TWI345140B - Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a multiple dictionary compression method for fpd - Google Patents

Description

1345140 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種微影裝置及一種製造一元件之方法。 【先前技術】 微影裝置為將所要圖案塗覆於基板或基板之部分上之機 器。微影裝置可用於（例如）製造平板顯示器、積體電路 (ic)及包括精密結構之其他元件。在習知裝置中，可使用 可被稱為光罩或主光罩之圖案化元件產生對應於平板顯示 器(或其他元件)之個別層的電路圖案。藉由成像至提供於 基板上之一層輻射敏感材料（抗蝕劑）之上可將此圖案轉印 至基板（例如，玻璃板）之全部或部分上。 "代替電路圖案案化構件可用以產生其他圖案，例如 彩色濾光片圖案或點矩陣。代替光罩，圖案化元件可包含 -圖案化陣列’該圖案化陣列包含一陣列之個別可控制器 件。與基於光罩之系統相比，可在此系統中更快速地且以 更低之成本來改變圖案。 平板Λ.員示器基板形&通常為矩$。經設計以曝光此類型 之基板的微影裝置可提供覆蓋矩形基板之全寬或覆蓋寬度 之—部分（例如，-半寬度）的曝光區。可在曝光區下面^ 描基板，而經由光束同步掃描光罩或主光罩。以此方式， 將圖案轉印至基板。若曝光區覆蓋基板之全寬，則既而曝 光可由單個掃描完成。若曝光區覆蓋基板之（例如）—半寬 度，則既而可在第-掃描之後橫向移動基板，且通常執行 另一掃描以曝光基板之剩餘部分。 112844.doc 在所要劑量之圖幸將έ MI ± 成像之傻去 …曰由一陣列之個別可控制器件來 像素而組合之情況下，f料處理程序中之初始 n為將所要劑量之圖案光 。/ 需、曲 尤柵化為位兀映像形式。然而，當 要呵浪度之元件特徵時，位 料，斟H/ 士 π1豕办式可此表不大量資 —進仃處理及/或儲存可為困難及/或昂貴的。 ::方法為壓縮位元映像資料，但此帶來許多問 ==在線解厂堅縮之硬體之問題及處理所需之圈案之 本之S其厂堅縮/解塵縮特性之變化的問題。對於給定成 Α將二? 可需要限制可形成之圖案之類型及/或接 方法：緩慢地產生之高度複雜圖案之事實，此兩種替代 方法表示fH«彡元件之㈣者的不良限制。 :此’需要將改良之資料壓縮/解壓縮系統用於微 置的系統及方法。 【發明内容】 一才乂據本發明之一實施例’提供有一種微影裝置，其包含 :陣列之個別可控制器件、—壓縮圖案記憶體及一辭典解 壓縮器3亥陣列之個別可控制器件調變一輻射光束。該壓 圖f °己隐體儲存將藉由經調變之光束形成於-基板上之 w]里之圖案的一壓縮圖像。該辭典解壓縮器至少部 分解壓縮該壓縮圖像。該辭典解壓縮器包含一第一辭典記 憶體及—第一辭典解碼器。#由自該第一辭典記憶體擷取 ㈣縮圖像中含有㈣應於對該第-辭典記憶體之參考的 圖案資料之部分’㈣一辭典解碼器至少部分解壓縮該壓 縮圖像之至少一部分。 112844.doc 根據本發明之另—實施例，提供—種壓縮表示—微影裝 置之所需劑量之圖案的資料流之方法，該方法包含下^ 驟：分析該資料流以便識別出現多次之資料之序列；自： ，之經識別之重複序列選擇一群組’以對稍後—辭典解碼 器之解壓縮進行編碼；藉由用對一辭典記憶體中之位置之 一參考替換該群組中之該複序列中之至少—者而形成 該資料流之一壓縮圖像之至少一部分，該重複序列之一未 壓縮版本在該辭典解碼器之解壓縮期間將可自該位置存 取。 根據本發明之再一實施例，提供有一種元件製造方法， 該方法包含下列步驟：提供調變一輻射光束之一陣列之個 別可控制器件。儲存將藉由經調變之光束形成於一基板上 之一所需劑量之圖案的一壓縮圖像。藉由自一辭典記憶體 擷取該壓縮圖像中含有的對應於對該辭典記憶體之參考的 圖案資料之部分，讀取且至少部分解壓縮至少部分該壓縮 圖像。 以下參看所附圖式詳細描述本發明之其他實施例、特徵 及優點以及本發明之各個實施例的結構及操作。 【實施方式】 儘管討論特定組態及配置，但應瞭解，此僅為說明目的 而進行。熟習此項技術者應認可，可在不脫離本發明之精 神及範疇的情況下使用其他組態及配置。對熟習此項技術 者將顯而易見的是，亦可將本發明用於各種其他應用。 圖1示意性地描繪本發明之一實施例之微影裝置。該裝 M2844.doc 1345140 置包含一照明系統1L、-圖案化元件PD、一基板台WT及 一投影系統PS。該照明系統（照明器）IL經組態以調節一輕 射光束B(例如，紫外線（UV)輻射）。

別可控制a件可替代地連接至—經組態以根據某些參數精 確定位該陣列之個別可控制器件的定位器。 基板台WT經建構以支撲—基板（例如，經抗㈣塗佈之 基板）W且連接至-經㈣以根據某些參數精確定位該基板 的定位器PW。 投影系統（例如，折射投影透鏡系統）PS經組態以將由該 陣列之個別可控制器件調變之輻射光束投影於基板w之一 目標區C(例如，包含一或多個晶粒）上。 照明系統可包括用於引導、成形或控制輻射各種類型之

圖案化元件PD(例如，主光單或光罩或—陣列之個別可 控制器件)調變光束。一般而言，該陣列之個別可控制器 件之位置將相對於投影系統Ps而固定。然而，鱗列之個 光學組件’諸如折射、反射 '則生、電磁、靜電或其他類 型之光學組件或其任一組合。 本文中所使用之術語"圖案化元件"或，•對比元件"應廣泛 理解為指代任何可用以調變輻射光束之橫截面（諸如以便 在基板之目標區中產生—圖案）的元件。該等元件可為靜 途圖案化it件（例如’光罩或主光罩）或動態（例如，可程式 化器件之陣列)圖案化元件。為簡潔起見，大多數描述： 根據動態圖案化元件’然而應瞭解，亦可在殘離本發明 之範疇的情況下使用靜態圖案化元件。 x 112844.doc 1345140 應注意，賦予輻射光束之圖案可不精確對應於基板之目 標區t的所要圓案’例如當該圖案包括相移特徵或所謂的 輔助特徵時。類似地，最終產生於基板上之圖案可不對應 於在任-瞬間形成於該陣列之個別可控制器件上的圖案。 此可為在-配置中之狀況’在該配置中，在一給定時間週 期或給定數目之曝光(在此期間該陣列之個別可控制器件

