TWI385422B - Adhesive type optical film and image display device - Google Patents

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TWI385422B
TWI385422B TW096123172A TW96123172A TWI385422B TW I385422 B TWI385422 B TW I385422B TW 096123172 A TW096123172 A TW 096123172A TW 96123172 A TW96123172 A TW 96123172A TW I385422 B TWI385422 B TW I385422B
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Yuusuke Toyama
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Nitto Denko Corp
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Description

黏著型光學膜及影像顯示裝置
本發明關於一種於光學膜至少單面上積層有黏著劑層之黏著型光學膜。又本發明關於一種使用有上述黏著型光學膜之液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、PDP等圖像顯示裝置。作為上述光學膜，可列舉偏光板、相位差板、光學補償膜、增亮膜、進而積層有該等者等。
液晶顯示裝置，就其圖像形成方式而言，必不可少的是於液晶單元兩側配置偏光元件，並貼付有通常於偏光元件之單面或兩面上貼合有透明保護膜之偏光板。又液晶面板上除偏光板以外，為了提高顯示器顯示品質而不斷使用各種光學元件。例如，使用有防止著色之相位差板、用以改善液晶顯示器之視角的視角放大膜，進而使用有用以提高顯示器對比度的增亮膜等。該等膜總稱為光學膜。
將上述光學膜貼付於液晶單元上時，通常使用黏著劑。又，光學膜與液晶單元或光學膜間之黏著，通常為了降低光之損失而使用黏著劑來密著各個材料。於此情形時，由於具有固著光學膜而無需乾燥步驟等優點，故而黏著劑通常使用預先設於光學膜之單側上作為黏著劑層的黏著型光學膜。
作為上述偏光板中使用之透明保護膜，推薦使用三乙醯纖維素膜。然而，三乙醯纖維素之耐濕熱性並不充分，若於高溫或高濕時使用將三乙醯纖維素膜用作透明保護膜之偏光板，則存在偏光度或色相等偏光板性能降低之缺點。又三乙醯纖維素膜會相對於斜向之入射光產生相位差。近年隨著液晶顯示器大型化之發展，該相位差顯著影響視角特性。為解決上述問題，提出以環烯烴系樹脂代替三乙醯纖維素作為透明保護膜材料。環烯烴系樹脂透濕性低，又基本無斜向上之相位差。
然而，與環烯烴系樹脂用作透明保護膜材料之偏光板相關之黏著型光學膜，因環烯烴系樹脂之低透濕性，故而於其與玻璃基板貼合後之狀態下置於高溫環境下之耐久性方面，存在產生發泡之問題。該發泡相關之問題，就透明保護膜材料而言，並非三乙醯纖維素所造成之問題。
作為控制上述黏著型光學膜中相關發泡問題之方法，例如提出有使用飽和吸水率為0.60重量%以下，且相對於剝離側被黏合體之90度剝離黏著力為600 g/20 mm以下之黏著劑層(專利文獻1)。上述專利文獻1中，揭示有可將飽和吸水率控制為較低來抑制發泡之情形。然而，於將低透濕性環烯烴系樹脂用作偏光板之透明保護膜材料之情形時，僅僅降低飽和吸水率，則並未能夠抑制發泡。
專利文獻1：日本專利特開平9－281336號公報
本發明之目的在於提供一種黏著型光學膜，其係於光學膜至少單面上積層有黏著劑層之黏著型光學膜，且，即使積層有黏著劑層側之光學膜由低透濕性材料形成時，亦因高溫環境下之耐久性較高，而可抑制相關環境下之發泡。又本發明之目的在於提供一種使用有上述黏著型光學膜之圖像顯示裝置。
本發明者等人為解決上述課題而反覆進行銳意研究之結果，發現下述黏著型光學膜等，由此完成本發明。
即本發明關於一種黏著型光學膜，其係於光學膜至少單面上積層有黏著劑層之黏著型光學膜，其特徵在於，上述黏著劑層之平衡含水率(a)為0.5重量%以下，以厚度為25 μm且10 mm×10 mm之黏著面積，負載500 gf之拉伸剪應力時，23℃下1小時後之偏移量(b)為600 μm以下，且，上述平衡含水率(a)與上述偏移量(b)滿足b<1036.4×e－5.124a 。
上述黏著型光學膜中，較好的是，上述平衡含水率(a)為0.02重量%以上，且上述偏移量(b)為20 μm以上。
如上所述，本發明中考慮到平衡含水率(a)與關於蠕變特性之偏移量(b)而對黏著劑層進行控制。可藉由如此控制平衡含水率(a)與偏移量(b)，而即便積層有黏著劑層側之光學膜由低透濕性材料形成時，亦因高溫環境下之耐久性變高，而可抑制相關環境下之發泡。
上述黏著劑層之平衡含水率(a)為0.5重量%以下。平衡含水率(a)表示黏著劑層中最終殘存之含水量，越降低最終殘存之含水量，則對發泡抑制越有效。於平衡含水率(a)超過0.5重量%之情形時，即使將偏移量(b)控制為較低，亦無法充分抑制耐久性試驗中之發泡。又，與蠕變特性相關之偏移量(b)為600 μm以下。於偏移量(b)超過600 μm之情形時，則即使將平衡含水率(a)控制為較低，亦無法充分抑制耐久性試驗中之發泡。又，本發明黏著劑層之平衡含水率(a)及偏移量(b)控制為滿足上述範圍且滿足b<1036.4×e－5.124a 。平衡含水率(a)及偏移量(b)較好的是均控制為較低，可藉由以滿足上述關係之方式進行控制，而抑制耐久性試驗中之發泡。
再者，就發泡抑制方面而言，理想的是，平衡含水率(a)為0重量%，偏移量(b)為0 μm。但是，平衡含水率(a)為0.02重量%以上，進而為0.03重量%以上，便可抑制黏著力(黏著力)下降造成之不良情況故而較好。又，通常偏移量(b)較好的是20 μm以上。若過於降低偏移量(b)，則雖可抑制作為目的之發泡，但可能於耐熱或耐濕等耐久性試驗中，產生光學膜自液晶面板上剝離之不良情況。就相關觀點而言，偏移量(b)更好的是30 μm以上，尤其好的是40 μm以上。
上述黏著型光學膜中，上述黏著劑層之平衡含水率(a)為0.15重量%以下之情形時，偏移量(b)較好的是600 μm以下。尤其是，平衡含水率(a)為0.15重量%以下之情形時，偏移量(b)較好的是540 μm以下，更好的是300 μm以下，更好的是140 μm以下，更好的是不足75 μm。於該範圍內，平衡含水率(a)較好的是0.13重量%以下，更好的是0.12重量%以下，更好的是0.11重量%以下。
上述黏著型光學膜中，上述黏著劑層之平衡含水率(a)超過0.15重量%且為0.25重量%以下之情形時，較佳的是偏移量(b)為350 μm以下。尤其是，於平衡含水率(a)超過0.15重量%且為0.25重量%以下之情形，偏移量(b)較好的是240 μm以下，更好的是130 μm以下，更好的是不足75 μm。於該範圍內，平衡含水率(a)較好的是0.23重量%以下，更好的是0.22重量%以下，更好的是0.21重量%以下。
