TWI356084B - - Google Patents

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1356084 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關分散性、分散穩定性、塗佈適用性優異 之塗佈組成物，及使用該塗佈組成物形成之塗膜者。具體 而言，係有關構成將LCD或CRT等顯示面被覆的防反射膜 之層，尤其適合於形成中〜高折射率層，提升耐光性之塗 佈組成物，具有使用該塗佈組成物形成的塗膜之層的防反 g 射膜，以及使用該防反射膜之畫像顯示裝置者。 【先前技術】 爲提高液晶顯示（LCD )或陰極管顯示裝置（CRT ) 等畫像顯示裝置之顯示面的辨識性，至少要求螢光燈等來 自外部光源照射之光線的反射。 藉由以折射率小之透明物體的表面之透明皮膜被覆， 可減小反射率。利用此現象，於畫像顯示裝置之顯示面設 φ 置防反射膜能提升辨識性。防反射膜之層構成，係藉由在 ! 必要防止反射之面上形成高折射率層或中折射率層，進而 於其上形成低折射率層而得。 形成如此之防反射膜的高折射率層或中折射率層之方 法，一般大略分爲氣相法與塗佈法；氣相法中有真空蒸鍍 法、濺鍍法等物理的方法，與CVD法等化學的方法；塗佈 法中有滾筒塗佈法、照相凹版塗佈法、滑動塗佈法、噴霧 法、浸漬法、及網版印刷法等。 使用氣相法時，雖可形成高功能且高品質之薄膜的高 -5- (2) (2)1356084 折射率層及中折射率層，於高真空系之精密的氣體環境必 要加以控制，又必要有特殊之加熱裝置或產生離子之加速 裝置，因此，製造裝置複雜且大型化，有必然增加製造成 本之問題。又，使高折射率層及中折射率層之薄膜大面積 化，或在具有複雜形狀之薄膜等表面形成均勻膜厚的薄膜 ，有其困難。 另一方面，採用塗佈法中之噴霧法時，有塗佈液之利 用效率不良、成膜條件之控制困難等問題。使用滾筒塗佈 法、照相凹版塗佈法、滑動塗佈法、浸漬法及網版印刷法 等，雖成膜原料之利用效率良好，從大量生產及設備成本 方面而言較爲優越，但，一般上藉由塗佈法而得之高折射 率層及中折射率層，與藉由氣相法而得者相比較，功能及 品質有較差之問題。 近年來，獲得形成具有優越品質之高折射率層及中折 射率層的薄膜之塗佈法，有使氧化鈦或氧化錫等高折射率 微粒分散在由有機物所成之黏合劑的溶液中所得之塗佈液 塗佈於基板上，形成塗膜的方法之提案。 專利文獻1中，有由於形成折射率小之塗膜，而含有 以無機化合物處理之金紅石型氧化鈦的塗佈組成物，能輕 易形成分散性、分散穩定性優異，且塗佈均句性優越、均 勻之大面積的薄膜之揭示。不過，由專利文獻1之塗佈組 成物形成的塗膜，並非耐光性充分者。 專利文獻2中，有使用由於提供適合大量生產之防反 射膜，而含有以無機化合物處理之金紅石型氧化鈦的塗佈 •6- 1356084

組成物之揭示。不過，由專利文獻2之塗佈組成物形成的 塗膜，並非耐光性充分者。 專利文獻3中，有由於提升耐光性形成防反射膜，在 塗佈組成物中施行鋅螯合化合物處理而含有金屬氧化物的 揭示。不過，由專利文獻3之塗佈組成物形成的塗膜，耐 光性亦爲尙不足者。 專利文獻1:特開2002-275430號公報 專利文獻2:特開2001-166104號公報 專利文獻3 :特開2002-371236號公報 【發明內容】 〔發明所欲解決之課題〕 形成中〜高折射率層所使用之高折射率的金屬氧化物 微粒，一般具有光催化劑作用之故，有使塗膜劣化的問題 。因此，要求高折射率層及中折射率層之塗膜不會由於光 而劣化。 形成中〜高折射率層之塗膜必要在可見光區域爲透明 ，形成如此之中〜高折射率層所使用的高折射.率之金屬氧 化物微粒，必要使用一次粒徑爲可見光線之波長以下的所 謂超微粒，同時該金屬氧化物微粒能均勻分散於塗佈液中 及塗膜中。 不過一般而言，微粒之粒徑縮小時微粒的表面積加大 ，微粒間之凝聚力增高。然後，塗佈液之固形成份凝聚時 ，所得塗膜之霾霧値增大。因此，形成高折射率層及中折 (4) (4)1356084 射率層之薄膜的塗佈液，爲形成霾霧値小且均勻之塗膜’ 要求具有充分的分散性。 又，塗佈液中爲能經長時間容易保存，要求具有充分 的分散穩定性。 進而，塗佈液從大量生產之觀點而言，爲能輕易形成 大面積薄膜、塗佈時能均勻且較薄的塗佈，並且可不產生 乾燥之粗細不勻，要求塗佈適用性。 鑑於上述之技術要求，本發明之目的爲提供一種在形 成塗膜之際藉由光催化劑作用能使塗膜的劣化消失或抑制 ，於形成塗膜時可降低霾霧値，且塗佈液之分散性’分散 穩定性優良，儲存性優越，塗佈適用性亦優異的塗佈組成 物.；進而提供使用該塗佈組成物形成之塗膜、防反射膜、 防反射薄膜；進一步提供以該防反射膜將顯示面被覆之畫 像顯示裝置。 〔課題之解決手段〕 爲解決上述課題之本發明的第一塗佈組成物，其特徵 爲至少含有下述（1)〜（4)之成份。即，（1)對摻雜 具有將自由電子及/或電洞捕集之性質的鈷之二氧化鈦微 粒，藉由以具有捕集自由電子及/或電洞之性質的鋅螯合 化合物進行表面處理而得之能使光催化劑活性消失或抑制 的二氧化鈦微粒、與（2 )黏合劑成份、及（3 )分散劑、 以及（4 )有機溶劑。 本發明之第二塗佈組成物係，採用下述構成之金屬氧 (5) 1356084 化物微粒替代本發明之第一塗佈組成物中的該（1)之使 光催化劑活性消失或抑制的二氧化鈦微粒，而黏合劑成份 、分散劑及有機溶劑爲與本發明之第一塗佈組成物相同者 。即，本發明之第二塗佈組成物中使用的二氧化鈦微粒， 係對摻雜具有將自由電子及/或電洞捕集之性質的鈷之二 氧化鈦微粒，藉由以具有捕集自由電子及/或電洞之性質 的鋅之有機金屬化合物進行表面處理，進而以具有陰離子 | 性之極性基的有機化合物及/或有機金屬化合物塗佈而得 之能使光催化劑活性消失或抑制的二氧化鈦微粒。 本發明之第三塗佈組成物係，採用下述構成之金屬氧 化物微粒替代本發明之第一塗佈組成物中的該（1)之使 光催化劑活性消失或抑制的二氧化鈦微粒，而黏合劑成份 、分散劑及有機溶劑爲與本發明之第一塗佈組成物相同者 。即，本發明之第三塗料組成物中使用的二氧化鈦微粒， 係對摻雜具有將自由電子及/或電洞捕集之性質的鈷之二 φ氧化鈦微粒，塗佈具有能使光催化劑活性降低或消失之性 質的無機化合物，進而以具有捕集自由電子及/或電洞之 性質的鋅之有機金屬化合物進行表面處理而得之能使光催 化劑活性消失或抑制的二氧化鈦微粒。 本發明之第四塗佈組成物係，採用下述構成之金屬氧 化物微粒替代本發明之第一塗佈組成物中的該（1 )之使 光催化劑活性消失或抑制的二氧化鈦微粒，而黏合劑成份 、分散劑及有機溶劑爲與本發明之第一塗佈組成物相同者 。即，本發明之第四塗料組成物中使用的二氧化鈦微粒， (6) (6)1356084 係對摻雜具有將自由電子及/或電洞捕集之性質的鈷之二 氧化鈦微粒，塗佈具有能使光催化劑活性降低或消失之性 質的無機化合物，進而以具有捕集自由電子及/或電洞之 性質的鋅之有機金屬化合物進行表面處理，再以具有陰離 子性之極性基的有機化合物及/或有機金屬化合物塗佈而 得之能使光催化劑活性消失或抑制的二氧化鈦微粒。 本發明之塗膜，其特徵爲將如上所述之本發明的第一 、第二、第三或第四塗佈組成物塗佈於被塗佈物之表面， 藉硬化而得；在硬化後膜厚爲0.05〜ΙΟμπι時，折射率爲 1.55〜2.20，且依JIS-K 736 1-1之規定，在與基材爲整體 的狀態下測定之霾霧値，與該基材單獨之霾霧値無改變或 與該基材單獨的霾霧値之差爲1%以內》 本發明之第一塗膜，係使（1)對摻雜具有將自由電 子及/或電洞捕集之性質的鈷之二氧化鈦微粒，以具有捕 集自由電子及/或電洞之性質的鋅之有機金屬化合物進行 表面處理而得之能抑制光催化劑活性的二氧化鈦微粒、及 (2 )分散劑，均勻混合於（3 )硬化之黏合劑中所成的塗 膜；其特徵爲該塗膜之膜厚在0.05〜時，折射率爲 1.55〜2.20，且依JIS-K 7361-1之規定，在與基材爲整體 的狀態下測定之霾霧値，與該基材單獨之霾霧値無改變或 與基材單獨的霾霧値之差爲1%以內。 