亡之圖案及/或基板之相對位置改變)内建立形成於基板之 每一部分上之最終圖案。 般而5，產生於基板之目標區上的圖案將對應於目標 區中正產生之兀件（諸如積體電路或平板顯示器）中的特定 功能層(例如’平板顯示器中之彩色據光片層或平板顯示 器中之薄膜電晶體層）。此等圖案化元件之實例包括（例如） 主光罩、可程式化鏡面陣列、雷射二極體陣列、發光二極 體陣列、格柵光閥及LCD顯示器。 圖案可藉由電子構件（例如，電腦）程式化之圖案化元件 \諸如包含複數個可程式化器件（例如’除主光罩以外之先 前文句中所提及之所有元件）之圖案化元件）在本文中總稱 為"對比元件"。在一實例中，圖案化元件包含至少10個可 程式化器件’例如，至少100、至少刚〇'至少1〇_、至 少100000、至少1000000或至少1〇〇〇〇〇〇〇個可程式化器 件0 可程式化鏡面陣列可包含一具有一黏彈性控制層之矩陣 可定址表面及-反射表面。此跋置基本原理為（例如）反射 表面之定址區域將入射光反射為繞射光，而未定址區域將 112844.doc 1345140 入射光反射為未繞射光。使用適當空間遽光片，可將未繞 ’、光迻濾出反射光束，從而僅使繞射光到達基板。以此方 ' 式光束根據矩陣可定址表面之定址圖案而被圖案化。 應瞭解’作為替代方法，滤光片可過遽出繞射光，從而 使未繞射光到達基板。 亦可以對應方式使用—陣列之繞射光學MEMS元件（微機 電系統το件）。在一實例中，繞射光學ΜΕΜ§元件包含可相 冑於彼此而變形以形成—將入射光反射為繞射光之格柵的 P 複數個反射帶^ 可程式化鏡面陣列之另一替代實例使用微型鏡面之一矩 陣配置，可藉由施加一適當區域化電場或藉由使用壓電致 ’ 冑構件而圍繞-轴個別傾斜該等微型鏡面之每—者。且， 鏡面為矩陣可定址的，使得定址鏡面在不同於未定址 鏡面的方向上反射入射輕射光束；以此方式，反射光束可 根據矩陣可定址鏡面之定址圖案而被圖案化。可使用適當 I 電子構件來執行所需矩陣定址。 另一實例PD為可程式化LCD陣列。 微影裝置可包含一或多個對比元件。舉例而言，該微影 裝置可具有複數個陣列之個別可控制器件，每一陣列彼此 獨立而被控制。在此配置中，該等陣列之個別可控制器件 ^之若干者或全部可具有通用照明系統（或照明系統之部 分）、該等陣列之個別可控制器件的通用支撐結構及/或通 用投影系統（或投影系統之部分）中之至少一者。 在諸如圖1中所描繪之實施例的實例中，基板w具有大 112844.doc 1345140 體上圓形形狀，視情況可具有沿其周邊之部分的凹口及/ 或平坦邊緣。在-實例中，基板具有多角形狀，例如，矩 形形狀。 基板具有大體上圓形形狀之實例中包括基板具有至少25 mm(例如至少50 mm、至少75 mm '至少i〇〇 mm、至少125 mm、至少150 mm '至少175 mm、至少2〇〇 mm、至少25〇 mm或至少3〇〇 mm)之直徑的實例。在一實施例中，基板具 有至多500 mm、至多400 mm、至多35〇 mm、至多3〇〇 mm、至多250 mm、至多200 mm、至多i5〇 mm、至多1〇〇 mm或至多75 mm之直徑。 在基板為多角形（例如，矩形）之實例中包括基板之一邊 (例如，至少2邊或至少3邊）具有至少5 cm(例如，至少25 cm、至少 50 cm、至少 1〇〇 cm、至少 15〇 cm、至少 2〇〇 cm 或至少25〇 cm)之長度的實例。 在一實例中’基板之至少一邊具有至多1〇〇〇 cm(例如， 至多750cm、至多500 cm、至多350 cm、至多250 cm、至 多1 50 cm或至多75 cm)之長度。 在一貫例中，基板W為晶圓，例如半導體晶圓。在一實 例中’晶圓材料係選自由Si、SiGe、SiGeC、SiC、Ge、 GaAs、lnp&“^組成之群。在一實例中，晶圓為ΙΠ/ν化 合物半導體晶圓。在一實例中，晶圓為矽晶圓。在一實施 例中’基板為陶瓷基板。在一實例中，基板為玻璃基板。 在貫例中’基板為塑膠基板。在一實例中，基板為透明 的（對於人類肉眼而言）。在一實例中，基板為彩色的。在 112844.doc -12- 1345140 一實例中，基板為無色的。 基板厚度可變化且在一定程度上可視（例如）基板材料及/ 或基板尺寸而定。在一實例中’厚度為至少50 μιη，例 如，至少100 μιη、至少200 μιη、至少3〇〇 μιη、至少4〇〇 μηι、至少500 μιη或至少6.00 μπι。在一實例中，基板厚度 為至多5000 μηι，例如，至多3500 μιη、至多2500 μηι '至 多 1750 μιη、至多 1250 μιη、至多 1_ _、至多 8〇〇 μηχ、 至多600 μηι、至多500 μηι、至多400 μΓη或至多3〇〇 μιη。 可在曝光之前或之後在（例如）軌道（通常將一層抗蝕劑塗 覆於基板且顯影經曝光之抗银劑的工具）、計量工具及/或 檢測工具中處理本文中所涉及之基板。在一實例中，將抗 钱劑層提供於基板上。 本文中所使用之術語 投影系統"應廣泛理解為包含任何

文中術語，’投影系統，I ”投影系統"同義。 艮任一組合，只要適於正使用之曝光 ，諸如浸液之使用或真空之使用。本 之任何使用可5忍為與更一般之術語 投影系統可將圖案成像於該陣列 使得該圖案相干地形成於基板上。 次級源，料狀個別可控制^

叫之個別可控制器件上， 。或者，投影系統可成像 件之器件因此可充當擋 諸如微透鏡陣列（已知為 一陣列之聚焦器件，（例 成像於基板上。在一實 112844.doc °亥陣列之聚焦器件(例如’ MLA)包含至少10個聚焦 : 1至夕100個聚焦器件、至少1000個聚焦器 至乂1_〇個聚焦器件、至少100000個聚 少1000000個聚隹哭杜十 挈，、、、益件。在—實例中，圖案化元件中的個 別可控制器件之數|蓉 荨於或大於該陣列之聚焦器件中的聚 :、器件之數量。在一實例中，該陣列之聚焦器件中之聚焦 益件令的-或多者（例如，1000或1000個以上、大多數或 大約每一者）可與該陣列之個別可控制器件中之個別可控 制器件的-或多者光學上相關聯，例如，與該陣列之個別 可控制益件中之個別可控制器件的2個或2個以上（諸如3或 4、上5個或5個以上、10個或1〇個以上、個或⑼個 以上' 25個或25個以上' 35個或35個以上，或50個或50個 以上）光學上相關聯。在―實例中，mla可（例如）藉由使用 -或多個致動器而至少在朝向及遠離基板之方向上移動 (例如’藉由使用致動器）。能夠朝向且遠離基板移動彪 允許（例如）進行焦點調整而不必移動基板。 如本文中圖1及圖2中所描繪的，該裝置為反射類型（例 如，使用-反射陣列之個別可控制器件）。或者，該裝置 可為透射類型（例如’使用―透射陣列之個別可控制器 件）〇 微影裝置可為具有兩個（雙平臺）或兩個以上基板台之類 型。在此等”多平臺"機器中，可並行使用額外台，或可在 -或多個臺上執行預備步驟，同時使用一或多個其他台來 曝光。 112844.doc -14· 1345140 微影裝置亦可為#中基板之至少一部分可由具有相對較 高折射率之”浸液，，（例如，水）覆蓋以便填充投影系統與基 板之間的空間的類型。亦可將浸液應用於微影裝置中之其 他空間，例如，在圖案化元件與投影系統之間。浸潰技術 在用於增加投影系統之數值孔徑的技術中係熟知的。如本 文中所使用之術語”浸潰"不意謂必須將諸如基板之結構浸 入液體中，而僅意謂在曝光期間液體位於投影系統與基板 之間。 再次參看圖1 ’照明器IL自輻射源SO接收輻射光束。在 一貫例中’轄射源提供具有至少5 nm(例如，至少1 〇 nm、 至少50 nm、至少1〇〇 nm、至少15〇 nm、至少175 nm、至 少200 nm、至少250 nm、至少275 nm、至少300 nm、至少 325 nm、至少350 nm或至少360 nm)之波長的輻射。在一 實例中，由輻射源SO提供之輻射具有至多450 nm(例如， 至多425 nm、至多375 nm、至多360 nm、至多325 nm、至 多275 nm、至多250 nm、至多225 nm、至多200 nm或至多 175 nm)之波長。在一實例中，輻射具有包括436 nm、405 nm、365 nm、355 nm、248 nm、1 93 nm ' 1 57 nm及 /或 126 nm之波長。在一實例中，輕射包括約365 nm或約355 nm 之波長。在一實例中，輻射包括一寬頻波長，例如包含 365、405及436 nm。可使用355 nm雷射源。例如當轄射源 為準分子雷射時，輻射源及微影裝置可為單獨實體。在該 等狀況下，不認為輻射源形成微影裝置之一部分，且輻射 光束借助於包含（例如）適當導向鏡及/或射束放大器之光束 112844.doc -15- 1345140 傳送系統bd而自輕射源s〇傳遞至照明器江。在 下，例如當轄射源為汞燈時，輕射：狀況