上述黏著型光學膜中，上述黏著劑層之平衡含水率(a)超過0.25重量%且為0.5重量%以下之情形時，偏移量(b)較好的是150 μm以下。尤其是平衡含水率(a)超過0.25重量%且為0.5重量%以下之情形時，偏移量(b)較好的是100 μm以下，更好的是不足75 μm。於該範圍內，平衡含水率(a)較好的是0.45重量%以下，更好的是0.43重量%以下。
上述黏著型光學膜中，上述黏著劑層之平衡含水率(a)為0.05重量%以上且0.25重量%以下之情形時，較好的是上述偏移量(b)滿足b≦－541.67a＋209.58。於滿足該關係之情形時，尤其於抑制耐久性試驗中之發泡方面較好。上述關係式尤其好的是平衡含水率(a)滿足0.07~0.22重量%之範圍。
上述黏著型光學膜中，較好的是積層有黏著劑層側之光學膜於80℃、90% R.H.時之透濕度為1000 g/m2 ．24 h以下。本發明可有效用於使用相關低透濕性材料之情形，抑制耐久性試驗中之發泡。
上述黏著型光學膜，於偏光元件至少單面上設有透明保護膜之偏光板之情形時可較佳用作光學膜。尤其好的是，至少單面之透明保護膜於80℃、90% R.H.時之透濕度為1000 g/m2 ．24 h以下，並於該透明保護膜上積層有黏著劑層之情形較佳。
上述黏著型光學膜中，上述黏著劑層可較好地使用由含有丙烯酸系聚合物及交聯劑之黏著劑形成者。
又本發明關於一種使用至少1片上述黏著型光學膜之圖像顯示裝置。根據液晶顯示裝置等圖像顯示裝置之各種使用態樣，可使用1片或組合使用複數個本發明之黏著型光學膜。
本發明之黏著型光學膜係於光學膜至少單面上積層有黏著劑層者。再者，上述黏著劑層可設於光學膜之單面上，亦可於光學膜之兩面上皆有。
形成黏著劑層時，可使用能夠滿足上述平衡含水率(a)之值、上述偏移量(b)之值、及上述該等關係式的適當黏著劑，而其種類並無特別限制。作為黏著劑，可列舉橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、乙烯烷基醚系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、聚乙烯吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。
該等黏著劑中，可較好地使用光學透明性優異，並表現出適當之濕潤性與凝聚性及黏著性的黏著特性，耐候性或耐熱性等優異者。可較好地使用丙烯酸系黏著劑作為表現該等特徵者。丙烯酸系黏著劑於可降低平衡含水率(a)，且可縮小偏移量(b)之設計方面較好。
丙烯酸系黏著劑將以(甲基)丙烯酸烷基酯之單體單元為主骨架之丙烯酸系聚合物作為基質聚合物。再者，(甲基)丙烯酸烷基酯為丙烯酸烷基酯及/或甲基丙烯酸烷基酯，與本發明之(甲基)之意義相同。作為構成丙烯酸系聚合物主骨架之(甲基)丙烯酸烷基酯，可例示直鏈狀或支鏈狀之烷基碳數為1~20者。例如，可例示(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2－乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸異十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯等。該等可單獨或組合使用。該等烷基之平均碳數較好的是3~9。
上述丙烯酸系聚合物中，考慮到將平衡含水率(a)控制為較低方面，較好的是將以疏水性高之(甲基)丙烯酸烷基酯之單體單元為主骨架的丙烯酸聚合物作為基質聚合物。通常作為(甲基)丙烯酸烷基酯，就上述光學透明性、適當之濕潤性與凝集力、黏著力、耐候性或耐熱性等方面而言，實際使用中較好使用的是直鏈狀或支鏈狀之烷基碳數為3~9者，較好的是4~8者。該等烷基中烷基碳數越大，則疏水性變得越高，於降低該平衡含水率方面較佳。作為此種(甲基)丙烯酸烷基酯，例如可列舉(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異辛酯。該等之中，較好的是疏水性高之(甲基)丙烯酸異辛酯。
上述丙烯酸系聚合物中，為改善黏著性或耐熱性，可藉由共聚合而導入一種以上之共聚單體。作為此類共聚單體之具體例，例如可列舉(甲基)丙烯酸2－羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2－羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4－羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6－羥基己酯、(甲基)丙烯酸8－羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10－羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12－羥基十二烷基酯或(4－羥基甲基環己基)－甲基丙烯酸酯等含羥基單體；(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、衣康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、丁烯酸等含羧基單體；順丁烯二酸酐、衣康酸酐等含酸酐基單體；丙烯酸之己內酯加成物；苯乙烯磺酸或烯丙基磺酸、2－(甲基)丙烯醯胺－2－甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺基丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基單體；2－羥基乙基丙烯醯基磷酸鹽等含磷酸基單體等。
又，作為改質目的之單體例，亦可列舉(甲基)丙烯醯胺、N,N－二甲基(甲基)丙烯醯胺、N－丁基(甲基)丙烯醯胺或N－羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N－羥甲丙烷(甲基)丙烯醯胺等(N－取代)醯胺系單體；(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N－二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸第三丁基胺基乙酯等(甲基)丙烯酸烷基胺基烷酯系單體；(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷酯系單體；N－(甲基)丙烯醯氧基亞甲基丁二醯亞胺或N－(甲基)丙烯醯基－6－氧基六亞甲基丁二醯亞胺、N－(甲基)丙烯醯基－8－氧基八亞甲基丁二醯亞胺、N－丙烯醯基嗎啉等丁二醯亞胺系單體；N－環己基順丁烯二醯亞胺或N－異丙基順丁烯二醯亞胺、N－十二烷基順丁烯二醯亞胺或N－苯基順丁烯二醯亞胺等順丁烯二醯亞胺系單體；N－甲基衣康醯亞胺、N－乙基衣康醯亞胺、N－丁基衣康醯亞胺、N－辛基衣康醯亞胺、N－2－乙基己基衣康醯亞胺、N－環己基衣康醯亞胺、N－十二烷基衣康醯亞胺等衣康醯亞胺系單體等。