本發明之第二塗膜，係使（1)對摻雜具有將自由電 子及/或電洞捕集之性質的鈷之二氧化鈦微粒，藉由以具 有捕集自由電子及/或電洞之性質的鋅之有機金屬化合物 -10- (7) (7)1356084 進行表面處理’進而以具有陰離子性之極性基的有機化合 物及/或有機金屬化合物塗佈而得之能使光催化劑活性消 失或抑制的二氧化鈦微粒、及（2 )分散劑，均勻混合於 (3)硬化之黏合劑中所成的塗膜；其特徵爲該塗膜之膜 厚.在0.05〜10/zm時，折射率爲1.55〜2.20，且依 JIS-K 73 6 1 - 1之規定，在與基材爲整體的狀態下測定之霾 霧値，與該基材單獨之霾霧値無改變或與該基材單獨的霾 霧値之差爲1 %以內。 本發明之第三塗膜，係使（I)對摻雜具有將自由電 子及/或電洞捕集之性質的鈷之二氧化钛微粒，藉由以具 有能使光催化劑活性降低或消失之性質的無機化合物塗佈 ’進而以具有捕集自由電子及/或電洞之性質的鋅之有機 金屬化合物進行表面處理而得的能使光催化劑活性消失或 抑制之二氧化鈦微粒、及（2 )分散劑，均勻混合於（3 ) 硬化之黏合劑中所成的塗膜；其特徵爲該塗膜之膜厚在 0.05 〜10// m時，折射率爲 1.55 〜2.20，且依 JIS-K 7361-1 之規定，在與基材爲整體的狀態下測定之霾霧値，與該基 材單獨之霾霧値無改變或與該基材單獨的霾霧値之差爲1 %以內。 本發明之第四塗膜，係使（1)對摻雜具有將自由電 子及/或電洞捕集之性質的鈷之二氧化鈦微粒，藉由以具 有能使光催化劑活性降低或消失之性質的無機化合物塗佈 ，進而以具有捕集自由電子及/或電洞之性質的鋅之有機 金屬化合物進行表面處理，再以具有陰離子性之極性基的 -11 - (8) 1356084 有機化合物及/或有機金屬化合物塗佈而得之能 劑活性消失或抑制的二氧化鈦微粒、及（2 )分 勻混合於（3)硬化之黏合劑中所成的塗膜；其 塗膜之膜厚在0.05〜10// m時，折‘射率爲1.55〜 依 JIS-K 736 1 - 1之規定，在與基材爲整體的狀態下 霧値，與該基材單獨之霾霧値無改變或與該基材 0 霧値之差爲1%以內® 本發明之塗膜可構成防反射膜的至少一層， 係將具有光穿透性且相互之折射率不同的光穿透 層以上層合者，該光穿透性層中之至少層可爲本 膜。 本發明之防反射膜，其特徵爲在具有光穿透 薄膜的至少一面，將具有光穿透性且相互之折射 光穿透性層以兩層以上層合而成，該光穿透性層 層爲該本發明的塗膜。 本發明之畫像顯示裝置，係以防反射膜將顯 之畫像顯示裝置；該防反射膜之特徵爲將具有光 相互之折射率不同的光穿透性層以兩層以上層合 光穿透性層中之至少一層爲該本發明的塗膜。 〔發明之實施型態〕 將本發明詳細說明如下。 使光催化 散劑，均 特徵爲該 2.20，且 測定之霾 單獨的霾 防反射膜 性層以兩 發明的塗 性之基材 率不同的 中之至少 示面被覆 穿透性且 而成，該 -12 - (9) 1356084 <二氧化鈦微粒> 本發明之塗佈組成物中所使用的'二氧化鈦微 率高，且無色或幾乎不著色之故，適合做爲調節 成份。氧化鈦中雖有金紅石型、銳鈦礦型、非晶 銳鈦礦型或非晶質型相比，金紅石型的折射率高 爲適合。 本發明之塗佈組成物，含有如此之高折射率 φ鈦之故，藉由改變添加量，可輕易調節使用該塗 形成之塗膜的折射率，在中折射率至高折射率之ί 二氧化鈦微粒，爲不使塗膜之透明性降低使 微粒之大小者。於此，所謂「超微粒」係指一般 級的粒子，比一般稱爲「微粒」之具有數至 粒徑的粒子，粒徑更細者之意。即，本發明中之 微粒係使用一次粒徑爲0.0 1 μ m以上，且在0.1 V ，以0.0 3 m以下者更適合。平均粒徑低於0 · 0 1以 φ以均勻分散於塗佈組成物中，進而不能獲得二氧 均勻分散之塗膜。又，平均粒徑超過0.1 M m者， 膜之透明性，極不適合。 二氧化鈦微粒之一次粒徑，藉由掃描式電子 S EM )等以目視計測亦可，藉由利用動態光散射 光散射法等之粒度分佈計以機械計測亦可。二氧 之一次粒徑在上述範圍時，其粒子形狀爲球狀、 他任何形狀，本發明均可使用。 二氧化鈦微粒具有光催化劑活性之故，使用 粒，折射 折射率的 質型、與 之故，較 的二氧化 佈組成物 範圍。 用所謂超 之亞微細 數百；a m 二氧化鈦 m以下者 m者，難 化鈦微粒 會損及塗 顯微鏡（ 法或靜態 化鈦微粒 針狀、其 僅含該微 -13- (10) 1356084 粒之塗佈組成物形成塗膜時，由於光催化劑之作用使形成 塗膜的黏合劑樹脂間之化學鍵斷裂以致塗膜強度降低、塗 膜變黃使塗膜之透明度下降、易導致霾霧値上升等不適宜 之情況。 本發明之第一塗佈組成物中，爲去除如此之不適宜情 況，二氧化鈦微粒係使用摻雜具有捕集自由電子及/或電 洞之性質的鈷者，使用再以具有捕集自由電子及/或電洞 g 之性質的鋅螯合化合物進行表面處理者之故，二氧化鈦微 粒之光催化劑活性降低或消失。 本發明之第二塗佈組成物中，爲去除如此之不適宜情 況，二氧化鈦微粒係使用摻雜具有捕集自由電子及/或電 洞之性質的鈷者，使用藉由再以具有捕集自由電子及/或 電洞之性質的鋅之有機金屬化合物進行表面處理，進而以 具有陰離子性之極性基的有機化合物及/或有機金屬化合 物塗佈而得者。本發明之第二塗佈組成物中，二氧化鈦微 φ粒之光催化劑活性降低或消失，同時二氧化鈦微粒以具有 陰離子性之極性基的有機化合物及/或有機金屬化合物塗 佈之故，能使二氧化鈦微粒有效的分散於塗佈組成物中。 本發明之第三塗佈組成物中，爲去除如此之不適宜情 況，二氧化鈦微粒係使用摻雜具有捕集自由電子及/或電 洞之性質的鈷者，進而以具有使光催化劑活性降低或消失 之性質的無機化合物塗佈，再以具有捕集自由電子及/或 電洞的性質之鋅的有機金屬化合物進行表面處理之故，該 二氧化鈦微粒與本發明之第一塗佈組成物的二氧化鈦相比 -14- (11) (11)1356084 ，爲光催化劑活性低者。 本發明之第四塗佈組成物中，爲去除如此之不適宜情 況，二氧化鈦微粒係使用摻雜具有捕集自由電子及^/或電 洞之性質的鈷者，進而以具有使光催化劑活性降低或消失 之性質的無機化合物塗佈，進而以具有捕集自由電子及/ 或電洞之性質的鋅之有機金屬化合物進行表面處理，再以 具有陰離子性之極性基的有機化合物及/或有機金屬化合 物塗佈之故，本發明之第四塗佈組成物中，二氧化鈦微粒 之光催化劑活性降低或消失，同時二氧化鈦微粒以具有陰 離子性之極性基的有機化合物及/或有機金屬化合物塗佈 之故，能使二氧化鈦微粒有效的分散於塗佈組成物中。 進而，第--第四之本發明的塗佈組成物中，爲使二 氧化鈦微粒分散於塗佈組成物中，藉由配合後述之具有陰 離子性之極性基的分散劑，能使二氧化鈦微粒更有效的分 散。 <摻雜鈷之二氧化鈦微粒的製作方法> 本發明使用之摻雜鈷的二氧化鈦微粒中’鈷以co〇及 C〇2〇3之狀態存在。在如此之摻雜鈷的二氧化鈦微粒之製 造方法中，藉由使鈦源與鈷源之基劑成份混合’於600〜 11〇〇r之溫度燒成’可做爲顏料。本發明中’鈦源可使用 超微粒之含水的氧化鈦’其係具有金紅石型之結晶結構的 微細二氧化鈦溶解，以X射線衍射法測定爲顯示金紅石型 結晶之尖峰的微細含水之氧化鈦的溶膠’其平均結晶粒徑 -15- (12) 1356084 通常爲50〜120人者。