TWI336423B - Photosensitive composition and use thereof - Google Patents

Description

1336423 玖、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於改善特定光阻聚合物組合物之顯影特徵而 不損其解析度性質。本發明對不在圖案化區域中留下光阻 殘留物或浮渣地達到高縱橫比圖案製作是特別重要的。 【先前技術】 在圖案化結構的製造上，如晶圓級封裝，隨互連密度的 增加已使用電化學沈積電路互連。例如，參見s〇1〇m〇n，晶 圓級封裝用以電化學方式沈積之錫鉛凸塊，封裝/組裝，固 態技術’第84:88頁，·年4月；將其揭示内容以^用方 式併入本文中。晶圓級封裝產生預備直接組裝在最終基板 或最終系統平台上之晶⑽粒/裝置U級封裝係用於使 電路互連至有源電路上方之積體電路晶片上並隨晶片上輸 入及輸出（I/O)密度的增加而特別重要。 晶圓級封裝流程係使用已知重分配技術以將周邊焊塾連 接至面陣列在晶圓表面上之錫斜凸塊。藉重分配進行晶圓 級封裝之基本順序包括產生一定義凸塊底層墊之互連層， 其中該底層塾係連接至周邊接合墊。凸塊底層墊係藉^通 道暴露在介電層中。然後整個晶圓接受凸塊底層金屬化 (画）疊以於擴散障蔽及黏著層頂端提供—電鍍種晶声。 在光阻中係形成範圍在約i微米至超過細微米厚，作一妒 為25-125微米厚之電錢罩。超過約1〇〇微米至約125微米之 各層一般係被㈣在雙面塗層上。在使用較厚光阻之例子 中錫起凸塊係被鍍在通道内。當錫錯凸塊微米厚時，

O:\d0\90902-DOC • 6 - 1336423 其一般係被鍍在光阻上方（表面電鍍或蘑菇狀電鍍）。然後剝 掉光阻並蝕刻掉任何錫鉛凸塊未覆蓋處之UBM。最後，回 焊凸塊’使其重新以截球形狀形成。 晶圓級封裝中重新分配用之金凸塊、銅柱及銅線需要阻 劑鑄杈，而此鑄模後來係以高級互連技術鍍成最終金屬結 構。相較於1C製造中所用的光阻，阻劑層非常厚。特徵尺 寸及阻劑厚度一般係在5微米至10微米範圍内，因此光阻中 必須形成高縱橫比（阻劑厚度相對於線尺寸）圖案。 所加染料係加入本文組合物中時，本發明光阻也用於平 板顯示器中。 關於光阻，技術上早已知影像化用之可光聚合組合物。 1如’美國專利第2,760,863號建議將可光聚合組合物用於 製備印刷板。最近，曾建議將類似組合物用於印刷工業之 衫色打樣系統中。自此，已描述過多種此類可光聚合組合 物，而且可光聚合組合物現在可用於微影蝕刻術中。 、圖案係藉微影蝕刻技術使阻劑材料於輻射下影像曝光而 成。所用照射源通常是X射線、Uv輻射、電路束輕射或離 本發明組合物是負型光阻組合物。負型光阻組合物係在 _下影像曝光，阻劑組合物在輻射下曝光的區域變得較 不溶於顯影劑溶液中（如發生交聯反應），而光阻塗層中未曝 光區域仍極可溶於此溶液1此’以顯影财理已曝光負 型阻劑使光阻塗層中未曝光區域被除去並在塗層中產、 影像，因此使光阻組合物所沈積之下面基板表㈣需_ O:\90\90902_doc 1336423 無覆蓋。 負型光阻組合物中係對水性可顯像可光聚合組合物特別 感興趣。此類組合物之聚合物黏合劑包含酸性官能度使黏 合劑聚合物溶於鹼性水性溶液中並因此使可光聚合組合物 可在鹼性水性溶液中顯像。 文獻中，羧酸官能化丙烯酸系聚合物係用作黏合劑聚合 物。為確保影像圖案之物理性能，利用可賦予較慢顯影速 率之高分子量聚合物。 可光聚合化合物一般是乙烯系不飽和單體及/或短鏈寡 聚物，其將藉光誘導自由基聚合反應交聯並形成所需不溶 圖案。 但是，已觀察到呈現可接受顯像速率之光可聚合物調配 物在顯影後影像或圖案化區域有光阻殘留物或浮渣存在且 /或影像解析度較低，特別是圖案相當厚時（如大於5〇微米）。 【發明内容】 本發明提供可用於負型阻劑並對影像輻射敏感之組合 物本發明組合物一般呈現良好解析度以及較乾淨顯影而 無損顯影速度至不理想程度。 本發明係關於一種組合物，其包含a)具有至少兩個懸垂 不飽和基之可光聚合化合物；b)至少一種乙烯系不飽和可 光聚合親水性聚氧化烯單體；c)至少一種非離子界面活性 劑；及d)至少一種光起始劑。 根據本發明較佳組合物也包含一或多種選自至少一種經 胺改質丙烯酸系寡聚物、染料、助黏劑、整平劑、光敏劑、 O:\90\90902.doc -8 - 1336423 溶劑及類似物之組份。 本發明也關於一種形成光阻圖案之方法。該方法包括： 1) 提供基板一層光阻組合物，其中該光阻組合物包含a)具 有至少兩個懸垂不飽和基之可光聚合化合物；b)至少一 種乙烯系不飽和可光聚合聚氧化烯親水性單體；c)至少 一種非離子界面活性劑；及d)至少一種光起始劍； 2) 令該層在光化輻射下進行圖案影像曝光以因此造成已曝 光光阻之溶解度的改變；並 3) 令該光阻顯影以因此形成圖案。 本發明另一項特點係關於在基板上形成一圖案。該方法 包括： 1) 提供基板一層阻劑組合物，其中該阻劑組合物包含〇具 有至少兩個懸垂不飽和基之可光聚合化合物；b)至少一 種乙烯系不飽和可光聚合聚氧化烯親水性單體；c)至少 一種非離子界面活性劑；及d)至少一種光起始劑； 2) 令該阻劑組合物層在輻射下進行影像曝光； 3) 令阻劑顯影以形成所需通道圖案； 4) 將導電材料沈積在通道中以形成所需電路互連圖案丨並 5) 除去阻劑。 在上列方法中，a)最好是一種下面所描述之化合物，而 且b)可選自下面所描述之乙烯系不飽和可光聚合聚氧化 親水性單體。 神 在本發月中，a)敢好是一種選自下列化合物組成之群的 化合物： 1336423 (i)具有下式之化合物 -t ?5a I ，。一" R6a •t

