TWI379416B - Asymmetrical linear organic oligomers - Google Patents

Asymmetrical linear organic oligomers Download PDF

Info

Publication number
TWI379416B
TWI379416B TW093134391A TW93134391A TWI379416B TW I379416 B TWI379416 B TW I379416B TW 093134391 A TW093134391 A TW 093134391A TW 93134391 A TW93134391 A TW 93134391A TW I379416 B TWI379416 B TW I379416B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
group
compound
formula
linear
layer
Prior art date
Application number
TW093134391A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200534480A (en
Inventor
Stephan Kirchmeyer
Sergei Ponomarenko
Marcus Halik
Original Assignee
Starck H C Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=34428721&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=TWI379416(B) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Starck H C Gmbh filed Critical Starck H C Gmbh
Publication of TW200534480A publication Critical patent/TW200534480A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI379416B publication Critical patent/TWI379416B/zh

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
    • H10K85/649—Aromatic compounds comprising a hetero atom
    • H10K85/655—Aromatic compounds comprising a hetero atom comprising only sulfur as heteroatom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D409/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D409/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing three or more hetero rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02—Silicon compounds
    • C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
    • C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02—Silicon compounds
    • C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/40—Esters thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/10—Organic polymers or oligomers
    • H10K85/111—Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
    • H10K85/113—Heteroaromatic compounds comprising sulfur or selene, e.g. polythiophene
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K10/00—Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
    • H10K10/40—Organic transistors
    • H10K10/46—Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
    • H10K10/462—Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
    • H10K10/484—Insulated gate field-effect transistors [IGFETs] characterised by the channel regions