其可藉由例如將以氨水中 鈦水溶液至pH 7〜8所得之膠體狀非晶質含水的 -化、或在氫氧化鈉水溶液中將偏鈦酸或原鈦酸等 水之氧化鈦進行加熱處理後，於鹽酸水溶液中進 T 理、或者將硫酸欽水溶液或四氯化鈦水溶液加熱 而得。本發明中可直接使用如此之具有金紅石型 構之微細二氧化鈦溶膠、或乾燥後儘可能細粉碎 φ 該基劑成份之鈷源，可使用各種者：例如可 鈷（Π )、氯化鈷（III )、硫酸鈷（II)、硫酸 、碳酸鈷（II)等等。 該基劑二氧化鈦成份、鈷成份之原料的混合 種種方法進行；例如使用粉末做爲原料時使其進 混合即可。又使用鈷源之基劑成份的化合物溶液 由例如將基劑成份之溶液添加於超微粒含水的氧 合後經乾燥、或者在超微粒含水之氧化鈦的水分 Φ中添加化合物溶液，以酸或鹼中和使該含水之氧 • 的各成份沉澱、或者使用鈷源之水分散物時，將 . 物添加於超微粒含水之氧化鈦漿狀物中經混合處 行過濾及洗淨》 超微粒含水之氧化鈦與鈷的混合比例，對超 之氧化鈦的Ti〇2 100重量份，鈷之CoO或Co203| 量份，以3〜7重量份更適合。鈷低於1重量份時 之效果，超過10重量份時，有產生折射率降低、 制困難，成爲其他化合物（C〇Ti03等）等之問題 和四氯化 氧化鈦熟 非晶質含 行加熱處 進行水解 的結晶結 使用。 使用氯化 姑（111 ) ，可藉由 行單純的 時，可藉 化鈦中混 散漿狀物 化鈦表面 該水分散 理後，進 微粒含水 ! 1〜1 〇重 無耐光性 粒徑之控 -16- (13) (13)1356084 將如上所述混合而得之原料混合物於600〜1100 °C燒 成。還有，該原料混合物爲漿狀、濾餅狀、或乾燥粉末狀 均可。藉由燒成各成份進行固相反應，可獲得能使用於本 發明之鈷摻雜的二氧化鈦微粒。本發明中使用超微粒含水 的氧化鈦做爲鈦源之故，藉由以微磨機、噴射磨、滾筒磨 、范達姆磨、取樣磨等乾式粉碎機將燒成物粉碎，可輕易 獲得平均單一粒徑爲〇.〇1〜0.1 // m之二氧化鈦微粒。燒成 可藉由各種方法進行，例如可使用電爐、隧道窖等靜置爐 或者內燃式或外燃式旋轉爐等而施行》 <以鋅之有機金屬化合物進行表面處理> 本發明之第—第四塗佈組成物中，爲提升耐光性， 藉由鋅之有機金屬化合物進行二氧化鈦微粒的表面處理。 本發明中所使用之該鋅螯合化合物，以一種或兩種以上選 自乙醯丙酮鋅〔Zn ( CH3COCHCOCH3 ) 2〕、安息香酸鋅 [Za ( C6H5COO ) 2〕、乙酸鋅〔Zn(CH3COO) 2〕 '2 — 乙基己基乙酸鋅{Zn(CH3(CH2) 3CH(C2H5) COO〕2 }，較爲適合。以鋅之有機金屬化合物施行表面處理的二 氧化鈦微粒，使光催化劑活性消失或抑制。 藉由鋅之有機金屬化合物進行二氧化鈦微粒的表面處 理時，在粉碎後之二氧化鈦微粒中添加溶於醇等適當溶劑 的鋅之有機金屬化合物，可均勻被覆而混合。將二氧化鈦 漿狀化，以濕式進行亦可。表面處理量，對Ti〇2 100重量 份，鋅螯合化合物爲1〜1 0重量份，以添加3〜7重量份更 -17- 1356084 (Η) 適合。1 〇重量份以上時，對分散性、折射率、膜強度等造 成不影響。 r C以具有使光催化劑活性降低或消失之性質的無機化合物 ^ 進行之塗佈處理> 本發明之第三及第四塗佈組成物中，爲更提升耐光性 ’藉由下述之無機化合物進行二氧化鈦微粒的表面處理。 φ 具有使光催化劑活性降低或消失之性質的無機化合物中， 可使用一種或兩種以上選自氧化鋁、二氧化矽、氧化鋅、 .氧化锆、氧化錫、摻雜銻之氧化錫、及摻雜銦之氧化錫、 的金屬氧化物。 以無機化合物施行表面處理之方法爲，在該二氧化鈦 微粒之水分散液中添加至少一種選自鋁、矽、鋅、锆、錫 、銦及銻之所成群的元素之水溶性鹽後，加入酸或鹼中和 ，使含水之氧化物沉澱於該二氧化鈦微粒的表面。副產之 水溶性鹽類藉由傾析、過濾、洗淨而去除，經乾燥、粉碎 •而成。表面處理量，對Ti〇2 100重量份爲1〜15重量份， _ 以5〜10重量份更適合。15重量份以上時，折射率之下降 顯著。 <以具有陰離子性之極性基的有機化合物及/或有機金屬 化合物進行之塗佈處理> 本發明之第二及第四塗佈組成物，爲賦予製成油墨之 際的分散性，以鋅之有機金屬化合物施行表面處理後，再 -18- (15) 1356084 以具有陰離子性之極性基的有機化合物及/或有機金屬化 合物進行表面處理。表面處理方法與鋅之有機化合物相同 。隨情況而異，施行如此化學吸附之熱處理。 具有陰離子性之極性基的有機化合物，有有機羧酸等 .。.有機羧酸可使用具有羧基、磷酸基、或羥基等陰離子性 .之極性基者，例如硬脂酸、月桂酸、油酸、亞油酸、亞麻 酸、季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、EO φ (環氧乙烷）改性磷酸三丙烯酸酯、ECH改性丙三醇三丙 烯酸酯等等。 具有陰離子性之極性基的有機金屬化合物，可使用矽 烷偶合劑、鈦酸酯偶合劑。矽烷偶合劑具體的有3 —環氧 丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3 —環氧丙氧基丙基甲基二甲 氧基矽烷、2—（3，4 —環氧環己基）乙基三甲氧基矽烷 、3 -胺基丙基三乙氧基矽烷、3 -胺基丙基三甲氧基矽烷 、N— (2—胺基乙基）3 -胺基丙基甲基二乙氧基矽烷、 • 3 —锍基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷.、乙烯 基三乙氧基矽烷、乙烯基三（2 —甲氧基乙氧基）矽烷、3 一甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷等等。 鈦酸酯偶合劑具體的有，由味之素股份有限公司市售 的商品名爲普連阿庫多KR— TTS、tCR— 46B、KR— 55、 KR-41B，KR- 38S、KR138S、KR2 3 8 S、3 3 8 X、KR- 44 、KR9SA、KR- ET等，另外亦可使用四甲氧基鈦、四乙 氧基鈦、四異丙氧基鈦、四正丙氧基鈦、四正丁氧基鈦、 四叔丁氧基鈦等烷氧基金屬。 -19- (16) (16)1356084 此等具有陰離子性之極性的有機化合物及/或有機金 屬化合物，使用一種或兩種以上之組合均可。二氧化鈦微 粒藉由被覆具有陰離子性之極性的有機化合物或有機金屬 化合物而賦予疏水性時，係將二氧化鈦微粒溶解於具有陰 離子性之極性的有機化合物及/或有機金屬化合物之有機 溶劑中，在此溶液中將該具有捕集自由電子及/或電洞之 性質的金屬摻雜之二氧化鈦微粒分散後，可藉由使有機溶 劑完全蒸發而被覆。 本發明之第二及第四塗佈組成物中，二氧化鈦微粒係 被覆具有陰離子性之極性的有機化合物及/或有機金屬化 合物之故，可使該二氧化鈦微粒均勻分散於塗佈液中 '及 藉由該塗佈液形成之塗膜中，塗佈適甩性亦良好，因此塗 膜之霾霧値降低、能形成大面積的均勻薄膜。 <黏合劑成份〉 本發明之塗佈組成物中的黏合劑成份，以電離放射線 硬化性較爲適合：爲賦予本發明之塗佈組成物的成膜性、 及對基材與鄰接之層的密著性，做爲必要成份而配合。電 離放射線硬化性之黏合劑成份，係在塗佈組成物中以未聚 合單體或低聚物的狀態存在之故，使塗佈組成物之塗佈適 用性優越、容易形成均勻的大面積薄膜。又，藉由塗膜中 之黏合劑成份於塗佈後聚合而硬，可獲得充分的塗膜強度 〇 電離放射線硬化性之黏合劑成份，可使用藉由紫外線 -20- (17) 1356084 或電子線等電離放射線之照射直接、或受引發劑之作用間 接由聚合反應產生的具有官能基之單體或低聚物。本發明 •中可使用以具有乙烯性雙鍵爲主之游離基聚合性單體或低 * /聚物，因應需求可組合光引發劑。