。藉由形成該分隔件靠近實質上阻斷光的第二區域，該分隔件沒有導致光的進一步耗損或開口率的減少。同時，藉由設置分隔件位於第一及第二區域間，當其使用作為觸控式螢幕裝置時，藉此提供另外的支撐至光發射裝置，分隔件將降低非所欲的波紋現象。
本發明也包括製造上述光發射裝置的方法。該方法包括1)獲得第一基板，其具有實質上傳輸光的第一區域及實質上阻斷光的第二區域，2)附加第二基板至第一基板以便於形成位於第一及第二區域間之預定距離的晶胞間隙，3)晶胞間隙充滿液晶，4)形成分隔件於第一及第二基板間以實質地維持晶胞間隙不會阻檔沒有被第二區域阻斷的光，其中該分隔件位於第二區域上。由於該分隔件位於第二區域上，所以其提供一支撐至顯示面板而不會阻斷顯著的光量。
本發明的上述及其他優點將參照下面詳細的描述連同伴隨的圖式而變得顯而易見，其中：
第1圖為顯示根據本發明典型具體實施例之LCD裝置之下部基板的平面圖；第2圖為顯示具有第1圖所示之下部基板之透射型LCD裝置的橫截面圖；第3圖為顯示根據本發明另一典型具體實施例之透射型LCD裝置的橫截面圖；第4圖為顯示根據本發明另一典型具體實施例之LCD裝置之下部基板的平面圖；第5圖為顯示具有第4圖所示之下部基板之透射型LCD裝置的橫截面圖；第6圖為顯示根據本發明另一典型具體實施例之透射型LCD裝置的橫截面圖；第7圖為顯示根據本發明另一典型具體實施例之透射反射型LCD裝置的橫截面圖；第8圖為顯示根據本發明另一典型具體實施例之透射反射型LCD裝置的橫截面圖：第9圖為顯示根據本發明另一典型具體實施例之反射型LCD裝置的橫截面圖：第10圖為顯示根據本發明另一典型具體實施例之反射型LCD裝置的橫截面圖：第11圖為顯示根據本發明典型具體實施例之具有數個柱狀分隔件的LCD裝置的橫截面圖：第12A至第12F圖為例示製造根據本發明典型具體實施例之LCD裝置的方法的視圖。
於此所用，”第一構件”表示第一基板及任何設置在第一基板上的周圍層，且”第二構件”表示第二基板及任何設置於上的周圍層。特定地，第二構件1000"包括第二基板100。於此所用，”分隔件”為用來形成或維持位於第一及第二構件間之晶胞間隙的任何結構或機構，且不受限於特定的材料，外形或尺寸。
第1圖為顯示根據本發明典型具體實施例之LCD裝置之構件(第二構件)的平面圖。第2圖為顯示具有第1圖之第二構件之透射型LCD裝置的橫截面圖。
參照第1及第2圖，一透射型LCD裝置2000包括第二構件1000，第一構件200及放入於第一及第二構件100和200間的液晶層400。
第二構件1000包括數個排列於一矩陣構形上的像素。在此典型具體實施例中，將要描述設置在沿著N排之M個柱狀位置上的像素，其中M為大於2的自然數字且N為大於1的自然數字。像素包括(M-1)個閘線145，M個閘線131，N個數據線230a，薄膜電晶體(TFT)300及像素電極420。
閘極圖案形成在第二基板100上。閘極圖案包括延伸在第一方向D1上的(M-1)個閘線145，延伸在第一方向上的M個閘線131，及從M個柵線131分叉的閘極110。在此典型具體實施例中，(M-1)個閘線145操作為描述於下之輔助電容器Cst的第一輔助電極150。
閘極圖案包括一傳導材料，例如鋁(Al)，鋁合金，鉬(Mo)，鉬-鎢合金(MoW)，鉻(Cr)，或鉭(Ta)。閘極圖案可由單一層，雙層或三層組成。在一典型例子中，當閘極設有雙層或三層時，單一層包括鉻(Cr)或鋁(Al)，且其他層包括鋁(Al)或鉬(Mo)。
閘極絕緣層170形成在包含閘極圖案形成於上之矽氮化物(SiNx)的第二基板100上方。半導體層320及歐姆接觸層330形成在靠近閘極110的閘極絕緣層170上。
數據圖案形成在歐姆接觸層330形成於上的閘極絕緣層170上。數據圖案包括延伸在大體上垂直於第一方向D1之第二方向D2上的N個數據線230a，從N個數據線230a分叉的源極210，與源極210分隔一預定距離的的汲極310。數據圖案另包括第二輔助電極230b，其形成在第二基板100及閘極絕緣層170上，且全面位於第一輔助電極150上方。
因此，TFT300具有閘極110，閘極絕緣層170，半導體層320，歐姆接觸層330，源極210及汲極310形成在第二基板100上。此外，具有第一及第二輔助電極150和230b的輔助電容器Cst形成在第二基板100上。
