TWI376982B - Coating method and pattern forming method - Google Patents

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2011118328A (ja) * 2009-11-02 2011-06-16 Sumitomo Chemical Co Ltd ランダムパターンの作成方法
JP6057406B2 (ja) * 2012-01-06 2017-01-11 住友重機械工業株式会社 薄膜形成装置及び薄膜形成方法
CN103293859A (zh) * 2013-05-27 2013-09-11 苏州扬清芯片科技有限公司 光刻胶薄膜的制作方法
CN110518154B (zh) * 2019-08-28 2021-08-24 京东方科技集团股份有限公司 一种封装方法、薄膜封装结构及显示装置
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62231786A (ja) * 1985-11-20 1987-10-12 Toppan Printing Co Ltd 着色被膜形成方法
CN1293784C (zh) * 1998-03-17 2007-01-03 精工爱普生株式会社 薄膜构图衬底、薄膜形成方法和薄膜元件
JP3616584B2 (ja) * 2000-06-12 2005-02-02 鹿児島日本電気株式会社 パターン形成方法及びそれを用いた表示装置の製造方法
JP4309331B2 (ja) * 2004-11-26 2009-08-05 Ｎｅｃ液晶テクノロジー株式会社 表示装置の製造方法及びパターン形成方法
JP4876415B2 (ja) * 2005-03-29 2012-02-15 セイコーエプソン株式会社 有機ｅｌ装置の製造方法、デバイスの製造方法

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