進而作為改質單體，亦可使用乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、N－乙烯基吡咯啶酮、甲基乙烯基吡咯啶酮、乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌嗪、乙烯基吡嗪、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基噁唑、乙烯基嗎啉、N－乙烯基羧醯胺類、苯乙烯、α－甲基苯乙烯、N－乙烯基己內醯胺等乙烯基系單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等氰基丙烯酸酯系單體；(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等含環氧基之丙烯酸系單體；聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯等二醇系丙烯酸酯單體；(甲基)丙烯酸四氫糠基酯、氟(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯或丙烯酸2－甲氧基乙酯等丙烯酸酯系單體等。
丙烯酸系聚合物中上述共聚單體之比例並無特別限制，但於所有構成單體之重量比率中，較好的是0~30%左右，更好的是0.1~15%左右。
該等共聚單體中，作為光學膜用途，就對液晶單元之黏著性、耐久性方面而言，可較好使用含羥基單體、含羧基單體、含酸酐基單體。該等單體可成為與交聯劑之反應點。因含羥基單體、含羧基單體、酸酐單體等富有與分子間交聯劑之反應性，故而可較好地用於提高所獲得之黏著劑層之凝聚性或耐熱性，於具有如此官能基之情形時，存在有使平衡含水率(a)提昇之傾向，故而較好的是，使用疏水性更高，以少量共聚作用便可表現出高反應性者。例如，作為含羥基單體，較好的是除使用(甲基)丙烯酸2－羥基乙酯以外，使用如較好的是(甲基)丙烯酸4－羥基丁酯，更好的是(甲基)丙烯酸6－羥基己酯般之羥基烷基中烷基較大者。又，如上所述，含羥基單體，存在使平衡含水率(a)提昇之傾向，故而較好的是使用最小限量，使用含羥基單體作為共聚單體之情形時，其比例於所有構成單體之重量比率中，較好的是0.01~5%，更好的是0.01~3%。又，使用含羧基單體作為共聚單體之情形時，其比例於所有構成單體之重量比率中，較好的是0.01~10%，更好的是0.01~7%。
又，作為上述共聚單體，就將平衡含水率(a)控制為較低之方面而言，較好的是使用疏水性高之共聚單體。例如，順丁烯二醯亞胺系單體、衣康醯亞胺系單體亦具有基本不會使該等單體共聚而獲得之丙烯酸系聚合物之平衡含水率(a)上升之特性，故而可較好地用作黏著性改質單體。
丙烯酸系聚合物之平均分子量並無特別限制，重量平均分子量較好的是30萬至250萬左右。上述丙烯酸系聚合物可使用各種眾所周知之方法進行製造，例如，可適當選擇整體聚合法、溶液聚合法、懸濁聚合法等自由基聚合法。作為自由基聚合引發劑，可使用偶氮系，過氧化物系之各種眾所周知者。反應溫度通常為50~80℃左右，反應時間為1~8小時。又，上述製造法中較好的是溶液聚合法，作為丙烯酸系聚合物之溶劑通常使用乙酸乙酯、甲苯等。溶液濃度通常為20~80重量%左右。
又，較好的是，使上述黏著劑為含有交聯劑之黏著劑組合物。作為可添加於黏著劑中之多官能化合物，可列舉有機系交聯劑或多官能性金屬螫合物。作為有機系交聯劑，可列舉環氧系交聯劑、異氰酸酯系交聯劑、亞胺系交聯劑、過氧化物系交聯劑等。該等交聯劑可使用1種或組合使用2種以上。作為有機系交聯劑，較好的是異氰酸酯系交聯劑。又，異氰酸酯系交聯劑可較好地與過氧化物系交聯劑組合使用。多官能性金屬螫合物係多價金屬與有機化合物共價鍵合或配位鍵合者。作為多價金屬原子，可列舉Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。作為共價鍵合或配位鍵合之有機化合物中之原子，可列舉氧原子等，作為有機化合物，可列舉烷酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。
丙烯酸系聚合物等基質聚合物與交聯劑之添加比例並無特別限制，通常，相對於100重量份基質聚合物(固形分)，交聯劑(固形分)較好的是0.001~20重量份左右，更好的是0.01~15重量份左右。作為上述交聯劑，較好的是異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑。過氧化物系交聯劑，相對於100重量份基質聚合物(固形分)，較好的是0.02~2重量份左右，更好的是0.05~1重量份左右。異氰酸酯系交聯劑，相對於100重量份基質聚合物(固形分)，較好的是0.001~2重量份左右，更好的是0.01~1.5重量份左右。又，異氰酸酯系交聯劑及過氧化物系交聯劑，除可用於上述範圍內使用以外，亦可通過併用該等而較佳使用。
繼而，上述黏著劑中，可根據需要，適當添加含有增黏劑、塑化劑、玻璃纖維、玻璃珠、金屬粉、其他無機粉末等之填充劑、顏料、著色劑、填充劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、矽烷偶合劑等，又可於不超出本發明目的之範圍內適當使用各種添加劑。又可製成含微粒子並表現光擴散性之黏著劑層等。
作為添加劑，較好的是矽烷偶合劑，相對於100重量份基質聚合物(固形分)，矽烷偶合劑(固形分)較好的是0.001~10重量份左右，更好的是添加0.005~5重量份左右。作為矽烷偶合劑，可無特別限制地使用至今為止之眾所周知者。例如，可例示γ－縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、γ－縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、γ－縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2－(3,4環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷等含環氧基矽烷偶合劑；3－胺基丙基三甲氧基矽烷、N－2－(胺基乙基)－3－胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、3－三乙氧基矽烷基－N－(1,3－二甲基亞丁基)丙胺等含胺基矽烷偶合劑；3－丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3－甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷等含(甲基)丙烯酸基矽烷偶合劑；3－異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等含異氰酸酯基矽烷偶合劑。
需要以滿足上述範圍及關係之方式控制本發明黏著劑層之平衡含水率(a)、上述偏移量(b)時，例如可藉由控制基質單體、共聚單體之種類、其之添加比例、交聯劑種類、其之添加量、添加劑之種類、其之添加量等而進行。