包括聚苯並環乙烯及壓克力樹脂的有機層370形成在有數據圖案形成於上的第二基板100上方。有機層370經由照相平版印刷過程而圖案化，以致於第一及第二接觸孔710和810形成在有機層370上，分別地暴露汲極310及第二輔助電極230b。像素電極420經由第一接觸孔710電氣電連接至汲極310，且經由第二接觸孔810電氣地連接至第二輔助電
極230b。
像素電極420包括透明傳導材料，例如銦錫氧化物(其後稱為ITO)，以便於傳輸由第二構件1000之一方向提供的光。像素電極420包覆(M-1)個閘線145的一部分，但沒有包覆N個數據線230a及M個閘線131，如第1圖所示。
第一構件200包括共用電極240，其設置在最靠近液晶層400的表面上。共用電極240包括ITO。共用電極240操作如具有液晶層400及像素電極420的液晶電容器Clc。輔助電容器Cst藉由連接第二輔助電極230b至像素電極420而電氣地連接至液晶電容器Clc。
一般而言，由於出現在TFT300之閘極及源極110和210間的寄生電容，施加至像素電極420的電壓信號可能被扭曲，這被扭曲的電壓信號於此稱為”返衝電壓(kickback voltage)”。返衝電壓有時會導致透射型LCD裝置2000的一閃動。
在此典型的具體實施例中，由於透射型LCD裝置2000包括電氣地連接至液晶電容器Clc的輔助電容器Cst，此透射型LCD裝置2000可降低返衝電壓並增加液晶電容器Clc的電壓固持率，藉此增進其顯示品質。
為了均勻地維持位於第一及第二構件200和1000間的晶胞間隙，透射型LCD裝置2000包括設置在第一及第二構件200和1000間的柱狀分隔件440a。此柱狀分隔件440a藉由設置一有機層在第一構件200的共用電極240上且圖案化該有機層而形成。
柱狀分隔件440a形成在非有效顯示區域上。於此所用，輔助電容器Cst所形成的區域稱為”非有效顯示區域”。此區域被稱為”非有效顯示區域”的原因為從光源(未顯示)，例如設置在第二構件1000下方的背光總成，來的光被第一及第二輔助電極150和230b阻斷。第二輔助電極230b及柱狀分隔件440a的下部容納在第二接觸孔810內，以致於柱狀分隔件440a與設置在第二輔助電極230b上的像素電極420接觸。
藉由形成柱狀分隔件440a在非有效顯示區域上，可避免由於柱狀分隔件440a的存在而在透射型LCD裝置2000之開口率上的任何降低。此外，柱狀分隔件440a避免第一構件200朝第二構件1000向下推，例如當正使用作為觸控式螢幕面板時。
第3圖為顯示根據本發明另一典型具體實施例之透射型LCD裝置的橫截面圖，在第3圖中，相同的參照數字表示相同於第2圖的元件，且因此將省略相同元件的描述。
參照第1及3圖，透射型LCD裝置3000包括設置在第一構件200及第二構件1000間的柱狀分隔件440b，以便於均勻地維持位於該等構件間的不變晶胞間隙。柱狀分隔件440b藉由設置一有機層(未顯示)在第一構件200的共用電極240上且圖案化該有機層而形成。
柱狀分隔件440b形成在輔助電容器Cst與設置在有機層370上之像素電極420接觸的非有效顯示區域上。
如上所述，藉由形成柱狀分隔件440b在非有效顯示區
域上，可避免由於柱狀分隔件440b的存在而造成於透射型LCD裝置2000之開口率上的任何降低。此外，柱狀分隔件440b避免第一構件200朝第二構件1000向下推，例如當正使用作為觸控式螢幕面板時。
第4圖為顯示根據本發明另一典型具體實施例之LCD裝置之下部基板的平面圖。第5圖為顯示具有第4圖所示之下部基板之穿透型LCD裝置的橫截面圖。
參照第4及5圖，透射型LCD裝置6000包括另一第二構件5000，第一構件200及放入於第一及第二構件200和5000間的液晶層400。
另一第二構件5000包括數個排列在矩陣構形上的像素。每一像素包括閘線130a，數據線230，輔助電極線130b，TFT300及像素電極420。
閘極圖案形成在第二基板100上。閘極圖案包括閘線130a，輔助電極線130b，從閘線130a分叉之TFT300的閘極110。在此典型具體實施例中，輔助電極線130b的操作如同以下所述之輔助電容器Cst的第一輔助電極140。輔助電極線130b延伸在如同閘線130a的相同方向上。