體。“。右需要’可將輕射源S0及照明 J 統BD-起稱為輕射系統。 、先束傳达系 照明器IL可包含一用於調整輕射光 整器AD。一 又分佈的調 …此 §，至少可調整照明器之瞳孔平面中之 強度/刀佈的外部及/或内部徑向範圍（通常分別稱^.外及

&内）。料，㈣HIL可包含各種其他㈣，諸 腿聚光器C0。照明器可用以調節輕射光束，以在样 截面上具有所要均勾性及強度分佈。照明㈣或與之相關 聯之額外組件亦可經配置以將輻射光束分成複數個子光 束’該複數個子光束可（例如）各自與該陣列之個別可控制 器件中之-或複數個個別可控制器件相關聯。二維繞射光 柵可（例如）用以將輻射光束分成子光束。在本說明書中， 術語"輻射之光束"及"輻射光束"包含但不限於光束包含輻 射之複數個此等子光束的情況。 w 輻射光束B入射於圖案化元件PD(例如，一陣列之個別可 控制器件）上且藉由該圖案化元件來調變。在已由圖案化 元件PD反射之後，輻射光束B穿過投影系統ps，投影系統 ps將光束聚焦至基板…之目標區c上。借助於定位器pw及 位置感應器IF2(例如，干涉元件、線性編碼器、電容性烕 應器或其類似物）可精確移動基板台WT，（例如）以便將不 同目標區C定位於輻射光束b之路徑中。當使用時，該陣 列之個別可控制器件的定位構件可用以（例如）在掃描期間 112844.doc •16- 1345140 相對於光束B之路徑精確校正圖案化元件？〇之位置。 在-實例中，基板台WT之移動可借助於未於圖）中明確 2繪之長衝程模組（粗糙定位）及短衝程模組（精細定位）來 實現。在—實例中，裝置缺乏用於移動基板台WT之短衝 程模組。類似系統亦可用以定位該陣列之個別可控制器 件。應瞭解，光束B為或者/另外可移動的，而載物台及/ 或該陣列之個別可控制器件可具有一固定位置以提供所需 之相對移動。此配置可有助於限制裝置之尺寸。作為可 (例如）適用於製造平板顯示器的其他替代方法，基板台WT 及投影系統P S之位置可為固S的且基板w可經配置以相對 於基板台WT而移動。舉例而言，基板台WT可具備一用於 以大體上恆定之速度在整個基板w上進行掃描系統。 如圖1中所展示的，可藉由光束分光器BS將輻射光束B 引導至圖案化元件PD，該光束分光器則經組態使得輻射 最初由光束分光器反射且引導至圖案化元件pD。應瞭解， 亦可將輻射光束B引導至圖案化元件而不使用光束分光 器。在一實例中，以0與90〇之間（例如，5與85〇之間、15與 75。之間、25與65。之間或35與55。之間）的角度（圖】中所展 示之貫施例為以90。角）將輻射光束引導至圖案化元件。圖 案化元件PD調變輻射光束B且將其反射回至光束分光器 BS ’ 3亥光束分光器bs將經調變之光束透射至投影系統 PS。然而，應瞭解，替代配置可用以將輻射光束B引導至 圖案化元件PD且隨後引導至投影系統ps。詳言之，若使 用透射圖案化元件，則可無需諸如圊1中所展示之配置的 112844.doc 1345140 配置。 可以若干模式來使用所描綠之裝置： h在步進模式中，在賦予輻射光束之整個圖案一次投影 至目標區c上的同時，使該陣列之個別可控制器件及基板 基本上保持固定（意即，單次靜態曝光）。既而在乂及/或y 方向上位移基板台WT，使得可曝光不同目標區在步進 模式中’曝光場之最大尺寸限制單次靜態曝^中所成像之 目標區C之尺寸。

。2.在掃描模式中’在將賦予輻射光束之圖案投影至目標 區C上的同時，同步掃描該陣列之個別可控制器件及基板 (即，單次動態曝光）。基板相對於該陣列之個別可控制 益件之速度及方向可藉由投影系統ps之放大（縮小）率:成 像反轉特徵來μ。在掃描m曝光場之最大尺寸限 料次動態曝光中之目標區之寬度（在非掃描方向上），而 掃描運動之長度決定目標區之高度（在掃描方向上

3尤脈衝模式中’使該陣列之個別可控制器件基本上保 持固定，且使用脈衝輕射源將整個圖案投影至基板W之目 標區C上。基板台财以基輕定之速度移動，使得使光束 B在整個基板W上掃描線。在輻射系統之脈衝之間，視需 要^新該陣列之個別可控制器件上之圖案，且對該等脈衝 進仃计時使付連續目標區C曝光於基板W上之所需位置 处因匕光束B可在整個基板…上掃描以曝光基板之一 W. 複,8過程’直至已逐行㈣個基板 112844.doc 1345140 (在連續掃描模式巾，基本與脈衝模式相同，不同之處 在於：以大體值定之速度相對於經調變之輕射光U來掃 描基板W，且在光束B在整個基板w上掃描且使其曝光時 更新該陣列之個別可控制器件之上的圖案。可使用與該陣 列之個別可控制器件上之圖案的更新同步之大體上恆定之 輻射源或脈衝輻射源。 5·在像素栅格成像模式（其可使用圖2之微影裝置來執行） 中，形成於基板W上之圖案藉由引導至圖案化元件扣上的 由光點產生器形成的光點的後續曝光來實現。經曝光之光 =具有大體上相同之形狀。在基上光點大體上印刷於 柵格中在-實例中，光點尺寸大於經印刷之像素拇格 門距但达小於曝光光點栅袼。藉由改變經印刷之光點 的強度而實現圖案。在曝光閃光之間，光點之二= 化。 亦可使用上述使用模式之組合及/或變化，或完全不同 之使用模式。 在微影中’將圖案曝光於基板上之一層抗姓劑上。既而 貝5V該抗蝕劑。隧後，在基板上執行額外處理步驟。此等 後續處理步驟對於基板之每—部分的影響視抗㈣之曝光 而定。詳言之，調整該等製矛呈，使得接收大於給定劑量臨 限值之幸田射劑量的基板之部分不同於接收小於劑量臨限值 之輻射劑量的基板之部分而回應。舉例而言，在敲刻製程 中保濩接收大於臨限值之輻射劑量的基板之區域使其未 由—層經顯影之抗姓劑餘刻。然而，在後曝光顯影中，移 112844.doc 1345140 除接收小於臨限值之輻射劑量的抗蝕劑之部分且因此不保 護彼等區域使其未被蝕刻。因此，可蝕刻所要圖案。詳言 之，設定圖案化元件中之個別可控制器件，使得透射至圖 案特徵内之基板上之一區域的輻射處於足夠高之強度以使 該區域在曝光期間接收大於劑量臨限值之輻射劑量。藉由 設定對應個別可控制器件以提供零或顯著較低之韓射強 度’基板上之剩㉟區域帛收小於劑量臨限值之輕射劑量。 實務中，即使個別可控制器件經設定以在特徵邊界之一 側上提供最大輻射強度且在另一側上提供最小輻射強度， 圖案特徵之邊緣處的輻射劑量亦未自給定最大劑量突然改 變至零劑量。實情為，冑因於繞射效應，輻射劑量之位準 跨越-過渡區而下降。最終由經顯影之抗蝕劑形成之圖案 特徵的邊界之位置由所接收之劑量下降至輻射劑量臨限值 以下之位置來決定。藉由將提供輻射至圖案特徵邊界上或 其附近之基板上之點的個別可控制器件設定為最大或最小 強度位準且設^為最大與最小強度位準之間的強度位準， 可更精確地控制輕射劑量跨越過渡區而下降之輪廊及（因 此）圖案特徵邊界的精確位置。此通常稱為"灰階"。 自此開始，灰階提供較微影系統中可能的圖案特徵邊界 之位置之控制更大的圓案特徵邊界之位置之控制，在微影 系統中僅可將由給定個別可控制器件提供至基板的輕射強 度設定為兩個值（意即僅最大值及最小值）。在一實施例 中可將至^二個不同輻射強度值（例如，至少4個輻射強 度值、至少8個輕射強度值、至少16個輻射強度值、至少 112S44.doc -20· 1345140 32個輻射強度值、至少64個輻射強度值、至少i28個輻射 強度值或至少256個輻射強度值）投影至基板上。 應瞭解，灰階可用於上述目的之外的用途或其替代用 途。舉例而言，可調整曝光之後之基板的處理，使得取決 於所接收之輻射劑量位準，存在基板之區之兩個以上潛在 回應。舉例而t，接收小於第-臨限值之輻射劑量的基板