如上所述，就將黏著劑層之平衡含水率(a)控制為較低方面而言，較好的是使用疏水性高之單體。另一方面，減小偏移量(b)則需要凝聚性更高者。作為減少偏移量(b)之方法，例如，可有效使用如下之方法：提高基質聚合物之分子量，或者共聚基質聚合物與高玻璃轉移溫度之單體，或者增加交聯劑之添加量提高交聯度。作為基質聚合物，一般而言使用由實際經常使用之直鏈狀或支鏈狀之烷基碳數為3~9之單體單元構成的丙烯酸系聚合物作為(甲基)丙烯酸烷酯之情形時，烷基碳數越大，玻璃轉移溫度亦變得越低，通常可獲得凝聚性低之丙烯酸系聚合物，具有使偏移量(b)變大之傾向。又，已知例如使用丙烯酸等含羧基單體作為共聚單體的丙烯酸系聚合物，有助於提昇所形成之黏著劑層之凝聚性，並具有減少偏移量(b)之傾向，同時具有提高平衡含水率(a)之傾向。如此，平衡含水率(a)與偏移量(b)略具折中關係，故而必須充分考慮組成之選定。本發明中以下述方式形成黏著劑層：選擇基質單體(例如，(甲基)丙烯酸烷酯)、共聚單體，製備基質聚合物，並對飽和吸水率或其之添加比例、交聯度加以控制，以滿足上述特定之殘存含水率(a)與偏移量(b)。
亦可於本發明之黏著型光學膜之黏著劑層與光學膜之間，設置結合層。形成結合層之材料並無特別限制，較好的是形成對黏著劑層與光學膜均表現良好密著性，且凝集力優異之被膜。可於表現如此性質者中使用各種聚合物類、金屬氧化物之溶膠、矽溶膠等。該等之中尤其好的是聚合物類。
作為上述聚合物類，可列舉聚胺基甲酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、分子中含有胺基之聚合物類。聚合物類之使用形態可為溶剤可溶型、水分散型、水溶解型中之任一者。例如，可列舉水溶性聚胺基甲酸酯、水溶性聚酯、水溶性聚醯胺等或水分散性樹脂(乙烯－乙酸乙烯酯系乳膠、(甲基)丙烯酸系乳膠等)。又，水分散型可使用：利用乳化劑使聚胺基甲酸酯、聚酯、聚醯胺等各種樹脂乳膠化者，或於上述樹脂中導入水分散性親水基之陰離子基、陽離子基或非離子基製成自我乳化物者等。又可使用離子高分子錯合物。
於本發明之黏著型光學膜中使用之光學膜，可使用液晶顯示裝置等圖像顯示裝置形成時所使用者，其種類並無特別限制，較好的是對80℃、90% R.H.下之透濕度為1000 g/m2 ．24 h以下者適用。於使用透濕度為800 g/m2 ．24 h以下，進而500 g/m2 ．24 h以下，進而200 g/m2 ．24 h以下者之情形，本發明尤為適用。
作為相關之具有透濕度之材料，例如可使用聚碳酸酯系聚合物、芳酯系聚合物；聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物；尼龍或芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物；如聚乙烯、聚丙烯、乙烯．丙烯共聚物類之聚烯烴系聚合物，具有環系乃至降冰片烯結構的環烯烴系樹脂，或該等之混合體。
又，日本專利特開2001－343529號公報(WO 01/37007)中揭示之聚合物膜，例如可列舉含有(A)側鏈具有取代及/或非取代醯亞胺基之熱可塑性樹脂、(B)側鏈上具有取代及/或非取代苯基以及腈基之熱可塑性樹脂的樹脂組合物。作為具體例，可列舉含有含異丁烯與N－甲基順丁烯二醯亞胺的交替共聚物與丙烯腈．苯乙烯共聚物的樹脂組合物薄膜。薄膜可使用含有樹脂組合物之混合擠出物等之薄膜。
上述材料之中，較好的是環烯烴系樹脂。環烯烴系樹脂為通常之總稱，例如日本專利特開平3－14882號公報、日本專利特開平3－122137號公報等中有所揭示。具體而言，可例示環烯烴之開環聚合物、環烯烴之加成聚合物、環烯烴與乙烯、丙烯等α－烯烴之無視共聚物，又由不飽和羧酸或其衍生物等改質之接枝改質物等。進而，可列舉該等之氫化物。環烯烴無特別限制，例如可例示降冰片烯、四環十二烯或該等之衍生物。作為商品，可列舉日本Geon(股份公司)製造之Zeonex、Zeonor、JSR(股份公司)製造之Arton、TICONA公司製造之Topas等。
由上述低透濕度材料形成之光學膜，例如可用作偏光元件之透明保護膜、相位差膜等。
作為本發明之黏著型光學膜中使用之光學膜，例如可列舉偏光板。偏光板通常使用偏光元件之單面或兩面上具有透明保護膜者。
偏光元件無特別限制，可使用各種類型。作為偏光元件，例如可列舉使聚乙烯醇系膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系膜、乙烯．乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜上吸著碘或二色性染料之二色性物質並經單軸延伸者，聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系配向膜等。該等之中，較好的是含有聚乙烯醇系膜與碘等二色性物質的偏光元件。該等偏光元件之厚度無特別限制，通常為5~80 μm左右。
聚乙烯醇系膜以碘染色後經單軸延伸之偏光元件，例如可以如下方式製作：藉由將聚乙烯醇浸漬於碘水溶液中進行染色，並延伸為本來長度之3~7倍。根據需要亦可浸漬於可含硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等之碘化鉀等水溶液中。進而根據需要，可於染色前，將聚乙烯醇系膜浸漬於水中進行水洗。亦具有如下效果，藉由水洗聚乙烯醇系膜，不僅可清洗聚乙烯醇系膜表面污物或防黏劑以外，亦可使聚乙烯醇系膜膨潤而防止染色不均等不均一。
延伸可於碘染色後進行，亦可一面染色一面進行延伸，又亦可延伸後以碘進行染色。亦可於硼酸或碘化鉀等水溶液或水浴中進行延伸。
作為形成設於上述偏光元件之單面或兩面上之透明保護膜的材料，較好的是透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻斷性等方面性質優異者。於貼合有上述黏著劑層之側，可較佳適用上述低透濕度材料之透明保護膜，而於另一側，可列舉上述低透濕度材料以外之材料，例如二乙醯纖維素或三乙醯纖維素等纖維素系聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物、聚苯乙烯或丙烯腈．苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物等。又，作為形成上述透明保護膜之聚合物例，亦可列舉氯化乙烯系聚合物、醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫醚系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏二氯乙烯系聚合物、乙烯醇縮丁醛系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物、或上述聚合物之摻合物等。透明保護膜亦可作為丙烯酸系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型、紫外線硬化型樹脂之硬化層而形成。
透明保護膜之厚度可適當決定，通常就強度或操作性等作業性、薄膜性等方面而言為1~500 μm左右。尤其好的是5~200 μm。