Fu

r5 R/io c=〇 -K40— OH L 其中1^與尺2可能相同或不同且各可獨立地選自氫、Cl 5〇 燒基、C6.20芳基、Cl.20烧芳基、^芳院基、Ci i❶貌氧基、 C^8環烷基、C2_2Q烯基、2,3-環氧基丙基、氰基及齒素組成 之群，該 <：丨-5()烷基、C6-20芳基、Cl心烷芳基、q 2〇芳烷基、 C^o烷氧基、C3_1S環烷基及C2·^烯基係未經取代或經一或 多個C3_12環烷基、氰基、Cl-5烷基、 基' Ci-u芳烷氧基、2,3-環氧基丙基

Cn6烷氧基、c6 2〇芳氧 、羥基或_素基取代； 尺3係選自氫、Cwo烷基、C6_2〇芳基、¢^-20烷芳基、Ci_2c 芳貌基、C3_1S環烧基、Cuo稀基、氰基、2,3-環氧基丙基及 _素組成之群，該Cl_5()烷基、c6_2()芳基、Ci 2()烷芳基、c丨2c 务烧基、C3_1S環烧基及ς；2.2〇浠基係未經取代或經一或多個 C3-12環烷基、氰基、Ci-5烷基、CN6烷氧基、c6_2〇芳氧基、

Ci _2〇^'烧氧基、2，3-%氧基丙基、經基或鹵素基取代； R·4、R·6與可能相同或不同且各可獨立地選自氫、氰 基、Cwo烷基、C6_2〇芳基、Cuo烷芳基、Cuo芳烷基、C3-18 環烷基、C2_2〇烯基、鹵素、各氧烷基化基中包含2至4個碳 原子之氧烧基化基’其中此氧院基化基可能具有1至2〇個重 複單位且末端為氫或Ci·4烷基、X及-(CH2)n-C(=〇)-〇R7組成 之群，其中R7係選自氧、Ci-5〇烧基、C6_2〇芳基、芳 O:\90\90902.DOC •10- 1336423 基、Cuo^r 烧基、C2-2〇烯基、C5-5〇碳環、NR7aR7b、2,3-環 氧基丙基，n是從0至3之整數，該C^o烷基、C6_2()芳基、Cl 2〇 烷芳基、C^o芳烷基、C3·!8環烷基、（：2·2〇烯基及c5_5G碳環 係未經取代或經一或多個C3^2環烷基、氰基、Ci 5烷基、6 院氧基、C6_2〇芳氧基、Ci_2〇芳烧氧基、2,3-環氧基丙基、經 基或鹵素基取代，尺^與尺化獨立地各為氫4Ci心烷基，χ是 -C(=0)-R1〇H〇_c(=〇)-CH2-R7〇，其 tR10係選自〇·%_〇·€ (=o)-c(r12)=ch2、-o-r"-nh-o-c(=o)-c(r12)=ch2&-nh-ru _〇-C(=0)_C(Ri2)=CH2組成之群，其中Rii是線性或分枝二價 c 1 -4〇伸烷基或各氧烷基化基包含2至4個碳原子之氧院基化 衍生物，此基團可能具有1至2〇個重複單位；Re〇是 -C(=0)-W-Ru-V· ; W與V各獨立地選自〇、S或NRi〇〇，其中 Rioo是氫或Cu烷基；R"如上，r7(^_C(=〇)_R5(^_氰基， 其中R5〇疋鼠或Ci_i〇烧基；

Rl2是氫或Cw烷基； R·5與RSa可能相同或不同且各可獨立地選自氫、Γ u ^1-50/¾ 基、C6-20芳基、Cl 20烷芳基、Cl_20芳烷基、c3_18環烷基、 Cm稀基、氰基、2,3-環氧基丙基、鹵素及叛基址成之群， 該匸^烧基、C620芳基、Ci i8烷芳基、Ci 2〇芳烷基、 烯基及c^2環烷基係未經取代或經一或多個c^2環燒基、 氰基、C!·5燒基、Cw烧氧基、Cpo芳氧基、芳烧氧基、 2,3-¼氧基丙基、經基或幽素基取代；且 R4〇疋任何可與[]〗、[]k、[ ]6及/或[]t中找到部份，包括 這些[]j、[]k、[]e及/或[]t所指部分共聚合之單體，而且j、 O:\90\90902.DOC -11- 1336423 k 、e、t及z是各使j、k、e、t及z之總和在約2至約20範圍内 之整數’其中j與k各等於或大於卜而且卜认/或巧能是❹； (u)具有下式之化合物

其中g.是3至1〇之整數，χ係如上述般；及 (111)具有下式之化合物

Φ 其中f是3至10之整數；Rm與^可能相同或不同且各可獨 立地選自氫與Cl，2说基組成之群，該基係未經取代 或經-或多個c3 i2環烧基、氰基、Cm院基或齒素基取代， X係如上述般。 更佳係，a)是具有下式之化合物（

a I a 5 【 6 RIC—R 1 I 2 RIC—R 3 f 4 RIC—R 5 r3 r5 ** F - 6 k 〇人乂。 e C c :=0 < )H C ：=〇 )H — ο R4 -12- 中汉 曰 fs c 1疋虱，汉2是未經取代或經一或多個c3_12環烷基、 其-氧基2,3-環氧基丙基、羥基、氰基、Cl.5炫基或齒 I暴取代之f H M〇 20芳基；R5a是氫；R6a是氫；R3是氫；R4 :_(CH2)n-C(=。)為，其中 R7是氫，η是。;R5是氫；RJX， 中 X是-C(=0) p 曰 氏10，而 R10是-0-Ru-0-C(=0)- C(R12)=CH， "是C2伸烧基’ Rl2是氫；e與t各不是G，z是Ο ;或 —Κ疋氫，R2疋未經取代或經一或多個環烷基、ci 6 烧氧基、2,3·%氣基丙基、羥基、氰基、Ci_5烧基或函素基 取代之C6·10 20芳基；R5a是氫；R6a是氫；R3是氫；尺4是 -(CH2)n-C(-0)-〇R7 ’ 其中 R7是氫，η是〇 ; R5是氫；尺6是乂， 其中 X7^_C(=〇)'Ri〇，而 Rio是-〇-Rii-〇-C(=0)-C(R12)=CH2， Rl1是C2伸烧基’ Ri2是氫；e、t及z各不是〇 ;且r40是 R3 Rs •C-c- R4 Re 其中[]z中的R3及[]z中的R5是氫，[]z中的R4是 -(CH2)n-C(=〇)-〇R7，其中 R7是氫，n是 0 ; [ ]z 中的 116是 -(CH2)n-C(=〇)-〇R7，其中R7是經C“6烷氧基取代之Cuo烷 基，n是〇 ;或