之。卩刀以第一方式回應；接收大於第一臨限值而小於第 二臨限值之輻射劑量的基板之一部分以第二方式回應；且 接收大於第二臨限值之輻射劑量的基板之一部分以第三方 式回應。因此，灰階可用以提供具有兩個以上所要劑量位 :之整個基板上的輻射劑量輪廓。在一實施例中，輻射劑 量輪廓具有至少2個所要劑量位準，例如，至少3個所要輻 射劑量位準、至少4個所要輻射劑量位準、至少“固所要輻 射劑量位準或至少8個所要輻射劑量位準。

應進一步瞭解，可藉由不同於（如上文所述）僅藉由控制 基板上之每一點處所接收之輻射之強度的方法來控制輻射 劑量輪廓。舉例而t，由基板上之每一點接收之輻射劑量 可另外_地藉由控制該點之曝光持續時間來控制。作 為另-實例’基板上之每一點可潛在地接收複數個連續曝 光中之輻射。由每一點接收之輕射 θ 輻射劑量因此可另外或替代 地藉由使用複數個連續曝光之— k疋子集曝光該點來控 制。 為了在基板上形成所需圖 一平臺上將圖案化元件中之 案，需要在曝光製程期間在每 個別可控制器件中之每一者設 J 12844.doc •21 - ^ am因此’表示必要狀態之控制信號須傳輸至 該等個別可控制器件中之每―者。在―實例中，微影裝置 — 產生&制彳§號之控制器。可以諸如GDSII之向量界 #格式將待形成於基板上之圖案提供至微影裝置。為了將 ㈣資訊轉換為用於每_個別可控制器件之控制信號，控 制器包括-或多個資料調處元件，每一資料調處元件經組 邊以對表示圖案之資料流執行一處理步驟。該等資料調處 元件可總稱為"資料路徑"。 一資：路徑之資料調處元件可經組態以執行下列功能中之 :或多者：將基於向量之設計資訊轉換為位元映像圖案資 料；將位元映像圖案資料轉換為所需輻射劑量映像(意即 整個基板上之所需輻射劑量輪廓）；將所需輻射劑量映像 轉換，用於每-個別可控制器件之所需輕射強度值；且將 用於母-個別可控制器件之所需輻射強度值轉換為對 制信號。 圖2把、、曰可用於（例如）製造平板顯示器的根據本發明之裝 置之配置°用相同參考數字描繪對應於圖1中所示之組件 的組件。各個實施例(例如，基板、對比元件、肌A、輻 射光束#之各種組態）之以上描述亦保持適用的。 —圖2描繪根據本發明之-實施例之微影裝置的配置。此 實施例可用於（例如）製造平板顯示器1相同參考數字打 繪對應於圖1中所示之組件的組件。各個實施例（例如，^ 板、對比元件、MLA、輻射光束等之各種組態）之以二 述亦保持適用的。 # 112844.doc •11- · 1345140 如圖2中所展示，投影系統PS包括一射束放大器，其包 含兩個透鏡L1、L2。第一透鏡L1經配置以接收經調變之 輻射光束B且經由孔徑光闌AS中之一孔徑而使其聚焦。可 將另一透鏡AL定位於該孔徑中。賴射光束b既而發散且由 第二透鏡L2(例如，場透鏡）聚焦。 投影系統P S進一步包含經配置以接收所放大之經調變之 輻射B的一陣列之透鏡MLA。對應於圖案化元件pd中之個 別可控制器件中之一或多者的經調變之輻射光束B之不同 部分穿過該陣列之透鏡MLA中之個別不同透鏡。每一透鏡 將經調變之輻射光束B之個別部分聚焦至位於基板w上之 一點。以此方式將一陣列之輻射光點S曝光於基板w上。 應瞭解，儘管僅展示所說明陣列之透鏡中的八個透鏡，但 該陣列之透鏡可包含數千個透鏡（用作圖案化元件PD之該 陣列之個別可控制器件的情況亦相同）。 圖3示意性地說明根據本發明之一實施例如何使用圖2中 之系統來產生基板W上之圖案。經填充之圓圈表示由投影 系統ps中之該陣列之透鏡MLA投影至基板w上的該陣列之 光點S °當一系列曝光曝光於基板W上時，基板W在Y方向 上相對於投影系統PS移動。開口圓圈表糸先前已曝光於基 板w上之光點曝光SE。如所展示的，由投影系統ps内之該 陣列之透鏡投景> 至基板上的每一光點曝光基板W上之光點 曝光之一列R。基板之整個圖案藉由光點S中之每一者所曝 光的光點曝光SE之所有列R的總和來產生。此配置通常稱 為（上文論述的）"像素柵格成像"。 112844.doc •23· 1345140 可看見，該陣列之輻射光點s以相對於基板w(基板之邊 緣平行於X及Y方向）之角Θ來排列。此得以進行使得當基板 在掃描方向（Y方向）上移動時每一輻射光點將越過基板之 一不同區域，藉此允許整個基板被該陣列之輻射光點覆 蓋。在一實例中’角Θ至多為20。、10。，例如，至多5。、至 多3。、至多1。、至多0.5。、至多0.25。'至多010。、至多 0.05。或至多0.01。。在一實例中，角q至少為〇〇〇1。。

圖4示思性地展示根據本發明之一實施例可如何使用複 數個光學引擎在單次掃描中曝光整個平板顯示器基板w。 在所展示之貫例中，八個陣列s A之輻射光點s由以"棋板” 組態配置於兩列Rl、R2中的八個光學引擎（未圖示）產生， 使得一陣列之輻射光點S之邊緣與相鄰陣列之輻射光點之 邊緣稍微重疊（在掃描方向γ上）。在一實例中，光學引擎 配置於至少3列中，例如4列或5列。以此方式，輻射帶在 基板W之整個寬度上延伸’藉此允許在單次掃描中執行整