又，透明保護膜較好的是儘量無著色。因此，可較佳使用以Rth＝(nx－nz)．d(其中，nx為膜平面內慢軸方向上之折射率，nz為膜厚方向上之折射率，d為膜厚度)表示之膜厚度方向上之相位差為－90 nm~＋75 nm的透明保護膜。藉由使用相關厚度方向上之相位差值(Rth)為－90 nm~＋75 nm者，可基本消除透明保護膜引起之偏光板著色(光學著色)。厚度方向上的相位差(Rth)更好的是－80 nm~＋60 nm、尤其好的是－70 nm~＋45 nm。
再者，於偏光元件兩側設置保護膜之情形時，可使用其內外含有相同聚合物材料之透明保護膜，亦可使用含有不同聚合物材料等之保護膜。上述偏光元件與透明保護膜，通常介隔水系黏著劑等密著。作為水系黏著劑，可例示異氰酸酯系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、明膠系黏著劑、乙烯系乳膠系、水系聚胺基甲酸酯、水系聚酯等。
於未黏著上述透明保護膜之偏光元件的面上，亦可實施表面硬化層或防反射處理、抗黏或以散射乃至防眩光為目的之處理。
表面硬化處理係以防止偏光板表面劃傷等為目的而實施者，例如可以使丙烯酸系、聚矽氧系等適當之紫外線硬化型樹脂之硬度或光滑特性等優異之硬化被膜附於透明保護膜表面之方式等形成。防反射處理係以防止偏光板表面上外部光進行反射為目的而實施者，可藉由依據先前之防反射膜等之形成而實現。又，抗黏處理係以防止與其他部件之鄰接層出現密著為目的而實施者。
又，防眩光處理係以防止偏光板表面上外部光進行反射而阻礙偏光板透射光之可見性等為目的而實施者，例如，可利用噴砂方式或壓花加工方式之表面粗糙化方式或透明微粒子之添加方式等適當方式，使透明保護膜表面具有微細凹凸結構而形成。作為上述表面微細凹凸結構之形成中含有之微粒子，例如可使用含有平均粒徑為0.5~50 μm之二氧化矽、氧化鋁、二氧化鈦、氧化鋯、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻等有時具有導電性之無機系微粒子，含有交聯或未交聯聚合物等之有機系微粒子(含珠粒)等透明微粒子。形成表面微細凹凸結構之情形時，微粒子之使用量，相對於形成表面微細凹凸結構之100重量份透明樹脂，通常為2~50重量份左右，較好的是5~25重量份。防眩光層可係兼具用以使偏光板透射光散射，而擴大視覺等之擴散層(視覺擴大功能等)者。
再者，上述防反射層、抗黏層、散射層或防眩光層等，除可設於透明保護膜上以外，亦可與透明保護膜分開設置作為單獨之光學層。
又作為光學膜，例如，可列舉反射板或穿透反射板、相位差板(含有1/2或1/4等波長板)、視覺補償膜、增亮膜等有時於液晶顯示裝置等形成時使用之光學層。該等除可單獨用作光學膜以外，亦可於上述偏光板上，於應用時進行積層，並使用1層或2層以上。
尤其好的是，偏光板上進而積層反射板或半透射反射板而成之反射型偏光板或半透射型偏光板、偏光板上進而積層相位差板而成之橢圓偏光板或圓偏光板、偏光板上進而積層視覺補償膜而成之廣角偏光板、或者偏光板上進而積層增亮膜而成之偏光板。
反射型偏光板係於偏光板上設有反射層者，並用以形成反射來自可見側(顯示側)之入射光進行顯示之類型的液晶顯示裝置等，具有可省略背光等光源內置並容易實現液晶顯示裝置薄型化等優點。反射型偏光板之形成可根據需要，以介隔透明保護層等，而於偏光板之單面上設置含有金屬等之反射層的方式等適當方式進行。
作為反射型偏光板之具體例，可列舉於根據需要而經消光處理之透明保護膜之單面上，設置含有鋁等反射性金屬之箔或蒸鍍膜而形成反射層者等。又，亦可列舉，使上述透明保護膜含有微粒子而成為表面微細凹凸結構，並於其上具有微細凹凸結構之反射層者等。上述微細凹凸結構之反射層具有可藉由漫反射而使入射光散射，防止指向性或外觀閃爍，抑制明暗不均之優點等。又含微粒子之保護膜亦具有入射光及其反射光透射保護膜時因散射而進一步抑制明暗不均之優點等。映出透明保護膜之表面微細凹凸結構的微細凹凸結構之反射層之形成，可藉由如下方式進行：例如以真空蒸鍍方式、離子電鍍方式、濺鍍方式或電鍍方式等適當方式將金屬直接設於透明保護層表面上的方法等。
反射板亦可用作反射片等，該反射片代替直接設置於上述偏光板之透明保護膜上之方式，而於以該透明膜為基準之適當薄膜上設置反射層而成。再者反射層通常含有金屬，故而以透明保護膜或偏光板等被覆其反射面之狀態下的使用形態，於防止氧化造成反射率降低，進而長時間維持初始反射率方面、或避免保護層需要另外設置方面等尤佳。
再者，半透射型偏光板可藉由製成上述中可以反射層反射且透射光之半鏡面等半透射型之反射層而獲得。半透射型偏光板通常設置於液晶單元內側，可形成如下類型之液晶顯示裝置等：於相對明亮之環境中使用液晶顯示裝置等之情形時，使來自可見側(表示側)之入射光反射而顯示圖像之類型，於相對昏暗之環境中，使用內置於半透射型偏光板背面之背光等內置電源而顯示圖像之類型。即，半透射型偏光板於形成以下類型之液晶顯示裝置等時較為有效：於明亮環境下，可節約背光等光源使用之能量，於相對昏暗之環境下可使用內置電源。
對偏光板上進而積層相位差板而成之橢圓偏光板或圓偏光板進行說明。可於將直線偏光改變為橢圓偏光或圓偏光，或者將橢圓偏光或圓偏光改變為直線偏光，或者改變直線偏光之偏光方向之情形時，使用相位差板等。尤其是，作為將直線偏光改變為圓偏光，或者將圓偏光改變為直線偏光之相位差板，可使用所謂之1/4波長板(亦稱為λ/4板)。1/2波長板(亦稱為λ/2板)，通常於改變直線偏光之偏光方向之情形時使用。
橢圓偏光板可有效用於補償(防止)因超扭曲向列(STN)型液晶顯示裝置之液晶層雙折射而產生之著色(藍色或黃色)，進行無上述著色之黑白顯示之情形等。進而，三維折射率經控制者，亦可補償(防止)自斜向觀看液晶顯示裝置之畫面時產生之著色故而較好。圓偏光板可有效用於調整例如作為彩色顯示圖像之反射型液晶顯示裝置之圖像色調之情形等，又，亦具有防反射功能。
作為相位差板，可列舉高分子材料經單軸或雙軸延伸處理而成之雙折射性膜、液晶聚合物之配向膜、以膜支持液晶聚合物之配向層者等。相位差板之厚度亦無特別限制，通常為20~150 μm左右。
作為高分子材料，例如可列舉聚乙烯醇、聚乙烯醇縮丁醛、聚甲基乙烯醚、聚丙烯酸羥基乙酯、羥基乙基纖維素、羥基丙基纖維素、甲基纖維素、聚碳酸酯、聚芳酯、聚碸、聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚醚碸、聚苯硫醚、聚苯醚、聚磺酸烯丙酯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚烯烴、聚氯乙烯、纖維素系聚合物、降冰片烯系樹脂、或該等之二元系、三元系各種共聚物、接枝共聚物、摻合物等。該等高分子材料藉由延伸等成為配向物(延伸膜)。