不過，亦可使用其他之 電離放射線硬化性的黏合劑成份，例如亦可使用含環氧基 之化合物等光陽離子聚合性的單體或低聚物。光陽離子聚 合性之黏合劑成份中，因應需求亦可組合光陽離子聚合引 φ 發劑使用。以在黏合劑成份之分子間產生交聯結合的黏合 劑成份之單體或低聚物，具有兩個以上之聚合性官能基的 多官能性黏合劑成份較爲適合。 具有乙烯性雙鍵之游離基聚合性的單體或低聚物，具 體的有2 —羥基乙基（甲基）丙烯酸酯、2 -羥基丙基（甲 基）丙烯酸酯、羥基丁基丙烯酸酯、2-羥基-3 —苯氧基 丙基丙烯酸酯、羧基聚己內酯丙烯酸酯、丙烯酸、甲基丙 烯酸、丙烯醯胺等單官能（甲基）丙烯酸酯；季戊四醇三 φ丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯單硬 • 脂酸酯等二丙烯酸酯：三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四 _ 醇三丙烯酸酯等三（甲基）丙烯酸酯；季戊四醇四丙烯酸 酯衍生物及二季戊四醇五丙烯酸酯等多官能（甲基）丙烯 酸酯、或此等之游離基聚合性單體經聚合之低聚物。於此 ，所謂「（甲基）丙烯酸酯」係指丙烯酸酯及/或甲基丙 烯酸酯之意。 電離放射線硬化性之黏合劑成份中，以使用分子中餘 留羥基之黏合劑成份較爲適合。羥基亦爲離子性的極性基 -21 - (18) 1356084 之故，該黏合劑成份與二氧化鈦微粒之親和性高，具有做 爲分散助劑的作用。因此，使用該黏合劑成份時，能提升 •塗佈組成物中及塗膜中之二氧化鈦微粒的分散性；又，具 % 有減少分散劑之使用量的效果。分散劑並無做爲黏合劑的 : 功能之故，減少分散劑之配合比例可提高塗膜強度。又， 黏合劑中所含之羥基，藉由氫鍵可提升對硬塗層及低折射 率層等鄰接層之密著性。例如使用配合有具有羥基之黏合 φ 劑成份的塗佈組成物形成中〜高折射率層時，藉由所謂濕 式法以塗佈液形成，例如對硬塗層及低折射率層亦同；又 ’對藉由蒸鍍法等所謂乾式法形成之低折射率層亦能獲得 優越的密著性。 分子中餘留羥基之黏合劑成份，具體的可使用以季戊 四醇多官能（甲基）丙烯酸酯或二季戊四醇多官能（甲基 )丙烯酸酯爲黏合劑樹脂之骨架，該分子中餘留羥基者。 即，如此之黏合劑成份，係一分子之季戊四醇或二季戊四 φ醇中與兩分子以上之（甲基）丙烯酸形成酯結合，季戊四 _ 醇或二季戊四醇之分子中原來存在的羥基之~部份不進行 酯化而依舊餘留者，例如可以季戊四醇三丙烯酸酯爲示例 。季戊四醇多官能丙烯酸酯及二季戊四醇多官能丙烯酸酯 ’係分子中具有兩個以上的乙烯性雙鍵之故，聚合時引起 交聯反應，可獲得高塗膜強度。 <分散劑> 分散劑可使二氧化鈦微粒均勻分散於本發明之塗佈組 -22- (19) 1356084 成物（塗佈液）中，能均勻分散於藉由該塗佈液形成之塗 ' 膜中’可延長塗佈液之適用期，能形成霾霧値小的透明膜 〇 分散劑以具有陰離子性之極性基者較爲適合。具有陰 離子性之極性基的分散劑，對二氧化鈦微粒之親和性高； 本發明之塗佈組成物中爲對二氧化鈦微粒賦予分散性而配 合’加上藉由氫鍵，能提升對其他之層，例如硬塗層或低 φ 折射率層等鄰接之層的密著性。 陰離子性之極性基有例如羧基、磷酸基、羥基等。 具有陰離子性之極性基的分散劑，具體的有比庫凱米 •曰本公司以得斯帕比庫之商品名供應的系列產品；即，. 得斯帕比庫一 1 1 1、得斯帕比庫-1 1 〇、得斯帕比庫-1 1 6 、得斯帕比庫一1 4 0、得斯帕比庫—1 6 1、得斯帕比庫一 1 6 2、得斯帕比庫一 1 6 3、得斯帕比庫一1 6 4、得斯帕比庫 -170、得斯帕比庫一 171、得斯帕比庫一 174、得斯帕比 φ庫-180、得斯帕比庫-182等等。 其中使用具有在具有環氧乙烷鏈之骨架的主鏈上，連 結由如上所述之陰離子性的極性基所成之支鏈、或具有陰 離子性之極性基的支鏈所成之分子結構，數平均分子量爲 2,000〜20,000的化合物時，能獲得更佳之分散性，較爲 適合。數平均分子量可藉由GPC (凝膠滲透光譜法）法測 定。符合如此之條件者有上述得斯帕比庫系列中之得斯帕 比庫 163 (Disperbyk-163)等。 分散劑之配合比例，對二氧化鈦微粒1 〇重量份爲2〜4 -23- (20) 1356084 重量份，又黏合劑成份可以4〜20重量份之比例配合。 <有機溶劑> 爲將本發明之塗佈組成物的固形成份溶解分散之有機 溶劑，沒有特別的限制，例如可使用異丙醇、甲醇、乙醇 '等醇類：甲乙酮、甲異丁酮、環己酮等酮類；乙酸乙酯、 乙酸丁酯等酯類.：鹵化烴；甲苯、二甲苯等芳香族烴；或 φ 此等之混合物。 使用酮系溶劑調製本發明之塗佈組成物時，可於基材 表面微薄均勻塗佈，且在塗佈後能以適當之速度使溶劑蒸 發，難以產生訖燥的粗細不勻之故，能輕易獲得均勻且薄 之大面積塗膜，極爲適合。酮系溶劑可使用由一種之酮所 成的單獨溶劑，由兩種以上之酮所成的混合溶劑、一種或 兩種以上之酮同時含有其他的溶劑之不失其做爲酮溶劑的 性質者。較適合的是使用溶劑之70重量％以上，尤其是80 φ重量％以上，爲一種或兩種以上之酮所佔有的酮系溶劑。 藉由使用酮系溶劑爲有機溶劑，以上述之有機化合物 及/或有機金屬化合物被覆於二氧化鈦微粒的表面，可獲 得塗佈適用性更爲優越之塗佈組成物，能輕易形成均勻的 大面積薄膜。此情況亦以使用如上所述之環氧乙烷系分散 劑做爲具有陰離子性的極性基之分散劑更爲適合。即，使 用具有在具有環氧乙烷鏈之骨架的主鏈上，連結由陰離子 性之極性基所成的支鏈、或具有陰離子性之極性基的支鏈 所成之分子結構，數平均分子量爲2,000〜20,000之化合 -24- (21) 1356084 物時，更爲適合。 有機溶劑之比例，以本發明之塗佈組成物中的固形份 與有機溶劑之合計量爲100重量份時，對本發明之塗佈組 成物的全固形份〇·5〜50重量份，有機溶劑以50〜99.5重 量份之比例配合較適合。有機溶劑之使用量在此範圍時， 可獲得分散穩定性更優越，適合於長期儲存之塗佈組成物

<光引發劑> 黏合劑·成份中使用電離放射線硬化性樹脂時，以在黏 合劑中添加使游離基聚合開始之光引發劑較爲適合。光引 發劑可使用例如苯乙酮類、二苯甲酮類、酮縮醇類、蒽醌 類、二硫化物類、秋蘭姆化合物類.、氟胺化合物類等等。 更具體的有1_羥基一環己基苯基酮、2_甲基—1〔4—( 甲硫基）苯基〕-2—嗎啉代丙烷一 1一酮、苄基二甲基酮 φ 、1- (4 -月桂基苯基）一2 -羥基-2-甲基丙烷-1-酮、2 —經基_2_甲基一1—苯基丙院一 1—酮、1— (4 — 異丙基苯基）-2—經基一2—甲基丙垸一 1 一酮、二苯甲 酮等等。其中’ 1—羥基環己基苯基酮 '及2 —甲基一 1〔4 —(甲硫基）苯基〕—2_嗎啉代丙院—1 一酮，即使少量 藉由電離放射線的照射亦能促進聚合反應開始之故，本發 明中適合使用。此等可單獨一種使用，或兩種組合使用。 此等亦有市售品’例如1 -羥基環己基苯基酮以商品名依 魯加裘爾一 184 ( Irugacure-184)由吉巴特殊化學品股份 -25- (22) 1356084 有限公司取得。 <其他之成份> 本發明之塗佈組成物，除上述之必要成份以外，因應 需求含有電離放射線硬化性之黏合劑成份的聚合引發劑， 進而配合其他之成份亦可。例如可使用因應需求之紫外線 遮蔽劑、紫外線吸收劑、表面調整劑（平坦化劑）等等。 <各成份之配合比例> 各成份之配合比例雖可適當調節，一般而言，對二氧 化鈦微粒1 0重量份，該黏合劑成份以4〜20重量份、及具 有陰離子性之極性基的分散劑以2〜4重量份之比例配合。 尤其使用分子中餘留羥基者做爲黏合劑成份時，該黏合劑 成份具有做爲分散助劑的作用之故，可大幅減少具有陰離 子性之極性基的分散劑之使用量。