個基板之曝光。應瞭解，可使用任一適當數量之光學引 擎。在一實例中，光學引擎之數量為至少】，例如，至少 2、至少4'至少8、至少1〇、至少12、至少14或至少17。 在-實例中，引擎之數量小於4〇,例如，小於3〇或小 於20。 —每-光學引擎可包含如上述之獨立照明系統江、圖案化 凡件PD及投影系統Ps。然而，應瞭解，兩個或兩個以上 光學引擎可共用照明系统、圖案化元件及投影系統中之一 或多者之至少一部分。 112844.doc •24- 1345140 根據（例如）如圖5中所展示之本發明之一實施例，提供含 有經最佳化用於不同類型之圖案之硬體器件的解壓縮元 件。可有效且以成本有效方式來處理諸如與1^(：1)顯示器相 關聯之圖案的圖案。舉例而言，避免了對昂貴内部 S R A Μ (靜態隨機存取記憶體）記憶體之大量快取記憶體的 需要。 圖5 s兒明根據本發明之此實施例之一解壓縮元件5〇〇。該 解壓縮元件500經配置以經由資料鏈路512接收儲存於圖案 記憶體51〇中之經壓縮之所需圖案資料。既而以若干階段 執行解壓縮。 前兩個階段藉由一辭典解壓縮器58〇來執行。在一實例 中，辭典解壓縮器580包含兩個基於辭典之解碼器：一整 體辭典解碼器520及一局部辭典解碼器59〇。因為可最佳化 每一解碼器之硬體以用於總圖案之不同態樣，所以使用兩 個解碼器允許圖案（例如，LCD顯示器之圖案中的邊界區 域及顯示區域）以更有效之方式被處理，在下文中將對此 進行更詳細地描述。 在-實例中，基於辭典之壓縮及解壓縮依賴於對儲存於 記憶體（例如辭典”）中之圖案（或對應於圖案或圖案之邱 =的資料序列）的參考。在1縮階段中，—基於辭典之； 异法保持已於記憶體中經過之圖案的歷史 、 案。當重複圖㈣現時，產生包含對圖案已於過== 記憶體中的位置之參考的符號。該符號通常遠小於 案且因此提供一•縮度。對於經常重複之圖案特徵而言， II2844.doc -25- 1345140 此方法提供較高壓縮因數。解壓縮可藉由反向該過程而執 • 行。 • 在實例中’整體辭典解碼器520經組態以經由資料鏈 路524而與—整體辭典記憶體522(例如，一整體辭典）相互 作用，貝料鏈路524實施於一外部記憶體區塊55〇中。在所 展不之實施例中，記憶體區塊550亦含有圖案記憶體510， 但圖案s己憶體5 1 〇亦可實施於一獨立記憶體區塊中。記憶 體區塊550在其未形成解壓縮元件5〇〇之一整體部分之意義 上為外部的。舉例而言，在於一或多個FPGA(場可程式化 閘陣列）晶片中實施解壓縮元件之情況下，記憶體區塊未 形成FPGA晶片之一整體部分。可經由高頻寬連接將記憶 • 體區塊550連接至解壓縮元件500。 • 整體辭典522儲存與整體所需圖案相比為大的圖案特徵 及/或以相對較大距離重複之特徵（使得該等特徵在自辭典 被元王靖取之意義上僅需於解碼過程中較不頻繁地"被 φ 存取”）。舉例而言，該等特徵中之每一者儲存於辭典中之 特定位置處且可藉由一記憶體位址來索引。 在實例中，未在整體辭典522中表示較小"局部"特 徵，因為該等較小”局部”特徵可藉由局部辭典54〇更有效 地處理，該局部辭典540可經最佳化用於與此等局部特徵 相關聯之記憶體存取操作類型（見下文）。 在一實例中，整體辭典可經組態以儲存所有彼等重複特 徵’該等重複特徵：⑴過大而不適合局部辭典或⑺以一 分離圖案而重複（意即，出現於所述重複圖案之重複執行 112844.doc -26- 1345140 個體之間的空間中的的圖案），該分離圖案當添加至重複 圖案之尺寸時大於局部辭典。 實例中體辭典解碼器52〇執行之解壓縮過程 刀如下所述自圖案έ己憶體5 1 〇讀取資料且，在該等 資料參考整體辭典522之情況下，整體辭典解碼器52〇自整 體辭典522擷取經參考之資料且將其傳遞至輸出鏈路526。 將未參考整體辭典522之資料直接傳遞至輸出鏈路似。 整體辭典解碼步驟對於參考整體辭典522中之大輸入的 圖案之區（意即’含有相對較大重複圖案及/或以大距離重 複之圖案特徵的區）特別有效。舉例而言，藉由此步驟有 效地處理LCD顯示器之圖案中之顯示像素、邊界區域中之 - 大重複圖案及/或序號及標註資訊。 ' 在實例中’外部記憶體區塊550包含SDRAM(同步 dram(動態隨機存取記憶體）），其為標準dram之更高速 版本此類型之§己憶體特別適用於儲存整體辭典輸入，因 • 為其相對較廉價（使得可為合理成本提供高容量）且記憶體 頻寬經最有效地利用以指待較大像素區塊（例如，至少幾 百像素之位元映像像素區塊）。用此種記憶體參考小像素 區塊導致非常不良之記憶體頻寬利用，因為傳送小資料塊 相對較為低效（可終止要求許多並列記憶體達成相同頻 寬）。舉例而言’在存取含有1〇〇個以上之字組（來自相鄰記 憶體位址）之資料塊時，典型SDRAM元件可提供相對較高 之 > 料頻寬。然而，當資料塊之尺寸減小至8個以下之字 組時’可預期資料頻寬下降約10倍，因此需要1〇倍之更多 112844.doc -27- 1345140 的記憶體元件以獲取與當傳送較大區塊時所達成之頻寬相 同的頻寬。外部記憶體之一重要特徵在於其具有高頻寬， 而不必需隨機存取。 在一貫例中，可能藉由使用FPGA内部SRAM記憶體來有 效地參考小像素區塊，該FPGA内部SRAMk憶體之存取時 門遠知於外部兄憶體且其因此更適用於實施局部辭典 540其可經貫施而具有高頻寬及隨機存取容量。可用之 SRAM記憶體之量更加受限制但在經設計僅用以處理以小 距離重複之小重複圖案時無需非常大。然而，應使局部辭 典足夠大以截獲顯著比例之圖案規律性（重複舉例而 言’在平板顯示器中，應使局部辭典足夠大以截獲顯示區 域圖案中之至少較小標度規律性。在-實例中，可以動態 方式更新局部辭典之内$，以便提高辭典之相關性。舉： 而言，辭典可經組態僅心料近來已自辭典解碼器59〇 輸出之資料。下文給出關於此實施例之更多細節。 提供局部辭典解碼器59{)作為經特定設計以處理圖案之 局部重複特徵的額外解壓縮平臺。在所展示之實施_ ， 器5=^辭典”）。在所展示之實施例中’局部辭典解碼 應瞭解以接收整體辭典解碼器520之輸出作為輪入。 5:，# V:可以相反順序配置整體與局部解碼器520與 。邛辭典解碼器590之輸出由整體辭典 接收作，，但此可能導致劣等壓縮率。〜52。 在此貝例中，局部辭典解碼器59〇藉由對儲存於局部辭 112844.doc -28- 1345140 典540中之少量資料進行頻繁存取而工作。如上述，可藓 由在解壓縮期間變化局部辭典54〇之内容來達成局部辭： :〇之谷量的良好使用。可達成此之一方式為藉由 典使其在，，滑動窗口 "模式下更新。根據此配置，並非儲存 用於整個所需圖案的重複圖案資# ’局部辭典州僅儲存 與包含於跟隨正解壓縮之圖案區之概念窗口内的所需圖案 之了部分有關的t料，該窗口、經配置在圖案上”滑動"。在 '弋下局°卩辭典解碼器530依賴於以下事實.小 特徵通常傾向於（例如）逐個掃描線地以短距離而重複。此 :複因此可使用對辭典位址之參考來編碼，該等辭典位址 貫體上非吊接近在一起且表示近來經處理之資料。

^〜'肖動窗ϋ模^之—方配置自局部辭典解碼 益3〇之輸出以使其被用作局部辭典記憶體州之輸入。如 上述局部记憶體540之尺寸係有限的且在任何蝕刻僅可 儲存來自局部解碼器別之累積輸出的—部分。可根據，，先 進先出’原則對此進行控制，該，，先進先出"原則可使用專 門，憶體硬體（"先進先出•，記憶體）或使用較習知之記憶體 而實施。以此方式’僅近來經處理之解碼器輸出之一部分 將被儲存於記憶體540中。 。”夺於局σρ辭典記憶體54〇中之資料的比例可使用（例如） ❹制鏈路534而變化°詳言之，可控制鏈路534可經配置 以利用以下事命· 二 s.在解壓縮過程中之稍後階段不將再使用 ^胃料無需健存於局部辭典記憶體54〇中。舉例而言，壓 广。。可、丄°又什使得資料之額外位元（或”標記"）插入（或另 112844.doc -29· 1345140 外產生）至將被解壓縮之資料流中以指示哪些（局部辭典適 當的）特徵在解壓縮處理中稍後將加以重複且哪些特徵將 不加以重複（或哪些特徵過大或另外不適於儲存於局部辭 典54〇中）。可控制鏈路534既而經組態以僅將實際上將由 局部解碼器590使用之資料之彼等部分轉遞至局部辭典 540。以此方式’更好地利用局部辭典54〇使得較大重複特 徵可得以儲存及/或較陳舊之重複特徵可較長久地保持於