Rl是氫，R·2是未經取代或經一或多個(：3_12環烷基、 烧氧基、2,3-環氧基丙基、羥基、氰基、Cw烷基或自素基 取代之C6-10 20方基；R5a是鼠，R6a是氫；R3是氫；R~4是 (CH2)n-C( = 〇)_〇R7，其中 R7是氫 ’ n是 〇 ; 是氫；Κ·6是 X， -13-

O:\90\90902. DOC 1336423 其中 X是-C(=O)-R10，而 R10是-0-Rn-0-C(=0)-C(R12)=CH2， R11是C2伸烷基，r12是氫；且e、t及z各為〇。 乙烯系不飽和可光聚合聚氧化烯親水性單體（b)最好是選 自二丙烯酸二乙二醇酯、二丙烯酸三乙二醇酯、二曱基丙 烯酸二乙二醇酯、二甲基丙烯酸三乙二醇酯、二丙烯酸三 丙二醇酯、二甲基丙烯酸三丙二醇酯、二丙烯酸四乙二醇 酯、二甲基丙烯酸四乙二醇酯、二丙烯酸五乙二醇酯、二 甲基丙稀酸五乙二醇酯、二丙稀酸五丙二醇酯、二甲基丙 烯酸五丙二醇酯、丙氧基化（3)三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、 丙氧基化（6)三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化（3)三經甲 基丙烷三丙稀酸酯、乙氧基化（6)三羥甲基丙烷三丙烯酸 酯、乙氧基化（9)三羥甲基丙烧三丙烯酸酯、丙氧基化三羥 甲基丙烷三丙烯酸酯、丙氧基化三羥曱基丙烷三甲基丙烯 酉文西曰、乙乳基化（2)雙盼A二甲基丙稀酸醋、乙氧基化（3)雙 酚A二丙烯酸酯、乙氧基化（4)雙酚a二甲基丙烯酸酯、乙氧 基化（8)雙酚A二丙烯酸酯、乙氧基化（4)雙酚a二丙烯酸 酯、乙氧基化（6)雙酚A二丙烯酸酯、乙氧基化（6)雙酚八二 曱基丙烯酸酯、丙氧基化（2)新戊二醇二丙烯酸酯、丙氧基 化（3)縮水甘油三丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二 醇二曱基丙烯酸酯、聚丙二醇二丙烯酸酯、聚丙二醇二曱 基丙烯酸酯、2-(2·乙氧基乙氧基）乙基丙烯酸酯、乙氧基化 (4)異戊四醇四丙烯酸酯、高度丙氧基化（5 5)縮水甘油三丙 烯酸酯、乙氧基化縮水甘油三丙烯酸酯及丙氧基化㈠）縮水 甘油三丙烯酸酯組成之群。

O:\90\90902DOC •14- 1336423 對於c) ’非離子界面活性劑最好是選自烷氧基化醇、院 氧基化烧基酚或其混合物，更佳係烷氧基化醇，更佳係經 、-’勺5至12莫耳環氧乙院乙氧基化之c8_12醇。 對於d) ’最好使用兩或多種光起始劑。 較佳係組合物包含至少一種經胺改質丙烯酸系寡聚物、 · 整平劑及一或多種溶劑。 【實施方式】 本發明提供可用於負型阻劑並對影像輻射敏感之組合 . 物。本發明組合物一般呈現良好解析度以及較乾淨顯影而 · 無損顯影速度至不理想程度。 本發明係關於一種組合物，其包含a)具有至少兩個懸垂 不飽和基之可光聚合化合物；b)至少一種乙烯系不飽和可 光聚合聚氧化烯親水性單體；c)至少一種非離子界面活性 劑；及d)至少一種光起始劑。 根據本發明較佳組合物也包含一或多種選自至少一種經 胺改質丙晞酸系寡聚物、染料、助黏劑、整平劑、光敏劑、 溶劑及類似物之組份。 _ 本發明也關於一種形成光阻圖案之方法。該方法包括： ‘ 1) 提供基板一層光阻組合物，其中該光阻組合物包含勾具 . 有至少兩個懸垂不飽和基之可光聚合化合物；b)至少一 種乙烯系不飽和可光聚合聚氧化烯親水性單體；c)至少 一種非離子界面活性劑；及d)至少一種光起始劑； 2) 令该層在光化輻射下進行圖案影像曝光以因此造成已曝 光光阻之溶解度的改變；並 -15· 1336423 3)令該光阻顯影以因此形成圖案。 本發明另一項特點係關於在基板上形成一圖案》該方法 包括： 1) 提供基板一層阻劑組合物，其中該阻劑組合物包含&)具 有至少兩個懸垂不飽和基之可光聚合化合物；b)至少一 種乙烯系不飽和可光聚合聚氧化烯親水性單體；c)至少 一種非離子界面活性劑；及d)至少一種光起始劑； 2) 令該阻劑組合物層在輻射下進行影像曝光； 3) 令阻劑顯影以形成所需通道圖案； 4) 將導電材料沈積在通道中以形成所需電路互連圖案；並 5) 除去阻劑。 歹J方法中’a)最好是一種下面所述化合物且b)可選自 下面所述乙稀系不飽和可光聚合聚氧化烯親水性單體。 發月、且σ物係包含a)具有至少兩個懸垂不飽和 之可光聚合化合物當作一組份。— ^ 例是乙烯系基Q ㈣垂不飽和反應基實 化合物，而且a)可光聚合化合物 列化合物組成之群的化合物： 在文獻中發現許多此類 可另被描述成一種選自下 ⑴具有下式之化合物

其中Ri與R2可能相同或不 同且各可獨立地選 Ci-50

Q:\90\90902. DOC -16- 1336423 烷基、C6_2〇芳基、C^o烷芳基、Ci 2〇芳烷基、Ci 1〇烷氧基、 C^8環烷基、C2_2〇烯基、2,3-環氧基丙基、氰基及函素組成 之群，該c卜5〇烷基、ce-2〇芳基、（^以烷芳基、Ci 2〇芳烷基、 C^o烷氧基、C3_1S環烷基及C2·^烯基係未經取代或經一或 多個Q-u環烷基、氰基、Cm烷基、Ci6烷氧基、C62〇芳氧 基、C^o芳烷氧基、2,3-環氧基丙基、羥基或鹵素基取代； R3係選自氫、Cwo烷基、c6-20芳基、Ci.2G烷芳基、Ci 2〇 芳烷基、Cm環烷基、C2_2〇烯基、氰基、2,3_環氧基丙基及 鹵素組成之群，該Cuo烷基、〇6-2〇芳基、Ci 2〇烷芳基、Ci 2〇 芳烷基、C^8環烷基及(：2_2〇烯基係未經取代或經一或多個 Cl丨2環烷基、氰基、Cl_5烷基、Ci_6烷氧基、C6 2〇芳氧基、 Cl-2〇芳院氧基、2,3-環氧基丙基、經基或鹵素基取代； 尺4、Re與R0a可能相同或不同且各可獨立地選自氫、氰 基、Α·5()烷基、c6.20芳基、Cl 2()烷芳基、Ci 2〇芳烷基、 裱烷基、C2-2〇烯基、鹵素、各氧烷基化基中包含2至4個碳 原子之氧烷基化基，其中此氧烷基化基可能具有1至2〇個重 複單位且末端為氫或Cw烷基、X及_(CH2)n_c(=〇)_〇R7組成 之群，其中R7係選自氫、C丨-5〇烷基、C6_20芳基、Cl-2〇烷芳 基、Cuo芳烷基、c2_2〇烯基、c5_50碳環、NR7aR7b、2,3_環 氧基丙基，η是從〇至3之整數，該Gw烷基、c6_2()芳基、Ci 2〇 烷芳基、CN2〇芳烷基、C3_ls環烷基、c2-2〇烯基及c5-5〇碳環 係未經取代或經一或多個C^2環烷基、氰基、Ci 5烷基、Ci 6 烷氧基、C6-2〇芳氧基、Cl_2〇芳烷氧基、2,3_環氧基丙基、羥 基或鹵素基取代，尺^與尺^獨立地各為氫或：心烷基，父是