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Thin Film Transistor (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Dental Preparations (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 於本發明係有關於非對稱的線性有機寡聚物’ 一種用 道製造讀有機寡聚物之方法’與其於電子組件中作為半 導體之用途。 【先前技術】 分子電子學之領域於過去15年中迅速地發展，並 且發現了有機導電性與半導電性化合物。於此斯間’發 現了許多具有半導電性或電光性能之化合物，半導電性 有機化合物目前被發展應用於如：有機場效應晶體營 (〇FHTs)、有機發光二極體(〇.leds>、感測器、與光伏元 場欵應晶體管為一種三電極元件，其中於二只電極 (習知為，’源極，，與，，漏極，，)間的狹窄導電通道，其導電性 之控制係經由第三只電極（習知為”栅極，，），其藉一薄絕 =層與導電通道分開。場效應晶體管最重要的特徵性萨 $電荷栽體之流動性，其斷然地決定晶體管之 : :，，，於已開與未開狀態下電流間之比率習知物 。場效應晶體管另-重要的性能為起始電壓，於此 了挪量之電流開始於源極與漏極間流動，此 〇為閾值電壓。低的閾值電壓通常為所欲，為供 儘發人員試圖令柵極與導電通遒間之絕緣層 可能之最薄的絕緣層可製自所謂的，，自紐合單 1379416 層’’(SAMs)’ SAM層可製t之適合的分子實例為具有多 於10個碳原子之長線性鏈烷’其可經由分子中適合的 官能性基團而被固定至晶體管之支撐材料上。us 6,433,359 B1敘述使用線性、分支、或環脂肪族碳氫化 合物，其具有極性基團如:氣矽烷、羧基、羥基、胺基、 ’ 醢胺基、與硫醇基圓者’於製造場效應晶體管，.其於絕 緣層與半導體層之間包含SAM層藉以改良開/關比率、 閾值電壓（亦即:栅極之電麼’於此時可測量之電流開拾 於源極與漏極間流動)、與電荷載體之流動性。於US 鲁 6,335,539 B1中，敘述使用包含硫醇基圓之SAM層可 達成相似的目的。 然而’具最佳性能者被發現為於場效應晶體管，其 中製自SAM分子之層被用作惟一的絕緣層，例如:於間 · 值電壓為1至2伏特下，源極與漏極之間具有一電流之 場效應晶體管’其已由使用一约2奈米之包含烧基三氯 矽烷之薄SAM絕緣層製得(J. Collet等人，應甩物理報 導，I"8年，第73卷’第I8斯’第26S1至2683頁r φ 與應用物理報導，2000年，第76卷，第Η斯，第1941 至1943頁>。 然而包含烷基之SAM層’其缺點為不易建構，由 於約20至30 mN/m之低表面電壓’導致當施加其他層 至這些層時，例如：使用溼法，十分困難。經由例如:使 用如:羧基基團將SAM分子之一終端官能化，表面電壓 可增加至約50 mN/m (應用物理報導，2000年，第76 卷，第14斯，第1941至1943頁)。 6 1379416 將SAM分子中之(伸)烧基鏈連結至半導電性之共 輛寡聚物，如:寡聚噻吩，亦可一方面改良絕緣層與半 導電層間之表面電壓’另方面可於單一步驟達成包含介 電層與半導體層之規則的二層建構。然而雖然此類 SAM分子.，其伸烷基基團之一端為寡聚噻吩與另一端 為硫醇基團者，已被敘述，例如:12-(2,2’:5’，5”，2，，，-四噻 嗯-5.-基）十二烧硫醇(膠體表面.a，. 19.8-200. (20.0.2年).，. 577 至 591 頁)或 11-(2,2，:5，，2，，-三噻嗯-5-基)十一烷-1-基硫醇(BSuerle等人，物理化學斯刊B，1997年，第ιοί 卷’第31期，第5951至5962頁>，但已知包含硫醇之 化合物於製造SAM層時具有缺點：其僅可被固定至金之 表面。
Berlin與Zotti等人（美國化學學會斯刊，1998年， B.120，第13453至13460頁）敘述經羧基烷基取代之二 噻吩與二噻吩’其適合用於在銦_錫_氧化物層（IT〇)上生 成單層’然而這些化合物之缺點在於:事實上二噻吩與 二嗔吩不具半導電性能’而且僅適合作為其他反應之中 間體，因此，例如:二嗜吩或三何在被施加成_層後， 已藉氧化絲被聚合，但是以此方式獲得之摻雜的導電 性聚合物U有半導體效應，故其所敘述之分子 ，於聚 合反應之賴之後皆不適合作為半導體。 一也其rm化合物，其於分子之終端使用喧吩、 γ其L备、環予以官能化者’例如:11-(3-噻嗯基) 十H㈣別_研究齡 年，B.708，第305至 了會㈣
i .頁)’或相似的化合物(US-A 7 1379416 2003/0099845)，已被敘述，然*，這些 具有半導電性能。經氧化聚合反應後，其生成 合物層顿於糾上，，如:聚鱗、聚噻吩、聚乙^聚 與聚二乙块層，其為於氧化的導電 乙：、 之半導電性形態。—#為中性 因此仍然需要有SAM分子，其可同時適 的基材上生成薄絕緣層與生成半導電層。 ^宜 令人驚評地發現:半導電性寡聚物，其且 p 極性基圈取代之線性繼鍵者，特別適二 於本發明說明書中，寡聚物被明瞭為具有 個單體單元(下文巾稱為Af單元⑷b合物，^ 5 個為較佳’以4至1G個為特佳，其可為相同或相異。3 本發明提供具有通式(I)之化合物 X—R+ΑΓ 如2 ① 其中 η 代表一自4至之整數，以_自4至8之整數 為較佳，以一自4至6之整數為特佳，.
Ar對於每俩η各自猶立地代表:選择地經取代之丨4· 伸苯基、2,7-伸芴基、2,5-伸噻嗯基、或丨，厶伸乙 烯基、較佳者為選择地經取代之2,5-伸噻嗯基，
Rl代表一 C?_C3〇伸烷基基面，選擇地被下者所中斷· 1379416 一個或多個氧或硫原子、伸矽烷、膦醯基或磷醯 基基團，較佳者為一 c丨0-(：20伸烷基基團， R2 代表氩或一線性或分支之Ci-C2〇烷基基團，較佳 者為一 (^-(^烷基基團，或一線性之C丨-c20烷基 基團’選择地被下者所中斷:一個或多値氧或疏原 手、伸矽烷、膦醯基或磷醯基基團，較佳者為 基基圓，與 X 代表一基團，選自:一選择地經取代之乙烯基基 團、一氯、碘、羥基、具有1至3俩碳原子之烷 氧基基團、烷氧基矽烷基、矽烷基、氣矽烷基、 矽氧烷、羥基、羧基、碳酸甲酯或乙酯、醛、甲 基幾:基、胺基、酿胺基、艰、確酸、齒續酿基、 磺酸鹽、膦酸、膦酸鹽、三氯甲基、三溴甲基、 氰酸鹽、異氰酸鹽、硫氰酸鹽、異硫硫氰酸鹽、 氰基或硝基基團。 依本發明於通式(I)中之η個Ar單元可為栢同或相 異’並可以任何順序相連結，η個Ar單元形成一共軛 的寡聚物鏈。於較佳的實例中，除了 1，4-伸笨基、2,7-伸S基、與/或2,5-伸噻嗯基外、Ar亦可代表1，2_伸乙 稀基單元’藉此共輛長度不會被減短❶依本發明具通式 (I)之化合物，其Ar較佳者為包含選擇地經取代之2,5-伸嗔嗯基單元’或選择地經取代之2,5-伸嗔嗯基單元與 選擇地經取代之1，4-伸苯基單元，其中選择地存在之取 代基可為相同或相異。當包括選擇地經取代之2,5_伸嗔 9 單tl與選擇.地經取代之14伸苯基單元時此新化 I#:不包含相鄰之選擇地經取代的M_伸笨基單元 最佳者為具通式(I)乏化合物，其Ar僅包含2 5 伸噻嗯基單元。 ，_