§己憶體中。此既而意謂根據輸出流532之比例的局部辭典 540的"尺寸，，不再恆定，而是取決於資料流中之局部重複 之程度而變化。 作為替代方法，可將自局部解碼器59〇之所有資料輸出 傳遞至局部辭典540(此將對應於傳遞所有資料的鏈路 534)。此配置需要較不複雜之壓縮技術（不再需要以相同方 式標記重複資料）且亦可較簡單地實施於硬體中。

根據X例，在出現重複局部特徵之情況下，特徵之第 :執行個體將以相對較未麼縮之形式提供於輸入資料流中 (思即’該第一執行個體不包含對另一辭典之參考，但(例 )仍可進订運仃長度編碼）且將可用以充當對該第—執行 個體保持於局部辭典5辦之時間的參考q特徵之盆他 執行個體僅藉由參考局部辭血 八 n找 酐八中之一較早出現而編碼 且鮍該等執行個體出現且者兮笙 边現且田該荨執行個體出現時匯入至自 局部解碼器540輸出之資料·户中 貝料μ中相同重複局部特徵之出 現於彼特徵之所有未壓坨拟Α 吁彳又之出 垒縮形式已自局部辭典中消失（或至 ^、不再全部可用）之接 )之後的任一 #行個體將需要使用特徵之 112844.doc 另-相對未屬縮之版本來編碼且(例 位於局部辭典中(等等：-參考特徵 在相同重複特徵之多個版太户/—多考特徵進行參考。 下，可料近及/或最容易存取之版本進行參I中之情況 在實例中，至局部解碼器530之輸入眘粗A 局部辭血540之夫老而认 資科机526含有對 54。:内輸出資料流532及(因此)局部辭血 ⑽紐對局部辭典之參考且僅為將由解碼写 560解碼的經運行長度（或另外）編碼之資料。 ‘，，，盗 2上文已提及的’由局部辭典54〇中之資料表 + 圖案之部分可藉由"窗口"來定界，該，，窗口”可經觀心 將輸入至最終解碼器56〇的所需劑量之圖案之圖像上”滑動” (例如’當最終解碼請能夠運行長度解碼時，該窗口將 在所需劑量之圖案之一運行長度編碼圓像上滑動）。如上 文已提及的’在提供一可控制鏈路534以確保（例如）局部辭 典540僅含有實際上將被參考之資料的情況下，此窗口之 尺寸及幾何形狀可變化。在一實例中，該窗口可經組態以 儲存固定數量之"符記”’每一符記對應於(例如，由單個像 素或由整行像素界定之）圖案之一部分。符記之數量及每 一個別符記之尺寸既而決定必須可儲存於局部辭典記憶體 540中之窗口資料的總尺寸。 在可控制鏈路534經組態以將自局部辭典解碼器53〇輸出 之所有資料傳遞至局部辭典54〇的狀況下，用於形成所需 劑量之圖案之壓縮圖像的壓縮軟體將經組態以用對儲存於 局部辭典540中之資料的參考來替換一重複資料序列。此 112844.doc -31 - 可發生於滿足以下不等式之任何時候：j + BU，其中A為 (从相對未壓縮之形式’例如，無需由局部或整體辭典解 碼器進一步解碼但可由解碼器56〇進一步解壓縮的形式）儲 存所述 > 料序列所需之記憶體之量，B為由在資料序列之 多考版本與重複出現之間（例如，在前一出現與將由對該 刖-出現之參考之替換而壓縮的序列之間)出現於自局部 解碼器530之輸出中之資料所佔據之記憶體的量，且s為局 邛辭典540之容量。該關係體現以下要求：參考一重複特 徵僅當彼特徵之版本可（全部）存取於局部辭典“Ο中時為有 用的不滿足以上不等式之較大重複特徵及/或不足夠接 近：重複(意即’不在所需之圖案附近，或在所需之圖案 之一運行長度編碼或另外壓縮之圖像鄰近）之特徵可儲存 於整體辭典中且由整體辭典解碼器解碼。 在可控制鏈路534經組態以僅將資料序列傳遞至將由 P解碼器530參考之局部辭典54〇的狀況下，用於判定是 =用對辭典記憶體㈣之參考替換—重複資料序列的關 支得更為鬆他。舉例而言，他，其中W，因此增 此形式之壓縮的範圍。 s 上述局部與整體解褐器均需要以適當方式壓縮圖案 :杂舉例而έ ’對於局部辭典解碼器59〇而言，編碼過 而要考慮滑動窗口之尺寸及(可能)整體辭典解碼器之 老斜乂便確保對局部辭典記憶體540中之記憶體位址的 考：對意欲解壓縮之特徵。此外，如上述，資料可需要 入母—符記中以指示是否應將該符記傳遞至局部辭典記 112844.doc -32- 1345140 體540中（意即，以控制可控制鏈路534之操作）。 在一實例中’編碼（壓縮）過程可實施為雙階段、 便成為解碼（解壓縮）過程的逆過程。首先，將532上之所兩 輸出之編碼建構為如同僅存在局部辭典解碼器59〇 一樣。 此為將於526上傳送之流。在第二傳遞中，對此進行編碼 而用於整體辭典編碼器58〇，1此既而給出必須儲存於别 中且於5 12上傳遞之經編碼之流。當存在一最終解碼器$6〇 時’既而第一階段將為將圖案資料編碼為對應於解碼器 560之容量的壓縮形式。為了使編碼器以最佳方式執行以 上過程，該編碼器應具備關於解壓縮硬體之特徵（例如， 記憶體尺寸、記憶體頻寬特徵等）的資訊。 作為上文編碼順序之替代’可有利的是，首先編碼用於 整體辭典解碼器之資料使得可利用由使用者供應之所需劑 量之圖案的GDSII(或均等的）基於向量之圖像中之階層。 此可顯著減少編碼時Μ。#存在一最終解碼器56〇時7編 碼過程將接著進行對應於該最終解碼器560的編碼且以關 於局部辭典解碼器590之編碼而結束。 可藉由在辭典解碼器59〇及52〇處理圖案資料之前預處理 該圖案資料以執行初始壓縮來進-步改良局部辭典解碼器 590及/或整體辭典解碼器520之效能。如上述，可藉由在 辭/、解馬器之後將—額外解碼器包括於解壓縮元件 中來實施解碼。可選擇該(等)預處理技術以便於容易在線 解壓縮。舉你|而t —- .. β 、 。’可使用運行長度編碼或其類似物。另 外或其他，可使用霍夫曼編碼（靜態辭典型編碼）、德耳塔 112844.doc -33- 1345140 編碼、基於辭典之編碼或此等方法之任一組合。 在圖5中所展示之實例解碼器中，提供一運行長度解碼 560，其經配置以經由資料鏈路532接收藉由局部及整體 辭典解碼器590及520解碼之後的信號輸出。藉由僅須以運 行長度編碼形式輸出資料，可分別減少給定數量之輸入的 局部及整體辭典540及522之尺寸。因此可更有效地執行記 憶體存取操作，或（例如）在局部辭典之狀況下，可增加滑

動窗口之尺寸卩考慮戶斤需劑量之圖案之較大部分及（因此） 圖案規則性之較大比例。 牛例而5，平板顯示器圖案之邊界區或周邊中之圖案相 '大（忍即該等圖案在相對較大長度標度方面不規則） 且將通吊不適合一適當尺寸之局部辭典“Ο。然而，上述 頦垔之預處理因為此等區中頻繁遭遇之圖案之類型通常可 成為可月匕。舉例而言，運行長度編碼在減小具有相同 灰色調之相鄰像素之資料尺寸時可特财效且在周邊區中

