TWI374290B - Stacked film for optical use - Google Patents

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1374290 九、發明說明： I；發明所屬^-技術領域】 發明領域 本發明係關於一種供光學用之堆疊式薄膜，更特定古 5 之係關於具有良好抗反射效能及防蝕性，且可成本有效地 製造之一種供光學用之堆疊式薄膜。 I：先前技術3 發明背景 大致上’於PDP、CRT及LCD顯示器中，入射於榮幕上 10 之光反射造成難以觀看所顯示的圖像。特別隨著平板顯示 器尺寸的變大，解決前述問題變成益發重要的議題。 為了解決前述問題，曾經採用抗反射處理或減少炫光 處理，例如對顯示器使用抗反射膜。 此種抗反射膜之製法係經由習知藉乾被覆法例如沉 15積、濺鍍等施用低折射率材料(MgF2)至基材薄膜上形成為 薄膜製造，或另外，經由堆疊一高折射率材料(ιτο :掺錫 氧化銦、ΑΤΟ:掺錫氧化銻、Zn0、Ti〇2等）及一低折射率 材料(MgF2、Si〇2等）而製造。但利用乾被覆法所製造之抗 反射膜於商業上生產時不具有成本效益。 20 如此嘗試利用濕被覆法製造抗反射獏來解決前述先前 技術問題，此種方法實際上用於量產。但利用濕被覆法所 製造之抗反射膜比較利用乾被覆法所製造之抗反射膜不利 地具有防蝕性較低的問題。 5 於已知之塑膠基材薄膜之樹脂材料。基材薄膜100用之樹脂 材料之實例包括具有選自於由酯、乙烯、丙烯、二乙酸酯、 二乙酸酯、苯乙烯、碳酸酯、甲基戊烯、颯、醚、乙酮、 醯亞胺、氟、尼龍、丙烯酸酯、脂肪酯、烯烴等所組成之 5組群中之一個亞單元之聚合物或共聚物。 較佳為具有選自於酯類諸如聚對苯二甲酸伸乙酯、乙 酸酯類例如三乙醯基纖維素及丙烯酸酯類例如聚甲基丙烯 酸甲酯等中之一個亞單元之聚合物或共聚物。原因在於就 所形成之薄膜之透明度、強度及均勻厚度等性質良好。特 10別，就透明度、濁度值及機械性質而言，較佳為由具有一 個酯亞單位之聚合物所組成之基材薄膜100。 此種聚酯樹脂之實例包括聚對苯二甲酸伸乙酯'聚伸 乙基-2,6-萘二甲酸酯、聚對苯二甲酸伸丁酯、聚伸乙基_α， 冷-貳(2-氣笨氧基）乙烷_4,4，_二羧酸酯等。於此等共聚酯中 15可共聚合20莫耳％或更小量之二叛酸組分或二醇組分。於 聚醋樹脂實例十’通常考慮品質、經濟效益等，以聚對苯 二甲酸伸乙酯為特佳。 可使用邊等樹脂中之任__類別或二或多個類別之組合。 &根據本發明之供光學用之堆疊式薄膜中之基材薄膜 2〇 100之厚度並未限於特定值，但通常為5微米至8〇〇微米且較 佳為10微米至250微米。基材薄膜1〇〇可為以已知方式將兩 張或多張薄膜連結所製成之薄膜。 此外’於形成高折射率層110之前，基材薄膜100可經 過表面處理(例如電暈放電、輝光放電、談處理、触刻或粗 9 1374290 化等）此外’為了協助黏著，於被覆基材薄膜表面作為底 層後可形成高折射率層110 (例如使用聚胺基甲酸醋、聚 酯、聚酿丙稀酸醋、聚胺基曱酸醋丙稀酸龜、聚環氧基丙 烯酸醋、欽_化合物等被覆）。特定言之，就改良黏著性、 5良好对用性諸如耐熱性、防濕性等方面而言，基材薄膜之 較佳實例係經由施用一種組成物作為底劑而製造，該组成 物包含經由將丙烯酸系化合物接枝至具有親水基之聚醋樹 脂所製成之共聚物及交聯黏結劑。 其次，根據本發明之供光學用之堆疊式薄膜之高折射 10率層110形成於基材薄膜100上。高折射率層11〇主要包含傳 導顆粒及黎結劑組分。於本發明中，傳導顆粒為金屬顆粒 或金屬氧化物顆粒。但就高透明度而言，以金屬氧化物顆 粒為佳。特別對金屬氧化物顆粒而言較佳者為捧錫氧化錄 (ΑΤΟ)顆粒、掺鋅氧化録顆粒、摻錫氧化銦帅)顆粒、氧 化鋅/氧化_粒、及氧化銻顆粒；且更佳為掺錫氧化録 (ΑΤΟ)顆粒及掺錫氧化銦(ιτο)顆粒。 較佳本發明之傳導顆粒具有平均一次顆粒直徑為〇5 微米（根據BET法則測量之球體相當直徑），但更特別為 0.001微米至0.2微米。若平均一次顆粒直徑係高於該範圍， 20則所製造之薄膜(傳導層〗20)之透明度降低。若平均直徑係 低於該範圍，則顆粒可能凝聚，因而造成所製成之薄臈（高 折射率層110)之濁度值增高。因此於兩種情況下，難以獲 得期望之濁度值。 於高折射率層110中之黏結劑組分為（甲基）丙烯酸酯化 10 合物。该（曱基）丙烯酸酯化合物係經由照射光化射線而進行 自由基聚合，較佳在於其可改良所製造之薄膜之耐溶劑性 或硬度。分子内有兩個或多個（甲基）丙烯醯基之多官能（甲 基）丙稀酸醋化合物為特佳，原因在於耐溶劑性因而獲得改 良。多官能（曱基）丙稀酸醋化合物之實例包括3_多官能（曱 基）丙烯酸醋類例如季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、三羥甲基 丙烷三（甲基）丙烯酸酯、甘油三（甲基）丙烯酸酯、改性伸乙 基三羥甲基丙烷三（曱基）丙烯酸酯、參(2_羥基乙基)·異氰尿 酸醋三（甲基）丙烯酸酯及4-或4以上-多官能（甲基）丙烯酸酯 類例如李戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇五（甲基）丙 稀酸醋、二季戊四酵六（甲基）丙稀酸醋等。 根據本發明之供光學用之堆疊式薄膜之低折射率硬質 被覆層120係形成於該高折射率層11〇上，主要包含（甲基） 丙烯酸酯化合物。（甲基）丙烯酸酯化合物藉照射光化射線進 行自由基聚合反應’改良所製造之薄膜之耐溶劑性或硬 度。特別，（甲基）丙烯酸酯化合物之實例包括單官能丙稀酸 醋化合物，例如（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸正丁醋、 (曱基）丙烯酸多酯、（甲基）丙烯酸月桂酯、（甲基）丙稀酸經 乙酯、（甲基）丙稀酸經丙酯。此外，由於可改良所製造之薄 膜之耐溶劑性，故以分子内有兩個或多個（甲基）丙稀醞基之 多官能（甲基）丙烯酸酯化合物為特佳。多官能（甲基）丙稀酸 醋化合物之特例包括三（甲基）丙烯酸李戊四醇酯、四（甲基） 丙烯酸李戊四醇酯、三（甲基）丙烯酸二季戊四醇酯、四（曱 基）丙烯酸季戊四醇酯、五（甲基）丙烯酸甲季戊四醇能、六 (甲基）丙烯酸李戊四醇酯、三（甲基）丙烯酸三羥甲基丙酯 等則述各單體可分開使用或與其中二類型或多類型之組 合使用。 本發明中用於形成低折射率硬質被覆層120之組態中 樹月S 且刀包3無機顆粒例如烧基石夕酸鹽及其水解產物、 -體—氧化石夕、乾二氧化石夕、濕、二氧化石夕及欽氧化物或二 氣化矽粒子分散於膠體等來改良硬質被覆層之硬度。於本 發明之供光學用之堆疊式薄膜中，低折射率硬質被覆層之 料月曰組分含有$氧垸聚合物。包含⑦氧燒聚合物之該層之 〇實例包έ無機一氧化石夕化合物(也含有聚石夕酸鹽類）、聚有機 基矽氧烷化合物或其混合物等各層。形成各層之二氧化矽 化合物或聚有機基矽氧烷化合物可以已知之習知方式製 造。依據用途而定，低折射率硬質被覆層120之厚度可適當 選用，但較佳為0.05微米至1〇 〇微米。若低折射率硬質被覆 15層I20之厚度係大於1〇微米，則所製造之薄膜之透明度降 低，因而導致較高濁度值，及較脆弱之硬化薄膜。於此種 情況下，當薄膜彎曲摺疊時，低折射率硬質被覆層12〇之缺 點為可能產生裂痕。 根據本發明之供光學用之堆疊式薄膜之低折射率硬質 2〇被覆層I20係形成於高折射率層110上，且主要包含含氟化 合物。 本發明所使用之含氟化合物較佳係利用加熱交聯或游 離輻射交聯。交聯後之含氟化合物可為由不飽和基團之含 氟單體或有交聯基之含氟聚合物，或有含氟單體亞單位及 12 組分之該結構單元比例為10莫耳％至70莫耳％