能使具有陰離子性之極 φ性基的分散劑以低於2〜4重量份之比例配合。分散劑並無 做爲黏合劑的功能之故，藉由減少分散劑之配合比例可提 升塗膜強度。 本發明之塗佈組成物中含有光引發劑時，對黏合劑成 份100重量份通常以3〜8重量份之比例配合光引發劑。 又，有機溶劑之量係適當調節使各成份均勻溶解、分 散，在調製後之儲存時不引起凝聚，且於塗佈時之濃度不 致過於稀薄。在滿足此條件之範圍內減少溶劑的使用量， 調製成高濃度之塗佈組成物，以縮小容量之狀態儲存，使 -26- (23) (23)1356084 用時取出必要量稀釋至適合於塗佈操作之濃度，較爲適合 〇 有機溶劑之比例，以本發明之塗佈組成物中的固形份 與有機溶劑之合計量爲1 〇〇重量份時，對本發明之塗佈組 成物的全固形份0.5〜50重量份，該有機溶劑以50〜99.5 重量份之比例配合爲佳。更適合的是，對本發明之塗佈組 成物的全固形10〜30重量份，藉由有機溶劑以70〜90重量 份之比例使用，可獲得分散穩定性優越，適合於長期儲存 之塗佈組成物。 <塗佈組成物之調製> 使用上述各成份調製本發明之塗佈組成物時，可依塗 佈液之一般調製法進行分散處理。例如將各必要成份及各 所期望之成份以隨意的順序混合，在所得之混合物中投入 小珠等媒體，藉由以塗料振動器或珠磨機等適當進行分散 處理，可獲得塗佈組成物。 <被塗物> 以本發明之塗佈組成物塗佈的基材，沒有特別的限制 ，較佳之基材有例如以玻璃板、三乙酸酯纖維素（TAC ) 、聚對苯二甲酸乙二醇酯（PET)、二乙醯基纖維素、乙 酸酯丁酸酯纖維素、聚醚砚、丙烯酸系樹脂、聚胺基甲酸 乙酯樹脂、聚酯、聚碳酸酯、聚硯、聚醚、三甲基戊烯、 聚醚酮'(甲基）丙烯腈等各種樹脂形成之薄膜等。基材 -27- (24) 1356084 之厚度通常爲25〜Ι〇〇〇θ m。 <塗膜形成方法> 本發明之塗佈組成物可使用例如旋轉塗佈法、浸漬法 、噴霧法、滑動塗佈法、棒桿塗佈法、滾筒塗佈法、彎月 面塗佈法、多功能印刷法、網版印刷法、小珠塗佈法等各 種方法塗佈於基材上。 g 以所期望之塗佈量將本發明的塗佈組成物塗佈於基材 等被塗佈物之表面後，通常以烘箱等加熱方法加熱乾燥， 其後藉由照射紫外線或電子線等電離放射線而硬化，形成 塗膜。 <塗佈組成物之特徵> 本發明之第一〜第四塗佈組成物，係具有光催化劑活 性之二氧化鈦微粒以鈷摻雜，藉由該鈷之捕集自由電子及 φ /或電洞的性質，該二氧化鈦微粒之光催化劑活性消失或 抑制。進而，該二氧化鈦微粒以鋅螯合化合物施行表面處 理之故，藉由該鋅之有機金屬化合物的捕集自由電子及/ 或電洞之性質，該二氧化鈦微粒光催化劑活性消失或抑制 。因此，使用本發明之第一〜第四塗佈組成物製作塗膜時 ，能使隨起因於光催化劑作用之黏合劑成份的塗膜劣化之 塗膜強度降低、及變黃現象等消失或抑制。 進而，本發明之第--第四塗佈組成物中含有分散劑 之故，二氧化鈦微粒能在塗佈液中、及藉由該塗佈液形成 -28- (25) 1356084 之塗膜中均.勻分散；經長時間分散穩定性極優越之故 佈液之適用期甚長，塗佈適用性亦優異，在長時間儲 使用時，亦能輕易形成均勻厚度之大面積、且霾霧値 透明薄膜。 上述性質加上，本發明之第二及第四塗佈組成物 二氧化鈦微粒以鋅的有機金屬化合物進行表面處理之 被覆具有陰離子性之極性的有機化合物及/或有機金 合物之故，該二氧化鈦微粒與第一塗佈組成物之二氧 微粒相比，能更均勻分散於塗佈液中及藉由該塗佈液 之塗膜中，因此塗膜之霾霧値更爲降低。 上述性質再加上，本發明之第三及第四塗佈組成 對摻雜具有捕集自由電子及/或電洞之性質的鈷之二 鈦微粒，以具有能使光催化劑活性降低或消失之性質 機化合物塗佈之故，與第一之本發明的塗佈組成物相 在形成塗膜時能更提升耐光性。 <塗膜之特徵> 上述之本發明的第一塗佈組成物，係藉由對摻雜 捕集自由電子及/或電洞之性質的鈷之二氧化鈦微粒 具有捕集自由電子及/或電洞之性質的鋅之有機金屬 物進行表面處理而得；光催化劑活性消失或抑制之二 駄微粒，藉由分散劑分散之故，使用該塗佈組成物形 本發明的第一塗膜，二氧化鈦微粒均勻分散於塗膜中 此能抑制塗膜之霾霧値的上升。 ，塗 存後 小的 ，在 前， 屬化 化鈦 形成 物， 氧化 的無 比， 具有 ，以 化合 氧化 成之 。因 -29- (26) 1356084 使用本發明之第二塗佈組成物形成的本發明之第二塗 膜’係使用在二氧化鈦微粒以鋅之有機金屬化合物進行表 面處理後，再以具有陰離子性之極性的有機化合物及/或 有機金屬化合物被覆的二氧化鈦微粒之故，本發明之第二 塗膜，除該第一塗膜之特徵，再加上二氧化鈦微粒比第〜 塗膜更均勻分散於塗膜中。因此本發明之第二塗膜的霾霧 値更爲降低。 φ 使用本發明之第三塗佈組成物形成的本發明之第三塗 膜，係使用在二氧化鈦微粒以鋅之有機金屬化合物進行表 面處理之前，更以具有能使光催化劑活性降低或消失之性 質的無機化合物進行塗佈處理的二氧化鈦微粒之故，本發 明之第三塗膜，除該第一塗膜之特徵，再加上二氧化鈦微 粒能使光催化劑活性降低或消失，本發明之第三塗膜的耐 光性更爲提升。 .使用本發明之第四塗佈組成物形成的本發明之第四塗 φ膜，係使用在二氧化鈦微粒以鋅之有機金屬化合物進行表 面處理之前，更以具有能使光催化劑活性降低或消失之性 質的無機化合物進行塗佈處理；在二氧化鈦微粒以鋅之有 機金屬化合物進行表面處理之後，再以具有陰離子性之極 性的有機化合物及/或有機金屬化合物被覆的二氧化鈦微 粒之故，本發明之第四塗膜，除該第一塗膜之特徵，再加 上二氧化鈦微粒比第一塗膜更均勻分散於塗膜中，塗膜之 霾霧値更爲降低；而且，除該第一塗膜之特徵，再加上二 氧化鈦微粒能使光催化劑活性降低或消失，本發明之第四 -30- (27) 1356084 塗膜的耐光性更爲提升。 本發明之塗膜，適合使用爲構成防反射膜的一或二以 •上之層，適合於形成中折射率層〜高折射率層。本發明之 ·' 塗膜；可使用於形成將具有光穿透性且相互之折射率不同 ? 的光穿透性層以二層以上層合所成之多層型防反射膜的至 少一層。還有，本說明書的多層型防反射膜之中，折射率 最高之層稱爲高折射率層，折射率最低之層稱爲低折射率 φ 層，其外之具有中間的折射率之層稱爲中折射率層。 依本發明’形成硬化後膜厚：0.05〜1 0 # m、折射率 :1.55〜2.20之塗膜時，依JIS-K 736 1 - 1之規定，在與基 材爲整體的狀態下測定之霾霧値，可控制在與該基材單獨 之霾霧値無改變或與該基材單獨的霾霧値之差爲1 %以內 〇 又’以防反射膜被覆之面，例如在畫像顯示裝置之顯 示面’僅設置一層本發明之塗膜，亦可獲得被覆面本身之 •折射率與本發明之塗膜的折射率之平衡.適切良好時的防反 •射效果。因此’本發明之塗膜’具有做爲.單層之防反射膜 的有效功能。 本發明之塗膜’適合使用爲形成被覆於液晶顯示裝置 (LCD)、陰極管顯示裝置（CRT)、電漿顯示面板（ PDP)、電激發光顯示（ELD)等畫像顯示裝置之顯示面 的多層型防反射膜之至少一層，特別是中〜高折射率層。 <塗膜之使用例> -31 - (28) 1356084 圖1爲藉由含有以本發明之塗膜做爲光穿透性 .層型防反射膜，被覆於顯示面的液晶顯示裝置1 0 1 的剖面模式示意圖。液晶顯示裝置101係，預先準 m- 示面側之玻璃基板1的單面上形成RGB之畫素部2 !· 2(5、2 Β)與黒色基質層3所成的彩色濾光片4 :於 濾光片4之畫素部2上設置透明電極層5、於反面側 •基板6的單面上設置透明電極層7，將反面側之玻.¾ φ與彩色濾光片4，使透明電極層5、7相互間可相對 依所定之空隙隔空相向，周圍以密封材料8黏著， 間封入液晶L ;在反面側之玻璃基板6的外側面上形 膜9，於顯示面側之玻璃基板1的外側面上膠黏偏光 ，在後方配置背照光單元1 1。 ' 圖2爲在顯示面側之玻璃基板1的外側面上膠黏 膜1 〇之剖面模式示意圖。顯示面側之偏光薄膜1 〇， 聚乙烯醇（PVA)等所成之偏光元件12的雙面，.以 φ醯基纖維素（TAC)等所成之保護薄膜13、14被覆 - 內面側設置黏著劑層1 5，於其鑑賞側依順序形成硬 • 與多層型防反射膜17，膠黏於介有黏著劑層15之顯 的玻璃基板1。 於此，爲減少自液晶顯示裝置1 01的內部射出 散造成的眩眼，使硬塗層16之表面形成凹凸狀、或 ' 層16之內部分散無機或有機的塡料，兼備具有使於 1 6內部之光散射的功能之防眩層亦可。 多層型防反射膜1 7之部份爲，自背照光單元1 1 層的多 之一例 備在顯 (2R、 該彩色 之玻璃 I基板6 吻合， 在空隙 成定向 薄膜10 偏光薄 係在由 由三乙 ，於其 塗層1 6 示面側 之光擴 於硬塗 硬塗層 側面向 -32- (29) 1356084 鑑賞側具有依順序層合中折射率層1 8、高折射率層1 9、低 折射率層20之三層結構。多層型防反射膜17爲依順序層合 高折射率層19與低折射率層20之兩層結構亦可。還有，硬 ’塗層16之表面形成凹凸狀時’形成於其上之多層型防反射 ^ 膜17，一般亦如圖2所示呈現凹凸之形狀。 低折射率層2 0，可使用例如由含有二氧化矽或氟化鎂 等無機物、氟系樹脂等之塗佈液所得的折射率1 .4 6以下之 φ塗佈膜而形成。又，中折射率層18及高折射率層19，可以 本發明之塗佈組成物塗佈而形成；中折射率層1 8係使用折 射率1.46〜1.80之範圍的光穿透性層，高折射率層19係使 用折射率1.65以上之光穿透性層。 藉由此多層型防反射膜17之作用，能減低自外部光源 照射之光的反射率之故，景色及螢光燈之映照極少，能提 升顯示之辨識性。又，硬塗層16可兼爲防眩層之故，使來 自內部之直行光及外光散射，可減輕反射之閃耀感，能更 φ提升顯示之辨識性。 在液晶顯示裝置101之情況，於偏光元件12與由保護 薄膜13、14所成的層合物塗佈本發明之塗佈組成物，可形 成折射率調節於1.46〜1.80之範圍的中折射率層18、與折 射率調節在1 . 65以上之高折射率層1 9，進而設置低折射率 層。然後，含多層型防反射膜17之偏光薄膜10，可膠黏於 介有黏著劑層1 5之顯示面側的玻璃基板1上。 相對於此，CRT的顯示面未膠黏偏光薄膜10之故’必 要直接設置防反射膜。不過，CRT之顯示面塗佈本發明的 -33- (30) (30)1356084 塗佈組成物爲極煩雜之操作。如此之情況，製作含有本發 明之塗膜的防反射膜，將其膠黏於顯示面時可形成防反射 膜之故，顯示面不必塗佈本發明之塗佈組成物即可完成。 在具有光穿透性之基材薄膜的單面側或雙面，將具有 光穿透性且相互之折射率不同的光穿透性層以兩層以上層 合，該光穿透性層中之至少一層藉由以本發明的塗膜形成 ，可獲得防反射薄膜。基材薄膜及光穿透性層，必要具有 可做爲防反射薄膜之材料使用的程度之光穿透性，以儘可 能接近透明者爲佳。 圖3爲含有本發明之塗膜的防反射薄膜1〇2之一例的剖 面模式示意圖。防反射薄膜1〇2，係在具有光穿透性之基 材薄膜2 1的單面側塗佈本發明之塗佈組成物，形成高折射 率層22，進而於高折射率層22之上設置低折射率層23者。 此例中，相互折射率不同之光穿透性層僅爲高折射率層2 2 與低折射率層23之兩層，設置三層以上之光穿透性層亦可 。此時不僅高折射率層22，中折射率層亦能以本發明之塗 佈組成物塗佈而形成。 【實施方式】 〔實施例1〕 (1 )二氧化鈦微粒之製作 將做爲Ti〇2 — 200 g/Ι之濃度的四氯化鈦水溶液500 ml、與做爲N a20 — 1 〇 〇 g / 1之濃度的氫氧化鈉水溶液’以 使系之P Η可維持於5〜9之情況下同時添加於水中’經所 -34- (31) (31)1356084 定時間熟化。將所得超微粒之含水二氧化鈦沉澱物過濾、 洗淨後，再度分散於水中，做爲Ti〇2爲100 g/1之濃度 的含冰二氧化鈦漿狀物。在此漿狀物中添加CoO爲200 g/ 1之硫酸鈷水溶液（以CoS04溶解於20%硫酸溶液）25 ml 、添加氨水20%水溶液，調整pH至7，生成鈷成份之沉 澱。將如此處理而成之含水二氧化鈦漿狀物，以均混器充 分攪拌後，以電烘箱於S00°C燒成5小時，經放冷、乾式粉 碎，即得摻雜5% CoO之二氧化鈦微粒。 將於該步驟所得之摻雜CoO的二氧化鈦微粒分散於水 中，調成固形份濃度100 g/ 1之漿狀物，經濕式粉碎後， 於70 °C加熱。以使系之pH可維持於7〜10之情況下，同 時添加對漿狀物之固形份，Al2〇3爲8重量％之鋁酸鈉水溶 液與硫酸，鋁之含水氧化物沉澱於二氧化鈦微粒上並被覆 。其後，經過濾、洗淨、乾燥後，藉由乾式粉碎，即得以 鋁之含水氧化物塗佈之二氧化鈦微粒。 添加溶解於甲醇溶液之乙醯丙嗣鋅，至對該步驟所得 之以鋁的含水氧化物塗佈之二氧化鈦微粒的固形份可達3 重量％，藉由以均混器進行均勻表面處理而混合，即得以 乙醯丙酮鋅表面處理之二氧化鈦微粒。 在該步驟所得之以乙醯丙酮鋅表面處理的二氧化鈦微 粒中，添加爲更賦予分散性之以己烷溶解的硬脂酸至可達 3重量％ ’以均混器進行均勻表面處理而混合，爲進行反 應以1 〇〇 °C施行熱處理。所得者爲金紅石型結晶且平均單 一粒徑（電子顯微鏡法）爲3 0〜40 nm、表面爲拒水性之 -35- (32) 1356084 二氧化鈦微粒。 (2)形成高折射率層用之塗佈組成物的調製 _ 將做爲二氧化欽微‘粒之以該< 1 >步驟所得的金紅石 型二氧化鈦微粒、做爲電離放射線硬化性黏合劑成份之季 戊四醇三丙烯酸酯（曰本化藥公司製，商品名：PET 30) ’做爲具有陰離子性之極性基的分散劑之顏料中加入具親 φ 和性之嵌段共聚物（比庫凱米•曰本公司製，商品名··得 斯帕比庫—163)、及做爲有機溶劑之甲異丁酮，置入美 乃滋瓶中，使用混合物之約4倍量的氧化锆小珠（0 〇 . 3 mm)爲媒體’以塗料振動器攪拌1〇小時，攪拌後依下述 之配合比例添加做爲光引發劑之1 -羥基環己基苯基酮（ 吉巴特殊化學品股份有限公司製，商品名.·_依魯加裘爾一 1 84 )’即得本實施例1之高折射率層形成用塗佈組成物。 φ (配合組成） •高折射率材料（Ti〇2):上述<1>中製作之二氧化鈦微粒 1 0重量份 分散劑：得斯帕比庫- 1 6 3 2重量份 光硬化樹脂：PET30 4重量份 光引發劑：依魯加裘爾一 1 8 4 0.2重量份 溶劑：甲異丁酮（純正化學公司製） 3 7 · 3重量份 (3 )形成硬塗層用塗佈組成物之調製 -36- (33) 1356084 以下述組成之成份配合，調製形成硬塗層用之塗佈組 成物。 季戊四醇三丙烯酸酯：（日本化藥公司製，商品名：PETA) 50重量份 光引發劑：依魯加裘爾一 184 2.5重量份 溶劑：甲異丁酮（純正化學公司製） 47.5重量份 φ ( 4 )塗膜之製作 在厚度80/zm之表面無處理的TAC薄膜基材（富士膠 卷股份有限公司製，商品名：FT—T80UZ)上，以棒桿塗 佈器# 1 0塗佈剛調製成之於（3 )步驟所得的形成硬塗層用 塗佈組成物，在60°C加熱乾燥1分鐘後，使用UV照射裝置 (休熊UV系統日本股份有限公司製）之η燈泡爲光源，以 1〇〇 mJ/ tm2之照射量硬化，形成硬化後膜厚爲約5 y m之 透明膜。 φ 其後，以棒桿塗佈器#2將於該（2)步驟調製之形成 •高折射率層用塗佈組成物塗佈，於60 °C加熱乾燥1分鐘後 ，使用UV照射裝置之Η燈泡爲光源，以100 mJ/ cm2之照 射量硬化，形成硬化後膜厚約爲60 nm之透明膜。 測定形成之硬化後膜厚約60 v m的透明膜之霾霧値與 折射率。