O:\90\90902.DOC •17- 1336423 -C(-O)-R10 或·R6〇_c(=〇) CH2_Rm，其中 I。係選自 _〇七 1 0-C(-0)-C(R12)=ch2 ' -〇-Rn-NH-〇-C(=0)-C(R,2)=CH2^-NH- y-〇-C(=〇H：(Rl2)=CH2組成之群其中r"是線性或分枝二 饧CN4〇伸烷基或其各氧烷基化基包含2至4個碳原子之氧烷 基化何生物，此基團可能具有i至2〇個重複單位；是 _C(=0)-W-Rn_V·;貿與乂係各獨立地選自〇、s*NRi⑻，其 中R丨00疋氫或C丨-6烷基；Ru如上，r7〇是_C( = 〇)_R5〇或-氰基， 其中Rso是氫或C^o烷基；

Rl2是氫或CU5烷基； R5與可能相同或不同且各可獨立地選自氫、貌 基、C6·2。芳基、Ci-2〇烷芳基、c丨·2〇芳烷基、。丨8環烷基、 C2-2〇烯基、氰基、2,3_環氧基丙基、鹵素及羧基組成之群， Cl·50烧基、C6_2〇芳基、Ci-18烷芳基、Cwo芳烷基、c2_20稀 基及C3.!2環烷基係未經取代或經一或多個環烷基、氰 基、Cw烧基、Ci 6烷氧基、C6 2〇芳氧基、Ci 2〇芳烷氡基、 2,3-環氧基丙基、羥基或鹵素基取代；而且 R40是任何可與[]j、[ ]k、[ ]e及/或[]t中所找到的部份， 包括這些[]j、[]k、[凡及/或[]t所指部分共聚合之單體，而 且j、k、e、t及z各為使j、k、e、t及z之總和在約2至約20 範圍内之整數，其中j與k各等於或大於1 ’ z、e及/或t可能 為0 ; (ii)具有下式之化合物

O:\90\90902.DOC -18- :01336423

OH

-CH 2Γ~

X 其中g是3至10之整數，X係如上述般；及 (iii)具有下式之化合物

X 其中f是3至10之整數：尺^與尺丨5可能相同或不同且各可獨 立地選自氫與烷基組成之群，該（^心烷基係未經取代 或經一或多個c：3」2環烷基、氰基、Ci_5烷基或鹵素基取代， X係如上述般。 更佳係，a)是具有下式之化合物（i)

1 I 2 RIC—R

a 5 I R—C丨 R ?3 ?5 '1— ^4今6

Ra

Ο 5 R— 3 R— R40- ο II Η CIO ο II Η ό — ο 其中Ri是氫，I是未經取代或經一或多個^心環烷基、 Cw烷氧基、2,3-環氧基丙基、羥基、氰基、d_5烷基或鹵 素基取代之C6·10 20芳基；R5a是氫；R6a是氫；R3是氫；R4 是-(CH2)n-C(=〇)_OR7，其中R7是氫，4 〇 ; R5是氫；心是 -19- 1336423 X，其中 X 是-C(=O)-R10，而 Ri〇 是 _〇_Rii_〇 c(=〇)_ C(R12) = CH2 ’ Rn是C2伸烷基’ R12是氫；6與（各不是〇，Z是 Ο ;或

Ri是氫及R·2是未經取代或經一或多個匸312環院基、Ci.6 烷氧基、2,3·環氧基丙基、羥基、氰基、Ci 5烷基或_素基 取代之C6_1() 2〇芳基；R5a是氫；R6a是氫；R3是氫；尺4是 -(CH2)n-C(=0)-0R7 ’ 其中 R7是氫 ’ n是 〇 ; Rs是氫；R^x， 其中X是-C(=O)-R10,其中R10是-〇_ru_〇_c(=〇)_c(Ri2)=CH2，而 Rii是C2伸院基，Ri2是氫；e、t及z各不是〇;而且r40是

--C C— r4 r6」z 其中[]z中的R3及[]z中的r5是氫，[]z中的r4是 -(CH2)n-C(=0)-〇R7，其中 R7是氫，n是 〇 ; [ ]z 中的尺6是 -(CH2)n-C(=〇)-〇R7，其中R7是經Cw烷氧基取代之Cuo烷 基，η是0 ;或