閘極絕緣層170形成在閘極圖案形成於上的第二基板100上方。半導體層320及歐姆接觸層330連續地形成對應至閘極110的閘極絕緣層170上。
數據圖案形成在半導體層320及歐姆接觸層330形成於上的閘極絕緣層170上。數據圖案包括數據線230a，由數據線230a分出的源極210，及與源極210分隔一預定距離的汲
極310。汲極315形成在閘極絕緣層170上，且延伸以便於包覆輔助電極線130b並如輔助電容器Cst的第二輔助電極313般運作。
因此，具有輔助電極線130b之輔助電極140的輔助電容器Cst及從汲極315延伸的第二輔助電極313完全地形成在第二基板100上。
另一第二構件5000包括有機層370，其中形成於上的接觸孔800穿過該有機層370以便於暴露第二輔助電極313。像素電極410形成在經由接觸孔800暴露的第二輔助電極313及有機層370上。像素電極410經由接觸孔800電氣地連接至第二輔助電極313且由於第二輔助電極313是汲極315的延伸，所以像素電極410也電氣地連接至汲極315。
第一構件200包括設置在最接近液晶層400之表面上的共用電極240。共用電極240如同具有液晶層400及像素電極420的液晶電容器Clc般運作。輔助電容器Cst藉由連接第二輔助電極313至像素電極420而電氣地連接至液晶電容器Clc。
在此典型具體實施例中，由於透射型LCD裝置6000包括電氣地連接至液晶電容器Clc的輔助電容器Cst，該透射型LCD裝置6000降低返衝電壓且增加液晶電容器Clc的電壓固持率，藉此增進顯示品質。
為了均勻地維持位於第一及第二構件200和5000間的晶胞間隙，透射型LCD裝置6000包括設置在第一及第二構件200和5000間的柱狀分隔件430a。柱狀分隔件430a形成在
第二輔助電極313容納在接觸孔800內的非有效顯示區域上，以致於柱狀分隔件430a與設置在第二輔助電極313上的像素電極420接觸。
亦即，由光源(未顯示)，例如設置在另一第二構件5000下方的背光總成，提供的光被第一及第二輔助電極140和313阻斷。因此，輔助電容器Cst形成於上的區域為非有效顯示區域。
如上所述，藉由形成柱狀分隔件430a在非有效顯示區域上，可避免由於柱狀分隔件430a的存在而造成於透射型LCD裝置6000之開口率上的任何降低。此外，柱狀分隔件430a避免第一構件200朝另一第二構件5000向下推。
第6圖為顯示根據本發明另一典型具體實施例之透射型LCD裝置的橫截面圖。在第6圖中，相同的參照數字表示相同於第5圖的元件，且因此將省略相同元件的詳細描述。
參照第6圖，透射型LCD裝置7000包括第一構件200，另一第二構件5000，放入於第一及第二構件200和5000間的液晶層400，及柱狀分隔件430b，其設置在第一及第二構件200和5000間以便於均分地維持位於其間的晶胞間隙。
另一第二構件5000包括閘極110，第一輔助電極140，閘極絕緣層170，半導體層320，歐姆接觸層330，源極210，如同第二輔助電極313般運作的汲極310，有機層370，其有接觸孔800形成穿過以便於暴露該第二輔助電極313，及像素電極410，其形成在經由接觸孔800暴露的第二輔助電極313及有機層370上。
像素電極410經由接觸孔800電氣地連接至第二輔助電極313且由於第二輔助電極313從汲極315延伸，所以也電氣地連接至汲極315。
柱狀分隔件430b藉由設置有機層(未顯示)在形成於第一構件200上的共用電極240上並圖案化該有機層而形成。
柱狀分隔件430b形成在輔助電容器Cst與設置於有機層370上之像素電極410接觸的非有效顯示區域上。特定地，柱狀分隔件430b與像素電極410接觸在形成於有機層370上之接觸孔800的上部上。在接觸孔800上的空間藉由通過包含液晶或空氣的柱狀分隔件430b而關閉。
如上所述，藉由形成柱狀分隔件430b在非有效顯示區域上，可避免由於柱狀分隔件430b的存在而造成於透射型LCD裝置7000之開口率上的任何降低。此外，柱狀分隔件430b避免第一構件200朝第二構件5000向下推，例如當透射型LCD裝置7000正使用作為觸控式螢幕裝置時。
第7圖為顯示根據本發明另一典型具體實施例之透射反射型LCD裝置的橫截面圖。