作為液晶聚合物，例如可列舉將賦予液晶配向性之共軛性直線狀基團(液晶原基)導入至聚合物之主鏈或側鏈中之各種主鏈型或側鏈型者等。作為主鏈型液晶聚合物之具體例，可列舉於賦予彎曲性之間隔基部鍵結液晶原基之結構的例如向列配向性之聚酯系液晶性聚合物、圓盤型聚合物或膽固醇聚合物等。作為側鏈型液晶聚合物之具體例，可列舉將聚矽氧烷、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯或聚丙二酸酯作為主鏈骨架，作為側鏈具有介隔含有共軛性基團之間隔基部而含有向列配向賦予性之對位取代環狀化合物單位的液晶原基部者等。該等液晶聚合物可藉由如下處理而獲得，例如於形成於玻璃板上之聚醯亞胺或聚乙烯醇等薄膜表面經摩擦處理者，斜向蒸鍍二氧化矽者等之配向處理面上擴張液晶性聚合物之溶液進行熱處理。
相位差板可為具有與例如以各種波長板或液晶層之雙折射所造成之著色或視覺等之補償為目的者等的使用目的相應之適當之相位差者，亦可為積層2種以上相位差板，控制相位差等光學特性者等。
又，上述橢圓偏光板或反射型橢圓偏光板係適當組合積層偏光板或反射型偏光板與相位差板者。相關橢圓偏光板等可以組合(反射型)偏光板與相位差板之方式，於液晶顯示裝置之製造過程中依次逐一積層該等而形成，如上所述預先製成橢圓偏光板等光學膜者，具有品質穩定性或積層作業性等優異，可使液晶顯示裝置等製造效率提高之優點。
視覺補償膜即使不與畫面垂直而自略微斜向觀看液晶顯示裝置之畫面之情形時，亦可擴展視角，使圖像相對清晰可見。作為如此之視覺補償相位差板，例如含有相位差板、液晶聚合物等配向膜或於透明基材上支持有液晶聚合物等配向層者。通常之相位差板可使用該面方向上經單軸延伸且具有雙折射之聚合物膜，與此相對，用作視覺補償膜之相位差板，使用面方向上經雙軸延伸且具有雙折射的聚合物膜，或者面方向上經單軸延伸且厚度方向上亦經延伸之具有厚度方向上之折射率經控制的雙折射之聚合物、或如傾斜配向膜般之雙向延伸膜等。作為傾斜配向膜，例如可列舉，於聚合物膜上黏著熱收縮膜，並於加熱後該收縮力之作用下，延伸處理或/及收縮處理聚合物膜者，或者使液晶聚合物傾斜配向者等。相位差板之原材料聚合物，可使用與先前相位差板中所說明之聚合物相同者，並以防止基於液晶單元相位差之可視角度變化所造成之著色等或擴大較佳可見度之視角等為目的之適當者。
又，就達成較佳可見度之寬廣視角方面等而言，可較好地使用以三乙醯纖維素膜支持含有液晶聚合物之配向層，尤其是圓盤型液晶聚合物之傾斜配向層之光學各向異性層的光學補償相位差板。
貼合有偏光板與增亮膜之偏光板，通常設置於液晶單元之內側而使用。增亮膜由於顯示出如下特性，藉由液晶顯示裝置等之背光或來自內側之反射等，而使自然光入射時，反射特定偏光軸之直線偏光或特定方向之圓偏光，並透射其他光，故而將增亮膜與偏光板一併積層之偏光板，使來自背光等光源之光入射而獲得特定偏光狀態之透射光，並且使上述特定偏光狀態以外之光反射而不透射。使經該增亮膜面反射之光進而介以設置於增亮膜後側之反射層等反轉而再次入射至增亮膜，使其一部分或全部作為特定偏光狀態之光透射，而實現增亮膜之透射光之增量，並且供給難以為偏光元件所吸收之偏光，實現可用於液晶顯示圖像顯示等之光量之增大，藉此提高亮度。亦即，於不使用增亮膜，而以背光等自液晶單元內側通過偏光元件，入射光之情形時，偏光方向與偏光元件之偏光軸不一致之光，大多被偏光元件吸收，而無法透射過偏光元件。即，即便因所用之偏光元件之特性不同而相異，但大體50%之光被偏光元件吸收，故可用於液晶圖像顯示等相應之光量減少，圖像變暗。增亮膜將使具有被偏光元件吸收之偏光方向的光不入射至偏光元件中，而由增亮膜暫時反射，進而介以設於其後側之反射層等，使該光反轉而再次入射至增亮膜中之操作重複進行，僅使於該兩者間進行反射、反轉之光之偏光方向成為可通過偏光元件之偏光方向的偏光，透射過增亮膜而供給於偏光元件中，故而可將背光等之光有效地用於液晶顯示裝置之圖像顯示中，使畫面得以增亮。
亦可於增亮膜與上述反射層等之間設置擴散板。經增亮膜反射之偏光狀態之光朝向上述反射層等，但經設置之擴散板使透過之光均一擴散之同時將消除偏光狀態而成為非偏光狀態。即，自然光狀態之光朝向反射層等，並不斷地介以反射層等反射後，再透過擴散板再次入射至增亮膜中。如此可藉由於增亮膜與上述反射層等之間設置使偏光恢復為原先之自然光的擴散板，而維持顯示畫面之明亮度，同時降低顯示畫面之明暗不均，提供均一且明亮之畫面。可認為藉由設置相關擴散板，而能夠極大增加首次入射光進行重複反射之次數，根據擴散板之擴散功能，提供均一亮度之顯示畫面。
作為上述增亮膜，例如可適當使用如下者：如介電體之多層薄膜或折射率各向異性不同之薄膜之多層積層體般，表現出透射特定偏光軸之直線偏光而反射其他光之特性者，如膽固醇液晶聚合物之配向膜或將該配向液晶層支持於薄膜基材上者般，表現出反射逆時針或順時針之任一圓偏光而透射其他光之特性者。
因此，使上述特定偏光軸之直線偏光透射之類型的增亮膜中，可藉由使該透射光與偏光軸一致地直接入射至偏光板中，而抑制偏光板造成之吸收損失，並使其有效透射。另一方面，如膽固醇液晶層般使圓偏光透射類型的增亮膜中，亦可使其直接入射至偏光元件中，但就抑制吸收損失方面而言，較好的是，介以相位差板使該圓偏光直線偏光化後入射至偏光板中。再者，可藉由使用1/4波長板作為該相位差板，將圓偏光變換為直線偏光。
於可見光域等寬波長中作為1/4波長板發揮功能之相位差板，可藉由例如將相對於波長550 nm之淡色光發揮1/4波長板功能之相位差板與表現其他相位差特性之相位差層，例如發揮1/2波長板功能之相位差層相重疊之方式等而獲得。因此，配置於偏光板與增亮膜之間之相位差板可含有1層或2層以上之相位差層。
再者，對於膽固醇液晶層，可藉由組合反射波長不同者並重疊2層或3層以上之配置結構，而獲得於可見光域等寬波長範圍內反射圓偏光者，並可基於此而獲得寬波長範圍之透射圓偏光。
又，偏光板如上述偏光分離型偏光板般，可含有積層有偏光板與2層或3層以上光學層者。因此，可為上述反射型偏光板或組合有半透射型偏光板與相位差板之反射型橢圓偏光板或半透射型橢圓偏光板等。
可於液晶顯示裝置等之製造過程中依序逐一積層之方式形成偏光板中積層有上述光學層之光學膜，但預先積層後製成光學膜者，具有品質穩定性或組裝作業等優異，可使液晶顯示裝置等製造工序進步之優點。於積層中可使用黏著層等適當之黏著方法。可於黏著上述偏光板與其他光學層時，該等光學軸可根據作為目標之相位差特性等而設置適當之配置角度。
繼而對黏著型光學膜之製作方法進行說明。黏著劑層之形成法並無特別限制，可列舉於上述光學膜上塗佈黏著劑溶液後使之乾燥之方法，藉由設有黏著劑層之脫模片材進行轉印之方法等。塗佈法可採用反塗法、凹版塗佈法等輥塗法、旋塗法、網版塗佈法、噴灑塗佈、浸鍍法、噴塗法等。黏著劑層之厚度並無特別限制，較好的是10~40 μm左右。
設置結合層之情形時，於上述光學膜上形成結合層之後，形成黏著劑層。例如，使用塗層法、浸鍍法、噴塗法等塗佈法，塗佈、乾燥如聚乙烯亞胺水溶液般之固著成分之溶液，使其形成結合層。結合層之厚度較好的是10~5000 nm左右，更好的是50~500 nm之範圍。若結合層之厚度變薄，則不具有作為整體之性質，使得無法表現出充分強度，有時無法獲得充分之密著性。又，若其過厚，則可能導致光學特性降低。
形成黏著劑層等時，可於光學膜上實施活性化處理。活性化處理可採用各種方法，例如可採用電暈處理、低壓UV(紫外光)處理、電漿處理等。又可適當形成防靜電層。