Ri是氫’尺2是未經取代或經一或多個C3_12環烷基、Cw 炫氧基、2,3-環氧基丙基、經基、氰基、Ci-5烧基或鹵素基 取代之C6-10 20芳基；R5a是氫；R6a是氫；R3是氫；是 -(CH2)n-C(=〇)-〇R7，其中 R7是氫，η是 0 ; R5是氫；尺6是 X， 其中 X是-C(=〇)-R10，R10是-0.1^-0-(:(=0)-(:(12)=0112 ’ Ru是C2伸烷基’ R12是氫；e、t及z各為0。 上面（i)之單體實例包括酸官能基及非酸官能基單體如’ 1336423 烯二酸酐、反丁烯二酸、反丁烯二酸酐、焦檸檬酸、焦檸 檬酸酐、衣康酸、衣康酸酐、乙烯基羧酸、2-丙烯醯胺基-2-甲基丙炫·績酸、2 -經基乙基丙稀酿基鱗酸醋、2 -經基丙基丙 烯醯基磷酸酯、2-羥基-α-丙烯醯基磷酸酯及類似基團；丙 烯酸之酯，例如丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯 酸羥基乙酯、丙烯酸羥基乙酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸 辛酯、2-乙氧基乙基甲基丙烯酸酯、丙烯酸第三丁酯、丙 烯酸正丁酯、2-乙基己基丙烯酸酯、丙烯酸正己酯、2-羥基 乙基丙烯酸酯、2-羥基丙基丙烯酸酯、3-羥基丙基丙烯酸 酯、2-羥基丁基丙烯酸酯、3-羥基丁基丙烯酸酯、4-羥基丁 基丙稀酸酯、2-經基乙基Τ基丙稀酸酯、2-經基丙基甲基丙 烯酸酯、3-經基丙基甲基丙稀酸酯、2-經基丁基甲基丙晞酸 酯、3-羥基丁基甲基丙烯酸酯、4-羥基丁基甲基丙烯酸酯、 丙稀酸烯丙基酯、甲基丙稀酸烯丙基酯、丙稀酸苯甲醋、 甲基丙烯酸苯甲酯、丙婦酸環己酯、甲基丙烯酸環己醋、 丙烯酸甲氧基丙二醇酯、甲基丙烯酸甲氧基丙二醇酯、丙 烯酸甲氧基二乙二醇酯、甲基丙烯酸甲氧基二乙二醇酯、 丙烯酸甲氧基三丙二醇酯、甲基丙烯酸曱氧基三丙二醇 酯、丙烯酸異酯、甲基丙烯酸異酯、丙烯酸二環戊二 烯酯、曱基丙烯酸二環戍二烯酯、2 -經基-3 -苯氧基丙基丙 烯酸酯、2-羥基-3-苯氧基丙基甲基丙烯酸酿、 mevaloniclactone甲基丙烯酸酯、2-甲基金剛烷基甲基丙烯 酸酯、異金剛炫基〒基丙烯酸g旨、3 -經基-1-甲基丙埽氧基 金剛烷、3,5-二羥基-1-甲基丙烯氧基金剛烷、p_甲基丙烯 1336423 氧基-γ·丁内醋、α-甲基丙烯氡基-γ-丁内酯、1，5-戊二醇二 丙稀酸醋、Ν，Ν·二乙基胺基乙基丙烯酸酯、二丙烯酸乙二 醇酯、1,3-丙二醇二丙烯酸酯、二丙烯酸癸二醇酯、二甲基 丙烯酸癸二醇酯、1，4-環己二醇二丙烯酸酯、2,2-二羥甲基 丙烧二丙烯酸醋、二丙烯酸甘油酯、二丙烯酸三丙二醇酯、 二丙烯酸甘油酯、2,2-二（對-羥苯基）_丙烷二甲基丙烯酸 酯、二丙烯酸三乙二醇酯、聚氧乙基·2,2__二（對-羥苯基 丙烧二甲基丙烯酸酯、二甲基丙烯酸三乙二醇酯、聚氧丙 基三羥甲基丙燒三丙烯酸酯、二甲基丙烯酸乙二醇酯、二 甲基丙烯酸丁二醇酯、1，3-丙二醇二曱基丙烯酸酯、1,2,4-丁三醇三曱基丙烯酸酯、2,2,4-三甲基-1，3-戊二醇二甲基丙 烯酸酯、三曱基丙烯酸異戊四醇酯、苯基伸乙基_1，2_二 曱基丙烯酸酯、四甲基丙烯酸異戊四醇酯、三羥甲基丙烷 三曱基丙烯酸酯、1，5-戊二醇二甲基丙烯酸酯、1，4-苯二醇 二甲基丙烯酸酯、2-乙醯乙醯氧基乙基甲基丙烯酸酯、2-乙醯乙醯氧基乙基丙烯酸酯、3_乙醯乙醯氧基丙基甲基丙 烯酸酯、3-乙醯乙醯氧基丙基丙烯酸酯、2-乙醯乙醯醯胺基 乙基甲基丙烯酸酯及2-乙醯乙醯醯胺基乙基丙烯酸酯；芳 族乙烯基化合物如苯乙烯、α-曱基苯乙烯、二曱基苯乙烯、 三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、異丙基苯乙烯、鄰·甲氧基苯 乙烯、間-曱氧基苯乙烯、對-甲氧基苯乙烯、鄰-乙烯基甲 苯、間-乙烯基甲苯、間-乙烯基曱苯、鄰-乙烯基苯甲基曱 基醚、間-乙烯基苯甲基甲基醚、對-乙烯基苯曱基曱基醚、 鄰-乙烯基苯曱基去水甘油基醚、間-乙烯基苯曱基去水甘油 1336423 鄰-乙烯基苯甲基去水甘油基醚、間-乙烯基苯甲基去水甘油 基趟、對-乙烯基苯甲基去水甘油基醚、乙醯氧基苯乙烯、 氯笨乙晞、二氯苯乙烯、溴苯乙稀、乙烯基苯甲酸曱酯等， 一乙烯基苯及乙烯基甲苯和乙烯基酯，如丙烯酸乙烯酯及 甲基丙烯酸乙烯酯和類似物。 - 藉'芳基"一詞意指藉消去一個氫原子衍生自芳族烴之基 團，其可被取代或未經取代。芳族烴可為單核或多核。單 核型芳基之實例包括苯基、甲笨基、二甲苯基、菜基、異 . 丙苯基及類似物。多核型芳基之實例包括萘基、蒽基、菲 癱 基及類似物。芳基可具有至少一個選自如，例如鹵素、羥 基、氰基、羧基、硝基、胺基、低碳數烷基、低碳數烷氧 基及類似物之取代基。 如本文所用"烷芳基"一詞係指帶有烷基之芳基；，，芳烷基,， 一詞係指帶有芳基之烷基；"芳基烷芳基"一詞係指帶有含 芳基之烷基的芳基。 藉"碳環"一詞係指未經取代或經取代、飽和、不飽和或 芳知烃銥基。碳環疋單環或是熔凝、橋接或螺形多環系 鲁 統。實例包括降福烯、金鋼烷及四環十二烯。碳環上的取 代基可為脂族或環脂族烷基、酯、酸、羥基、衛、烷基衍 生物及類似物。 如本文所用"芳烷氧基"係指具有芳烷基取代基之氧基。 如本文所用芳氧基"係指具有芳基取代基之氧基(即·〇·芳基）。 對於（U) ’ ：^些可由酚或其衍生物與曱醛之縮合產物所製 成。對於（11)及（m)，這些係更完整地描述於美國專利第 -23- 1336423 3,825,430號中。 本發明a)可光聚合化合物最好是中分子量寡聚物或低分 子量聚合物。寡聚物或聚合物之重量平均分子量一般係約 20,000或更小，更普遍地係約2 〇〇〇至約2〇 〇〇〇，較佳係約 - 2,000至約1〇,〇〇〇。較低分子量具有更易溶的優點，而且未 曝光區域的顯影因此更快且更乾淨。 a)可光聚合化合物之實例包括已經乙烯系不飽和，較佳 係丙烯系或甲基丙烯系官能基部分酯化之苯乙烯/順丁烯 . 二酸酐寡聚物:典型苯乙烯/順丁烯二酸酐寡聚物是一種莫 籲 耳比為約1 : 1，但其範圍可從i : 4至4 : i之苯乙烯與順丁 烯二酸酐寡聚物的寡聚物。苯乙烯/順丁烯二酸酐寡聚物是 可購得的，例如 SMA-1000、SMA_2000 及 SMA_3〇〇〇 (Sartomer公司）並描述於美國專利第3,825,43〇號；第 4,820,773號及第6,074,436號中，將此苯乙烯/順丁烯二酸酐 樹脂相關内容以引用方式併入本文中。然後苯乙烯/順丁烯 一酸酐养聚物可與，例如烴基烷基丙烯醯基或Η〇 χ反應， 其t X係疋義如上（其實例包括丙烯酸經基乙酯、甲基丙婦 參 酸羥基乙酯、丙烯酸羥基丙酯、甲基丙烯酸羥基戊酯）^此 種反應係描述於，例如美國專利第3,825,43〇號中。苯乙烯/ 順丁烯二酸酐半酯寡聚物也可由Sart〇mer公司購得商標名 稱為SARBOX®之物。 其他a)可光聚合化合物之實例包括這些在美國專利第 4,722,947號；第4,745，138號；及第5,137,952號中找到的。 a)可光聚合化合物在組合物中的存在量係在約3 〇至约5 5 -24- 1336423 重莖％ ’更普遍地係在約35至約5G重量％範圍内。 本發明組合物也包含b)至少—種乙_不飽和可光聚合 :::稀親水性單體，其-般係藉光誘導自由基聚合反應 進灯父聯以形成所需不溶圖案。聚氧化埽段—般應長得足 以賦予特Μ度之水性溶解度，但不會長得危害已交聯材 料之物理·化學性質而可承受後成像程序如鑛金屬。本文之 氧化稀相當於環氧乙炫或環氧丙烧且聚·係指i或更多個， 例如1至100個，較佳係2至10個。