參照第7圖，透射反射型LCD裝置8000包括另一第二構件5000，第一構件200，及放入於下部及上部基板5000和200間的液晶層400。
另一第二構件5000包括數個排列在於一矩陣構形上之第二基板100上的像素。每一像素包括TFT300，透射電極411，反射電極412，第一輔助電極140，第二輔助電極313及有機層371。
具有閘極110，源極210及汲極315的TFT300形成在第二基板100上。此外，當TFT300形成時，具有第一輔助電極140，閘極絕緣層170及第二輔助電極313的輔助電容器Cst形成。
有機層371形成在TFT300及輔助電容器Cst形成於上的第二基板100上方。有機層371具有接觸孔800以便於暴露第二輔助電極313。此外，有機層371具有形成有下凹及上凸部的上表面，藉此增進形成在有機層371上之反射電極412的反射率。
透射及反射電極411和412連續地形成在有機層371上。透射及反射電極411和412經由接觸孔800電氣地連接至第二輔助電極313。此外，透射及反射電極411和412可電氣地連接至汲極315，因為第二輔助電極313是汲極315的延伸。
第一構件200包括黑矩陣層500及共用電極240。在LCD裝置10000中，共用電極240設置在最靠近液晶層400之第一構件200的表面上。液晶層400放入於共用電極240及反射或透射電極412和411間。第一液晶電容器Clct提供在共用電極240及透射電極411間，且第二液晶電容器Clcr提供在共用電極240及反射電極412間。
柱狀分隔件430a設置在第一及第二構件200和5000間。柱狀分隔件430a的下部容納在接觸孔800內，以致於柱狀分隔件430a與設置在第二輔助電極313上的反射電極412接觸。
如上所述，藉由形成柱狀分隔件430a在輔助電容器Cst形成於上的非有效顯示區域上，可避免由於柱狀分隔件430a的形成而造成於透射型LCD裝置8000之開口率上的任何降低。此外，當透射型LCD裝置8000正使用作為觸控式螢幕裝置時，柱狀分隔件430a避免第一構件200朝另一第二構件5000向下推。
除此之外，形成在第一構件200上的黑矩陣500設置在對應至柱狀分隔件430a的非有效顯示區域上。黑矩陣避免柱狀分隔件430a凸出在透射反射型LCD裝置8000的螢幕上，藉此增進透射反射型LCD裝置8000的顯示品質。
第8圖為顯示根據本發明另一典型具體實施例之透射反射型LCD裝置的橫截面圖。在第8圖中，相同的參照數字表示相同於第7圖的元件，且因此將省略相同元件的詳細描述。
參照第8圖，透射反射型LCD裝置9000包括第一構件200，另一第二構件5000，液晶層400，其放入於第一及第二構件200和5000間，及柱狀分隔件430b，其設置於第一及第二構件200和5000間以便於均勻地維持位於基板間的晶胞間隙。
另一第二構件5000包括閘極110，第一輔助電極140，閘極絕緣層170，半導體層320，歐姆接觸層330，源極210，操作如同第二輔助電極313的汲極310，有機層370，其中接觸孔800穿過此有機層而形成以便於暴露第二輔助電極313，及像素電極410，其形成在經由接觸孔800及有機層371
而暴露的第二輔助電極313上。像素電極410包括透射反射電極411及形成在透射反射電極411上的反射電極412。
像素電極410經由接觸孔800電氣地連接至第二輔助電極313，也連接至汲極313，因為第二輔助電極313為汲極的延伸。
柱狀分隔件430b藉由設置一有機層(未顯示)在形成於第一構件200上的共用電極240上且圖案化該有機層而形成。
當輔助電容器Cst接觸設置在有機層370上的像素電極410時，柱狀分隔件430b形成在非有效顯示區域上。特定地，柱狀分隔件430b與反射電極412接觸在形成於有機層371上之接觸孔800的頂部。
如上所述，藉由形成柱狀分隔件430b在非有效顯示區域上，可避免由於柱狀分隔件430a的存在而造成在透射反射型LCD裝置9000之開口率上的任何降低。
第一構件200包括黑矩陣500，其設置在靠近柱狀分隔件430b的非有效顯示區域上。由於黑矩陣500的存在，柱狀分隔件430b沒有從透射反射型LCD裝置9000的螢幕凸出，藉此改善透射反射型LCD裝置9000的顯示品質。