Ar之取代基，其較適合的實例包括線性或分支之 =2。垸基基團，較佳者為Ci_Ci2烧基基團，或被一個 ^個氧原子中斷之線性CA。院基基團。於2,7_伸务 土早元中，選择地存在之取代基（一個或多個，以二個 為較佳)以座落於9之位置為較佳。2 5_伸嗔嗯基或 伸笨基單元之特佳取代基為：甲基、乙基、丙基、丁基、 戊基、或己基錢。K伸苯基單元之其他特佳取代基 為·甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基、己氧 基、或庚氧基基圓。最佳之取代基為氫。 值得一提之R1較佳實例包括:伸癸基、十一伸烷 基、十二伸烷基、十三伸烷基、十六伸烷基、或十八伸 烷基基團。值得一提之R2較佳實例包括：甲基、乙基、 丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、 十娱•基、或十一炫基基團’最佳者為乙基或已基基圓。 於通式(I)中之X基圓，.其適合的較佳實例為·選择 地經取代之乙婦基基團、氣、破、經基、具有1至3偭 碳原手之烷氧基基團、烷氧基矽烷基、矽烷基、氣矽烷 基、矽氧烷、羥基、羧基、碳酸甲酯或乙酯、醛、甲基 羰基、胺基、醯胺基、砜、磺酸、商磺醯基、磺酸鹽、 膦酸、膦酸鹽、三氣甲基、三溴甲基、或氰酸鹽、異氰 酸鹽、硫氰酸鹽、異硫硫氰酸鹽、氰基或硝基基圓。這 1379416 些基團具有極性，故其可與基材化學地或物理地栢互作 用’或可容易地被轉化成極性形態，較佳之實例為：乙 烯基、烷氧基矽烷基、氣矽烷基、矽氧烷、羥基、羧基、 胺基、或醯胺基基團，以乙烯基與烷氧基矽烷基、矽氧 烧、或氯石夕院基基團為特佳。於本發明之說明書中，燒 氧基梦烧基基團可為：單、二_、或三·Ci_C2q燒氧基發 烷基基團’與矽氧烷基圓可為:二·、寡聚_、或聚矽氧烷， 其合，自··單·、二·、或三·官能化單元，最佳者如:乙歸 基、三甲氧基钱基、三乙氧基魏基基團、或燒基二 矽氧烷基圓，如:四烷基二矽氧烷基團。 較佳之具通物之新化合物切些具通切_a)者，
其中 ra’rb ^自獨立地代表m擇祕取代之祕或鲁 分支之Cl*C2〇烷基基團，選择地被1至5個氧 原子所中斷’較佳者為一 CrCn烷基基圓，特 佳者為一甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、或 己基基團 選择地經取代之CVC^o烷氧基基 團’較佳者為一 C1_C6烷氧基基團，特佳者為 甲氧基基團、或連同代表一選择地經取代之 CrC6二氧伸烷基基團’較佳者為一 3,4-伸乙基 u 丄379416 一氧基基圓，.與 η，X，R，與r2具有前述賦予通式⑴之意義， 於本發明之較佳實例中，ra與rb代表氫。 其他較佳之具通式(I)之新化合物為那些:其中x代 表一乙烯基基團者。 於本發明之一較佳實例中，這些為具通式（Ia_ 之化合物，.
其中η，X，Ri’與R2具有前述賦予通式⑴之意義，與 RA與RB具有餘述賦予通式(I_a)之意義。 其他具通式(I)之較佳化合物為那些:其中X代表一 烧氧基梦焼基基圓者’特別是一單-、二-、或三-(^-(^20 烧氧基發燒基基團’例如:三甲氧基石夕烧基、或三乙氧 基矽烷基、或矽氧烷基團，特別是四烷基二矽氧烷基團& 於本發明之另一較佳實例中，具通式⑴之化合物， 其中X代表一烧氧基矽烷基基團者，為具通式(I-a_2) 之化合物，
12. 1379416 其中 ，R4 、R，互镯立地代表氫或—線性或分支之 燒基基團，較佳者為Ci_C6垸基 η，R丨，與R2且右1、/特佳者為甲基或乙基，與 具有前述賦予.通式式⑺之意義，與RA與妒 於具通式(I)之依本發 X代表一矽氧烷基團者， 明化合物之較佳實例中，其中 為具通式(I-a-3)之化合物，
(I-a-3) 其中 R6 至 R10 栢互獨立地代表氫或一 烷基基圓，較佳者為C 者為甲基或乙基， 線性或分支之 rC6烧基基團’特佳
P 代表一·自· 1至5. 特佳者為2，.與 之整數’較佳者為2或3 , (1)之意義，與1^與Rb n’ R1，與R2具有前述賦予通式 具有前述賦予通式(I-a)之意義。 在鎳（合成反應’1993 13 ^/9416 年’第1099至1103頁)或le(化學材料，1993年，Β·5， 第430至436頁)催化劑之存在下’進行偶合。然而， ^些合成方法導致:化合物僅能困難地予以純化，並需 昂責的花費’此意指：獲得之最終產物勉強地適合用作 半導體。 製造依本發明之化合物，較佳者為使用一種改變的 Suzuki偶合反應’通常亦習知為suzuki縮合反應。 suzuki縮合反應或Suzuki偶合反應，亦即:芳基鹵化物 與芳基硼酸化合物反應，使用一種鈀化合物作為催化 劑’並於一種鹼之存在下進行，此被敘述於如:Suzuki 等人者’化學評論’ 1995年，第95斯，第2457至2483 頁。於一較佳實例中’其方法係依照一種改變的Suzuki 偶合反應進行’其中芳基或雜芳基齒化物與噻吩頻那酮 珊酸酯反應，選择地於至少_種鹼與/或至少—種催化 劑之存在下進行’其包含一種週期表中副族VIII之金 屬，下文中簡稱為一種副族νπι之金屬。 因此本發明亦提供一種方法，其中一種有_化合 物與-種芳基或雜芳基齒化物，經由Suzuki偶合，進 行反應。 此為-種較佳的方法，其中使甩下列二者，並使其 相互反應：有_化合物，其為〜種具通式(11)之化合 物， X〜R屮七(Π) 1.4 1379416 其中11’^’尺1’與又具有前述賦予通式 也 m代表_自1至5之整數，較佳者為t 、丄與 2,3,或4， 巧至4’特佳者為 與芳基或雜芳基齒化物，其為一種具通式(ιιι)之化合 物， σ (HI) r+AH^R2 其中m與Ar具有前述賦予通式(II)之意義，與妒且 前述賦予通式(I)之意義，與γ代表：氣、漠' 八 -0-S02-R3,其中R3代表一甲基、三氣甲基、、笨基1 甲苯基基團。 ^ 此改變之方法’最佳者為用於製造具通切之 新化合物’其隨後可進行反應，藉將雙鍵進一步加以修 飾、，使成為具通式㈣之其他新化合物，較佳者為^ 具通式(I-a-2)或(l-a-3)者。 此用於製造新化合物之較佳的㈣方法伽祕偶 合反應)係於一有機溶劑或溶劑瀑合物中， ^至+200 °C下進行，以.40ΐ至.150。(：為較佳：以· °C ^ + 130¾ 々較佳以谓 適合的包含一種副族爾金屬之催 =適合化合物’其包含一編vm金:上 量為娜重m贿為㈣。催倾之較佳用 為特佳，至⑼重量^…重衫心重量％ *其係相對於待偶合化合物之總重。 1.5 1379416 特別適合之催化劑為副族VIII金眉 #人化人 物，尤其是:於大氣下安定之麵(〇)錯合物、鈀二合物， 其可使用有機金屬試劑’如:烷基鋰或有機鎂化合物， 或膦，容易地予以還原成纪(0)錯合物者，或鈀(2)錯合 物’選择地可添加PPh或其他的膦α例如:可使用 Pd€l2(PPh3)2 ’ PdBr2(PPh3>2 ’或醋酸鈀，或這些化合物 之混合物’並予添加PPhr較佳者為使用經 添加膦之Pd(PPh3)4 ’於一較佳的實例中未添加膦，其 能以廉價的形態獲得。用作膦之較佳者為.pph、 PEtPh.2、PMe.Ph.2、PEt2Ph.、或 PEt3 r 為特佳
