TWI341873B - Sputtering diamond-like target and method of making it - Google Patents

Description

1341873 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明ίτ、關於種真1錄膜I&材，尤其是關於一種賤錢錢石乾材及其 製作方法。 【先前技術】 在射出成型之模具或模造成型模具令，為增加模具表面之硬度、光潔 度及潤滑度，通常在模具表面鍍一層硬膜，常見之硬膜有類鎮石薄膜 (diamond-like carbon film，DLC) ' I化鈥(TiN)、ft化路(CrN)等。由於類鐵 石薄膜具有類似鑽石之高硬度，可承受模具内之高壓，同時其表面具有自 潤滑之特性，可利於模具之脫模，因此類鑽石薄膜很適合用於模具表面。 馨 習知之類鑽石薄膜係通過濺鍍法或化學氣相沉積法(chemical vapor deposition，CVD)錄於模具之底材上，惟，化學氣相沉積法成本較高，故一 般產業令利用濺鍍法獲得類鑽石薄膜。習知之濺鍍法係採用石墨為靶材進 行濺鍍製得類鑽石薄膜，但由於石墨與鑽石中碳原子之結合方式不同，石 墨中碳原子以SP2鍵結合，而鑽石中之碳原子係通過SP3鍵結合。所以採 用石墨作耙材獲得之類鑽石薄獏申含有較多以SP2鍵結合之碳原子，導致製 得之類鑽石薄膜硬度及附著度較差。 有鑑於此’提供一種含有較高SP3碳鍵結合之濺鍍鑽石耙材及其製造 方法實為必要。 【發明内容】 * 本發明之目的在於提供一種含有較高SP3碳鍵結合之濺鍍鑽石靶材。 本發明之另一目的在於提供一種上述濺鍍靶材之製造方法。 為了實現本發明的目的，本發明提供一種濺鍍鑽石耙材，其包括基材、 焊料廣及工業鑽石層，其中工業鑽石層與焊料層之間形成一擴散層，該擴 散層將工業鑽石層與焊料層緊密聯結。 ~種上述濺鍍靶材之製造方法，包括以下步驟·· 提供一基材； 將焊料敷於基材表面，形成一焊料層； 將工業鑽石粉末均勻置於焊料層表面，形成一工業鎮石層； 5 1341873 *二上真空燒結爐進行真空硬焊，在工_層 從真空燒結爐中取出後得到濺鍍鑽石靶材。 石製材石乾材’採用成本相對較低之工細 ί實：式7墨姆含有較高之SP3叫 焊料第工一章圖镨及石第；；圖所示’本發明之麟鑽石乾材1包括基材10、 居其中焊料層12與工業鑽石層之間形成-擴散 散層15將工業鑽石層13與焊料層12緊密聯結。其中’、 之材料為不銹鋼，焊料層12之材料為含 α層^ 係一之含鈥 成，r要成份為碳化鈦。 ==粒均勻之工業鑽石粉末均勻喷==在 工業鑽石層13，該工業鑽石層13之厚度在_ 步驟製得之產。石層13與焊料層12結合不夠緊[故此時將上述 1〇·4 ft(t〇rr)"w' * 轉明㈣ΓΓ 實卜舉凡熟悉本案技藝之人士，在援依本 謂飾錢化’皆縣含伽下之_請專顺圍内β 第-圖係本發明濟錄鑽石乾材真空硬焊前之 第二圖係本發明賴鑽石乾材之結構示意圖。心’ 【主要元件符號說明】 濺賴石歸 1基材 10 1341873 焊料層 12 工業鑽石層 擴散層 15

Claims (1)

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十、申請專利範圍： 1· 一種賤鍵鑽石乾材，其包括： 基材； 焊料層；及 工業錯石層’其中i業鑽石層與焊料層之間形成—擴散層 將工業鑽石層與焊料層緊密連結。 μ擴政層 1申請專利範除項所述之親鑽石㈣，其t該基材之材料為不錄 3 第1項所述之鱗和袖，其中鱗㈣之材料為含 4 Γ5Γ巧利範圍第1項所述之藏_石乾材，其中該焊料層之厚度為 5 H請專利範㈣1項所述之麟鑽石乾材，其中該擴散層之材料為碳 6. —種濺鍍鑽石耙材之製造方法，包括以下步驟： 提供一基材； 將焊料敫於基材表面，形成一焊料層； 將工業鑽石粉末均勻置於焊料層表面，形成一工業鑽石層； 將上述步驟得到之產品放入真空燒結爐進行真空硬焊，在工業鑽石層 與焊料層之間形成一擴散層； 從真空燒結爐中取出後得到濺鍍鑽石靶材。 7.如申請專利範圍第6項所述之濺鍍鑽石靶材之製造方法，其中該工業鑽 石粉末係通過喷塗方法置於焊料層表面。 8_如申請專利範圍第6項所述之濺鍍鑽石靶材之製造方法，其中該真空燒 結爐内之真空度在10'3-1〇-4托之間。 9·如申請專利範圍第6項所述之濺鍍鑽石靶材之製造方法，其中真空硬焊 溫度為 950-1〇5〇。(3。 10·如申請專利範圍第6項所述之濺鍍鑽石耙材之製造方法，其中真空硬焊 持續時間為1〇·3〇分鐘。