此外，因為柱狀分隔件430b形成在像素電極410上，透射反射型LCD裝置9000可避免第一構件200朝另一第二構件5000向下推。
第9圖為顯示根據本發明另一典型具體實施例之反射型LCD裝置的橫截面圖。
參照第9圖，反射型LCD裝置10000包括另一第二構件5000，第一構件200及放入於下部及上部基板5000和200間的液晶層400。
另一第二構件5000包括數個排列在位於矩陣構形上之第二基板100上的像素。每一像素包括TFT300，反射電極416，第一備用電極140，第二備用電極313及有機層371。
具有閘極110，源極210及汲極315的TFT300形成在第二基板100上。此外，當TFT300形成時，具有第一備用電極140，閘極絕緣層170及第二備用電極313的備用電容器Cst形成。
有機層371形成在TFT300及備用電容器Cst形成於上的第二基板100上。有機層371具有接觸孔800以便於暴露第二備用電極313。此外，有機層371具有形成有下凹及上凸部的頂表面，藉此改善形成在有機層371上之反射電極416的反射性。
反射電極416形成在有機層371上且經由接觸孔800電氣地連接至第二備用電極313。此外，反射電極416可電氣地連接至汲極315，因為第二備用電極313為汲極的延伸。
第一構件200包括黑矩陣層500及共用電極240。柱狀分隔件430a設置在第一及第二構件200和5000間。柱狀分隔件430a的下部容納在接觸孔800嫩，以致於柱狀分隔件430a與設置在第二備用電極313上的反射電極416接觸。
因此，反射型LCD裝置10000可避免由於柱狀分隔件430a所導致開口率的降低。此外，反射型LCD裝置10000可
避免第一構件300朝另一第二構件5000向下推，因此柱狀分隔件430a形成在反射電極416上。
除此之外，形成在第一構件200上的黑矩陣500設置為完成位於柱狀分隔件430a上。因此，柱狀分隔件430a沒有凸出至反射型LCD裝置10000的螢幕上，藉此改善反射型LCD裝置10000的顯示品質。
第10圖為顯示根據本發明另一典型具體實施例之反射型LCD裝置的橫截面圖。在第10圖中，相同的參照數字表示相同於第9圖的元件，且因此將省略相同元件的詳細描述。
參照第10圖，反射型LCD裝置10000包括第一構件200，另一第二構件5000，放入於第一及第二構件200和5000間的液晶層400，及設置於第一及第二構件200和5000間以便於均勻地維持位於其間之晶胞間隙的柱狀分隔件430b。
另一第二構件5000包括閘極110，第一備用電極140，閘極絕緣層170，半導體層320，歐姆接觸層330，源極210，操作如同第二備用電極313的汲極310，有機層371，接觸孔800穿過其中形成以便於暴露第二備用電極313，以及像素電極416，其形成在經由接觸孔800及有機層370暴露之第二備用電極313上。
像素電極416經由接觸孔800電氣地連接至第二備用電極313，且也電氣地連接至汲極315，因此第二備用電極313為汲極315的延伸。
柱狀分隔件430b藉由設置一有機層(未顯示)在形成於
第一構件300上之共用電極240上且圖案化該有機層而形成。
柱狀分隔件430b形成在非有效顯示區域上，此處為具有第一及第二備用電極140和313之備用電容器Cst與設置在有機層371上之像素電極416接觸的地方。
如上所述，柱狀分隔件430b形成在非有效顯示區域上以避免在反射型LCD裝置11000上開口率的任何降低。
第一構件200包括設置在非有效顯示區域上的黑矩陣層500，該非有效顯示區域完全位於柱狀分隔件430b上方。黑矩陣層500避免柱狀分隔件430b從反射型LCD裝置11000的螢幕凸出，藉此改善反射型LCD裝置11000的顯示品質。
此外，反射型LCD裝置11000可避免第一構件200朝另一第二構件5000向下推，因為柱狀分隔件430b形成在像素電極416上。
第11圖為顯示根據本發明典型具體實施例之具有數個柱狀分隔件的LCD裝置的橫截面圖。
參照第11圖，LCD裝置600包括第一構件200，與第一構件200結合的第二構件1000，密閉劑700，其設置在上部及下部基板200和1000間以固持第一及第二構件200和1000在一起，以及數個柱狀分隔件430，其等設置在第一及第二構件200和1000間以均勻地維持位於基板間的晶胞間隙。