然而’亦可使甩未添加膦之把化合物作為催化 例_如:醋酸趣。 劑 町便用之臉之貫例為：氫氧化物’如：氣氣化納 氧化鉀、氫氧化鋰、氫氧化鋇、氫氧化鈣、燒 如：乙醇納、乙醇鉀、乙醇鋰、甲醇鈉、甲醇鉀 鋰、羧酸與碳酸之驗金屬鹽類，如:鈉、鉢、 酸鹽、碳酸氫鹽、乙酸鹽、擦檬酸鹽、乙硫7 ~ ，八％〜职见,與进册厂畔、或鋰 酸鹽、碳酸氫鹽、乙酸鹽、擰檬酸鹽、乙酿 基乙酸鹽、或其他的碳酸鹽’如:碳酸绝或碳酸鉈 酸鹽，如:磷酸鈉、磷酸鉀、或磷酸鋰、或其混厶 較佳者為使用碳酸鈉。鹼類之使用亦可為：於水$ 液或於有機溶劑，如：甲苯、二噁烷、或二甲基 中之懸浮液’較佳者為於水中之溶液，因為獲~ 物’由於其於水中之低溶解度，可容易地& : 中分離。 應成 亦可使用其他的鹽類，例如：氯化鋰或溴化鋰 % 16 1379416 為助劑。 適合的有機溶劑實例為:原則上所有的不會與哪酸 酯反應之溶劑或溶劑混合物。這些通常為化合物，其未 含會與嗔吩頻那酮娜酸酯反應之鹵素原子或氫原子 者。適合的溶劑實例為:鍵烷，如:戊烷、己烷、與庚垸、 芳族化合物，如:笨、甲苯、與二甲苯、包含醚基團之 化合物，如：二噁烷、二甲氧基乙烷、與四氫呋喃、與 極性溶劑’如:二曱基甲醯胺、或二甲基亞砜。於依本 發明方法中較佳者為使用芳族化合物作為溶劑，以甲笨 為最佳’亦可使用這些溶劑之二種或多種混合物作為溶 劑。 反應混合物之回收係使用習知方法，例如··經由稀 释、沉澱、過濾、萃取、清洗、自適合的溶劑再結晶、 色層分離法、與/或昇華。回收可由如:於反應完成後將 反應混合物倒入一包含酸(冰)水，例如:製自1克分子濃 度之鹽酸，與甲苯之混合物中，分離去除有機栢，以水 清洗，將獲得之固體產物濾除，使用甲苯清洗，而後於 真空中乾燥’可獲得高品質與純度的具通式(I)之化合 物，未經任何的後續純化程序，並且為半導電性。然而 亦可使用習知方法，例如:藉再結晶、色層分離法、或 昇華，將這些產物進一步地純化。 使甩此方法’依本發明化合物無需經繁複的純化程 序即可製得，並且僅含有非常少量的不純物。特別是使 甩此方法獲得之依本發明化合物’大多未含具有—不易 分離之較咼或較低分子量之同系寡聚物，因此可免除對 1.7 1379416 不易分離@合物進行繁複純化之需求。 A二It使用之有機·化合物•基或雜芳 基化β物特別是具有通式(111>者，可經 具通式⑼之麟㈣㈣之製造敘 述於如· st等人，材料化學斯刊，2003年，笛^ 第1269至1273頁。 乐13斯， 具通式(I)之新化合物，特別是㈣與(1 為非常適合-並非因為其高純度_用於製造電子丄 如:場效應晶體管、有機發光二極體、光伏電池、射^ 或感測器中之半導電層。特別是具通式(1>之新化人物， 其中X代表-烧氧基魏基基團或—錢燒基二較 之化合物’適合用於製造 場效應aa體管之單層特別是自組合之單層
因此’具通式⑴之新化合物’其+ x代表一 Z 烷基基團或一矽氧烷基圓，較佳者為具通式 (I-a-3)之化合物，為較佳地適合用於製造半導電性單 層’但是特佳地為：同時包含一薄介電層(絕緣層)與 半導電層之此類單層。其他的半導電層亦可施加至 導電層。偺助於具通式(I)之新化合物，其中χ代表— 烧氧基㈣基m魏祕®，較佳者為借助於具 通式(I-a-2)與(I-a-3)之化合物，亦可製造位於一介電^ 與另-半導電層間之此類層。此可為有利.，.、因為例如 經由半導電曆與介電層間之較佳接觸，此内層可改良位 於其上之半導電層之品質’此導致如:改良於場效應晶 體管中之性能’例如:增加電荷載體之流動性、較高之 18 1379416 開/關比率、與較低之閾值電壓。 因此本發明亦提供下列用途:將依本發明化合物用 於製造電子組件之半導電層，較佳者為將具通式(〗)之新 化合物，其中X代表一烷氧基矽燒基基團或一矽氧烷 基團，特佳者為具通式(I_a-2)與(I-a-3)之化合物，用於 製造單層，其同時包含一介電層(絕緣層)與一半導電 層。具通式(I-a-2)與(I-a-3)之化合物可最佳地被使用， 以生成自組合之層（SAMs>，亦即:所謂之SAM分子。 具通式(I)之新化合物，其中X代表一烷氧基矽烷 基基團或一梦氧烧基團，特佳者為具通式(I-a-2)與(I-a-3} 之化合物，可特別良妤地固定於基材或表面，其主要包 括發或氧化材料’例如:氧化梦、氧化銘、氧化錄、氧 化铪、或氧化鈕。固定至這些基材或表面，係發生於新 化合物載有矽烷基或矽氧烷基團之終端。相較於習知包 含硫醇基團之SAM分子，依本發明化合物因此具有下 列優點：可固定至除價昂之金表面外的表面。除了那些 習知包含硫醇基團之SAM分子之應用外，依本發明化 合物因此可作其他的應甩。 具通式(I)之新化合物，其_ X代表一乙烯基基團， 特別是具通式(I_a_ 1)之化合物，可於雙鍵處予以進一步 地修飾’借助於單純的化學反應，其對精於此方面技藝 者為習知。 用於修餘這些較佳化合物之此類化學反應實例為： 特別是反應，其中之鍵經選择地與專門地 修飾但化合物之其他部份則未予修你。值得一提之此 19 1379416 類:f反應實例為:聚合、氧化、加成、或取代反應， 以加成與聚合反應為巍，錢㈣錢應為^ 於第-步驟中n具通細之化合物其 代表—乙縣基團，並於第二步 成 通撕之化合物，其中χ具有一除乙縣=義具 ::2利音=是對於案例’其中χ基團具有-除 為一於Suzuki偶合反應之反應條 ^疋之土團’此為案例如:具有氣發烷基團、烷 氧基^_、切氧絲團者m縣基圈於 UZU1偶合反狀反應條件下為安定故可㈣對精於 面技藝者制知之前述單純反應加以修飾，此途徑