通常看到該等相鄰像素中 豕京中之右干者（例如，大約數十個）。 二，’局部辭典54°亦可用以儲存與平板顯示器圖案之 …貝不區域有關之圖案資料。 部紀㈣=路Μ2將最終解壓縮平臺則之輸出轉遞至外 出^ 7〇H57()f置以便辣定速率 輸出至資料路徑之後續平！ 寸 白紐厭、擇6己憶體尺寸以允許補償 自㈣縮凡件500之輸出率的小變化。 儘官可已在上文中特 之實施例，但應瞭解，本二=影之情形中使用本發明 發月可用於其他應用（例如當情 112844.doc -34· 士兄允許時之壓模微影），且 中m “ 不阳於先从影。在屋模微影 70件中之構形界定產生於基板上之圖案。可將 圖案化7C件之構形壓入供應至基板之一層抗韻劑中、，在节 =藉由施加電磁輕射、熱、屋力或其組合來固化抗： 别。在抗钱劑固化之德蔣 _ '案化兀件移出抗钱劑從而將圖 案留存於該抗餘劑中。 儘管已在上文中描述本發明之特定實施例，但應瞭解， 貫踐本發明之方式亦可不同於所述方式。舉例而言，本發 月可知用3有十田述如上述之方法的一或多個序列之機器可 讀指令的電腦程式或其中儲存此電腦程式之資料儲存媒體 (例如，半導體記憶體 '磁碟或光碟）的形式。 結論 儘管已在上文中描述了本發明之各個實施例，但應瞭 解’僅以實例而非限制呈現該等實施例。熟習此項技術者 顯而易見的是，在不脫離本發明之精神及範疇之情況下可 在本發明中對形式及細節進行各種改變。因此，本發明之 寬度及範不應受上述示範性實施例中之任—者限制，而 應僅根據隨附申請專利範圍及其均等物來界定。 應瞭解’[實施方式]部分而非[發明内容]及[發明摘要]部 分欲用以解釋申請專利範圍。[發明内容]及[發明摘要]部 分可陳述如發明者所預期的本發明之例示性實施例之一或 多者而非全部’且因此不欲以任—方式限制本發明及隨附 申請專利範圍。 【圖式簡單說明】 112844.doc -35-· 1345140 圖1及圖2描繪根據本發明 圓3描繪使用如圓2中所示 印至基板之模式。 之各個實施例之微影裝置 之本發明之實施例而將圓 案轉 圖4描繪根據本發明之一實施例之光學引擎的配置。 圖5描繪根據本發明之實施例之解壓縮元件。 一現將參看所附圖式描述本發明。在圖式中，㈣參考數 字可指示相同或功能上類似之器件。此外，—參考數字之

或夕個最左數位可識別該參考數字最初出現之圖式。 【主要元件符號說明】 500 510 5!2 ' 524 X 562 520 522 526 530 532 534 540 550 560 570 580 590 解壓縮元件 圖案記憶體 資料鏈路 整體辭典解碼器 整體辭典 輸出鏈路 解碼/汁算部件/局部辭典解碼器 輸出流/資料鏈路 可控制鍵路 局部辭典 外部記憶體區塊 最終解碼器 外部記憶體 辭典解壓縮器 局部辭典解碼器 112844.doc -36 - 1345140

AD 調整器 AL 透鏡 AS 孔徑光闌 B 輻射光束 BD 光束傳送系統 BS 光束分光器 C 目標區 CO 聚光器 IF 位置感應器 IL 照明系統 IN 積光器 LI 第一透鏡 L2 第二透鏡 ML 透鏡 MLA 透鏡陣列 PD 圖案化元件 PS 投影系統 PW 定位器 R 光點曝光列 R1、R2 列 S 光點 SA 輻射光點陣列 SE 光點曝光 SO 輻射源 112844.doc •37- 1345140 w 基板 WT 基板 台

112844.doc -38-

Claims (1)

1345140 第095130345號專利申請案 中文申請專利範圍替換本(1〇〇年3月） - 十、申請專利範圍： f畔> 月？曰修正本 • 1 · 一種微影系統，其包含： • 一具有一發射部分之裝置，其經組態以產生一圖案化 光束； η己隐體經組態以儲存一壓縮圖像（represenati〇n)，該 壓縮圖像係一肖以該經圖案化之光束形成於一表面上之 所需劑量之圖案一壓縮圖像；及

2. 3. 一辭典解壓縮器經組態以至少部分解壓縮該壓縮圖 像，其中該辭典解壓縮器包含： 一第一辭典記憶體，及 一第二辭典記憶體， 其中》亥所而劑量之圖案包含兩群組之重複圖案特徵；及 其中δ玄辭典解壓縮器經組態使得： 5亥第一辭典記憶體經組態以儲存對應於該等群組之 一第一群組的圖案資料，及 —該第二辭典記憶體經組態以儲存對應於該等群組之一 第二群組的圖案資料’其中該第一群組中之該等重複圖 案特徵相較於該第二群組中之該等重複圖案特徵具有一 個或多個相異特性。 μ 如請求項1之系統’其中該第-辭典記憶體為—外部辭 典記憶體。 如玥求項1之系統’其中該辭典解壓縮器進一步包含： —第一辭典解碼器，經組態以藉由自該第-辭血士己憶 體操取該壓縮圖像中所包含的對應於對該第—辭典記: 112844-l〇〇〇3〇7.doc 4. 5. 體之參考的部分 之至少一部分； 圖案資料來至 及 ^部分解壓縮該壓縮圖像 -第二辭典解碼器，經組態 體摘取該像中所包含的 體之參考的部分圖案資料來至 之至少一部分。 以藉由自該第二辭典記憶 詞應於對該第二辭典記憶 少部分解壓縮該壓縮圖像 h求項3之系统，其中該第 典解碼器之—內辭典$憶體為該第二辭 心内部記憶體。 二承唄3之系統，其進一步包含： 可控制鏈路經組態以將由 之資料之$小 弟二辭典解碼器解壓縮 丁叶之至少一部分轉遞至 於在解碼沾.弟一辭典記憶體，其對應 徵。 乐—辭典解碼器擷取之特 6.如請求項5夕金μ u , 入至該第lit 控制鏈路經組態以基於輸 選擇11驗㈣社該資❹的標記而 該等縮資料：部分以轉遞至該第二辭典記憶體， d a不哪些育料序列在該解碼過程切後將由該 弟一辭典解碼器擷取β 如請求項3之系統，其中： 陣^等苐-及第二辭典解碼器包含至少—場可程式化閉 7. §亥第二辭典記憶體包含整合於該 陣列中之記憶體；及 °玄第一辭典記憶體包含與該至少 至少—場可程式化閘 一場可程式化閘陣列 112844-1000307.doc )1408. 9. 分離而形成且經由 如請求項3之系統 的内容根據由該辭 區而改變。 一通信介面而連接之 ，其令該等辭典記憶 典解壓縮器處理之該所 記憶體。 體中之至少一者 需之圖案的一

10. 如請求項8之系統，其中該等辭典記憶 經組態以藉由儲存自該等辭典解碼器中 出的後續部分而逐漸更新。 如請求項8之系統，其中 體中之至少一者 之至少一者之輸 自該第一辭典解石馬器之輸出形成-碼器之輸入；且 用於該第 二辭典解 —辭典解碼器之該 其中该等辭典記憶體中之該至少一 外部記憶體元件匯入資料而逐漸更