LCD裝置600被分割為數個像素形成的顯示區域DA及圍繞在顯示區域DA之周圍的周圍區域PA。
密閉劑700形成在位於周圍區域PA的第一及第二構件
200和1000間。柱狀分隔件430設置在位於顯示區域DA的第一及第二構件200和1000間。非間隔件的數層，例如絕緣層，電極層等形成在顯示區域DA。柱狀分隔件430也形成在層上。由於數個層形成在顯示區域但沒有在周圍區域，所以每一柱狀分隔件430的長度小於密閉劑700的長度。
如第11圖所示，位於柱狀分隔件430間的距離不相同。在此例中顯示，位於兩個立即相近的分隔件430間的距離愈靠近第二構件1000的中央愈減少。因此，一般而言，分隔件430離周圍區域PA愈遠就彼此設置的愈靠近。這種配置的原因為設置在靠近周圍區域PA之顯示區域DA上的柱狀分隔件430接受密閉劑700幫助吸收施加至顯示區域DA之外部的外力。當密閉劑700的這種貢獻列入考慮時，少數的分隔件430需要吸收相同強度的外力。因此，靠近周圍區域PA的柱狀分隔件430可以較分開地配置。相反地，靠近顯示區域DA中央部分的柱狀分隔件430不能接收密閉劑700的許多幫助，所以必需自行吸收外力。因此，更多的柱狀分隔件430需要吸收靠近基板中央部分之相同強度的外力，因此需要分隔件430較緊密的配置。
第12A至第12F圖為例示製造根據本發明典型具體實施例之LCD裝置的方法的視圖。
參照第12A圖，金屬層，例如鋁或鋁合金，設置在第二基板100上且經由第一修整過程而圖案化以形成第一備用電極140。第一備用電極140從如下所述的閘線或數據線分開地形成。
參照第12B圖，包含鉻(Cr)，鉬(Mo)，鉭(Ta)，或銻(Sb)的金屬層設置在第二基板100上且經由第二修整過程而圖案化以形成閘極110及閘線(未顯示)。
參照第12C圖，包含非有機材料的閘極絕緣層170形成在閘極110及第一備用電極140形成於上的第二基板100上方。因此，一本身的半導體，例如非晶形矽，及塗有雜質之非本質的半導體連續地設置在閘極絕緣層170上。此非本質的及本質的半導體連續地經由第二修整過程而圖案化以形成歐姆接觸層330及半導體層320。
參照第12D圖，包含鉻的金屬層形成在第二基板100上方且經由第四修整過程而圖案化以形成源極210，汲極315，第二備用電極313及數據線(未顯示)。
源極210包覆由閘極110的一端且汲極315包覆有閘極110的另一端，藉此形成TFT300在第二基板100上。
第二備用電極313為汲極315的延伸以便於包覆第一備用電極140。第一備用電極140，第二備用電極313及形成在第一及第二備用電極140和313間的閘極絕緣層操作如同備用電容器Cst。
參照第12E圖，包含有機絕緣材料，例如聚苯並環乙烯的有機層370形成在TFT300及備用電容器Cst形成於上的第二基板100上方。有機層370經由第五修整過程而圖案化以形成接觸孔800，其部分地暴露第二備用電極313。
參照第12F圖，一ITO設置在有機層370上且經由第六修整過程而圖案化以形成像素電極410。像素電極410經由接
觸孔800電氣地連接至第二備用電極313。
如第5圖所示，柱狀分隔件430a形成在備用電容器Cst上方。亦即，柱狀分隔件430a的下部容納在接觸孔800內，以致於柱狀分隔件430a與設置在第二備用電極313上的像素電極410接觸。
柱狀分隔件430b與像素電極410接觸在接觸孔800的上部以便於藉由如第6圖所示的像素電極410支撐。
如上所述，當柱狀分隔件430a和430b形成在備用電容器Cst形成於上的非有效顯示區域上，如第12A至第12F圖所示的LCD裝置可由於柱狀分隔件430a和430b而避免開口率的降低。
此外，如第12A至第12F圖所示的LCD裝置可避免第一構件200(參第5或第6圖)朝下部基板100下推或彎曲，因為柱狀分隔件430a和430b形成在像素電極410上。
惟以上所述者，僅為本發明之典型實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，即大凡依本發明申請專利範圍及發明說明書內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆應仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。