親水性聚氧化烯單體一般具有多(即2或更多)個α，β乙烯 ^飽和线基及2至1()個環氧W或環氧㈣單位。在此 早體中’ α，β·乙烯系、不飽和部分，—般是丙烯酸系或甲基 丙職系單位係經氧化烯單㈣化。環氧乙烧及/或環氧丙 烧單位使單體具親水性並因此與水性顯影劑更相溶。氧化 烯單位最好是環氧丙烧單位，因為其親水性較高。若使用 環氧丙烧單位’-般每單位分子所使用之此單位數目係比 使用環氧乙烧單位時更多。

至少一種乙稀'系不飽和可光 實例包括，但不限於二丙婦酸 二醇醋、二甲基丙埽酸二乙二 醇酯、二丙稀酸三丙二醇g旨、 聚合聚氧化烯親水性單體之 一乙二醇@旨、二丙烯酸三乙 醇酯、二甲基丙烯酸三乙二 二甲基丙烯酸三丙二醇酯、 二丙烯酸四乙二醇酯、二曱基丙烯酸四乙二醇酯、二丙烯 酸五乙二醇酯、二曱基丙烯酸五乙二醇酯、二丙烯酸五丙 二醇酯、二甲基丙烯酸五丙二醇酯、丙氧基化（3)三羥曱基 丙烷三丙烯酸酯、丙氧基化（6)三羥曱基丙烷三丙烯酸酯、 -25· 1336423 乙氧基化（3)三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化（6)三羥甲 基丙燒二丙締酸酯、乙氧基化（9)三經甲基丙院三丙稀酸 醋、丙氧基化三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、丙氧基化三羥甲 基丙烷三甲基丙烯酸酯、乙氧基化（2)雙酚A二甲基丙烯酸 酯、乙氧基化（3)雙酚A二丙烯酸酯、乙氧基化（4)雙酚a二 曱基丙烯酸酯、乙氧基化（8)雙酚A二丙浠酸酯、乙氧基化 (4)雙龄A二丙燁酸酯、乙氧基化（6)雙酚a二丙烯酸酯、乙 氧基化（6)雙酚A二甲基丙烯酸酯、丙氧基化（2)新戊二醇二 丙烯酸酯、丙氧基化（3)縮水甘油三丙稀酸酯、聚乙二醇二 丙稀酸酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、聚丙二醇二丙稀酸 酯、聚丙二醇二甲基丙烯酸酯、乙氧基化（4)異戊四醇四丙 烯酸酯、高度丙氧基化（5.5)縮水甘油三丙烯酸酯、乙氧基 化縮水甘油三丙烯酸酯及丙氧基化（3)縮水甘油三丙烯酸酯 及類似物。先前實例可由Sart〇mer公司（Ext〇n，pA)獲得。其 他親水性聚氧化烯單體實例可在美國專利第3,368,9〇〇號、 第3,380,831號及第4,180,474號中找到。 親水性聚氧化烯單體在組合物中的存在量一般係從約5 至約35重量％，較普遍地是約丨〇至約2〇重量％。 本發明組合物也包含c)至少一種非離子界面活性劑。相 信此界面活性劑可幫助水性顯影劑潤溼疏水性阻劑並提供 游離態之殘留物。 非離子界面活性劑實例係包括，但不限於烧乙氧基化界 面活性劑、拔段共聚物界面活性劑及去水山梨醇醋界面活 性劑以及這些热諳此技者熟知的界面活性劑。 -26- 1336423 一種非離子界面活性劑是烷基烷氧基化界面活性劑，如 環氧乙烷或環氧丙烷與脂肪醇、脂肪酸、脂肪胺等之加成 產物。視情況’可使用環氧乙烷與環氧丙烷之混合物與脂 肪醇、脂肪酸、脂肪胺的加成產物。烷氧基化界面活性劑 包括具有下列通式之化合物：

R8-Z-(A)sB 其中R8是烷基或烷基芳基，其係選自一級、二級及分枝 鏈烷基、一級、二級及分枝鏈烯基及/或一級、二級及分枝 鏈經烷基-及烯基取代之酚基組成之群，其中該酚基具有約 6至約20個，較佳係約8至約18個，更佳係約1〇至約15個碳 原子，s是約2至約50，較佳係從約2至約2〇，更佳係約2至 約15之整數；A是EO(環氧乙烷）、p〇(環氧丙烷）或其混合 物，B疋氫、羧酸鹽基或硫酸鹽基；連接基z係選自、 -N(R)X-、-C(0)0-、-C(0)N(R)-、_(：(0)Ν(Κ)_及其混合物組 成之群，其中當R存在時，其為rS、具有約i至約4個碳之低 碳數烷基、聚氧化烯或氫，X是1或2。 這些非離子界面活性劑之其他特殊實例包括，尤其是氧 化烯基與有機疏水性化合物，如脂族化合物或與烷基芳族 化合物之縮合產物轉子界面活性劑—般是有機脂族 或烧基芳族疏水性化合物與親水性環氧乙烧基之縮合產 物、。特別是任何包含絲、經基、醯胺基或胺基並有游離 ^連接氮之疏水性化合物可與環氧乙烧（環氧丙烧）或與其 夕水口產物’聚乙二醇（或聚丙二醇）縮合形成水溶性非離子 界面活性劑。