、、製造下者為特別較佳:具通式(1)之新化合物，其中X 代表一烷氧基矽烷基或矽氧烷基團，較佳者為那些具有 通式(I-a-2)或(1-&-3>者。 氫矽烷化反應與其進行對精於此方面技藝者為習 鉍°對於修飾具通式(I)之新化合物，其中χ代表一乙 烯基基團，特別是具有通式d-hD之化合物，氫矽烷化 反應之進行’較佳者為於_有機溶劑或溶劑混合物中， ，用一種包含金屬之催化劑’並於溫度+2〇它至+2〇〇 c，以+30°C至+120。(：為較佳，以+60¾至+90。(：為特佳。 各種金屬錯合物’特別是週斯表中副族VIII之金 屬’可甩作包含金屬之催化劑，例如:错、銀、鎳、銘、 趣、鉬、與釕之錯合物。用於氫矽烷化反應之較佳催化 劑為鉑錯合物，如:H：2PtCl6，例如:於異丙醇中（Spier催 化劑>，與Pt2{[(CH2=CH)Me2Si]2〇}3或具有一不同金屬
2Q 配位基比率之相似化合物(Karstedt催化劑同樣較佳 者為銘環乙烯基甲基矽氧烷錯合物，.其包括環甲基乙稀 基矽氧统或鉑二乙烯基四甲基矽氧烷鍇合物於二甲苯 中’此為市售商品。適合的銘催化劑用量為：自1 ppm ^ PPm之翻，以5冲m至_ppm為較佳以⑽ 沖m為特佳，其係相對於反應混合物之總重。 =上所有的溶劑或_混合物，其於反應溫度下 義ί顯Ϊ解具通式W之化合物’其中X代表一乙烯 =燒有::(rr化合物，皆適合用 如··己μ也應有機劑。適合的溶劑例如:鍵垸， 與包含之合物’如:笨、甲苯、與二甲苯、 土團之化〇物，如:二噁烷、二甲氧基乙烧' 用甲方法中以使用芳族溶劑為較佳，以使 劑然而，亦可使用這些溶劑之二種或多種 基基:此二ίί:)之新化合物’其中x代表-乙烯 與甩於製造雷不纟、適。生成自組合之單層，或sams， 因此本1二件之半導電層，特別是SAM層。
代表-乙提供:具通式(1)之新化合物，其中X 其用於製造;;組件:細)之化· 甩途，Mm +導電層’特別是SAM層，之 基基圏，特別是合:’其中X代表-乙烯 用於製造摘人^ a、逋式之依本發明化合物，其 σ 、自組合之單層，或SAMs，之化合物， zi 1379416 之用途。 用於製造半導電層時，較佳者為將具通式(ι>， (I-a) ’或(1+1)至(I_a_3)之新化合物以層之形態施加至 適口的基材上W如至:妙晶片、聚合物膜、或玻璃板， 其條件為具有電或電子之結構。顧上，精於此方面技 藝奢習知之所有施加方㈣可用於施加 ，例·如依本發 明之化合物可由氣相或由溶液施加，隨後將溶液蒸發。 f溶液：加：使用習知方法進行，例㈣喷霧、浸潰、 、、:=」旋轉塗覆、與藉喷墨印刷。依本發明之 一 以 目施加為較佳，例如:由—適合的溶劑’ 如：甲本，藉旋轉塗覆予以施加。 =此’本發明亦提供塗覆層，較佳者主要包括化合 其具有通式(1> ’特別是㈣，或特佳者為至 (i-a-3)。 這些為較佺的單層，特佳者為8她（自組合之單 層>’亦即:那些製自依本發明之自組合化合物者。 :較佳的實射，這㈣包括下者之層:具通式(ι) =化。物’其中X代表-院氧基㈣基或㈣统基圈， 寺別是具通式(I-a-2)或(l-a_3)之化合物，其於特佳的 例中生成單層，其同時包含一介電層(絕緣層 電層。 、丁平 依本發明之層可於施加後進〜步予以修飾，例如. 藉熱處理’如:藉通過-液晶相，或對於結構，如·藉雷 射燒餘曰 製自依本發明化合物之依本發明層，其特徵在於. 1379416 高純度，因此具有低缺陷。特别是SAMs，亦即:製自依 本發明自組合化合物之層，較佳者為那些具有通式 (I-a-2)或(I-a-3)者，其具有優點:可容易地同時生成一介 電層與一半導電層，其為極端地薄，亦即:於分子尺寸 至多為數奈来，以於單分子尺寸為較佳，例如:場效應 晶體管之閾值電壓可經由使用此類SAMs予以降低。 依本發明之層適合甩於激活與發光電子組件，例如: 場-效應晶體管、有機發光二極體、光伏電池、雷射、或 感測器。 因此本發明亦提供此類電子組件，其包含至少一依 本發明之層。 【實施方式】 實例 使用習知方法製造:5-(10-十一碳烯基>-2,2’ -二噻 吩、5-溴-5’-乙基-2,2’-二噻吩、與5-溴-5”-乙基 -2,2’:5’，2’’-三噻吩(合成反應，1993年，第1099頁；化學 材料，1993年，第5冊，第430頁;材料化學斯刊，2003 年，第13冊，第197頁)。 於使用前，所有的反應容器皆使用習知的保護氣體 方法予以加熱，並以氮氣將其淹沒。 實例 1: 4,4,5,5-四甲基-2-[5’-(10-十一碳烯基>-2,2’-二 嗔嗯_ 5-基]-1，3，2 -二°惡硼烷(II - a)之製造 23
1379416 使用乾冰/丙酮將70毫升之無水四氫呋喃（THF)冷 卻至-74°C，並使用一注射器將5.6毫升2 5M 丁基鋰於 己烧之/容液滴加至其中，而後滴加一種5-(1〇->]--碳稀 基)-2,2’_二噻吩(4 46公克，14亳莫耳)於12〇毫升無水 四氫吱味之均質混合物’再將混合物於-74°C下持續授 拌30分鐘。移開冷卻浴使溫度上升，於約時再將 ιφ 反應批次冷卻，於_74°C下使用一注射器加入2-異丙氧 基-4,4,5,5-四甲基_ι，3,2-二噁硼烷（3.3亳升’ 16毫莫 耳>’混合物於_74°C持續櫈拌30分鐘後再度移開冷卻 浴，使溫度上升至20°C。將反應混合物倒入200毫升 · 經與15毫升1 Μ鹽酸混合之冰水中，並使甩500亳升 二乙醚予以萃取。分離去除醚相’以水清洗，再以硫酸 鈉乾燥，過濾，及於一旋轉蒸發器中將溶劑完全移除， 得到產量:6.03公克(97%理論值)深藍色之結晶（II-a)。 鳙 經氣體色譜法-質譜法分析:!V^+99%，m/e=444。 4 NMR (CDC13，TMS/ppm): 1.22-1.45(重疊之波峰具有 最大值於 1.283，14H>，1.345(s ’ 12H>，1.672(m，J=7.5 Hz，M-5，2H) ’ 2.037(q，·Κ7·2 Hz ’ 2H> ’ 2.781(t，J-7.3 Hz v 2H) > 4.928(d > J-10.3 Hz » 1H) > 4.99l(d » J=17.1 Hz > 1H)，5.811(m，1H>，6.676(d，J=3.4 Hz，1H)，7.037(d， 1=3.9 Hz > 1H) » 7.152(d » J=3.9 Hz » 1H) - 7.496(d > J-3.4 24 1379416
Hz，1H)〇 實例 2: 5-乙基-5，’，-(ΐ〇_十一碳烯基)τ2,2，:5，，2，，:5，’，2，”- 四噻吩(I-a-l.i)之製造