霾霧値係使用濁度計NDH 2000 (日本電色工業 公司製）測定。又，硬化後之塗膜的折射率係使用分光橢 圓對稱器（喬邦依鵬公司製，商品名：UVSEL )測定於氦 雷射光之波長6 3 3 nm的折射率。 -37- (34) 1356084 其結果’獲得霾霧値爲與基材幾乎同等之値（0.3) ，折射率爲1.90之良好的透明膜。 •又’所得塗佈膜之耐光性試驗，係針對採用晝光老化 試驗器’在63 °C之雨中經50、1〇〇、150、200小時之塗佈 膜，使用#〇〇〇〇之鋼絲棉，以200 g荷重擦拭表面20次，進 行耐鋼絲棉之評估。其結果如表1所示。由表1可知，使用 摻雜鈷，更施行鋅偶合劑處理之二氧化鈦塗膜，經2 0 0小 時後亦能保持與初期同等之耐鋼絲棉性。 〔實施例2〕 除該實施例1中，在製作二氧化鈦微粒之際，取消無 機化合物之塗佈處理以外，即，取消以鋁之含水氧化物對 二氧化鈦的塗佈處理，完全與該實施例1同樣的進行，調 製成本實施例2之塗佈組成物。接著，與該實施例1同樣的 進行，製作成折射率2.00、霾霧値0.3之塗膜。以與該實 φ施例1相同的方法就所得塗膜進行耐光性試驗，結果如表1 所示。由表1可知，經200小時後亦能保持與初期同等之耐 鋼絲棉性。 〔實施例3〕 除該實施例1中，取消以具有陰離子性之極性基的有 機化合物及/或有機金屬化合物進行塗佈處理以外’即取 消以硬脂酸進行塗佈處理，完全與該實施例1同樣的進行 ，調製成本實施例3之塗佈組成物。接著，與該實施例1同 -38- (35) 1356084 樣的進行，製作成折射率L9〇、霾霧値0.50之塗膜。以與 該實施例1相同的方法就所得塗膜進行耐光性試驗，結果 如表1所示。由表1可知，經200小時後亦能保持與初期同 ' 等之耐鋼絲棉性。 » 〔實施例4〕 除該實施例1中，在製作二氧化鈦微粒之際，取消以 φ無機化合物進行塗佈處理，即取消以鋁之含水氧化物對二 氧化鈦的塗佈處理；進行取消以具有陰離子性之極性基的 有機化合物及/或有機金屬化合物進行塗佈處理以外，即 取消以硬脂酸進行塗佈處理，完全與該實施例1同樣的進 行，調製成本實施例4之塗佈組成物。接著，與該實施例1 同樣的進行，製作成折射率2.00、霾霧値0.50之塗膜。以 與該實施例1相同的方法就所得塗膜進行耐光性試驗，結 果如表1所示。由表1可知，經2 00小時後亦能保持與初期 φ同等之耐鋼絲棉性。 〔實施例5〕 藉由添加對該實施例1所得之折射率1.90的二氧化鈦 分散液10重量份，爲2.5重量份之二季戊四醇五丙烯酸酯 (曰本化藥公司製，商品名：SR3 99E )，調製成折射率 1 · 7 6之本實施例5的形成中折射率層用塗佈組成物。在 TAC薄膜基材上塗佈該實施例1所示之形成硬塗層用塗佈 組成物後’以與形成該實施例1之高折射率層同樣的條件 -39- (36) 1356084 塗佈上述1.76之形成中折射率層用塗佈組成物，塗佈至硬 化後之膜厚爲80 nm的透明膜後’再塗佈該實施例1所得之 形成高折射率層用塗佈組成物至硬化後膜厚可達約60 nm 。在高拆射率層上塗佈由含有矽之聚偏氟乙烯共聚物所成 的折射率1.4之低折射率層90 nm，以UV照射量500 mJ/ cm2硬化。 所得防反射薄膜之分光曲線如圖4所示。可知初期之 分光曲線於廣闊可見區域顯示低反射。又，以與該實施例 1同樣之條件進行耐光性試驗的結果，經200小時後雖然在 若干低波長側可觀察到分光曲線之移動，但於廣闊可見區 域可保持低反射。 〔比較例1〕 除爲僅確保二氧化鈦表面之分散性，不摻雜鈷、不進 行以Ah〇3及乙醯丙酮鋅之表面處理，使用以硬脂酸施行 φ表面處理之金紅石型氧化鈦以外，調製與該實施例1相同 之組成的塗佈組成物，形成折射率2.00之塗膜。以與該實 施例1相同的方法進行耐光性試驗。結果如表1所示。由表 1可知，在5 0小時時劣化。 〔比較例2〕 (1 )塗佈組成物之調製 使用氧化鈦含量85〜90%、以Al2〇3與Zr〇3及砍油表 面處理、一次粒徑30〜40 nm、比表面積爲30〜50 m2/g -40- (37) (37)1356084 、表面爲拒水性之金紅石型氧化駄（得依卡公司製，商品 名：MT— 5 00 HDM )做爲金紅石型氧化鈦，以與該實施例 I同樣之組成調製成塗佈組成物，形成折射率1.90之塗膜 。以與該實施例1相同的方法就所得塗膜進而耐光性試驗 。結果如表1所示。由表1可知，在1 00小時時開始劣化， 於I 5 0小時完全剝離。 〔比較例3〕 除該實施例1中，在製作二氧化鈦微粒之際，取消鋅 偶合劑處理以外’完全與該實施例I同樣的進行，調製成 比較例3之塗佈組成物。接著，與該實施例1同樣的進行， 製作成折射率1 · 9 0、霾霧値〇 . 3之塗膜。就所得塗膜以與 該實施例1相同的方法進行耐光性試驗。結果如表1所示。 由表1可知，經1 5 0小時後開始劣化，於2 0 0小時傷痕甚多 亦可觀察到剝離之情況。 〔表1〕

試料 耐光性 初期 5 0小時 1 0 0小時 1 5 0小時 2 0 0小時 比較例3 A A A C D 〔比較例4〕 添加對該比較例2所得之折射率丨.90的二氧化鈦分散 液1〇重量份’爲2.5重量份之二季戊四醇五丙烯酸酯（日 -41 - (38) (38)1356084 本化藥公司製，商品名：3113 99 £)，調製成折射率1.76之 中折射率層形成用塗佈組成物。在TAC基材上塗佈該實施 例1所示之硬塗成份後，以與形成該實施例1之高折射率層 同樣的條件塗佈上述1.76之中折射率層形成用塗佈組成物 ，塗佈至硬化後之膜厚爲80 nm的透明膜後，再塗佈該比 較例2所得之折射率1.90的高折射率層形成用塗佈組成物 至硬化後膜厚可達約60 nm。在高折射率層上塗佈由含有 矽之聚偏氟乙烯共聚物所成的折射率1.40之低折射率層90 nm，以UV照射量500mJ/cm2硬化。 所得防反射薄膜之分光曲線如圖5所示。可知初期之 分光曲線與該實施例2所得的塗膜同樣於廣闊可見區域顯 示低反射。不過，以與該實施例1同樣的條件進行耐光性 試驗時，自經50小時後於低波長側，分光.曲線之移動同時 高達高波長側之反射率，成爲V字型之反射率曲線，於廣 闊可見區域不能保持低反射。 〔產業上利用性〕 本發明之塗佈組成物、及使用該塗佈組成物之型態的 塗膜，適合於構成將LCD及CRT等之顯示面被覆的防反射 膜之層；提升耐光性之塗佈組成物，適合於使用該塗佈組 成物形成的具有塗膜之層的防反射膜、及使用該防反射膜 之畫像顯示裝置》 〔發明之功效〕 -42- (39) (39)1356084 本發明之第一、第二、第三及第四塗佈組成物係，具 有光催化劑活性之二氧化鈦微粒藉由摻雜鈷，由於鈷之捕 集自由電子及/或電洞的性質，使二氧化鈦微粒之光催化 劑活性消失或抑制。進而，該二氧化鈦微粒以鋅的有機金 屬化合物進行表面處理之故，藉由該鋅之有機金屬化合物 的捕集自由電子及/或電洞之性質，使該二氧化鈦微粒之 光催化劑活性消失或抑制。因此，使用本發明之第--第 四的塗佈組成物於製作塗膜時，能使隨起因於光催化劑之 作用以致黏合劑成份的塗膜劣化所造成之塗膜強度下降、 變黃現象等消失或抑制。 進而本發明之第一〜第四的塗佈組成物中，含有分散 劑之故，二氧化鈦微粒能均勻分散於塗佈.液中及藉由該塗 佈液形成之塗膜中，經長時間的分散穩定性亦優越之故， 塗佈液之適用期甚長，塗佈適用性亦優異；於長時間儲存 後使用時可輕易形成大面積且厚度均勻之霾霧値小的透明 薄膜。 該本發明之第一的特徵再加上，本發明之第二塗佈組 成物的含有以鈷摻雜之二氧化鈦微粒，以具有陰離子性之 極性基的有機化合物及/或有機金屬化合物塗佈之故，該 二氧化鈦微粒比第一塗佈組成物之二氧化鈦微粒更能均勻 分散於塗佈組成物中、及藉由該塗佈組成物形成之塗膜中 ，因此塗膜之霾霧値更爲降低。 