O:\90\90901DOC -27- 1336423 一個此類非離子界面活性劑實例是丨莫耳烷基酚與約5至 25莫耳氧化烯的縮合產物，其中該烷基酚的烷基係包含6至 12個碳原子〇另一個此類非離子界面活性劑實例是1莫耳脂 族醇與I至約10莫耳氧化烯之縮合產物，其中該脂族醇可為曰 具有6至18個碳原子之-級、二級或三級醇。較佳氧化稀是 環氧乙烷或環氧丙烷，其可單獨或同時存在。 典型烷氧化醇是非離子烷氧基化一級或二級醇並可以下 式表示（Z是-0-，B是H)

R8Of EO^-H 其中R8是c1(M8—級、二級或分枝鏈烷基，§是3_5〇之整數。 其他非離子卩面活性劑實例包括一級及二級線性和分枝 醇乙氧化物，如這些以C：6-Cl8醇為基質並且每莫耳醇另平均 包含2至8 0莫耳乙氧基化之物。這些非離子界面活性劑實例 可購得Neodol®之物（其，例如包含具有約9_15碳原子之高 碳數脂族一級醇，如C9_n醇與4至1〇莫耳環氧乙烷之縮合物 (Neodol 91-8或Neodol 91-5)、C^3烷醇與6 5莫耳環氧乙烷 之縮合物（Neodol 23-6.5) ' Clz·丨5烷醇與12莫耳環氧乙烷之 縮合物（Neodol 25-12)、烷醇與13莫耳環氧乙烷之縮合 物（Neodol 45-13)及類似物）（德州休市頓市讥…化學公司） 或Genapol®系列之物（其，例如包括q線性醇與i莫耳環 氧乙烷之縮合物（Genapol 24-L-3” Cu-16線性醇與丨6莫耳 環氧乙烷之縮合物（Genapol 26-L-1.6) ; Cu-16線性醇與2莫 耳環氧乙烷之縮合物（Genapol 26-L-2) ; (：12_16線性醇與3莫 O:\90\90902.DOC -28- 1336423 耳環氧乙烷之縮合物（Genapol 26-L-3) ; C12_16線性醇與3莫 耳環氧乙燒之縮合物（Genapol 26-L-5);以及C12-16線性醇與 不同量之環氧乙烷縮合以提供特定混濁點之物（即Genapol 26-L-60、Genapol 26-L-60N及 Genapol 26-L-98N)(Clariant 公司，Charlotte，NC)。 其他實例包括二級C12-C15醇乙氧基化物，包括這些具有 約3至約10莫耳乙氧基化之物。此可，例如由Tergitol®系列 之非離子界面活性劑取得（例如，Cu_15二級烷醇與9 EO (Tergitol 15-S-9)或 12 EO(Tergitol 15-S-12)之縮合物（Dow 化學公司，Midland，MI))。 一些其他典型烷氧基化醇包括ICONOL™乙氧基化癸基 醇（氧化物含量為4-6莫耳EO)、ICONOL™乙氧基化十三基 醇（氧化物含量為3-10莫耳丑0)、]\43(：〇1@月桂基醇乙氧基化 物（氧化物含量為4-23莫耳EO)、Plurafac® A系列硬脂基醇乙 氧基化物（氧化物含量為25-50莫耳EO)(BASF公司）、 DETROL™ OC烷基乙氧基化物（Dexter化學L.L.C.)及 TRITON™醇烷氧基化物（Rohm & Haas)。其他實例係表示於 實例中。 典型烷氧基化烷基酚係以下式表示（Z是-Ο-，B是H): r8〇-(A— 其他R8是C8_18—級、二級或分枝鏈經烷基取代之酚系 基，s是2-50之整數，A代表環氧乙烷、環氧丙烷及其組合。 烷氧基化烷基酚實例包括ICONOL™壬基酚乙氧基化 -29- 1336423 物、Macol®及Iconol™辛基紛己氧基化物（BASF公司）、 DEXTROLTM OC烷基酚乙氧基化物（Dexter化學L.L.C.)及 TERGITOL™壬基紛乙氧基化物（Dow化學公司）。其他實例 包括 lgepal CO-730、lgepal CO-720、lgepal CO-710、lgepal CO-660、lgepal CO-620及lgepal CO-610，所有聚乙氧基化 壬基紛及lgepal CO-5 30和lgepal CO-520，兩乙氧基化壬基 酚係購自 Rhodia公司；Alkasurf NP-15、Alkasurf NP-12、 Alkasurf NP-11、AlkasurfNP-10、Alkasurf NP-9及 Alkasurf NP-8，所有聚乙氧基化壬基酚及Alkasurf NP-6、Alkasurf NP-5及Alkasurf NP-4，所有乙氧基化壬基酚係購自Alkaril 化學品公司；及 Surfonic N-120、Surfonic N-102、Surfonic N-100、Surfonic N-95 及 Surfonic N-85、所有聚乙氧基化壬 基酚及Surfonic N-60和Surfonic N-40，兩乙氧基化壬基酚 係講自Texaco化學公司。其他實例也可參見McCutcheon的 乳化劑及清潔劑（2002)。 其他非離子界面活性劑實例包括環氧乙烷與環氧丙烷之 嵌段共聚物。適合的嵌段聚環氧乙烷-聚環氧丙烷聚合物界 面活性劑包括這些以乙二醇、丙二醇、甘醇、甘油、三經 甲基丙烷及乙二胺當作初反應性氫化合物為基礎的界面活 性劑。已可購得特定標示為Pluronic及Tetronic之嵌_段聚合 物界面活性劑化合物（BASF公司，Mt. Olive，NJ)。

Pluronic界面活性劑具有通式H(EO)n(PO)m(EO)nH，其中 EO是環氧乙烷基，PO是環氧丙烷基，η及m係指界面活性劑 中平均基團數目之數字。典型實例是：當η是從約3至43時， -30- 1336423 m是從約16至59且平均分子量係從約1800至約4700和其混 合物。