(l-a-1.1) 稱取5-溴-5’-乙基_2,2，_二噻吩(3.28公克，12毫莫 耳），並於保護氣體下加入四(嗟吩基膦)鈀Pci.(pph3)4(675 毫克，0.6毫莫耳）。製備一 4 4 5,5_四甲基·2-[5，-(1〇-十 一碳烯基)-2,2’-二噻嗯_5_基]·13,2_二噁硼烷01 公克’ 12毫莫耳)於12Ό亳升無水甲苯之溶液，與18 毫升之2 Μ碳酸納水溶液，並使用氮氣予以除氧。將此 二溶液以注射方式逐一地加入反應批次，而.後將反應混 合物迴流20小時。經冷卻後，.將反應混合物倒入一包 含200毫升水’ 8G毫升1 μ鹽酸’與300亳升甲苯之 混合物中。分離去除有機相，以水清洗，再以硫酸鎂乾 燥，過濾，及於一旋轉蒸發器中將溶劑完全移除，橄欖 綠之固體產物於正己烷中再結晶，得到產量:4.18公克 (68%理論值)之黃色粉末(I-a-1.1)。 經 FD 質譜法分析:Μ +100%，m/e=510.0。 4 NMR (CDC13，TMS/ppm): 1.23-1.44(重疊之波峰·具有 最大值於 1.288，15H ’ 包括 t 於 1.326 ppm，J=7.6,3H}， 25 1379416 1.680(m，J=7.5，M=5 ’ 2H>，2.040(q，J=7.5，2H)，2.789(t， 卜7.6，2H)，2.840(q，卜7.2，2H)，4.928(d，J-10.3， 1H)，4.989(d，J=17」，1H)，5.813(m，1H)，6.679(d， J=3.4，1H)，6.699(d，J=3.4，1H> ’ 6.98(重疊之波峰， 4H)，7.030(d，J=3.4，2H)。 實例 3: 5-乙基-5，”’-(10·十一碳婦 基）-2,2’:5’，2”:5”，2’’’:5”’，2””-五噻吩 (I-a-1.2)之製造
依實例2所述’由5-溴-5”-乙基-2,2’:5’，2’，-四咳吩 (2.13公克’6毫莫耳>’Pd(PPh3)4(350毫克，0.3毫莫耳)， 與4,4,5,5-四甲基-2·[5，-(10-十一碳稀基)·2,2’·二嗓嗯 基]-1，3,2·二喔硼烧(I-a)(3.11公克’ 7亳莫耳)於4〇毫升 無水曱笨與10毫升2 Μ碳酸鈉水溶液中製得5-乙基 -5””-(1〇-十一碳烯基 >-2,2’:5’，2”:5”，2’”:5”，，2，，，，-五嚯吩 (IV-a-2)。經如實例2般回收後，將有機栢使甩一 G4 玻璃過濾器予以過濾，並將橘色沉澱物於甲苯中再、结 晶’得到產量：2.96公克（83°/〇理論值)之深橘色粉末 (I-a-1.2) ° 經 FD 質譜法分析:Μ·+100°/〇，m/e = 592.1。 26 1379416 巾 NMR (CDC13，TMS/ppm): 1.23-1.44(重疊之波峰具有 最大值於：1.290 ’ 15H，包括 t 於 1.329 ppm，J=7.3，3H) ’ 1.682(m，J=7.5，M=5，2H)，2.041(q，J=7.0，2H)，2.791(t， J=7.6，2H)，2.841(q，J=7.6，2H)，4.930(d，J=10.3， 1H)，4.989(d，J=17.卜 1H>，5.813(m，1H)，6.684(d， J=3.9，1H)，6.704(d，J=3.4，1H>，6.99(重疊之波峰， 4H)，7.048(d，J=3.4，2H>，7.053(s，2H>。 熔體性能（°C ): K240 N 242 I (K=結晶，N=向列的液晶， 1=各向同性的液體h 實例4·· 5-乙基-5”’-(ll-三乙氧基矽烷基十一烷 基）-2,2’:5’，2”:5’”，2”’·四噻吩（I-a-2.1)之 製造
將得自實例2之5-乙基-5”’-(10-十一碳烯 基)-2,2，:5’，2”:5”，2，”-四噻吩(14-1.1)(410毫克，0.8亳莫 耳)置入_ 100亳升具冷凝器、氣體出口、溫度計、與 隔板轉接器之多頸燒瓶中，隨後加入15亳升無水曱 苯，並將混合物加熱至80°C，直至所有的物質（I-a-1.1) 皆已溶解。於80°C下，以注射方式逐一加入三乙氧基 石夕烧(324亳克，2毫莫耳)與一包含環曱基乙烯基梦氧 27 1379416 烷之鉑環乙烯基甲基矽氧烷錯合物(3至3.5重量％之 鉑，例如：可得自ABCR公司）。將混合物於80°C攪拌 20小時，經冷卻後於一旋轉蒸發器中移除溶劑，所獲 得於曱苯中之黃色固體產物以矽膠予以過濾，得到產 量：151毫克(27%理論值)之黃色粉末(I-a-2.1)。 經 FD 質譜法分析:Iv^+lOO%，m/e = 674.2。 4 NMR (CDC13，TMS/ppm): 0.628(t，J=8.1 Hz，2H)， 1.225(t，J=7.1 Hz，9H)，1.23-1.44(重疊之波峰^具有最 大值於 1.267 ’ 21H ’ 包括 t 於 1.3.27 ppiii J=7.6· Hz 3Ή)，1.678(m，J=7.3，M=5，2H)，2.788(t ’ J=7.6 Hz， 2H) ’ 2.839(q，J=8.3 Hz ’ 2H) ’ 3.814(q，J=6.9 Hz，6Ή)， 6.680(d，J;3.4 tiz，1H)，6.700(d，J=3.4 Hz，1H)，6.98 (重疊之波峰，4H)，7.030(d，J=3.9 Hz，2H)。 熔體性能（t >: K 160 I (K=結晶，1=各向同性的液體>。 實例 5: 1-[11-(5’’，·乙基-2,2’:5，，2”:5”，2”，-四噻嗯-5-基) 十一烷基]-1，1，3,3-四曱基二矽氧烷（I_a-3.1) 之製造
(I 令3.1) 依實例4所述，由5_乙基-5”’-(10-十一碳烯 28 1379416 莫耳），l，l，3,3·四甲基二石夕氧烷(25毫升，18 8公克姆 毫莫耳>’與-包含環甲基乙縣錢燒之翻環義 甲基矽氧烷錯合物(3至3.5重量％之鉑，1〇毫升)之容 液，在7〇t下，於70亳升無水甲苯中製得Ηιι (5,^ 乙基-2,2’:5’，2”:5”，2”’·四噻嗯-5-基)十一·烷基]、113 3· 四甲基一發氧娱*(I_a_3.1) ’並予純化’得到產量.2 %八 克(94%理論值)之黃色粉末(i_a_31)。 “
經FD質譜法分析:μ·+99%以上，m/e = 644.0。 H NMR (CDC13，TMS/ppm): 0.056(s ’ 6H)，〇.i6〇(d， J=2.5 Hz ’ 6Ή) ’ 0.527(t ’ J=7.6 Hz ’ 2H) ’ 1.23_i‘43(重 疊之波峰具有最大值於1.267，21H，包括t於i 326 ppm ’ J=7.8 Hz，3Ή) ’ 1.680(m，J=7.5，M=5，2H>，2.789(t， 卜7.6 Hz，2H)，2.840(q，>7.2 Hz，2H)，4.676(m，>2 8
Hz，ΜΘ，1H>，6.679(d，J=3.4 Hz，1H)，6.699(d，4 Hz，1H)，6.98(重疊之波峰，4H)，7.029(d ’ J=3.9 jjz， 2H) 〇 【圖式簡單說明.】. 無 【主要元件符號說明】 無 29