作為脫模片材之構成材料，可列舉紙、聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯等合成樹脂膜、橡膠片材、紙、布、不織布、網狀物、發泡片材或金屬箔，以及該等之層壓物等適當之薄片物等。為提高對黏著劑層之剝離性，可根據需要對脫模片材之表面實施聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等低黏著性剝離處理。
再者，本發明之黏著型光學膜之光學膜或黏著劑層等各層，可藉由例如以水楊酸酯系化合物或二苯甲酮系化合物、苯幷三唑系化合物或氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽系化合物等紫外線吸收劑進行處理之方式等而具有紫外線吸收能。
本發明之黏著型光學膜可較好地用於液晶顯示裝置等各種圖像顯示裝置之形成等。液晶顯示裝置之形成，可依據先前之技術進行。即，液晶顯示裝置通常可藉由適當組裝液晶單元與黏著型光學膜、及視情況之照明系統等構成部件，並裝入驅動電路等而形成，本發明中除使用本發明之黏著型光學膜以外並無特別限制，可依據先前之技術而進行。對於液晶單元亦可使用例如TN型(Twisted Nematic、扭曲向列)或STN型、π型等任意類型等之任意類型者。
可形成液晶單元之單側或兩側中配置有黏著型光學膜之液晶顯示裝置或照明系統中使用有背光或反射板等之適當液晶顯示裝置。於此情形，可將本發明之光學膜設置於液晶單元之單側或兩側。於兩側設置有光學膜之情形時，該等可為相同者，亦可為不同者。進而，形成液晶顯示裝置時，可於適當位置上配置1層或2層以上之例如擴散板、防眩光層、防反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散板、背光等適當部件。
繼而，對有機電致發光裝置(有機EL顯示裝置)進行說明。本發明之光學膜(偏光板等)亦可適當用於有機EL顯示裝置中。通常，有機EL顯示裝置於透明基板上依序積層有透明電極、有機發光層及金屬電極而形成發光體(有機電致發光物)。此處，有機發光層為各種有機薄膜之積層體，並已知構成如下：具有例如含有三苯胺衍生物等之電洞注入層與含有蒽等螢光性有機固體之發光層的積層體、或如此之發光層與含有苝衍生物等之電子注入層的積層體，又或該等之電洞注入層、發光層、及電子注入層之積層體等之各種組合。
有機EL顯示裝置以如下原理進行發光：藉由對透明電極與金屬電極施加電壓，而將電洞與電子注入至有機發光層中，而藉由該等電洞與電子之再結合而產生之能量激勵螢光物質，使經激勵之螢光物質回復為基點狀態時進行發光。中途進行再結合之機理與通常之二極體相同，由此可預想，電流與發光強度相對施加電壓，因整流性而表現出較強非線性。
有機EL顯示裝置中，為了於有機發光層截取發光，而必須使至少一方電極為透明，故通常將以氧化銦錫(ITO)等透明導電體形成之透明電極用作陽極。另一方面，為易於進行電子注入並提高發光效率，重要的是，陰極使用功函數小之物質，故通常使用Mg－Ag、Al－Li等金屬電極。
如此構成之有機EL顯示裝置中，有機發光層可使用厚度薄至10 nm左右之薄膜來形成。因此，有機發光層亦與透明電極相同，能夠大致完全使光透射。其結果為，非發光時自透明基板表面入射，透射過透明電極與有機發光層後，由金屬電極反射之光，將再次射出至透明基板表面側，故而由外部觀察時，有機EL顯示裝置之顯示面看上去如同鏡面。
有機EL顯示裝置含有藉由施加電壓而發光之有機發光層之表面側具備透明電極，並於有機發光層之內面側具備金屬電極而成之有機電致發光體，且該有機EL顯示裝置中可於透明電極之表面側設置偏光板，並且於該等透明電極與偏光板之間設置相位差板。
相位差板及偏光板具有使自外部入射後由金屬電極進行反射之光偏光的作用，故而具有藉由該偏光作用使金屬電極之鏡面無法自外部觀察到之效果。尤其是，若相位差板由1/4波長板構成，且偏光板與相位差板之偏光方向所呈之角度調整為π/4，則可完全遮蔽金屬電極之鏡面。
即，入射至該有機EL顯示裝置之外部光，藉由偏光板而僅透射直線偏光成分。該直線偏光因相位差板而通常成為橢圓偏光，尤其是，相位差板為1/4波長板且偏光板與相位差板之偏光方向所呈之角度為π/4時，將成為圓偏光。
該圓偏光透射過透明基板、透明電極及有機薄膜後，由金屬電極反射，並再次透射過有機薄膜、透明電極及透明基板，於相位差板上再次成為直線偏光。並且，該直線偏光直交於偏光板之偏光方向，故而無法透射過偏光板。其結果為，可完全遮蔽金屬電極之鏡面。
實施例
以下，藉由實施例具體說明本發明，但本發明並非侷限於該等實施例。再者，各例中之份及%均為重量基準。
(透濕度)以JIS ZO208之透濕度試驗(杯式)為基準進行測定。將切為直徑60 mm之樣品置於添加有約15 g氯化鈣之透濕杯中，再放入80℃、90%之恆溫機中，測定放置24小時左右之氮化鈣之增量，由此求得透濕度(g/m2 ．24 h)。
(偏光板之製作)於速率比不同之輥間將厚80 μm之聚乙烯醇膜，於30℃下於0.3%濃度之碘水溶液中延伸至3倍。繼而於60℃下於含有4%濃度之硼酸、10%濃度之碘化鉀之水溶液中，延伸至總延伸倍率達到6倍為止。繼而，於30℃之1.5%濃度碘化鉀水溶液中浸漬10秒鐘並清洗後，於50℃下乾燥4分鐘後獲得偏光元件。於該偏光元件之單面上，由聚乙烯醇系黏著劑，貼合經皂化處理之厚度為80 μm之三乙醯纖維素膜。於偏光元件之另一面上，以聚乙烯醇系黏著劑貼合厚度70 μm之環烯烴系樹脂膜(日本Geon公司製造，商品名「Zeonor」。環烯烴系樹脂膜於80℃、90% R.H.時之透濕度為127 g/m2 ．24 h。
實施例1
(黏著劑之製備)於具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，一併添加乙酸乙酯與丙烯酸丁酯100份、丙烯酸5份、丙烯酸2－羥基乙酯0.075份及2,2'－偶氮二異丁腈0.3份部，製備溶液。繼而，一面於該溶液中噴入氮氣一面進行攪拌，使其於60℃下反應4小時，獲得含有重量平均分子量220萬之丙烯酸系聚合物之溶液。進而，於含有該丙烯酸系聚合物之溶液中，添加乙酸乙酯，獲得固形分濃度調整為30%之丙烯酸系聚合物溶液(A)。
相對於上述丙烯酸系聚合物溶液(A)之固形分100份，依序添加0.6份作為交聯劑之以含異氰酸酯基之化合物為主成分之交聯劑(日本聚胺基甲酸酯(股份公司)製造，商品名「Coronet L」與0.075份作為矽烷偶合劑之γ－縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷(信越化學工業(股份公司)製造，商品名「KMB－403」)，製備黏著劑溶液。
(黏著型光學膜之製作)經聚矽氧系剝離劑表面處理之含聚對苯二甲酸乙二酯膜的分離器表面上，以噴灑塗佈法均一塗佈上述黏著劑溶液，於155℃之空氣循環式恆溫烘箱中乾燥3分鐘後，於分離器表面上形成厚度25 μm之黏著劑層。將形成有黏著劑層之分離器轉移至上述偏光板之單面(環烯烴系樹脂膜側)上，製成黏著型偏光板。
實施例2，比較例1~2
除實施例1中以含有異氰酸酯基之化合物為主成分之交聯劑的添加量變更為表1所示之量以外，以與實施例1相同之方式，製備黏著劑溶液。又以與實施例1相同之方式，製作黏著型偏光板。