該第二辭典記憶體藉由儲存自該第 輪出之後續部分而逐漸更新。 U，如請求項8之系統 者經組態以藉由自 新。 12.如請求項8之系統，並 ^ ^ _ 八T °亥專辭典記憶體中之至少一者 谷包括關於該所需的圖电 ^ ^ 0 的圖案之一部分的資料，該部分 對應於最近已加以處頁 13 ^ κ 4所需之圖案之一區。 1乂如凊求項12之系統，其中 該所需之圖案之該部分 刀错由一大體上預定尺寸之一窗 口來定界，該窗口小於％ .Λ °亥所需劑量之圖案，且 在解壓縮期間移動兮盘 同安> 4 ^固口以便僅含有最近經處理之該 圖案之該區。 14.如請求項1之系統，其中 112844-1000307.doc 1345140 辭典解壓縮器經組態以部分輸出壓縮資料，如運行 長度編碼資料、霍夫曼編碼資料二科，如運- 於辭典之編碼資料;及 …編碼資料或基 該系：進一步包含一運行長度解碼器、—霍夫曼解碼 器經配解碼器或—基於辭典之解碼器，每一解碼 裔配置以至少部分解碼該部分壓縮資料。 1 5.如請求項i之系統，盆一 態隨機存取記憶體。 …己憶體包含同步動 16.如請求们之系統’其中該第二辭典記 機存取記憶體。 t 3 m 17，：請求項!之系統’其中位於該劑量之圖案且大於劑量 W值之:輻射劑量會導致曝光於該輻射劑量之一基板 之-區域形成-抗蝕層，利用此抗蝕層，可保護該曝光 於該輻射劑量之一基板之區域免於蝕刻。 18.如請求们之系統’其中位於該劑量之圖案且小於劑量 臨限值之-㈣劑量會導致曝光於該輕射劑量之一基板 之一區域被移除。 19·如請求们之系、統’其中該相異特性包含大小及重複頻 率之—或多者。 20. —種處理一資料流之方法，其包含 產生一圖案化光束； 儲存-壓縮圖像’該壓縮圖像係一待以該經圖案化之 光束而形成於一基板上之所需劑量之圖案，其中該所需 劑量之圖案包含兩群組之重複圖案特徵；及 112844-1000307.doc 1345140 藉由自&含一外部辭典記憶一 之辭典記憶體擷取該壓^ P 、記憶趙 典記憶體之參考的部==包含的對應於對該辭 縮該物像之=案― 、x外°卩辭典έ己憶體儲存對應於該等群组之一第 群組的圖案資料， 乐一

其中該内部辭典記憶體儲存對應於該等群組之_ 群組的圖案資料，以及 一 其中該第一群組中之該等重複圖案特徵相較於該第二 群.且中之4等重複圖案特徵具有―個或多個相異特性。 21· -種壓縮表* —微影裝置之m彳量之圖案的一資料 流的方法，其包含： ’ 分析該資料流以識別出現超過一次之資料序列； 自已識別之重複資料序列選擇一群組進行編碼以供— 辭典解碼器之後續之解壓縮；及 藉由用對一辭典記憶體中之一位置之一參考替換該群 組中之該等重複序列中之至少一者而形成該資料流之— 壓縮圖像之至少一部分，該重複序列之一未壓縮版本在 該辭典解碼器之解壓縮期間可被存取。 22.如請求項21之方法，其進一步包含： 自該等經識別之重複資料序列選擇一第一群組進行編 碼，以供一第一辭典解碼器之後續解壓縮； 自該等經識別之重複資料序列選擇一第二群組進行編 碼以供一第二辭典解碼器之後續解壓縮； U2844-100Q307.doc 1345140 藉由用對一外部辭典記憶體中之一位置之一參考替換 "亥第群組中之該等重複序列中的至少一者而形成該資 料μ之一壓縮圖像之至少一部分，該重複序列之一未壓 縮版本在該第一辭典解碼器之解壓縮期間將可自該位置 存取，其中3玄外部辭典記憶體位於該第一辭典解碼器之 外部；及 ° 藉由用對一内部辭典記憶體中之一位置之一參考替換 該第二群組中之該等重複序列中的至少一者而形成該資 料流之-壓縮圖像之至少—部分，該重複序列之一未壓 縮版本在該第二辭典解碼器之解壓縮期間將可自該位置 存取’其中該内部辭典記憶體位於該第二辭典解碼器之 内部。 23. 24. 25. 如請求項22之方法，其中： 藉由至：>、3每可程式化閘陣列來實施該第一及該第二 辭典解碼器； X — 4内#辭典s己憶體實施於與該至少__場可程式化開 列形成一體之記憶體中；及 4外。p辭典€憶體實施於與該至少—場可程式化 列刀離而形成且經由—通信介面而連接之記憶體中。 如明求項22之方法’其中：該資料流包含根據下列方法 中之至少一者而編碼之該所需劑量之圖案之—圖像 灯長度編碼、霍夫曼編碼及德耳塔編碼。 如請求項22之方法，其中 k擇β第-群組之重複序列’使得對於該第—群組中 112844-1000307.doc • 6 - j3451^ 之一重複序列之每-執行健而言，構成該重複序列之 該未麼縮版本的位元之數量與出現於該執行個體與該資 料流中的該相同重複序列前一 執仃個體之間的位元之 數量的總和高於一預定臨限值；及 選擇該第二群组之重潘成別 .y 董禝序列，使得對於該第二群組中 之一重複序列之每一執行個轉而丄 轨仃惘體而&，構成該重複序列之 該未壓縮版本的位元之數詈盥屮 歿1 /、出現於§亥執行個體與該資 料流中的該相同重複岸列夕 饺斤列之則一執行個體之間的位元之 數篁的總和等於或低於該預定臨限值。 如請求項25之方法’其中根據該内部辭典記憶體之一容 量而決定該預定臨限值。 27.如請求項22之方法，其進一步包含： 在該屢縮圖像中之該等資料序列中產生標記以指示該 等資料序列是否將在解石馬期間由該第二辭典解碼器自該 内部辭典記憶體存取。 28.如請求項21之方法，其包含：

預處理該資料流以執行一初始壓縮； 刀析銓預處理之資料流以便識別出現多次之資料序 列； 對此重複資料序列中之每一執行個體進行計算，多 少介入資料出現於該執行個體與前一執行個體之間的該 經預處理之資料流中； 執订一局部辭典編碼過程，該過程包含對於該介入資 料之尺寸與該資料序列之尺寸之總和不超過—預定臨限 H2844-I000307.doc 1345140 值的每-重複資料序列而m局部辭典解碼器之一 内部記憶體中之—位置的—參考替換該資料序列，可在 该局部辭典解碼器解碼噹眘 έ 前一執行個體a ㈣於該位置處發現該 將該局部辭典編碼過程之輸出轉遞至一整體辭 =，該整f辭典編碼過程包含料—整體辭典解碼器 之外σΡδ己憶體中之一位置的參考替換該 [貝料序列之至少-部分，可在該整體辭业解碼。。組 該資料流期㈣該位置處發現該 之、^解碼 法，其中根據該内部記‘::二而 決定該預定臨限值。 谷里而 3〇,如請求項28之方法，其中該預處理包含使用下列 1至少者而編碼··運行長度編碼、霍夫曼 ^ 編碼及基於辭典之編碼。 ^耳塔 31·如請求項21之方法，其包含： 預處理該資料流以執行一初始壓縮丨及 執行-局部辭典編碼過程以提供—適於 典解碼器來解碼之局部辭典編碼資料流，其日中一局部辭 該局部辭典解碼器經組態以對部^ & 體進行存取， ^。卩辭典記憶 自該局部辭典解碼器之—輪出提 ::::輸 該局部辭典編碼過程包含： 112844-1000307.doc 1345140 分析經預處理之資料以識現 ' 列；及 田現夕次之資料序 . 序=:重:資料序列之每一執行個體計算該相同 -執行：將於在解㈣間遭遇該後 體中：Γ 全错存於該局部辭典記憶 置之參：Γ:則用對該局部辭典記憶體中之-位 >考替換每一該執行個體， • 在解碼期間可自該位置使用，&…執行個體將 2局部辭典編碼㈣流作為輪人而 !=過程，該整體辭典編碼過程提供 . 中： κ正體辭典編碼資料流，其 體進行存取，及 外π整體辭典記憶 該整體辭典解碼過程包含： 序列分:該局部辭典編媽資科以識別出現多次之資料 重複H亥整體辭典記憶體甲之位置之參考替換該等 η歹’之至少一子集’該等序列之圖像將在解碼期 間可自該等位置使用。 3=求項31之方法，其中該預處理包含藉由使用下列方 :至少一者而編碼：運行長度編碼、霍夫曼編碼、 德耳塔編碼及基於辭典之編碼。 33.如請求項3】之方法，其中該局部辭典記憶體經組態以基 U2844-W00307.doc 1345140 於一先進先出而儲存自該局部辭典解碼器的該輸出之 部分。 112844-1000307.doc