莫耳細莫W啊％至轉耳％。若源L 具有乙_結構之化合物組分之結構單元比例低於10莫耳 %，則被覆液之均f度低劣，如此難以形成均質被覆薄膜。 右比·於70莫耳％，則低折射率硬質被覆層12G並不佳， 原因在於光學性質例如透明度降低且具有低折射率。使用 具有反應性官能基諸如減或環氧基之單體作為具有乙稀 越結構之化合物組分為較佳，原因在於所獲得之可硬化樹 脂組成物可用作為被覆材料而硬化後薄膜之強度改良。具 有經基或環氧基之單體對單體總量之比為〇至2〇莫耳％，較 莫耳％至20莫耳％及更佳3莫耳％至15莫耳％。若該比例 局於2〇莫耳％ ’則所得低折射率硬質被覆層120的光學性質 低劣而可能導致硬化後薄膜脆弱。於包含反應性乳化劑之 含款共聚物中，源自於反應性乳化劑組分之亞單元之比例 通常為0莫耳％至10莫耳％且較佳為〇1莫耳％至5莫耳％。若 。亥比例向於1〇莫耳。/。’則所得低折射率硬f被覆層12〇可能 具有黏著性，如此並不佳，原因在於處理不易且被覆材料 之抗濕性降低》 較佳於本發明中之低折射率硬質被覆層120除了含氟 共聚物之外包含交聯化合物，原因在於其具體表現一給定 之硬化效能程度，且可有效改良硬化效能。 交聯化合物之實例包括胺基化合物、季戊四醇、多酚、 甘醇、烷基矽酸鹽類及含羥基之化合物例如其水解產物 荨用作為父聯化合物之胺基化合物為具有胺基例如經基 1374290 院基胺基或炫氧基&基胺基且可與纟氟化合物t經基或環 氧基反應之化合物，該化合物共有兩個或多個基團且得自 前述胺基中之任一者或二者。特別，胺基化合物之實例包 括蜜胺化合物、脲化合物、笨并胍胺化合物及甘脲化合物。

5該蜜胺化合物為已知有一框架其中氮原子係與三畊環鍵結 之化合物，例如蜜胺、烷基蜜胺、羥曱基蜜胺、烷氧基甲 基蜜胺等。其中較佳為一個分子共有兩個或多個基團之化 合物，該基團可為羥甲基及烷氧基甲基中之任一者或二 者。特別較佳為經由蜜胺與甲醛於鹼性條件下反應所得之 ίο經曱基蜜胺、烷氧基甲基蜜胺或其衍生物。特別，烷氧基 甲基蜜胺之較佳之處在於可硬化樹脂組成物而獲得良好保 藏安定性及良好反應效能。對用作為交聯化合物之羥甲基 蜜胺及烷氧基甲基蜜胺並無特殊限制，可使用以文件「塑 膠材料[8]尿蜜胺樹脂」（尼剛(Nitgan)高等學校新聞出版社 15 出版)所述方式獲得之多種樹脂。脲化合物之實例為羥曱基 脲酮及烷氧基甲基脲酮，具有多羥曱基尿、衍生自其中之 烷氧基曱基脲及除了尿之外含有一個脲酮環。至於尿衍生 物化合物，可使用前述文件所述之多種樹脂。 以100份重量比含氟共聚物為基準，此種交聯化合物之 2〇 用量係不超過70份重量比，較住為3至50份重量比及更較為 5至30份重量比。若交聯化合物之用量低於3份重量比，則 無法獲得藉被覆及硬化所形成之期望的薄膜耐用程度。若 用量係高於70份重量比，則難以避免與含氟共聚物反應發 生膠凝，且硬化後薄膜不具有低折射率’故所得硬化膜不 15 如期望般的強勁。 此外，較佳低折射率硬質被覆層12G包含二氧切顆粒 及/或残偶合劑，及/或具枝氧基㈣基之錢樹脂來具 體實施防蝕性。 八 二氧切難組分較佳包含乾4切、濕二氧化石夕 及二氧化矽顆粒分散於膠體。二氧化矽顆粒之平均一次顆 粒直技(球體相當直徑：BET關）itf桃咖微米至〇 2微 米且較佳為0.005微米至〇15微米。若平均顆粒直徑係於該 較佳範圍内，則低折射率硬質被覆層12〇之透明度不會降 低，表面硬度容易改良。此外，二氧化矽顆粒之形狀較佳 為球形或中空圓柱形。該二氧化矽顆粒，可使用各自有不 同平均顆粒直徑之顆粒的兩種或多種組分。二氧化矽顆粒 可經表面處理。用於表面處理，可採用物理表面處理諸如 電漿敌電或電暈放電，或使用偶合劑之化學表面處理但 較佳採用化學處理。至於化學處理，較佳採用矽烷偶合劑。 得自二氧化矽顆粒之組分以固型物比表示為5%至50%，較 佳為5%至40%及更佳為5%至30%。若得自二氧化矽顆粒之 組分比係於較佳範圍，則所得低折射率硬質被覆層120具有 期望之表面硬度，也有良好光學特性，例如低透明度、低 折射率等。 石夕烷偶合劑組分為結構式1 R( 1 )aR(2)bSiXMa+b)表示之 化合物或其水解產物。此處，R(l)aR(2)b為具有烷基、烯基、 丙烯基或齒基之烴基、環氧基、胺基、酼基、甲基丙烯醯 氧基、氰基等。X為選自於由烷氧基、烷氧基烷氧基、鹵基 1374290 及酿氧基所組成之組群之可水解取代基。如上化學式i中， a及b分別為〇、印，及(，為卜如。以固型物比表示， 源自於㈣偶合狀組分為5%至7G%，較佳為丨5%至65%， 及更佳為2 0 %至6 0 %。當源自於石夕烧偶合劑之組分係於前述 5較佳範圍時，所得低折射率硬質被覆層12〇具有期望之表面 硬度，也具有良好光學特性，例如透明度、低折射率等。 帶有烷氧基矽烷基之含氟樹脂為化學式2 表示之化合物或其水解產物。此處， R(3)cR(4)d為具有含氟取代基、烷基、烯基、丙烯基甲基 1〇丙烯醯氧基、（甲基）丙稀醯基等之烴基。乂為選自於由院氡 基、烷氧基烷氧基'齒基或醯氧基所組成之組群之可水解 取代基。如上化學式2中，c及d分別為〇、i、2或3，及(c+d) 為1、2或3。 以固型物比表示，源自於具有烷氧基矽烷基之含氟樹脂 15之組分為20%至90%，較佳25%至80%，及更佳3〇%至7〇〇/0。 當源自於具有烷氧基矽烷基之含氟樹脂之該組分比例係於 前述較佳範圍時，所得低折射率硬質被覆層12〇有期望之表 面硬度，也有良好光學特性，例如透明度低反射率等。 當於本發明中形成低折射率硬質被覆層12〇，可使用硬 20化催化劑來輔助加速被覆液硬化。較佳硬化催化劑為可協 助矽烷偶合劑例如酸性化合物縮合之硬化催化劑。酸性化 合物之較佳實例為路易士酸性化合物。路易士酸性化合物 之實例為金屬烷氧化物例如乙醯基乙醯氧基鋁或金屬整合 物。可適當選擇硬化催化劑之用量，但以1〇〇份重量比石夕烧 17 偶合劑為基準， 通常為0.1份至10份重量比。 覆層120 ’若有所需可 抗氧化劑、分散劑、 當於本發明形成低折射率硬f被覆層 添加各種添加劑，例如聚合抑制劑、 均平劑等。 佳為0·5%至2.7%。若濁度值係高於3 〇% 為了製造根據本發明之反射效能良好之高度透明抗反 射膜較佳將堆S式薄膜之濁度值轉於GU 3卿。且較 則不可能獲得期 望之堆疊式薄膜之透明度。 為了獲得本發明中低折射率硬質被覆層⑽表面上之 10良好防歸，低折射率硬質被覆和〇表面必須有細小敵 相。藉敏褶表面所得表面粗度與防錄間之關係考慮係由 下列機轉影響。換言之對於精細級褶表面，當將鋼絲域於 皺褶表面上滑動時，鋼絲絨只接觸凸部且滑動，故如所需， 與低折射率硬質被覆層12〇之接觸面積變最小。結果特別防 15飯性改良。低折射率硬質被覆層120之皺褶面之算術平均粗 度(Ra)大致上為〇.003微米至0.025微米，更佳為〇 〇〇4微米至 0.022微米及又更佳為0.004微米至0.020微米。若皺褶面之 算術平均粗度(Ra)係高於前述較佳範圍，則低折射率硬質 被覆層120之濁度值增高，結果導致透明度降低。若皺褶面 20之算術平均粗度(Ra)係低於載明之範圍，則難以改良防钱 性。為了於本發明形成低折射率硬質被覆層12〇之細小皺褶 面’較佳該硬質塗覆層120包含無機顆粒，例如膠體二氧化 矽、乾二氧化矽、濕二氧化矽、氧化鈦、玻璃珠、氧化铭、 碳化矽、氮化矽、二氧化矽顆粒分散於膠體等。更佳該硬 18 1374290 質塗覆層120包3 —氧切顆粒分散於膠體。特別，較佳使 用有兩種或多種顆粒直徑散度組分之二氧化石夕顆粒。例如 經由具有+均顆粒直徑為G_微米至⑽2微来及㈣微米 至0.2微米之二氧切顆粒混合物，可形成細小皺摺面。 :讓本發月之堆疊式薄膜於低折射率硬質被覆層 no該側表面具有低反概，要求堆疊式薄叙最大反射比 係不大於4.0〇/〇’最小反射比係不小於〇 ι%。若反射比係高 於/低於載明之範圍，則外來光線可照射，堆疊式薄膜表面 無法製作成具有低反射比。 1〇 為了讓本發明之堆疊式薄膜於低折射率硬質被覆層 120該側表©具有低反射比，較佳高折射率層削及低折射 率硬質被覆層120之折射率與厚度之乘積為目標射線(通常 為可見光)波長之1/4 °因此於高折射率層11〇及低折射率硬 質被覆層120中’厚度與折射率n乘積之四倍較佳係於38〇奈 1S米至780奈米。亦即較佳高折射率層11〇及低折射率硬質被 覆層12 0之折射率η與厚度d間之關係係與根據如了方程式丄 之範圍： (1) η · d= λ /4， 20 此處11表示可見光波長通常為380奈米S λ S780奈米。 為了製造具有低反射比之本發明之堆疊式薄膜，較佳 高折射率層110之厚度為30奈米至1〇〇奈米。低折射率硬質 被覆層120之厚度範圍較佳為〇.〇5微米至10〇微米，及更佳 為0.07微米至〇_ 12微米。若高折射率層η。及低折射率硬質 19 1374290 被覆層120個別厚度非於載明之範圍内，則無法滿足如上方 程式1，該堆疊式薄膜於低折射率硬質被覆層蘭亥側之表 面不具有低反射比。 此外，為了讓本發明之堆疊式薄膜於低折射率硬質被 5覆層薦謂表面具有低反射比，低折射率硬質被覆層120 之折射率係小於高折射率層110之折射率，亦即低折射率硬 質被覆層120之折射率/高折射率層ιι〇較佳係小於1〇及更 佳為0.6至0.95。低折射率硬質被覆層12〇之折射率較佳係不 大於1.47,及更佳為l.38u48。目前難以形成折射率小於 1〇 L38之低折射率硬質被覆層⑼，折射率大於1>48導致高反 射比。 田於本發明形成咼折射率層11〇及低折射率硬質被覆 層120時’可使用起始劑來協助所施用的黏結劑組分之硬 化。 15 起始劑係用來起始或協助所施用之黏結劑組分利用自 由基反應、陰離子反應、陽離子反應等而進行聚合反應及/ 或父聯反應，習知之光聚合起始劑可用於本發明。特別起 始劑之實例包括硫化物例如甲基二硫代胺基甲酸硫化鈉、 二苯基一硫化物、二苯并嘍唑一硫化物、二硫化物等；硫 20 "山酮衍生物例如硫°山酮、2-乙基硫》山酮、2-氣硫汕酮、2,4-一乙基硫山酮等；偶氮化合物例如腙、偶氮貳異丁腈等； 重氮化合物例如并二重氮鑕鹽等；芳香族羰基化合物例如 為安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、二苯甲酮、二甲基 胺基二苯曱酮、麥克氏(Michler’s)酮、苄基蒽g昆、第三丁基 20 恩酉昆、2-甲基蒽親、2_乙基蒽親、2•胺基昆、2氣fg昆等； :烷基胺基酯苯甲酸酯類例如對二甲基胺基甲基苯甲酸 =、對二甲基胺基乙基苯甲酸醋、D甲基胺基丁基苯甲竣 知、對二乙基胺基異丙基苯甲酸醋等；過氧化物類例如過 5，化笨甲醯、過氧化二.第三丁基、過氧化二異丙苯、異内 笨過氧氫等；吖啶衍生物例如9_苯基吖啶、9對甲氧基笨基 吖咬、9·乙醯基胺基代、苯并μ等；啡讲衍生物例如 9，10-_甲基苯并啡_、9_曱基苯并啡啡、•甲氧基笨并哪 畊等；喳胺啉衍生物例如5,4，，4”·三甲氧基_2,3_二甲基喳二 1〇啉等；2,4,5-三苯基味嗤二聚體、2_硝基苟、2,4,6-三苯基％ 咬鏘4敦化笨、2,4,6·參(三氯甲基⑴^三啡、3,3，幾基戴 香草素、硫麥克氏酮、2,4,6-三甲基苯甲酿基二苯基氣二 鱗、寡(2-絲-2-甲基-H4仆甲基乙稀基）苯基）丙嗣、 苄基-2-二甲基胺基_ι_(4·咮琳)苯基·丁酮等。 15 糾當於本發明形成高折㈣層11G及低折射率硬質 被覆層丨2〇時，胺化合物可共存於光聚合起始劑來避免起始 劑敏感度因氧抑制而降低。胺化合物非僅限於特定類型，。 而可為脂肪族胺化合物或芳香族胺化合物，只要為非揮發 性即可。胺化合物之實例為三乙醇胺、甲基二乙醇胺等。 2〇 於本發明中，以黏結劑組分對顆粒之重量比表示，高 折射率層no之各組分之混合比要求為10/90至3〇/7〇且較佳 為15/85至25/75。若顆粒含量係低於該範圍，則所得薄膜之 傳導性並不佳’但具有期望之透明度。若其含量係高於該 範圍，則所得薄膜不合所需，原因在於薄膜之物理強度及 21 化干強度不佳。以100份重量比黏結劑組分為基準，本發明 之光聚合起始劑之用量通常為0.1份至20份重量比，且較佳 為1.0伤至15.〇知重量比。若本發明之光聚合起始劑之含量 係小於0.1伤重篁比，則光聚合過程緩慢，可能需要照光長 5時間來獲得期望之硬度及防姓性，薄膜偶而可能並未全然 硬化若其3畺係尚於2〇份重量比，所得薄膜可能傳導性、 防蝕性、耐候性等性質降低。 根據本發明之良好反射效能之抗反射膜中之高折射率 層110之主要組分為如前文說明之減劑組分、傳導顆 10光聚合起始劑，以及若有所需也可包含任一種添加劑例 如聚S抑制劑、硬化催化劑、抗氧化劑、分散劑、均平劑、 矽烷偶合劑等。 為了讓高折料層11G之組成分具有料性，該層進一 步包含傳導聚合物例如聚料及聚苯胺，及有機金屬化合 15物例如金屬醇酸鹽及螯合化合物。為了改良高折射率層11〇 之表面硬度’該層11()進—步包含無機顆粒例如烧基石夕酸鹽 及，、水解產物、膠體二氧化石夕、乾二氧化石夕濕二氧化石夕 以及氧化域二氧切雖分散於雜等作為組成分。 為了於本發明之⑤折射率層11G獲得期望之消靜電效 20旎N折射率層110之表面電阻較佳係不高於i X 1〇11 (歐姆/ 平方(〇hm/sq)及更佳不高於1 X 101G歐姆/平方。 本發明之高折射率層11〇具有總光透射比較佳不低於 40%，更佳不低於6〇0/。。 現在將說明本發明之供光學用之堆疊式薄膜之製法。 22 1374290 根據本發明之供光學用之堆疊式薄膜之製法係經由於 基材薄膜100之至少一侧上堆疊包含含氟化合物樹脂及金屬 氧化物之if)折射率層110，以及然後於高折射率層110上堆疊 低折射率硬質被覆層120，該層120包含（甲基）丙烯酸酯化合 物、骨架中具有乙烯醚結構之含氟共聚物及金屬氧化物。

本發明中之高折射率層11〇及低折射率硬質被覆層12〇 之形成方式係經由控制被覆液，其中各個組分較佳係分散 於溶劑，將該被覆液施用於一基材薄膜上，以及然後乾燥 及硬化被覆後之薄膜。 10 用於形成本發明之高折射率層110之溶劑經混合來改

良本發明之各組分被覆效能或印刷效能，同時也改良顆粒 之分散性，該溶劑並未限於特定類別，可為任—種習知之 有機溶劑’但限制條件為該溶劑可溶解黏結劑組分。特別， 以本發明之各組成物黏度安定性及乾燥效能表示，較佳為 15具有彿點C至180 C之有機溶劑。也較佳為含氧原子之有 機溶劑’原因在於其與金屬顆粒具有良好親和力。此種有 機溶劑之實例為甲醇、乙醇、異丙醇、正丁醇、第三丁酵、 乙一醇一曱趟、1-甲氧基-2-丙醇、丙二醇一曱鍵、環己酮、 乙酸丁酯、異丙基丙酮 '異丁酮、曱基異丁基甲朗、二乙 20醯基丙酮、乙醯基丙酮等。此等有機溶劑可分開使用或組 合兩類或多類使用。 此外’有機溶劑之用量可選擇讓組成物依據被覆手段 或印刷手段而定獲得適當黏度因而有良好加工性，但以組 成物之固體密度表示，通常係不大於60重量％且較佳不大 23 於50重1%。大致上’顆粒添加至溶液於該溶液中 組分係溶解於有機溶劑，然後利用分散機器例如塗料振搖 器、球磨機、砂磨機、三報磨機、亞萊特機(atUgh叫 此機等7J散’然後將光聚合起始劑添力σ至所得思合物來均 5勻溶解於其中。 此外，當形成低折射率硬質被覆層120時，主要包人人 氟化合物之可硬化組成物係分散於選自於下列所組 群中之至少一型溶劑：甲醇'乙醇、異丙醇、正丁醇3 三丁醇、乙二醇-甲醚、i甲氧基_2_丙醇、丙二醇—甲醚、 %己酮、乙酸丁醋、異丙基丙嗣、異丁嗣、甲基異丁基Y 酮、二乙醯基丙_及乙酿基丙_。然後所得混合物較二係 藉乾燥及硬化使用該混合物所被覆之薄膜來施用而形成低 折射率硬質被覆層12g。於此種情況下，溶劑 物之期望減、魏膜之㈣厚度、㈣溫度料 15 &聽據本發明之供光學社堆疊式薄膜之顯示裝置 用之薄膜之製法，係經由於該堆疊式薄膜之低折射率硬質 被覆層120上形成-黏著層，以及然後將一保護膜黏著於該 黏著層上。黏著層並未囿限於特定類型，限制條件為可利 用黏者性達絲著即可。料形成絲著層之㈣劑可為橡 20膠黏著劑、基於乙_聚合物之黏著劑、基於縮聚合之黏著 劑、基於熱塑性樹脂之點著劑及基於聚石夕氧之黏著劑等。 其中’橡膠黏著劑之實例為基於丁二稀苯乙稀共聚物 (SBR)橡膠、基於丁二稀_丙稀骑共聚物(NBR)橡膠基於氣 T稀聚合物之橡膠'基於異了稀異戊間二稀共聚物橡膠(丁 24 1374290 基橡膠）等。基於乙烯系聚合物之黏著劑之實例為基於丙烯 酸系樹脂、基於笨乙烯樹脂、基於乙酸乙烯酯-乙烯共聚物 及基於乙烯氯-乙酸乙烯酯共聚物等。基於縮聚合之黏著劑 之實例為基於聚酯樹脂之黏著劑。基於熱固性樹脂之黏著 5劑之實例為基於環氧樹脂之黏著劑、基於胺基甲酸酯樹脂 之黏著劑、基於甲醛樹脂之黏著劑等。該等樹脂可分開使 用或組合其中二類或多類使用。 此外，黏著劑可為溶劑型黏著劑或非溶劑型黏著劑。 為了形成點著廣，可採用常用技術，例如以前述黏著劑被 10覆。此外，黏著層可包含著色劑。容易經由將例如含有顏 料或色料之著色劑混合入黏著劑來達成。於含有著色劑之 情況下，較佳根據本發明之供光學用之堆疊式薄膜於55〇奈 米之光透射比係於40%至80%。此外，當根據本發明之供光 學用之堆疊式薄膜用於電漿顯示器時，要求中灰或藍灰用 15於透射光，要求顯示器於發光有改良色純度及反差。因此， 經由使用此種含顏料之黏著劑層可達成此項目的。 由保護膜所組成之樹脂材料並未限於特定類型，而可 選自於用於已知塑勝基材薄膜之樹脂材料。供保護膜用之 樹脂材料之實例包括醋、乙烯、丙稀、二乙㈣、三乙酸 20酯、苯乙烯、碳酸酯、甲基戊烯、砜、醚乙酮、尼龍、^ 烯酸醋；具有選自於環脂族稀煙中之一個亞單 或共聚物。其十，較佳使用係由選自於由基於乙稀或基於 丙稀之聚合物或共聚物，例如聚乙稀、聚丙婦等及基二醋 之聚合物或共聚物例如聚對苯二甲酸伸乙輯等所組成之組 25 1374290 群中之一個亞單元之聚合物或共聚物。特別，以基材為佳， 包含就透明度及機械性質而言由一個基於酯之聚合物或共 聚物亞單元之聚合物。 具有根據本發明之供光學用之堆疊式薄膜之顯示器之 5濾光片之獲得方式，係經由將堆疊式薄膜施用於螢幕之顯 示面及/或施用於顯示器例如LCD、PDP、ELD (電致發光顯 示器）或CRT、PDA之前面板表面上，其中該供光學用之堆 疊式薄膜係施用至該顯示器之薄膜，而黏著層設置於該堆 疊式薄膜與顯示面間。 10 具有供光學用之堆疊式薄膜之顯示器之獲得方式，係 經由將根據本發明之供光學用之堆疊式薄膜黏著至LCD、 PDP、ELD或CRT'PDA等之顯示膜之顯示側上，其中一黏 著層係设置於該堆疊式薄膜與該顯示膜兩面間。 將如此製造之堆疊式薄膜緊密黏著至顯示膜表面及/ 15或前面板表面之手段並未限於特定類別 ，且可用來將黏著 層施用至顯示構件或基材薄膜1〇〇 ;乾燥層狀薄膜 ，以及然 後使用加壓輥輪等連結基材薄膜1〇〇該堆疊式薄膜，讓低折 射率硬質被覆層12〇變成表層，其中黏著層係設置於基材薄 膜100與該顯不構件間。具有供光學用之堆疊式薄膜之顯示 2〇 0之;慮光片及具有供光學用之堆疊式薄膜之顯示器係藉該 手段獲得。 後文將參照本發明之較佳實施例說明本發明之進一步 ’細即’但熟諸技藝人士顯·然易知本發明非僅限於該等實施 例0 26 1374290 [實施例1] 形成高折射率_nr> 含掺錫氧化銦(IT0)顆粒之被覆材料[35 7%固型物、多 官能胺基甲酸酿（甲基）丙稀_/ΙΤ0顆粒(平均一次顆粒二 5徑30奈米）=10/82] (Ε1_3，市面上得自大日本塗料公司_ Nippon Paint Co.))係以丨00:2之重量比混合 料（跳固體，LR_S6_，市面上得自東

Inc·))。然後使用微凹板被覆機，將混合物施用至i88微米 厚度之聚酯薄膜(盧明流(Lumirror)，市面上得自東麗公司） 10之一側上。然後薄膜於8 0 °C藉1 · 〇焦耳/平方厘米紫外光照射 來硬化被覆層，形成厚約100奈米且具有折射率165之高折 射率層110。 形成低折射率鏵皙神-臂 包含多官能丙烯酸系樹脂之被覆材料（5 〇 %固型物） 15 (KZ7528，市面上得自jSR公司）以10:2之重量比混合包含含 氟烯煙/乙烯基醚共聚物）之被覆材料（1〇0/。固型物） (LR-S3000’市面上得自東麗公司）及中空二氧化矽顆粒。 隨後使用微凹板被覆機將混合物施用於高折射率層 110表面。然後薄膜於8(TC乾燥5分鐘來藉1_0焦耳/平方厘米 20紫外光照射硬化被覆層，形成具有折射率1.40厚約〇.5微米 之低折射率硬質被覆層120。 [實施例2] 形成高折射率 含掺錫氧化銦(ITO)顆粒之被覆材料[35.7%固型物、多 27 1374290 官能胺基曱酸酯（甲基）丙烯酸酯/IT0顆粒（平均一欠顆粒直 徑30奈米）=10/82] (Ε1-3,市面上得自大曰本塗料公司）係以 100:10之重量比現合包含氟之被覆材料（iQ%固體， LR-S6000’市面上得自東麗公司）、錢使用微凹板被覆 5機，將混合物施用至188微米厚度之聚酯薄瞑（盧明流，市 面上得自東麗公司）之一側上。然後薄膜於阶藉^ 〇焦耳/ 平方厘米紫外光照射來硬化被覆層，形成厚約1〇〇奈米且具 有折射率1.60之高折射率層no。 形成低折射率硬質被霜層120 10 包3夕g此*丙烯酸系樹脂之被覆材料（5〇%固型物） (KZ7528，市面上得自jSR公司）以10:2之重量比混合包含含 氟烯烴/乙烯基醚共聚物）之被覆材料（1〇%固型物） (LR-S3000，市面上得自東麗公司）及中空二氧化矽顆粒。 隨後使用微凹板被覆機將混合物施用於高折射率層 15 11〇表面。然後薄膜於80 t乾燦5分鐘來藉1〇焦耳/平方紫 外光照射硬化被覆層，形成具有折射率1 6〇厚約〇5微米之 低折射率硬質被覆層120。 [比較例1] 形成高折射率層110 2〇 含掺錫氧化銦(ITO)顆粒之被覆材料[35 7%固变物、多 官能胺基曱酸酯（甲基）丙烯酸酯/ITO顇粒（平均一次顆粒直 徑30奈米）=10/82] (E1 -3，市面上得自大日本塗料公司）係以 100.2之重里比混合包含氟之被覆材料固體， LR-S6000，市面上得自東麗公司）。然後使用微凹板被覆 28 1374290 機，將混合物施用至188微米厚度之聚酯薄膜（盧明流，市 面上得自東麗公司）之—側上。然後薄膜於8〇。〇藉丨〇焦耳/ 平方厘米紫外光照射來硬化被覆層，形成厚約100奈米且具 有折射率1.65之高折射率層11〇。 5 里低折射率硝皙祜釋费 包含含氟共聚物（含氟烯烴/乙稀基_共聚物及中空二 氧化矽顆粒之被覆材料（10%固型物）（LR_S3〇〇〇 ,市面上得 自東麗公司）及使用微凹板被覆機施用至高折射率層11〇表 面。然後薄膜於80 C乾燥5分鐘來藉1.0焦耳/平方紫外光照 1〇射硬化被覆層，形成具有折射率丨.36厚約〇·5微米之低折射 率硬質被覆層120。 [比較例2] 形成高折射率層丨川 3掺錫氧化銦(ΙΤΟ)顆粒之被覆材料[35·7〇/〇固型物、多 15官能胺基曱酸酯（曱基）丙烯酸酯/ΙΤΟ顇粒（平均一次顆粒直 徑30奈米）=1〇/82] (Ε1-3 ’市面上得自大日本塗料公司）係以 100:10之重量比混合包含氟之被覆材料（1〇%固體， LR-S6000,市面上得自東麗公司）。然後使用微凹板被覆 機，將混合物施用至188微米厚度之聚酯薄膜（盧明流，市 20面上得自東麗公司）之一側上。然後薄膜於80°C藉1·0焦耳/ 平方厘米务外光照射來硬化被覆層’形成厚約1 〇〇奈米且具 有折射率1.60之高折射率層110。 形成低折射率硬質被霜層120 包含含親》共5^物（含氣稀煙/乙稀基鱗共聚物及中空二 29 1374290 氧化矽顆粒之被覆材料（10%固型物）（LR-S3000，市面上得 自東麗公司）及使用微凹板被覆機施用於高折射率層110表 面。然後薄膜於80 °C乾燥5分鐘來藉1.0焦耳/平方紫外光照 射硬化被覆層，形成具有折射率1.36厚約0.5微米之低折射 5 率硬質被覆層120。 [表1] 表面電阻 歐姆/平方 最大反射比 ί%) 最小反射比 (%) 鋼絲絨 硬度 濁度 (%) 反射效能 實施例1 108 3.8 0.18 5 0.98 良好 實施例2 109 3.9 0.21 5 1.01 良好 比較例1 108 4.5 0.31 4 1.24 強虹彩形 比較例2 109 4.9 0.32 3 1.14 極強虹彩形

後文將說明本發明之評估及測量方法。 [實驗例1 :評估鋼絲絨硬度]

藉施加250克力/平方厘米負載將一塊#〇〇〇〇鋼絲賊來 1〇回摩擦10次，觀察受損數目。依據受損數目將硬度分成下 列各級：（等級5 :受損，等級4 : 1至5個損傷；等級3 : 5至 10個損傷；等級2 :多於丨〇個損傷及等級1 :全表面受損）。 [實驗例2 :測量濁度] 濁度係使用市面上得自日本蘇甲試驗機公司（Suga 15 Shikenk)之直接讀取濁度電腦測量。 [實驗例3 :評估表面電阻（消靜電效能)；] 表面電阻係使用海維史塔(HIRESTA)，市面上得自曰 本三菱優卡公司（Mitsbushi Yuka)測定。 [實驗例4 :測量反射比] 20 反射比係使用市面上得自日本日立凱索古公司 30 1374290 發明專利說明書丨㈣月如正替換頁 (本說明書格式、順序及粗體字，請勿任意更動，※記號部分請勿填寫） ※申請案號： ※申請曰期：※IPC分類 一、發明名稱：（中文/英文）

供光學用之堆疊式薄膜 STACKED FILM FOR OPTICAL USE 二、申請人：（共1人）

姓名或名稱：（中文/英文） 東麗先端素材股份有限公司/ TORAY ADVANCED MATERIALS KOREA INC. 代表人：（中文/英文） 李泳官 / LEE, YOUNG-KWAN 住居所或營業所地址：（中文/英文） 大韓民國慶尚北道龜尾市臨洙洞93-1番地 93-1 Imsu-dong, Gumi-si, Gyeongsangbuk-do, Republic of Korea 國籍：（中文/英文）

韓國/ KOREA

公告本 {/(( (2006.01) Ε>^^β η/of mom) 二、發明人：（共6人） 姓名：（中文/英文） L 崔光輝 / CHOI, KWANG HUI 2·李文馥 / LEE, MOON Β0Κ 3·徐基奉 / SUH, KI BONG 4·嚴相烈 / 11，SANG YEOL 5·金相弼 / KIM, SANG PIL 6·趙榮鎬 / CHO，YOUNG HO 國籍：（中文/英文）

1-6.韓國 / KOREA 第097106317號專利申請案說明書替換頁日期：1〇ι年6月15日 【發明内容；1 發明概要 本發明係意圖解決前述先前技術問題。 本發明之一個目的係提供可有效消除圖像顯示元件表 面上之光反射，高度防蝕性，需要低製造成本之一種供光 學用之堆疊式薄膜。 前述及其它本發明之目的及優點由後文詳細說明之本 發明之較佳實施例參照附圖將更為彰顯。 達成前述目的之根據本發明之供光學用之堆疊式薄 膜，其特徵在於包含：一基材薄膜；提供於該基材薄膜之 至；一側上之一尚折射率層，其包含帶有含氟化合物之樹 脂、金屬氧化物及光聚合起始劑，該層具有158至170之折 射率及30奈米至100奈米之厚度；以及提供於該高折射率層 上之一低折射率硬質被覆層，其包含（甲基）丙烯酸酯化合物 及骨架中具有乙烯醚結構之含氟共聚物及金屬氧化物，該 層也具有1.38至1_48折射率及〇.〇5微米至1〇.0微米之厚度。 較佳，根據本發明之供光學用之堆疊式薄膜之特徵在 於，於該高折射率層中，該金屬氧化物含量為5重量％至卯 重量％。 較佳，根據本發明之供光學用之堆疊式薄骐之特徵在 於，於該高折射率層中，該金屬氧化物為選自於有掺錫氧 化銻顆粒、掺鋅氧化銻顆粒、掺錫氧化銦顆粒、氧化鋅/氧 化鋁顆粒、及氧化銻顆粒所組成之組群中之至少—者 較佳，根據本發明之供光學用之堆疊式薄膜之特徵在 於，於該低折射率硬質被覆層中 矽/中空二氧化矽顆粒。 該金屬 氣化物為二氧化 似料㈣之料料之堆4 於，於該輯射率㈣被制中，該二氧 ^特徵在 梦顆粒具有顆粒直徑為咖微米至0.2微米。〜氧化 於，縣學用之堆4式_之特徵在 至少如 脚難具有顆粒直徑散度為 疊式薄膜之特徵在 凸面，及算術平均 較佳，根據本發明之供光學用之堆 於該低折射率硬質被覆層120之表面為凹 粗度(Ra)為0.003微米至0〇25微米。 較佳，根據本發明之供光學用之堆 於該堆疊式薄膜之反射比狀1%至4%/相之特徵在 式薄膜之特徵在 較佳，根據本發明之供光學用之堆疊 於該堆疊式薄臈之濁度值為0.5%至3.0%。 圖式簡單說明 參照附圖，由後文較佳實施例之詳細說明，本發明之 特徵及優點將更為彰顯，附圖中： 第1圖係顯示抗反射膜原理； 用之堆疊式薄臈 第2圖示意顯示根據本發明之供光學 之一堆疊結構之橫切面圖。 I：實施方式3 較佳實施例之詳細說明 後文將參照實施例及附圖說明本發明之進—步細从。 熟諳技藝人士顯㈣知該等實施例係供舉例說明ς ς= 進步細節，但非囿限本發明之範圍。 &第2圖為根據本發明之供光學用之堆疊式薄膜之一堆 =結構之，切面圖。如圖所示，於該基材薄膜1〇〇之上係依 隹疊一岗折射率層110及一低折射率硬質被覆層120。並 且，=保護膜130位於該低折射率硬質被覆層12〇之上且 、黏著層140與一離型膜(release film)150係位於該基材可 被堆疊的另一面上。 發明人研究具有良好抗反射效能及防蝕性且可成本有 j地製造之一種抗反射膜之製法，如此發現一種適合用於 刖述目的之供光學用之堆疊式薄膜，該薄膜係利用濕被覆 ，製造，其製法係堆疊包含金屬氧化物及含氟化合物之一 咼折射率層於一基材上，以及然後堆疊具有給定相及厚度 之低折射率硬質被覆層，因而完成本發明。 根據本發明之供光學用之堆疊式薄膜之製法係利用濕 被覆法，經由堆疊(A)一高折射率層（後文稱作為「傳導層」） 於一基材薄膜之至少一側上，以及然後(B)堆疊一低折射率 硬質被覆層而製成。根據本發明之供光學用之堆疊式薄膜 當然可經由將該薄膜黏著於圖像顯示側或其前面板而施用 至圖像顯示裝置。 較佳於根據本發明之具有良好抗反射效能之堆疊式薄 膜中之該基材薄膜100具有高光透射比及低濁度值，俾便將 該基材薄骐用作為顯示裝置之一個構件（於此處也稱作為 「顯示構件」）。例如於400奈米至800奈米之波長範圍之光 透射比較佳至少為40%及更佳至少為60%。濁度值較佳不高 於5%，及更佳不高於3〇/〇。若未能滿足前述條件中之一者或 ;者，當薄膜係用於顯示構件時，所顯示的圖像不可能鮮 明。就可重復再現之範圍而言，光透射比之上限為99,5%左 右，而濁度值之下限為0.P/。左右俾便達成期望的效果。 基材薄膜100並未限於特定類型，而可適當選自於常用 1374290 第097106317號專利申請案說明書---- --月 15 日 產生交聯基單體之含氟共聚物。 特定言Γ較佳為其骨架有乙歸鍵結構之含氣共聚 物較佳3亂共I物有至少30重量％氟含量，以及利用聚 苯乙稀換算，含氟之烯煙量至少有5〇〇且較佳至少测數目 5平均分子量。此種含氟共聚物係經由將包含含氣化合物及 乙刺化合物之-者可硬化組成物聚合獲得。較佳其獲得 方式係經由將包含含氟稀烴化合物、與該含氣稀煙化:物 可聚合之乙觸化合物，以及若有所需混合反應性乳化劑 之一種可硬化組成物聚合獲得。較佳用來形成含貌共聚物 之可硬化組成物包含反應性乳化劑作為一種組分。使用該 反應性乳化劑組分，允許該含氟聚合物良好施用，具有優 異的被覆及均平效能。較佳該反應性乳化劑特別為非離子 性反應性乳化劑。 15 20 於包含於該低折射率硬質被覆層⑽之含氟共聚物 ’源自於包含氟之該含氟烯煙化合物之結構單元之比例 莫耳％至70莫耳％，較佳25莫耳。/祕莫耳％及更㈣ 、耳/。至60莫耳％。若該源自於含氟稀烴化合物之結構單元 之比例低於2〇莫耳％，則所得含氟共聚物中之氣含量可能 過而所得低折射率硬f被覆層⑽之折射率未能如所 月〜勺低。同時’若源自於該含氟稀烴化合物之結構單 兀係问於70莫耳％，則所得硬質被覆層並不佳，原因在於 被覆液之均質情況低劣，如此難以形舰覆膜且該硬質被 覆層120之相度降低，無法如所期望地緊_著於基材。 於該含氣共聚物令，源自於具有乙刺結構之化合物 13 1374290

3修(D正替換頁 ’ (Hitachi Keisoku)之分光光度計U-3410測定。 使用一塊320至400之防水砂紙讓試樣薄膜之測量側的 另一側上均勻受損，將黑被覆液施用於其上來消除來自該 側的反射。入射光以6度至10度角度入射於該低折射率硬質 5被覆層I20該侧進行測量。此種情況下之反射比表示於380 奈米^ λ $780奈米之波長範圍之最小值。 根據本發明之供光學用之堆疊式薄膜具有良好抗反射 效能及防蝕性及降低製造成本之效果。

須注意前述實施例係舉例說明而非限制本發明，熟諳技 10藝人士可未悖離如隨附之申請專利範圍所界定之本發明之 範圍設計出多種其他實施例。「包含」—詞及其相關術語並 未排除存在有除了於申請專利範圍及說明書全文所列舉之 該等兀件或步驟以外之元件或步驟。單數型元件並未排除多 數型元件，反之亦然。某些措施引述於彼此不同的申請專利 Μ範圍附屬項，並非指示此等措施之組合無法有利地使=。 【圖式簡單說明】

第1圖係顯示抗反射膜原理； 第2圖示意顯示根據本發明之供光學用之堆疊式薄膜 之一堆疊結構之剖面圖。 、 20 【主要元件符號說明】 100··.基材薄膜 130··.保護臈 110…南折射率層 140."黏著層 120...低折射率硬質被覆層 150…離型膜 31

Claims (1)

1374290 第097106317號專利申請案申請專利範圍替換本曰期：101年7月l〇日 十、申請專利範圍： 1. 一種供光學用之堆疊式薄膜’其特徵在於其包含： 一基材薄膜； 一設於該基材薄膜之至少一側上之高折射率層，其 包含具含氟化合物之樹脂、一金屬氧化物及一光聚合起 始劑，該層具有1.58至1.70之折射率及30奈米至1〇〇奈米 之厚度；以及 一設於該高折射率層上之低折射率硬質被覆層，其 包含（曱基）丙烯酸酯樹脂及骨架中具有乙烯醚結構之含 氟共聚物，以及作為一金屬氧化物之中空二氧化石夕，該 層還具有1.38至1.48之折射率及〇.〇5微米至1〇 〇微米之 厚度，

其中該低折射率硬質被覆層係由一包含有該（甲基) 丙烯酸酯樹脂之第一塗料及一包含有該含氟共聚物及 該中空二氧化矽之第二塗料的混合物所形成，且該第— 塗料(換算為50%固形分時)對該第二塗料(換算為1〇%固 形分時)的重量比為1〇:2。 在該1¾折射 % .如曱咱專利範圍第1項之堆疊式薄膜，共〒卞 率層中，該金屬氧化物含量為5重量％至90重量％。 3·如申請專利範圍第W之堆疊式薄臈，其中於該高折射 中該金屬氧化物為選自於由掺錫氧化録顆粒、捧 鋅乳化錄顆粒、_氧化銦齡、氧化鋅/氧化紹顆粒 及氧化銻顆粒所組成之組群中之至少一者。 4.如申請專利_第丨項之堆疊式_，其中，該低折射 32 1374290 第097106317號專利申請案申請專利範圍替換本日期：101年7月10曰 率硬質被覆層中，該中空二氧化矽顆粒具有顆粒直徑為 0.001微米至0.2微米。 5. 如申請專利範圍第1項之堆疊式薄膜，其中，該中空二 氧化矽顆粒具有至少2組分之顆粒直徑分佈。 6. 如申請專利範圍第1項之堆疊式薄膜，其中，該低折射 率硬質被覆層120之表面為凹凸面，及算術平均粗度(Ra) 為0·003微米至0.025微米。 7. 如申請專利範圍第1至6項中任一項之堆疊式薄膜，其 中，該堆疊式薄膜之反射率為0.1%至4%。 8. 如申請專利範圍第1至6項中任一項之堆疊式薄膜，其 中，該堆疊式薄膜之濁度值為0.5%至3.0%。 33