比較例3
除實施例1中之丙烯酸使用量由5份改為8份以外，以與實施例1相同之方式，獲得固形分濃度調整為30%之丙烯酸系聚合物溶液(A')。
相對於上述丙烯酸系聚合物溶液(A')之固形分100份，依序添加0.8份作為交聯劑之以含有異氰酸酯基之化合物為主成分的交聯劑(日本聚胺基甲酸酯(股份公司)製造，商品名「Coronet L」)與0.075份作為矽烷偶合劑之γ－縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷(信越化學工業(股份公司)製造，商品名「KMB－403」)，製備黏著劑溶液。使用該黏著劑溶液，以與實施例1相同之方式，製成黏著型偏光板。
實施例3
(黏著劑之製備)於具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，一併添加乙酸乙酯，與丙烯酸丁酯99份，丙烯酸4－羥基丁酯1.0份及2,2'－偶氮二異丁腈0.3份，製備溶液。繼而，一面對該溶液噴入氮氣一面進行攪拌，並使其於60℃下反應4小時，獲得含有重量平均分子量165萬之丙烯酸系聚合物的溶液。進而，於含有該丙烯酸系聚合物之溶液中，添加乙酸乙酯，獲得固形分濃度調整為30%之丙烯酸系聚合物溶液(B)。
相對於上述丙烯酸系聚合物溶液(B)之固形分100份，依序添加0.3份作為交聯劑之含有過氧化二苯甲醯之過氧化物系交聯劑(日本油脂製造(股份公司)，商品名「Nyper BO-Y」)、0.18份之三羥甲基丙烷二甲苯二異氰酸酯(三井武田化學(股份公司)，商品名「Takenate D110N」)及0.2份含有乙醯乙醯基之矽烷偶合劑(綜研化學(股份公司)製造，商品名「A-100」)，製備黏著劑溶液。又以與實施例1相同之方式，製成黏著型偏光板。
實施例4~5，比較例4~5
除將實施例3中以含有異氰酸酯基之化合物為主成分之交聯劑及過氧化物系交聯劑之添加量變更為表1所示之量以外，以與實施例3相同之方式，製備黏著劑溶液。又以與實施例1相同之方式，製成黏著型偏光板。
實施例6
(黏著劑之製備)
於具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，一併添加乙酸乙酯，與丙烯酸異辛酯100份、丙烯酸6-羥基己酯0.075份及2,2'-偶氮二異丁腈0.3份，製備溶液。繼而，一面對該溶液噴入氮氣，一面進行攪拌，使其於60℃下反應4小時，獲得含有重量平均分子量175萬之丙烯酸系聚合物的溶液。進而，於含有該丙烯酸系聚合物之溶液中，添加乙酸乙酯，獲得固形分濃度調整為30%之丙烯酸系聚合物溶液(C)。
相對於上述丙烯酸系聚合物溶液(C)之固形分100份，依序添加2.5份作為交聯劑之以含異氰酸酯基之化合物為主成分之交聯劑(日本聚胺基甲酸酯(股份公司)製造，商品名「Coronet L」)、及0.01份作為矽烷偶合劑之γ－縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷(信越化學工業(股份公司)製造，商品名「KMB－403」)，製備黏著劑溶液。又以與實施例1相同之方式，製成黏著型偏光板。
實施例7~9，比較例6
除實施例6中以含異氰酸酯基之化合物為主成分之交聯劑之添加量變更為表1所示之量以外，以與實施例6相同之方式，製備黏著劑溶液。又以與實施例1相同之方式，製成黏著型偏光板。
對上述實施例及比較例中所得之黏著型光學膜(黏著型偏光板)進行如下評估。評估結果示於表1。
<平衡含水率(%)>將黏著劑層切為300 mm×240 mm(約1.5 g)並折疊使黏著劑層成為塊狀者作為樣品。對該樣品測定鋁箔承載重量後，投於試料板上。將由該方法製作之樣品投入於加熱烘箱中，求得含水率。測定條件為：氮氣筒流量為300 ml/min，機器中之氮流量為200 ml/min，加熱烘箱為110℃。直至測定值達到漂移值之＋0.1 μg/s為止進行測定，測定總計含水量，求得平衡含水率(%)：(總計之含水量/黏著劑層之重量)×100(Karl－Fischer水分計)。
<蠕變試驗：偏移量(μm)>將厚度25 μm之黏著劑層切為10 mm寬×30 mm者作為樣品。將該樣品上部之10 mm×10 mm貼付於烘焙板上，以50℃、50 atm進行15分鐘高壓釜處理後，於室溫(23℃)下放置1小時。其後，對樣品負載500 g荷重(垂直向下之拉伸剪應力負載)，測定1小時後樣品之偏移量(μm)。
<發泡試驗>將黏著型光學膜(15英吋樣品)，貼付於厚度0.07 mm之無鹼玻璃板之兩面上，使之達到正交偏光狀態。繼而，以50℃、5 atm進行15分鐘高壓釜處理，使其完全密著。將該樣品於80℃之條件下進行500小時處理後，以如下基準觀察發泡狀態。發泡之觀測為藉由偏光顯微鏡測定15英吋樣品於四方形區域(50 mm×50 mm)中之發泡數。
○：未產生發泡。△：發泡數不足100個。×：發泡數100個以上。
所得之結果示於圖1中。圖1中曲線對應各例，曲線使用發泡試驗中評估之相關符號。
圖1係繪製黏著劑層滿足本發明範圍者(實施例)與不滿足本發明範圍者(比較例)的圖。
(無元件符號說明)

Claims (10)

  1. 一種黏著型光學膜，其係於光學膜至少單面上積層有黏著劑層者，其特徵在於：上述黏著劑層由含有丙烯酸系聚合物及交聯劑之黏著劑形成，上述黏著劑層之平衡含水率(a)為0.5重量%以下，以厚25 μm且10 mm×10 mm之黏著面積，負載500 gf拉伸剪應力時，23℃下1小時後之偏移量(b)為600 μm以下，且上述平衡含水率(a)、上述偏移量(b)之值滿足b<1036.4×e-5.124a 。
  2. 如請求項1之黏著型光學膜，其中上述平衡含水率(a)為0.02重量%以上，且上述偏移量(b)為20 μm以上。
  3. 如請求項1之黏著型光學膜，其中上述黏著劑層之平衡含水率(a)為0.15重量%以下，且偏移量(b)為600 μm以下。
  4. 如請求項1之黏著型光學膜，其中上述黏著劑層之平衡含水率(a)超過0.15重量%且為0.25重量%以下，且偏移量(b)為350 μm以下。
  5. 如請求項1之黏著型光學膜，其中上述黏著劑層之平衡含水率(a)超過0.25重量%且為0.5重量%以下，且偏移量(b)為150 μm以下。
  6. 如請求項1之黏著型光學膜，其中上述黏著劑層之平衡含水率(a)為0.05重量%以上且0.25重量%以下，且上述平 衡含水率(a)、上述偏移量(b)滿足b≦-541.67a+209.58。
  7. 如請求項1之黏著型光學膜，其中積層有上述黏著劑層之光學膜，於80℃、90% R.H.下之透濕度為1000g/m2 ．24 h以下。
  8. 如請求項1之黏著型光學膜，其中上述光學膜為於偏光元件之至少單面上設有透明保護膜的偏光板。
  9. 如請求項8之黏著型光學膜，其中至少單面之透明保護膜於80℃、90% R.H.下之透濕度為1000 g/m2 ．24h以下，並於該透明保護膜上積層有黏著劑層。
  10. 一種圖像顯示裝置，其係使用至少一片如請求項1至9項中任一項之黏著型光學膜。
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