Claims (1)

13794时 專利申請案第93丨34391號 ROC Patent Application. No. 93134391 修正之申請專利範圍中文替換本-附件(二) 丨。丨年J月:^日修i吏)正 Amended Claims in Chinese - Encl.(H) (民國10丨年8月24曰送呈） (Submitted on August 24, 2012) 十、申請專利範圍： 1. 一種化合物，其具有通式(I)， (i) X—R+Ar 士 R2 其中 η 為一自4至10之整數， Ar 對於每個η各自獨立地代表一選擇地經取代 之2,5-伸噻嗯基，其中經取代之2,5-伸噻嗯基 的取代基各獨立選自於氫、線性或分支之 CrC20烷基基團及被1或更多個氧原子所中 斷的線性之Cl-C2〇院基基圑J R1 代表一 C3-C30伸烷基基團，選擇地被一個或 多個氧或硫原子、伸矽烷、膦醯基或磷醯基 基團所中斷， R2 代表氫或一線性或分支之CrC^烷基基團， 或一線性之crc20烷基基團，選擇地被一個 或多個氧或硫原子、伸梦烧、鱗酿基或填酿 基基團所中斷，與 X 代表一基團，選自：一選擇地經取代之乙烯基 基團、烷氧基矽烷基、矽氧烷或膦酸基團。 2. 根據申請專利範圍第1項之化合物，其特徵在於:X 代表一院氧基石夕统基基圑或一石夕氧烧基團。 3. 根據申請專利範圍第1項之化合物，其特徵在於:X 代表一乙烯基基團。 30 1379416 101年8月24日送呈 mr . 4.根據申請專利範圍第1至3項中之至少一項之化合 物，其特徵在於：R2代表一線性或分支之Ci_C2〇烷 , 基基團。 5· 一種方法，其用於製造具有通式（I)之化合物， X—R^-Ar^R2 (1) 其中 為一自4至10之整數， ΛΓ 對於每個η各自獨立地代表一選擇地經取代 之2,5-伸噻嗯基，其中經取代之2,5_伸噻嗯基 的取代基各獨立選自於氫、線性或分支之 CrC2〇烷基基團及被1或更多個氧原子所中 斷的線性之CrC20烷基基團， Ri 代表一 CrCw伸烷基基團，選擇地被一個或 多個氧或硫原子、伸矽烷、膦醯基或磷醯基 基團所中斷， R2 . ^ 代表氫或一線性或分支之crc2〇烷基基團， 或一線性之C丨-c20烷基基團，選擇地被一個 或多個氧或硫原子、伸矽烷、膦醯基或磷醯 基基團所中斷，與 X 、 、 代表一基團’選自：一選擇地經取代之乙烯基 基團、氣、碘、羥基、具有1至3個碳原子 之烧氧基基團、烷氧基矽烷基、矽烷基、氯 石夕院基、矽氧烷、羥基、羧基、碳酸曱酯或 31 1379416 101年8月24日送呈 乙酯、醛、曱基羰基、胺基、醯胺基、砜、 續酸、齒續醯基、續酸鹽、膦酸、膦酸鹽、 三氣曱基、三溴曱基、氰酸鹽、異氰酸鹽、 硫氰酸鹽、異硫硫氰酸鹽、氰基或硝基基團 其特徵在於：一種有機蝴化合物與一種芳基或雜芳 基鹵化物，經由Suzuki偶合進行反應，其中一種具 通式（II)之化合物，
其中η，Ar，R1，與X具有敘述於式(I)之意義，與 m代表一自1至5之整數，其為有機硼化合物， 與一種具通式（III)之化合物， Y——Ar——R2 (ΠΙ)
其中m與Ar具有敘述於通式(II)之意義，與R2具有 敘述於通式（I)之意義，與Y代表：氯、溴、碘、或 -O-SOrR3，其中R3代表曱基、三氟曱基、苯基、 或甲苯基，其為芳基或雜芳基鹵化物基團， 被使用並共同反應。 6. —種方法，其用於製造根據申請專利範圍第2項之 化合物，其特徵在於：一種具通式（I)之化合物，其中 32 丄:^416 Ψ 101年8月24日送呈 X代表一乙婦基基團，被氫石夕院化。 之 -種用途，使用根據申請專利範圍第丨至4項中 至少一項之化合物於製造電子組件之半導電層。 —種用途’使用根據申請專利範圍第1 4項中之 9. f少-項之化合物於製造單層，其具有—介電 緣層）與一半導電層之功能。 （、” 圍其特徵在於:其包含根據申請專利範 第9項之層，㈣徵在於:其為單 種f緣層）與一半導電層之功能。 項…二據申請專利範圍第9或丨。
33
TW093134391A 2003-11-12 2004-11-11 Asymmetrical linear organic oligomers TWI379416B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10353093A DE10353093A1 (de) 2003-11-12 2003-11-12 Unsymmetrische lineare organische Oligomere