100‧‧‧第二基板
110‧‧‧閘極
130a‧‧‧閘線
130b‧‧‧備用電極線
131‧‧‧M個閘線
140‧‧‧第一備用電極
145‧‧‧M-1個閘線
150‧‧‧第一備用電極
170‧‧‧閘極絕緣層
200‧‧‧第一構件
210‧‧‧源極
230‧‧‧數據線
230a‧‧‧N個數據線
230b‧‧‧第二備用電極
240‧‧‧共用電極
300‧‧‧薄膜電晶體
310‧‧‧汲極
313‧‧‧第二備用電極
315‧‧‧汲極
320‧‧‧半導體層
330‧‧‧歐姆接觸層
370‧‧‧有機層
371‧‧‧有機層
400‧‧‧液晶層
410‧‧‧像素電極
411‧‧‧透射反射電極
412‧‧‧反射電極
416‧‧‧反射電極
420‧‧‧像素電極
430‧‧‧柱狀分隔件
430a‧‧‧柱狀分隔件
430b‧‧‧柱狀分隔件
440a‧‧‧柱狀分隔件
500‧‧‧黑矩陣層
600‧‧‧LCD裝置
700‧‧‧密閉劑
710‧‧‧第一接觸孔
800‧‧‧接觸孔
810‧‧‧第二接觸孔
1000‧‧‧第二構件
2000‧‧‧透射型LCD裝置
3000‧‧‧透射型LCD裝置
5000‧‧‧第二構件
6000‧‧‧透射型LCD裝置
7000‧‧‧透射型LCD裝置
8000‧‧‧透射反射型LCD裝置
9000‧‧‧透射反射型LCD裝置
10000‧‧‧反射型LCD裝置
11000‧‧‧反射型LCD裝置
第1圖為顯示根據本發明典型具體實施例之LCD裝置之下部基板的平面圖；第2圖為顯示具有第1圖所示之下部基板之透射型LCD裝置的橫截面圖；
第3圖為顯示根據本發明另一典型具體實施例之透射型LCD裝置的橫截面圖；第4圖為顯示根據本發明另一典型具體實施例之LCD裝置之下部基板的平面圖；第5圖為顯示具有第4圖所示之下部基板之透射型LCD裝置的橫截面圖；第6圖為顯示根據本發明另一典型具體實施例之透射型LCD裝置的橫截面圖；第7圖為顯示根據本發明另一典型具體實施例之透射反射型LCD裝置的橫截面圖；第8圖為顯示根據本發明另一典型具體實施例之透射反射型LCD裝置的橫截面圖：第9圖為顯示根據本發明另一典型具體實施例之反射型LCD裝置的橫截面圖：第10圖為顯示根據本發明另一典型具體實施例之反射型LCD裝置的橫截面圖：第11圖為顯示根據本發明典型具體實施例之具有數個柱狀分隔件的LCD裝置的橫截面圖：第12A至第12F圖為例示製造根據本發明典型具體實施例之LCD裝置的方法的視圖。
100‧‧‧第二基板
110‧‧‧閘極
131‧‧‧M個閘線
145‧‧‧M-1個閘線
210‧‧‧源極
230a‧‧‧N個數據線
230b‧‧‧第二備用電極
300‧‧‧薄膜電晶體
310‧‧‧汲極
420‧‧‧像素電極
440a‧‧‧柱狀分隔件
710‧‧‧第一接觸孔
810‧‧‧第二接觸孔
1000‧‧‧第二構件
Claims (21)
- 一種顯示裝置，其包含：一第一構件，其包括一第一基板及一第一電極，及一黑矩陣；一耦合至該第一構件的第二構件，該第二構件包括一第二基板、一閘極線、一資料線、一輔助線和第一與第二輔助電極，並形成一形成於該輔助線上的輔助電容器；一分隔件，其係定位於該輔助電容器上，並且與該第一構件接觸，以供在該第一構件及該第二構件之間形成一晶胞間隙；及定位在該晶胞間隙內之液晶；其中該黑矩陣係插入在該第一基板與該分隔件之間，且其中該第一電極之一平面部分係插入在該分隔件與該黑矩陣之間。
- 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該第二構件另包含一定位在該電容器上的第二電極，其中該分隔件係鄰接於該等第一及第二電極。
- 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該第二構件另包含一定位在該電容器上的有機層，一形成在該電容器上方且延伸穿過該有機層的接觸孔，以及一形成在該接觸孔內之第二電極，其中該分隔件係鄰接於位在該接觸孔之外的該第二電極而定位。
- 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該第二構件另 包含一定位在該電容器上的有機層，一形成在該電容器上方且延伸穿過該有機層的接觸孔，以及一形成在該接觸孔內之第二電極，其中該分隔件係鄰接於位於該接觸孔內之該第二電極的一部分而定位。
- 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該第二構件另包含：一薄膜電晶體；及一第二電極，其係用以將該薄膜電晶體電氣耦合至該電容器。
- 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該分隔件係為一柱狀分隔件。
- 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該電容器係位於實質上沒有光傳輸的一非有效顯示區域內。
- 一種顯示裝置，其包含：一第一構件，其包括一第一基板及一第一電極，及一黑矩陣；一耦合至該第一構件的第二構件，該第二構件包括一第二基板，一定位在該基板上的有機層、一閘極線、一資料線、一輔助線、第一與第二輔助電極及一延伸穿過該有機層的接觸孔，並形成一形成在該輔助線上之輔助電容器；多個分隔件，定位穿過該接觸孔，並且與該第一構件接觸，以供在該第一構件及該第二構件之間形成一晶胞間隙；及 定位在該晶胞間隙內之液晶；其中該黑矩陣係插入在該第一基板與該分隔件之間，且其中該第一電極之一平面部分係插入在該分隔件與該黑矩陣之間。
- 如申請專利範圍第8項所述之裝置，其中該第二構件另包含一定位在該有機層上及該接觸孔內的第二電極，其中該分隔件係鄰接於該等第一及第二電極。
- 如申請專利範圍第8項所述之裝置，其中該分隔件係延伸進入該接觸孔內。
- 如申請專利範圍第8項所述之裝置，其中該等分隔件係定位在該接觸孔之外而覆蓋該接觸孔。
- 如申請專利範圍第11項所述之裝置，另包含由該等分隔件所圍封之該接觸孔內之液晶與空氣中之一者。
- 如申請專利範圍第8項所述之裝置，其中鄰近分隔件間的一距離係隨著該等分隔件接近該顯示區域的中央而減少。
- 如申請專利範圍第13項所述之裝置，另包含沿著該顯示區域之一周緣而形成的一密閉劑層，且其中位於鄰近分隔件間的該距離係隨著該等分隔件接近該密閉劑層而增加。
- 如申請專利範圍第8項所述之裝置，其中該等分隔件係為柱狀分隔件。
- 一種用於製造顯示裝置的方法，該方法包含：獲得一第一構件，該第一構件包括一第一基板及一 第一電極，及一黑矩陣；將一第二構件耦合至該第一構件，該第二構件包括一第二基板、一閘極線、一資料線、一輔助線和第一與第二輔助電極，並形成一形成於該輔助線上的輔助電容器；將一分隔件定位於該輔助電容器上，以形成一晶胞間隙，該分隔件係與該第一構件接觸；及將液晶放置在該晶胞間隙內；其中該黑矩陣係插入在該第一基板與該分隔件之間，且其中該第一電極之一平面部分係插入在該分隔件與該黑矩陣之間。
- 如申請專利範圍第16項所述之方法，另包含：形成一接觸孔，該接觸孔係耦合至該電容器；將一第二電極設於該接觸孔內；以及將該分隔件定位在該接觸孔內，使得該分隔件係鄰接於位在該接觸孔內的該第一電極及該第二電極。
- 如申請專利範圍第16項所述之方法，另包含：形成耦合至該電容器之一接觸孔；將該分隔件定位在該接觸孔之外，其中該分隔件覆蓋該接觸孔。
- 一種用於製造顯示裝置的方法，該方法包含：獲得一第一構件，該第一構件包括一第一基板及一第一電極，及一黑矩陣；將一第二構件耦合至該第一構件，該第二構件包 括一第二基板、一閘極線、一資料線、一輔助線、第一與第二輔助電極，一設置在該第二基板上的有機層，以及一延伸穿過該有機層並形成一形成在該輔助線上之輔助電容器的接觸孔；將多個分隔件定位穿過該接觸孔，並且與該第一構件接觸，以形成一晶胞間隙；及將液晶放置在該晶胞間隙內；其中該黑矩陣係插入在該第一基板與該分隔件之間，且其中該第一電極之一平面部分係插入在該分隔件與該黑矩陣之間。
- 如申請專利範圍第19項所述之方法，另包含將該等分隔件定位於該接觸孔內，使得該等分隔件係鄰接於該第一電極及該接觸孔的一底部。
- 如申請專利範圍第19項所述之方法，另包含將該等分隔件放置在該接觸孔之外，其中該等分隔件覆蓋該接觸孔。
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