該本發明之第一的特徵再加上，本發明之第三塗佈組 成物的含有以鈷摻雜之二氧化鈦微粒，更以具有能使光催 -43 · (40) 1356084 化劑活性降低或消失之性質的無機化合物塗佈之故，該二 氧化鈦微粒比第一塗佈組成物之二氧化鈦微粒，光催化劑 活性更爲降低。 該本發明之第一的特徵再加上，本發明之第四塗佈組 成物的含有以鈷摻雜之二氧化鈦微粒，更以具有能使光催 化劑活性降低或消失之性質的無機化合物塗佈，再以具有 陰離子性之極性基的有機化合物及/或有機金屬化合物塗 _ 佈之故，該二氧化鈦微粒比第一塗佈組成物之二氧化鈦微 粒，光催化劑活性更爲降低，且能更均勻分散於塗佈組成 物中、及藉由該塗佈組成物形成之塗膜中；因此塗膜之霾 霧値更爲降低。 本發明之塗膜，能以控制二氧化鈦微粒之配合量調節 折射率之故，極適合做爲構成防反射膜之+—層或兩層以上 的光穿透性層。 本發明之第一及第二塗佈組成物中，二氧化鈦微粒屬 φ於一般的高折射率微粒之故，使用本發明之第一及第二塗 佈組成物形成的塗膜，係藉由二氧化鈦微粒之配合量，成 爲中折射率〜高折射率塗膜。 依本發明，在形成硬化後膜厚爲〇.〇5〜10ym之塗膜 時，可調節折射率在1.55〜2.20之範圍，且依JIS-K-7 3 6 1 -1之規定，在與基材爲整體的狀態下測定之霾霧値，能控 制於與該基材單獨之霾霧値無改變或與該基材單獨的霾霧 値之差爲1 %以內。 -44- (41) (41)1356084 【圖式簡單說明】 圖1爲藉由含有本發明之塗膜的多層型防反射膜被覆 於顯示面之液晶顯示裝置的一例之剖面模式圖° 圖2爲圖1之液晶顯不裝置中，在顯示面側之玻璃基板 的外側面上膠黏偏光薄膜之剖面模式示意圖。 圖3爲含有本發明之塗膜的防反射膜之一例的剖面模 式示意圖。 圖4爲於實施例5所得之防反射薄膜的分光曲線圖。 圖5爲比較例3所得之防反射薄膜的分光曲線圖》 【主要元件符號說明】 1 :顯示面側之玻璃基板 2 :畫素部 3 :黑色基質層. 4 :彩色濾光片 5、7 ·_透明電極層 6 :反面側之玻璃基板 8 :密封材料 9 :定向膜 1〇 :偏光薄膜 1 1 :背照光單元 1 2 :偏光元件 13、14 :保護薄膜 1 5 :黏著劑層 -45 - (42) 1356084 16 : 17: 18 : 19、 20 > 2 1: 10 1 硬塗層 多層型防反射膜 中折射率層 2 2 :高折射率層 2 3 :低折射率層 基材薄膜 :液晶顯示裝置 102 :防反射薄膜

Claims (1)

1356084 第094107320號專利申請案中文申請專利範圍修正本 民國10%年月8苕修立系曰修正 十、申請專利範圍 ............. 1. 一種防反射膜，其特徵爲具有以下的塗膜，該塗 膜爲藉由使至少含有： (1)對摻雜具有將自由電子及/或電洞捕集之性質 的鈷之二氧化鈦微粒，藉由以具有捕集自由電子及/或電 洞之性質的鋅之有機金屬化合物進行表面處理而得之能使 光催化劑活性消失或抑制的二氧化鈦微粒、與 (2 )黏合劑成份、及 (3 )分散劑、以及 (4 )有機溶劑的塗佈組成物硬化所形成者； 且前述鋅之有機金屬化合物爲1種或2種以上選自乙醯丙酮 鋅、安息香酸鋅、乙酸鋅、2—乙基己酸鋅。 2. —種防反射膜，其特徵爲具有以下的塗膜，該塗 膜爲藉由使至少含有： (1) 對摻雜具有將自由電子及/或電洞捕集之性質 的鈷之二氧化鈦微粒，藉由以具有捕集自由電子及/或電 洞之性質的鋅之有機金屬化合物進行表面處理，以前述鋅 之有機金屬化合物進行表面處理後，進而以具有陰離子性 之極性基的有機化合物及/或有機金屬化合物塗佈而得之 能使光催化劑活性消失或抑制的二氧化鈦微粒、與 (2) 黏合劑成份、及 (3 )分散劑、以及 1356084 (4)有機溶劑的塗佈組成物硬化所形成者； 且前述鋅之有機金屬化合物爲1種或2種以上選自乙醯丙酮 鋅、安息香酸鋅、乙酸鋅、2—乙基己酸鋅。 3. —種防反射膜，其特徵爲具有以下的塗膜，該塗 膜爲藉由使至少含有： (1)對摻雜具有將自由電子及/或電洞捕集之性質 的鈷之二氧化鈦微粒，塗佈具有能使光催化劑活性降低或 消失之性質的無機化合物，以前述無機化合物進行塗佈後 ，進而以具有捕集自由電子及/或電洞之性質的鋅之有機 金屬化合物進行表面處理而得之能使光催化劑活性消失或 抑制的二氧化鈦微粒、與 (2 )黏合劑成份、及 (3 )分散劑、以及 (4 )有機溶劑的塗佈組成物硬化所形成·者； 且前述鋅之有機金屬化合物爲1種或2種以上選自乙醯丙酮 鋅、安息香酸鋅、乙酸鋅、2—乙基己酸鋅。 4. —種防反射膜，其特徵爲具有以下的塗膜，該塗 膜爲藉由使至少含有： (1)對摻雜具有將自由電子及/或電洞捕集之性質 的鈷之二氧化鈦微粒，塗佈具有能使光催化劑活性降低或 消失之性質的無機化合物，以前述無機化合物進行塗佈後 ，進而以具有捕集自由電子及/或電洞之性質的鋅之有機 金屬化合物進行表面處理，以前述鋅的有機金屬化合物進 行表面處理後，再以具有陰離子性之極性基的有機化合物 1356084 及/或有機金屬化合物塗佈而得之能使光催化劑活性消失 或抑制之二氧化鈦微粒、與 (2)黏合劑成份、及 (3 )分散劑、以及 (4)有機溶劑的塗佈組成物硬化所形成者； 且前述鋅之有機金屬化合物爲1種或2種以上選自乙醯丙酮 鋅、安息香酸鋅、乙酸鋅、2 —乙基己酸鋅。 5. 如申請專利範圍第3或4項之防反射膜，其中該無 機化合物爲一種或兩種以上選自氧化鋁、二氧化矽、氧化 鋅、氧化鉻、氧化錫、銻摻雜氧化錫、及銦摻雜氧化錫的 金屬氧化物微粒。 6. 如申請專利範圍第1〜4項中任一項之防反射膜， 其中該光催化劑活性被抑制之二氧化鈦微粒爲一次微粒系 0·01 〜0.1 y m。 7. 如申請專利範圍第2或4項之防反射膜，其中該具 有陰離子性之極性基的有機化合物爲有機羧酸。 8. 如申請專利範圍第2或4項之防反射膜，其中該具 有陰離子性之極性基的有機金屬化合物爲矽烷偶合劑及/ 或鈦酸酯偶合劑。 9. 如申請專利範圍第1〜4項中任一項之防反射膜， 其中該分散劑具有陰離子性之極性基。 10. 如申請專利範圍第1〜4項中任一項之防反射膜， 其中該黏合劑成份爲電離放射線硬化性。 1 1 ·如申請專利範圍第1〜4項中任一項之防反射膜， -3- 1356084 其中該有機溶劑爲酮系溶劑。 12. 如申請專利範圍第1〜4項中任一項之防反射膜， 其中對10重量份的該光催化劑活性被抑制之二氧化鈦微粒 而言，含有4〜20重量份的該黏合劑成份、及2〜4重量份 的分散劑之比例。 13. 如申請專利範圍第1〜4項中任一項之防反射膜， 其中該塗佈組成物爲進一步含有做爲光引發劑之1-羥基 —環己基一苯基酮及/或2_甲基—1—〔4一（甲硫基） 苯基〕—2-嗎碾代丙院_1 一酮。 14. 如申請專利範圍第1〜4項中任一項之防反射膜， 其中該有機溶劑對塗佈組成物之全固形份0.5〜50重量份 而言，以50〜99.5重量份之比例配合。 15. 如申請專利範圍第1〜4項中任一項之防反射膜， 其中在硬化後膜厚爲0.05〜10/zm時，折射率爲1.55〜 2.20’且依JIS-K 7 36 1 - 1之規定，在與基材爲整體的狀態 下測定之·霾霧値，與該基材單獨之霾霧値無改變或與該基 材單獨的霾霧値之差爲1%以內。 1 6.如申請專利範圍第1〜4項中任一項之防反射膜， 其中前述防反射膜爲將具有光穿透性且相互之折射率不同 的光穿透性層以二層以上層合，該光穿透性層中之至少一 層爲前述塗膜。 17· —種畫像顯示裝置，其特徵爲以如申請專利範圍 第1〜4項中任一項之防反射膜將顯示面被覆。