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200534480A TW200534480A (en) 2005-10-16
TWI379416B true TWI379416B (en) 2012-12-11

Family

ID=34428721

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW093134391A TWI379416B (en) 2003-11-12 2004-11-11 Asymmetrical linear organic oligomers

Country Status (9)

Country Link
US (1) US7196206B2 (zh)
EP (1) EP1531155B1 (zh)
JP (1) JP4955918B2 (zh)
KR (1) KR101178701B1 (zh)
AT (1) ATE368675T1 (zh)
CA (1) CA2487210A1 (zh)
DE (2) DE10353093A1 (zh)
IL (1) IL165133A0 (zh)
TW (1) TWI379416B (zh)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4446697B2 (ja) * 2003-07-29 2010-04-07 大日本印刷株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法
KR100701751B1 (ko) * 2005-09-27 2007-03-29 삼성전자주식회사 저분자 공액 인 화합물 및 이를 이용한 소자
DE102006043039A1 (de) * 2006-09-14 2008-03-27 H.C. Starck Gmbh Halbleiterschichten bildende Mischungen von organischen Verbindungen
DE102008014158A1 (de) * 2008-03-14 2009-09-17 H.C. Starck Gmbh Neue makromolekulare Verbindungen aufweisend eine Kern-Schale-Struktur zur Verwendung als Halbleiter
DE102010031897A1 (de) 2010-07-21 2012-01-26 Heraeus Clevios Gmbh Halbleiter auf Basis substituierter [1] Benzothieno[3,2-b][1]-benzothiophene
CN111057087B (zh) * 2019-11-01 2021-06-04 河南大学 一种非对称噻吩[7]螺烯同分异构体及其制备方法和应用

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3885244B2 (ja) * 1994-12-05 2007-02-21 松下電器産業株式会社 オリゴチオフェン重合体、及びオリゴチオフェン化合物の製造方法
US6414164B1 (en) * 2000-07-12 2002-07-02 International Business Machines Corporation Synthesis of soluble derivatives of sexithiophene and their use as the semiconducting channels in thin-film filed-effect transistors
JP4025920B2 (ja) * 2001-03-05 2007-12-26 入江　　正浩 フォトクロミック材料
TWI298732B (en) 2001-04-17 2008-07-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd Conductive organic thin film and production method therefor, electrode and electric cable using it
US6433359B1 (en) 2001-09-06 2002-08-13 3M Innovative Properties Company Surface modifying layers for organic thin film transistors
JP3963693B2 (ja) * 2001-10-15 2007-08-22 富士通株式会社 導電性有機化合物及び電子素子
ATE432306T1 (de) * 2003-03-07 2009-06-15 Merck Patent Gmbh Fluorene und arylgruppen enthaltende mono-, oligo-und polymere
US7166327B2 (en) * 2003-03-21 2007-01-23 International Business Machines Corporation Method of preparing a conjugated molecular assembly
US7102017B2 (en) * 2004-06-10 2006-09-05 Xerox Corporation Processes to prepare small molecular thiophene compounds

Also Published As

Publication number Publication date
EP1531155B1 (de) 2007-08-01
DE10353093A1 (de) 2005-06-16
KR20050045898A (ko) 2005-05-17
US7196206B2 (en) 2007-03-27
JP4955918B2 (ja) 2012-06-20
ATE368675T1 (de) 2007-08-15
CA2487210A1 (en) 2005-05-12
JP2005145968A (ja) 2005-06-09
US20050139822A1 (en) 2005-06-30
KR101178701B1 (ko) 2012-08-30
EP1531155A1 (de) 2005-05-18
TW200534480A (en) 2005-10-16
IL165133A0 (en) 2005-12-18
DE502004004498D1 (de) 2007-09-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI363760B (en) Novel condensed polycyclic aromatic compound, production method thereof, and usage thereof
JP5283635B2 (ja) 有機トランジスタおよびその製造方法
JP5867583B2 (ja) 新規なカルコゲン含有有機化合物およびその用途
WO2011004869A1 (ja) 置換ベンゾカルコゲノアセン化合物、該化合物を含有する薄膜及び該薄膜を含有する有機半導体デバイス
JP5767915B2 (ja) ホウ素含有化合物
JP2008513544A (ja) カルボニル官能化チオフェン化合物および関連する装置構造
JPWO2006070817A1 (ja) 有機ホウ素π電子系化合物及びその合成中間体
TWI379416B (en) Asymmetrical linear organic oligomers
JP4752269B2 (ja) ポルフィリン化合物及びその製造方法、有機半導体膜、並びに半導体装置
EP3953491B1 (en) Polycyclic aromatic bridges for molecular electronic sensors
JP4528000B2 (ja) π電子共役系分子含有ケイ素化合物及びその製造方法
JP2008084980A (ja) デバイス
JP2005347661A (ja) チオフェン環縮合アントラセン化合物を含む可溶型新規有機半導体材料および有機トランジスタ素子
JP4177286B2 (ja) 新規なアントラセン誘導体
JP6400268B2 (ja) フルバレン化合物及びその製造方法、並びに、太陽電池用材料及び有機トランジスタ用材料
KR100809430B1 (ko) 비대칭 디설파이드 정착기를 가지는 분자 전자소자용화합물 및 그 제조 방법과 그 화합물로부터 얻어지는 분자활성층을 가지는 분자 전자소자
JP6833188B2 (ja) 化合物、それを用いた発光若しくは電子材料、及びガスセンサ材料
KR100819059B1 (ko) 비대칭 디설파이드 정착기를 가지는 분자 전자소자용화합물 및 그 제조 방법과 그 화합물로부터 얻어지는 분자활성층을 가지는 분자 전자소자
JP6066190B2 (ja) フェロセン構造を有する有機ヘテロ高分子
JP2004307847A (ja) 機能性有機薄膜及びその製造方法
KR100799593B1 (ko) 비대칭 디설파이드 정착기를 가지는 분자 전자소자용화합물 및 그 제조 방법과 그 화합물로부터 얻어지는 분자활성층을 가지는 분자 전자소자
JP2013194039A (ja) ホウ素含有化合物及びその製造方法
JP2010155791A (ja) 縮合多環式芳香族化合物、その製法、及び縮合多環式芳香族化合物の共重合体
WO2005105820A2 (en) Macrocyclic cadmium complexes
JP2003238525A (ja) ターフェニルジ−、トリ−またはテトラ−チオールまたはチオラート及びその合成方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees