TWI358078B - Apparatus for manufacturing substrate - Google Patents

Description

1358078 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種用於製造用於半導體設備、液晶顯示 設備等之基板的裝置。 【先前技術】 一般而言，為製造基板，要將沉積薄膜之沉積過程、使 用感光材料來光曝露或光屏蔽一薄膜之選定區域的微影過 程、移除該選定區域之姓刻過程及移除殘留物之清潔過程 重複若干次。 在包括各處理腔室之裝置中進行此等各處理。近來，將 一包括一轉移基板之轉移腔室、與一用來暫時儲存基板並 連接至該轉移腔室以及該等多個處理腔室加載互鎖真空室 (load-lock chamber)的組合件（ciuster)用作該裝置。組合件 包括一處理腔室，如，電漿增強化學氣相沉積（pECVD)設 備及乾式蚀刻器。 圖1為根據相關技術之組合件的示意圖。 如圖1中所示，組合件包括一加載互鎖真空室2〇、一轉移 腔室40及複數個處理腔室3〇β加載互鎖真空室⑼連接至裝 載複數個基板5〇之儲存部分丨〇。 在轉移腔室40中’轉移腔室自動控制裝置42被配置以在 :載互鎖真空室20與處理腔室3〇之間轉移基板50。在儲存 部分1〇中，儲存部分自動控制裝置12被配置以將基板5〇輪 加载互鎖真空室2〇中並將基板5〇自加載互鎖真空室 l〇〇424.d〇c 1358078 同時’在將基板50輸入至處理腔室30之前，處理腔室3〇 的一部分可用作預熱或冷卻基板50之腔室。此外，可改變 加載互鎖真空室20及處理腔室30之數目。 下文將闡釋在使用相關技術組合件製造基板之過程中美 板的移動過程。 首先，儲存部分自動控制裝置12將基板5〇自儲存部分ι〇 輸入至加載亙鎖真空室20。此時，加載互鎖真空室2〇在大 氣壓力下，且轉移腔室40之第一門24為關閉的。 當基板50被放置在加載互鎖真空室2〇上且儲存部分自動 控制裝置12離開加載互鎖真空室2〇時，關閉儲存部分⑺之 第二門22 ’並進行抽真空處理，使加載互鎖真空室2〇達到 真空狀態。 當加載互鎖真空室20之真空等於處理腔室3〇或轉移腔室 40之真空，第-門24打開，且轉移腔室自動控制裝置似 未處理之基板50自加載互鎖真空室2〇轉移至處理腔室。

當將基板50輸人至處理腔請中時，進行根據處理腔室 50而定之處理。當錢理腔室5〇中完成處理時，轉移腔室 自動控制裝置42進入處理腔室3〇中，並將基板5〇輸出。接 著，當基板顺放置在加載互鎖以請上時，儲存部分 自動控制裝置I2將其輸出至儲存部分1〇。 在便用相關技術組合件作為製造基板之裝置中，轉移腔 室具有多邊形形狀’且沿轉移腔室之輪廓配置該等處理腔 室。因此，限制了處理腔室之數目及配置。 近來，隨著基板之尺寸增大，處理腔室及轉移腔室之尺 100424.doc 1358078 寸增大。然而，處理腔室及轉移腔室之尺寸的增加比率大 於基板，且尤其係轉移腔室之增加比率大於處理腔室。因 此’用於建立製造基板之裝置之空間大大增加。 【發明内容】 因此，本發明針對一種製造基板之裝置，其大體上排除 了由於相關技術的限制及缺點引起之一或多個問題。

本發明之一目的在於提供一種製造基板之裝置，其可改 良處理腔室的配置及數目之限制，並降低因為基板的增加 而引起之轉移腔室及處理腔室的增加比率。 本發明之額外特徵及優點將陳述在下文之具體實施方式 中，且部分將自具體實施方式變得顯而易見，<自本發:月 之實踐中得到瞭解。本發明之目的及其它優點將自在書面 描述及其申請專利範圍以及隨附圖式中特別指出之結構中 得到認識並獲得。 為達到此等及其它優點且根據本發明之目的，如所具體 且廣泛描述的，一製造基板之裝置包括：一沿長方向延伸 之轉移腔室；沿長方向連接至該轉移腔室之至少一個處理 腔室；在該轉移腔室的至少一側處連接至該轉移腔室之至 J一個加載互鎖真空室；及一沿該轉移腔室之長方向方向 移動並轉移一基板的轉移腔室自動控制裝置。 應理解，上文之概括性描述及下文的詳細描述皆為示範 性及說明性的’並且其旨在如對所主張之發明提供進二 闡釋。 【實施方式】 100424.doc 1358078 詳細參考較佳實施例，其實例將在隨附圖式令說明。 圖2為根搪本發明第一實施例之製造基板之裝置的圖。 製造基板之裝置以直列式轉移一基板100ο配置一轉移腔 室240及複數個處理腔室230，以沿一直線轉移基板1〇〇。 如圖2所示，該裝置包括沿一方向延伸之轉移腔室24〇、 在轉移腔室240的兩侧沿轉移腔室24〇之長轴配置的複數個 處理腔室230與複數個加載互鎖真空室22〇 ’及一儲存部分 21〇。該裝置進一步包括一在儲存部分21〇與加載互鎖真空 室220之間旋轉並傳送基板100之傳送部分260。 在圖2中’處理腔室23 0及加載互鎖真空室22〇對稱地配置 在轉移腔室240的兩侧。然而，應理解，處理腔室23〇及加 載互鎖真空室220可以以其它類型配置，例如，配置在轉移 腔室2 4 0的^—側。 在轉移腔室240中，配置一沿轉移腔室24〇之長轴配置之 水平移動轴271及一沿該水平移動轴271移動之轉移腔室自 動控制裝置250。在儲存部分21〇中，配置一儲存部分自動 控制裝置212 ’其將基板ι00輸入至傳送部分26〇，並將基板 100自傳送部分260輪出。 圖3A為顯示沿圖2之ιπ-ΐπ線截取的轉移腔室及加載互 鎖真空室之連接結構的剖面圖。在圖3人中，該轉移腔室處 於真空狀態下，且該加載互鎖真空室22〇處於大氣壓力或真 空狀態下。 如圖3A中所示，加載互鎖真空室22〇包括配置在轉移腔室 240兩側之第一與第二加載互鎖真空室及第一與 100424.doc 1358078 第二加載互鎖真空室220a及220b彼此具有不同高度，換言 之’第一加載互鎖真空室220a可高於第二加載互鎖真空室 220b。轉移腔室自動控制裝置250包括上、下機械臂251a、 251b。分別對應於第一與第二加載互鎖真空室22〇a&22〇b 之上機械臂與下機械臂251a及251b彼此具有不同高度，以 在加載互鎖真空室220與轉移腔室240之間有效地傳送基板 100 ° 上機械臂25la在轉移腔室240與安置在右側的第一加载 互鎖真空室220a之間轉移基板〗00，且下機械臂251b在轉移 腔室24〇與安置在左側的第二加載互鎖真空室22〇b之間轉 移基板100。 轉移腔室自動控制裝置250可垂直移動至水平移動軸 271，以在轉移腔室24〇與加載互鎖真空室22〇或處理腔室 23 0(在圖2中）之間轉移基板1〇〇。換言之，相對於圖3A的平 面，轉移腔室自動控制裝置25〇作向上/向下及向右/向左移 動。因此，不同於圖1中之與基板一起旋轉的相關技術轉移 腔至自動控制裝置42，本發明之轉移腔室自動控制裝置250 作直線運動，即，與基板100—起向前/向後、向上/向下及 向右/向左移動。 在轉移腔室240與加載互鎖真空室22〇之間配置一第一門 根據第門281的打開及關閉狀態，在轉移腔室“ο 與加載互鎖真空室220之間傳送基板丨00。 加載互鎖真空室220具有至少兩個基板槽224以在其上放 置至少兩個基板100。 100424.doc 1358078 參考圖3A與3B詳細閱釋該轉移腔室自動控制裝置。圖3b 為圖3A之轉移腔室自動控制裝置的側面圖。 轉移腔室自動控制裝置25〇具有一上下配置有上、下機械 臂25M251b之雙層結構，且該等上下機械臂仙及咖 連接至組合構件254 β組合構件2M連接至一垂直移動轴^ 之-垂直移動導向器259。垂直移動軸272連接至水平移動 軸271的一端。因此，該等上下機械臂251a及251b可在轉移 腔室240中一起移動。 該等上、下機械臂251a&251b分別具有上支撐構件與下 支撐構件252與253 ^每一上、下機械臂乃“與^以在每一 上、下支撐構件252與253上具有第-與第二子機械臂⑸ 與256。該第-與該第二子機械臂255及256分別沿第一與第 二移動軌257及258作水平移動。第一子機械臂255具有一連 接至第一移動軌257之第一子機械臂體255a及一用來放置 基板1〇〇之第一放置部分255b，且第二子機械臂256具有一 連接至第二移動軌258之第二子機械臂體256a及一放置基 板100的第二放置部分256b。 因為第一與第二移動軌257及258為配置在相同的平面 内，所以需要第一與第二子機械臂255及256不妨礙彼此之 移動。因此，如圖3B中所示，第一移動軌257配置在支撐構 件252及253之較靠外的部分，而第二移動軌258配置在支撐 構件252及253之較靠内的部分。換言之，第二移動軌 配置在第一移動軌257之間。此外，第一放置部分乃讣高於 第二放置部分256b，而第二子機械臂體256a配置在第一子 I00424.doc •10· 1358078 機械臂體255a的内部。因此’第二子機械臂2 5 6被第一子機 械臂255包圍。 因為每一上、下機械臂251a及251b為第一與第二子機械 臂255及256，所以利用第一與第二子機械臂255及256分別 • 執行基板100之輸入與輸出。因此，可增加轉移基板1〇〇的 效率。 圖4為根擄本發明第一實施例之具有一屏蔽構件的轉移 腔室自動控制裝置的剖面圖。 ® 如圖4中所示，在第一與第二子機械臂255與256之間配置 一屏蔽構件290。第一與第二子機械臂255及256彼此具有不 同向度，因而當轉移基板100時，其受到由相鄰之基板1〇〇 產生的粒子擴散的污染。因此，為防止基板100受到粒子擴 散的污染’在第一與第二子機械臂255與256之間配置屏蔽 構件2 9 0。 圖5為顯示沿圖2之IV-IV線截取的轉移腔室及處理腔室 _ 之連接結構的剖面圖。 如圖5中所示，轉移腔室24〇及處理腔室23〇之連接結構類 似於如圖3A中所示的轉移腔室24〇與加載互鎖真空室22〇之 間的連接結構。處理腔室23〇包括配置在轉移腔室24〇兩側 之第一與第二處理腔室23〇&及23〇15。第一與第二處理腔室 23(^及23 01)彼此具有不同高度，換言之，第一處理腔室23〇3 可间於第二處理腔室23〇b。彼此相對之第一與第二處理腔 室230a及230b可執行相同處理。處理腔室23〇具有一用來放 置基板1 00以執行處理之基座235。 100424.doc 1358078 如上文所述，轉移腔室自動控制裝置250包括上、下機械 臂251 a及251b’該等上、下機械臂251 a及25 lb彼此具有不 同的高度以在處理腔室230與轉移腔室240之間有效地傳送 基板100。 在轉移腔室24〇及處理腔室230之間配置一第二門282。根 據第二門282之打開及關閉狀態’在轉移腔室240與處理腔 室230之間傳送基板1〇〇。 在上述之第一實施例中，轉移腔室自動控制裝置25〇具有 彼此具有不同高度之上機械臂與下機械臂251&及2511)，且 每上、下機械臂251a及251b具有第一與第二子機械臂255 及256。然而，轉移腔室自動控制裝置25〇可具有其它結構。 圖6至10B為結構不同於圖3A之轉移腔室自動控制裝置 的剖面圖。在圖6至10中，將省略與圖3A中類似的部件之闡 釋。 如圖6中所示，上機械臂25 la可具有一上支撐構件252， 該上支撐構件252包括彼此具有不同高度之第一與第二支 撐構件252a及252b。下機械臂251b可具有一下支樓構件 253，該下支撐構件253包括彼此具有不同高度之第三與第 四支撐構件253a及253b »在第一與第三支撐構件252&及 253a上配置一第一移動軌257,且在第二與第四支撐構件 252b及253b上配置一第二移動軌258。第一與第二子機械臂 255及256分別沿第一與第二移動軌257及258移動。如此， 將各支撐構件與各機械臂對應配置。因此，每一支撑構件 可防止粒子之擴散。 100424.doc 12 1358078 如圖7中所示，每一上機械臂與下機械臂乃“及乃^可具 有一子機械臂255。因此，上、下機械臂251&及2511>具有上、 下支樓構件252及253’ 一移動軌257配置在各上支撐構件與 下支撐構件252與253上，且子機械臂255沿移動軌257移動。 如圖8中所示，在較高層之上支撐構件252可朝著轉移腔 至240(在圖3A中）的一侧而配置，且在較下層之下支樓構件 253可朝著轉移腔室240(在圖3A中）的另一側而配置。此結 構可防止粒子擴散。 如圖9中所示’在支撐構件252上配置—第一移動軌25? 及第二移動轨（未顯示）。儘管在圖9中未顯示，但第二移動 軌可類似於圖3B配置在第一桿257的内部。此外，第一與第 二子機械臂255及256彼此反向移動。在第一與第二放置部 分25 5b與256b之間配置一屏蔽構件290。此結構可防止粒子 擴散，且可增加空間利用率。 在圖3A至9中，加載互鎖真空室或處理腔室配置在轉移腔 室的兩側，且轉移腔室自動控制裝置之子機械臂朝轉移腔 室的兩侧移動。然而，加載互鎖真空室或處理腔室可配置 在轉移腔室的一侧，而子機械臂可朝轉移腔室的一側移動。 如圖10A中所示，第一與第二子機械臂255及256可沿配置 在一支撐構件252上之第一移動軌257及第二移動軌（未顯 不）朝轉移腔室240(在圖3A中）的一側移動。此外，如圖ι〇Β 中所示，第一與第二子機械臂255及256可分別地配置在彼 此具有不同高度之第一與第二支撐構件252&及2521?上，且 朝轉移腔室240(在圖3A中）的一側移動。 100424.doc • 13 · 1358078 圓iiA為顯示沿圖2之‘％線截取的，健存部分、傳 分及加載互鎖真空室之連接結構的剖面圖。圖" =之Vb，線截取的’轉移腔室、處理腔室及加載互料 =至之連接結構的剖面圖。圖12為顯示傳送部分之操作的 圖0 如圖11A中所示 得送部分260具有布一興第二傳送部分 26〇a及聽，且配置在儲存部分21()與加載互鎖真空室咖

第一傳送部分26〇a具有一藉由發動機（未顯示）操作並 旋轉90或18〇度之旋轉構件265。 旋轉構件265旋轉基板〗⑽並將其自儲存部分…傳送至 加載互鎖真空室22Ge例如，參考⑽，將基板剛輸入至 第-傳送部分260a中，且基板⑽之較短邊垂直於輸入方 向。如圖12的箭頭所示’基板1〇〇旋轉9〇度。接著，將基板 100輸入至加載互鎖直*金〇 Ω , 秋反蜎具二至220中，且基板100之較長邊垂直 於輸入方向。 鲁 目為旋轉構件265是用來旋轉基板_，以將旋轉之基板 10:傳送至第二傳送部分26〇b，該第一傳送部分織可具有 一諸如滾轴之傳送構件。為相對於基板1GG的較短邊或較長 邊來傳送基板1〇〇 ’該滾轴可包括χ轴及y抽滾轴。此外可 向上或向下移動兩滾軸之驅動軸，使所需要之滾軸可上 升’從而傳送基板。 第一傳送部分260b在第一傳送部分26〇a與加載互鎖真空 至220之間使用傳送帶 '滾軸等來傳送基板卜在第二傳 送部分260b與加载互鎖真空室22〇之間配置一第三門283， 100424.doc 1358078 用來打開或關閉加載互鎖真空室22〇。 為將基板100傳送至加載互鎖真W加載互鎖真空 室220具有—連接至—傳送構件之傳送帶或絲（如第二傳 送部分260b之滾軸）。例如 神 便用具有複數個凸出之滾轴 的滾轴板作為加載互鎖真空室22〇的板。 如圖11B中所示，轉移腔玄白 砂股至自動控制裝置250沿水平移動 軸271水平移動，並在轉銘脉1 & 隹W移腔至240與加載互鎖真空室22〇 或處理腔室230之間韓銘其钯】ΛΛ _

得移基板100。轉移腔室自動控制裝置 250沿垂直移動轴2 72垂直移動。 轉移腔室自動控制裝置25〇沿垂直移動轴272向上或向下 移動，使上、下機械臂可位於對應的加載互鎖真空室220 或對應的處理腔室230。 水平移動軸251可向上與向下移動，取代轉移腔室自動控 制裝置250之向上與向下移動。 圖13為根據本發明第—實施例之具有雙層結構的加載互 鎖真空室及處理腔室的圖。>圖13所示，加載互鎖真空室 220及處理腔室23〇可在轉移腔室24〇之一側或兩側具有雙 層結構。此外，加載互鎖真空室22〇及處理腔室23〇可具有 多層結構。 圖14為根據本發明第一實施例之具有雙層結構的加載互 鎖真空室的别面圖。如圖14中所示，當轉移腔室24〇兩側的 加載互鎖真空室220具有雙層結構時，上、下機械臂25 la及 251b沿垂直移動軸272向上及向下移動，並在轉移腔室24〇 與第一及第二雙層加載互鎖真空室22〇&及22〇b之間轉移基 100424.doc 板100。關於雙層加載互鎖真空室220之說明可適應於雙層 處理腔室。 圖15為根據本發明第-實施例之具有雙層結構的轉移腔 至及處理腔室的剖面圖。 如圖15中所示，雙層轉移腔室24〇具有上轉移腔室與下轉 移腔室2恤與240b。第一與第二雙層處㈣室2_及23仙 配置在雙層轉移腔室24G的兩側。詳言之，第—雙層處理腔 至230a連接至上轉移腔室2術，且第二雙層處理腔室2州 連接至下轉移腔室240b。 上、下轉移腔室自動控制裝置25〇a&25〇b分別配置在 上、下轉移腔室2術及2働中。該等上 '下轉移腔室自動 :制裝置250a及250沿分離之水平移動軌(未顯示)移動。儘 管圖15中未顯示’但加載互鎖真空室可具有雙層結構。 下文將根據本發明之第一實施例閣釋基板的移動過程。 首先，儲存部分自動控制裝置212將基板1〇〇自儲存部分 210傳送至第一傳送部分26〇a。所傳送之基板⑽藉由旋轉 構件265旋轉90度’且接著藉由第二傳送部分細^將基板 1〇〇輸入至加載互鎖真空室22〇中。此時，加载互鎖真空室 220處於大氣壓力狀態下，且第一門281為關閉。 當基板100被放置在加載互鎖真空室22〇中時，關閉第三 門283且執行抽真空處理，使加載互鎖真空室220達到真. 空狀態。 虽加載互鎖真空室22〇之真空等於處理腔室MO或轉移腔 室240之真空時’第一門281打開，且轉移腔室自動控制裝 100424.doc 將未處理之基板100自加載互鎖真空室220中輸出β 轉移腔室自動控制裝置250沿水平移動袖271移動’並將 基板1〇〇轉移至處理腔室wo中。 备將基板1GG輸人至處理腔室⑽中且完成對應的處理 轉移腔室自動控制裝置250進入至處理腔室230中，並 將基板100自處理腔室23〇中輸出。接著，具有基板咖之轉 移腔室自動控制裝置25()沿水平移動軸271移動 1〇:轉移至執行下-處理之處理腔室23。中。 曰在處理腔至23G中完成所有處理時，以與上述順序相反 之順序轉移基板刚。換言之，藉由轉移腔室自動控制裝置 25〇將基板1。〇傳送至加載互鎖纟空室22〇，再將基板1〇〇傳 送至第二傳送部分2_及第-傳送部分26G”接著，使基 板100在第-料料鳩上旋㈣度且接著藉由健存部 分自動控制裝置212將基板1〇〇輸出至儲存部分210。 在上述第-實施例中，為在儲存部-分21〇與傳送部分26〇 =間轉移基板100,使用儲存部分自動控制裝置212。如此， 當使用儲存部分自隸制裝置212轉移基板丨叫基板100 被裝載至一盒子(未顯示)中，且藉由AGV(自動導引工具) 將該盒轉移至儲存部分21〇。然而，若基板⑽並非藉由AGV 而係藉由使用傳送帶、滾轴等之直列式設備來轉移的，則 可不需要儲存部分2】G及健存部分自動控«置212。因 此，為將基板100轉移至傳送部分細，可使用直列式設備。 直列式設射被連接至該傳送部分，以便可將基㈣〇直接 輸入至傳送部分26卜此外，可藉由傳送部分_或其它傳 100424.doc •17- 1358078 送部分將處理完成之基板100輸出至直列式設備。 在上述之第一實施例中’相對於圖2，基板100相對於其 垂直於轉移方向之短邊在轉移腔室240與加載互鎖真空室 220或處理腔室230之間轉移《原因為加載互鎖真空室22〇 與處理腔室230的長邊垂直於轉移腔室240之長邊。因此， 將基板100相對於其短邊自儲存部分21〇輸入至傳送部分 260,接著使基板100旋轉90度，再將基板1〇〇輸入至加載互 鎖真空室220。然而，如圖16中所示，顯示根據本發明之第 一實施例的不同於圖2的製造基板之裝置，不同於圖2,基 板1〇〇可自傳送部分260的另一侧輸入。換言之，基板1(^〇 自儲存部分210轉移至傳送部分26〇之轉移方向垂直於基板 100自傳送部分260轉移至加載互鎖真空室22〇之轉移方 向此與圖2相反。因此，儘管在圖16中基板1〇〇是相對於 其紐邊轉移，但不需要在傳送部分26〇中旋轉基板。 圖17為根據本發明第二實施例之製造基板之裝置的圖。 在第二實施例中’將省略對與第一實施例類似的部件之闡 所示，在第二實施例之製造基板之裝置中， 數個加載互鎖真空室42〇與複數個儲存部分4ι〇為轉移腔 440之兩端。加載互鎖真空室420包括-在轉移腔室44〇 — 之輸入腔至420a及一在轉移腔室44〇的另一端之輸出腔 立=儲存部分41〇包括—在轉移腔室44卜端之輸入錯 邛为：10a及—在轉移腔室44〇的另一端之輸出儲存部 在轉移.腔至440與加載互鎖真空室42〇之間配置一 100424.doc 1358078 門481在轉移腔室44〇與處理腔室㈣之間配置一第二門 4_82且在加載互鎖真空室42〇與傳送部分彻之間配置一第 三門如。輸入與輸出儲存部分自動控制裝置412a及分 - 別配置在輸入與輸出儲存部分41〇3及4101)。 • #入錯存部分41〇a儲存-未處理之基板300。藉由輸入加 載互鎖真空室420a將自輸入儲存部分他輸入之基板細 傳送至轉移腔室物。藉由轉移腔室440及輸出加載互鎖真 $室420b將處理完成之基板扇傳送至輸出儲存部分 儀。為將基板300自轉移腔室44〇輸出至輪出加載互鎖真 空室420b，轉移腔室自動控制裝置45〇可具有一轉移構件， 例如’用來旋轉該轉移腔室自動控制裝置彻之機械臂的構 件或使該機械臂直線移動至輸出加載互鎖真空室·的構 件。 在輸入儲存部分她與輸人加載互鎖真空室420a之間配 置一輸入傳送部分460a，且在輸出錯存部分侧與輸出加 φ 載互鎖真空室4施之間配置一輸出傳送部分460b。類似於 第一實施例之傳送部分，該等輸入與輸出傳送部分她與 460b旋轉並傳送基板換言之，將未處理之基板綱相 對於垂直於該輸入方向之基板3〇〇的短邊輸入至輸入傳送 部分她，接著，該輸入傳送部分將基板旋轉戰， 再相對Μ直於該輸入方向之基板_的短邊將基板扇輸 入至該輸入加載互鎖真空室42〇a。此外，相對於垂直於該 輸出方向之基板300的短邊，將處理完成之基板3〇〇自該輸 出加載互鎖真空室420b中輸出，接著，該輪出傳送部分46叽 100424.doc 1358078 將基板旋轉90度，且接著相斜 _Λη $於垂直於該輸出方向之基板 3〇0的短邊將基板_輸出至該輸㈣存部分儀。儘管圖 17中未顯示，該輸人與該輸出傳送部分她及涵可包括 類似第-實施例中之第二傳送部分的傳送構件。 在第二實施例中，因為加載互鎖真空室420配置在轉移腔 室440的兩端，所以是相對於垂直於傳送方向之基板则的 長邊在加载互鎖真空室42〇與轉移腔室44〇之間傳送基板 3 00 〇

在上述之第二實施例中，基板300順序地移動穿過輸入加 載互鎖真空室42〇a、處理腔室43〇及輸出加載互鎖真空室 420b、然而，將不需要在轉移腔室例兩端之每—加載互鎖 真二至420必須對應於各個輸入與輸出加載互鎖真空室 键及·。換言之，可將基板細輸人穿過安置在圖17之 右側的儲存部分410a、傳送部分46〇a及加載互鎖真空室 420a ’且接著以與輸人順序相反的順序將其輸出。此外， 可將基板300輸入穿過安置在圓17左側的儲存部分4〗补、傳 送部分460b及加载互鎖真空室42〇b，且接著以與輸入順序 相反的順序將其輸出。此外，可將基板3〇〇輸入穿過安置在 圖I7左側之儲存部分41〇b、傳送部分46〇b及加載互鎖真空 室420b，接著將其輸出穿過安置在圖17右侧之加載互鎖真 空室420a、傳送部分46〇b及儲存部分41〇a。 在根據本發明之製造基板之裝置中，轉移腔室具有直列 式結構’且處理腔室可配置在轉移腔室之側面。因此，處 理腔室可容易地連接至轉移腔室，而沒有數目及配置之限 100424.doc -20- 制此外，可降低因基板的增加而引起之轉移腔室及處理 腔室的增加比率。 熟習此項技術者應瞭解，可在不脫離本發明精神及範圍 之情況下對基板分佈構件製造裝置做出各種修改及變化。 因而，本發明欲涵蓋在附加申請專利範圍及其等效物的範 圍之内對本發明作出之修改及變化。 【圖式簡單說明】 圖1為根據相關技術之組合件的示意圖； 圖2為根據本發明之第一實施例的製造基板之裝置的示 意圖； 圖3Α為顯不沿圖22ΙΠ_ΙΠ線截取的轉移腔室及加栽互 鎖真空室之連接結構的剖面圖； 圖3Β為圖3Α之轉移腔室自動控制裝置的側面圖； 圖4為根據本發明第一實施例之具有屏蔽構件的轉移腔 室自動控制裝置的剖面圖； 圖5為顯示沿圖2之1¥_^線截取的轉移腔室及處理腔室 之連接結構的剖面圖； 圖6至刚為結構不同於圖3Α之一轉移腔室自動控 置的剖面圖； ~ 圖11Α為顯示沿圖2之心_%線截取的，儲存部分、傳送部 分及加載互鎖真空室的連接結構的剖面圖； 圖11Β為顯示沿圖2之¥^¥13線戴取的，轉移腔室 '處理 腔室及加載互鎖真空室的連接結構的剖面圖； 圖12為顯示根據本發明第一實施例之傳送部分的操作 100424.doc 21 1358078 1? 圆， 圖13為根據本發明第一實施例，具有雙層結構之加载互 鎖真空室及處理腔室的圖； 圖】4為根據本發明第—實施例，具有雙層結構的加載互 鎖真空室之剖面圖； 圖15為根據本發明第一實施例 室及處理腔室之剖面圖； 具有雙層結構的轉移腔 圖】6為根據本發明第一實施例之不 之裝置的圖；及 同於圖2的製造基板 為根據本發明第二實施例之製造基板之裝1的圖 l主要元件符號說明】 〇 10 12 20 22 24 30 40 42 50 儲存部分 赌存部分自動控制裝置 加載互鎖真空室 第二門第一門 處理腔室 轉移腔室 轉移腔室自動控制裳置 基板 100 基板 210 212 220 儲存部分 儲存部分自動控制裝置 加载互鎖真空室 100424.doc -22- 1358078

220a 第一加載互鎖真空室 220b 第二加載互鎖真空室 224 基板槽 230 處理腔室 230a 第一處理腔室 230b 第二處理腔室 235 基座 240 轉移腔室 240a 上轉移腔室 240b 下轉移腔室 250 轉移腔室自動控制裝置 250a 上轉移腔室自動控制裝置 250b 下轉移腔室自動控制裝置 251a 上機械臂 251b 下機械臂 252 上支撐構件 252a 第一支撐構件 252b 第二支撐構件 253 下支撐構件 253a 第三支撐構件 253b 第四支撐構件 254 組合構件 255 第一子機械臂 255a 第一子機械臂體 100424.doc -23 - 1358078

255b 第一放置部分 256 第二子機械臂 256a 第二子機械臂體 256b 第二放置部分 257 第一移動軌 258 第二移動軌 259 垂直移動導向器 260 傳送部分 260a 第一傳送部分 260b 第二傳送部分 265 旋轉構件 271 水平移動軸 272 垂直移動軸 281 第一門 282 第二門 283 第三門 290 屏蔽構件 300 基板 410a 儲存部分 410b 儲存部分 412a 儲存部分自動控制裝置 412b 儲存部分自動控制裝置 420a 加載互鎖真空室 420b 加載互鎖真空室 100424.doc • 24· 1358078 430 處理腔室 440 轉移腔室 450 轉移腔室自動控制裝置 460a 輸入傳送部分 460b 輸出傳送部分 481 第一門 482 第二門 483 第三門 100424.doc -25-

Claims (1)

13规78 . 第094108883號專利申請案 中文申請專利範圍替換本(100年1〇月）

十、申請專利範圍： 1· 一種製造基板之裝置，其包含： 一轉移腔室，其具有第一及第二長邊； 一第一處理腔室，其連接至該轉移腔室之該第一長邊； 一第二處理腔室’其連接至該轉移腔室之該第二長邊； 其中該第一與該第二處理腔室彼此具有不同高度； 至^ 個加載互鎖真空室（load-lock chamber)，其在該 轉移腔室之至少一邊，連接至該轉移腔室；及 2. 3. 5. 6. 在真空下之一轉移腔室自動控制裝置，其作一直線運 動以在該轉移腔室中移動，以轉移一基板。 如凊求項1之裝置，其中該轉移腔室自動控制裝置包括彼 此具有不同高度之第一與第二機械臂。 如請求項2之裝置，進一步包含在該第 之間之一屏蔽構件。 請求項1之裝置，進一步包含一沿該長方向延伸並連接 至該轉移腔室自動控制裝置之水平移動軸。 月求項4之裝置’進—步包含—垂直連接至該水平抽並 連接至該轉移腔室自動控制裝置之垂直移動轴。 求項1之裝置’其中該至少—個加載互鎖真空室包括 L至該轉移腔室之兩長邊的第一與第二加載互鎖真空 至，且其中該第一鱼 β一ώ 一第一加載互鎖真空室彼此具有不 Η局度。 與該第二機械臂 100424-1001028.doc 1358078 8. 如請求項丨之庐 . 少一層結構/ 、令該至少一加載互鎖真空室具有至 9. 如請求項1之褒置，進一步包含一 分，及-連接該至少—加二真!=板之儲存部 傳送部分。 加載互鎖真空室與該儲存部分之 ==::該傳送部分包括-將該基板傳送 ^ 加載互鎖真空室之傳送構件。 11. 如請求項10之裝置，1 滾轴。 Z、中以傳送構件包括—傳送帶及— 12. 如請求項9之裝置，其中該傳送部 旋轉構件。 疋轉該基板之 13·如請求们之裝置，其中該轉移腔室 以在平行於該第一及第二長邊之一第一二置經:態 平面作—直線運動而㈣，其以 2平 置經組^在垂直於㈣-方向之—^^動㈣裝 移動軌在一水平平面作一直線運動而移動，二^轉 移腔室自動控制裝置經組態以在-中該轉 第三方向作一直線運動而移動。 、水平平面之一 Η.如請求们之裝置，其中該轉移腔室自動控制裝 此具有不同高度之上機械臂及下機械臂。、匕彼 15·如請求項14之裝置，其中該等上機械臂 包括上支撐構件及下支樓構件，其中 機械$分別 上支擇構件上之第-及第二移動轨；:械臂包括該 下機械臂包括第一及第二子機械臂機械臂及 !通配以分別沿 I00424-I001028.doc -2- '等第_及第—移動軌作_直線運動而移動，其令該 =械臂包括該下㈣構件上之第三及第四移動軌·及 :等上機械臂及下機械臂包括第三及第四子機械臂，其 2配W分別沿著料第三及第四移動軌作—直線 而移動。 16. ^求項15之裝置’其中該第—移動軌係配置於該上支 槿牛之夕卜部部分且該第二移動軌係配置於該上支擇 二之―内部部分，使得該第-子機械臂環繞該第二子 臂，其中該第三移動軌係配置於該下支撐構件之一 :卜：：分且該第四移動軌係配置於該下支撐構件之一内 15 Ρ刀’使得該第三子機械臂環繞該第四子機械 =機械臂延伸於一水平方向以進接該第一處理腔室 二=機械臂延伸於一相反之水平方向以進接該第 100424-100l028.doc