Tetronic界面活性劑具有下式： [H(EO)n(PO)m]2-NCH2CH2N-[(PO)m(EO)nH]2，其中 EO、P0、 η及m具有與上述相同之意義。 "反"Pluronic及Tetronic界面活性劑具有下列通式： 反 Pluronic 界面活性劑 H(PO)m(EO)n(PO)mIi，反 Tetr〇nic 界面活性劑[H(PO)m(EO)n]2-NCH2CH2N-[(EO)n(PO)mH]2，其 中EO、PO、11及m具有與上述相同之意義。 另一種非離子界面活性劑實例包括長鏈脂肪酸之去水山 梨醇醋’其中該長鏈脂肪酸包括這些具有14至26個碳原 子’較佳係16至22個碳原子之長鏈脂肪酸殘基。此外，長 鏈脂肪酸之去水山梨醇聚酯的酯化程度最好是2 5至3 5,特 別是2.8至3.2。這些典型長鏈脂肪酸之去水山梨醇聚酯實例 疋二棕櫚酸去水山梨醇酯、三油酸去水山梨醇酯及去水山 梨醇牛脂脂肪酸三酯^其他適合的去水山梨醇酯界面活性 劑包括去水山梨醇脂肪酸單_及三·酯以及聚乙氧基化去水 山梨醇脂肪酸酯。 非離子界面活性劑最好是選自烷氧基化醇、烷氧基化烷 基酚或其混合物，較佳係烷氧基化醇，更佳係經約5至12莫 耳環氡乙烷乙氧基化iC812醇。 c)，至少一種非離子界面活性劑在組合物中的存在量範 圍仏從为〇.〇1至約4重量％，更普遍地是從約〇 2至約}重 % 〇 1336423 本發明組合物也包含d)至少一種光起始劑。適合的光起 始劑包括，例如9_苯基吖啶、9_苯基吖啶同系物（如這些美 國專利第5,217,845號中所述之物，將其以引用方式併入本 文中；其實例包括2,7-二苯甲醯基-9·苯基吖啶、2,7_雙（〇1· 羥基笨甲基）-9-苯基吖啶、2,7-雙（α-乙醯氧基苯甲基）_9苯 基吖啶、2,7·二甲基_9_(4_甲基苯基）吖啶、2,7二甲基_9苯 基吖啶、2,7-雙（3,4_二甲基苯甲醯基）-9-(3,4-二甲基苯基） Γ疋2,7-雙（α-乙酿氧基-4-第三丁基苯甲基）_9_(4·第三丁 基苯基）吖啶、2,7·二甲基-9-(3,4-二氣苯基）吖啶、2,7_二曱 基-9-(4-苯甲醯基苯基）吖啶、2,7_雙（2_氯笨甲醯基）_9_(2_ 氯苯基）吖啶、2_(α-羥基_3·溴苯甲基）-6-甲基-9-(3-溴苯基） 吖啶、2,5-雙（4_第三丁基苯甲醯基）·9·(4_第三丁基苯基）吖 啶、1，4-雙（2,7-二甲基-9-4咬基）苯、2,7_雙（α·苯基胺基羰 乳基-3,4-二甲基苯甲基）_9_(3,4_二甲基苯基）吖啶及2,7_雙 (3,5-二甲基_4_羥基_4ι_氟二苯基甲基）_9_(4氟苯基）吖 啶）、偶姻（如安息香、pival〇in&類似物）、偶姻醚（如安息 香甲基醚、女息香乙基㉚、安息香丙基_及類似物）、α-二 酮化合物或其單縮酮衍生物（如二乙醯基、苯偶醯、苯甲基 二甲基縮酮及類似物）、抽氫型起始劑（如吨酮、嘧吨酮、2_ 異丙基噻吨_、4_異丙基嘍吨酮、2_氣噻吨酮、2_甲基噻吨 酮、苯偶醯、二苯甲酮、苯乙酮、2,2_二乙氧基苯乙酮、2_ 羥基-2-甲基苯丙酮' 4_異丙基_2_羥基_2甲基苯丙酮及匕卜 二氯苯乙酮、4,4，_雙（Ν，Ν,_二甲基胺基）二笨甲酮、多核醌 (如9’10-惠·、9，1〇_菲酿、2_乙基蒽酿、！，心苔酿）及類似 -32· 1336423 物）、醒基氧化膦和類 彳_物以及任何其兩或多種之混合物。 其他光起始劑實例包括24_雔_ 〇 ’又—虱笮基-6-(3-溴-4-甲氧基） 本基<^2’4·雙·三氯曱基_6_(2冬4_甲氧基）苯基_s三 喷、2,4·雙·三氯甲基邻14-甲氧基）苯乙烯基苯基*三 哨、雙-三氣曱基_6_(2备4_甲氧基）笨乙稀基苯基+三 井又（衣戊_婦基）_雙[2,6二氣_3十比略卜基）苯基]欽、 雙（環戊二烯基）雙[2,6•二氟_2十比洛小基）苯基]欽、雙（環戊 一烯基）又（以义以-丑氟苯基德〜雙^環戊工婦基卜雙 [2,5_二氟·3_(吡咯-1·基）苯基]鈦、1-羥基環己基苯基酮、2,2_ -甲苯基乙小嗣' 2_甲基小卜（甲基硫基）苯 基]-2-嗎福啉丙_丨_酮、2_苯甲基_2二甲基胺基小⑷嗎福啉 苯基）-丁-1-酮、2·羥基_2_甲基_丨_苯基丙酮、2,4,6_三曱 基苯甲酿基—苯基氧化膦、i_[4_(2_經基乙氧基）苯基]_2-經 基2甲基1_丙_ι_酮、2,4_二乙基„塞吨酮、2,4_二甲基喧吨 酮、1-氯-4-丙氧基噻吨酮、3,3_二甲基_4•甲氧基二苯甲酮、 1-(4-異丙基苯基）·2_羥基·2·曱基丙_丨_酮、丨-^·十二基苯 基）-2 -經基-2-甲基丙-1__、4 -笨甲酿基·4'_〒基二甲基硫 醚、4-二甲基胺基苯甲酸、4_二甲基胺基笨甲酸曱酯、4_ 二甲基胺基苯曱酸乙酯、4-二甲基胺基苯甲酸正丁酯、2· 乙己基-4-二甲基胺基苯甲酸酯、2_異戊基_4_二甲基胺基苯 甲酸酯、2,2-二乙氧基苯乙酮、苯甲基0_曱氧基乙基縮醛、 1-笨基-1，2-丙二酮-2-(鄰-乙氧基羰基）辟、鄰·苯曱醯基苯甲 酸甲酯、雙（4-二曱基胺基苯基）酮、對-二曱基胺基苯乙酮、 對-弟二丁基二乳苯乙_、對-第三丁基-二氯-苯乙_、 O:\90\90902.DOC •33- 1336423 dibenzosuberone、α，α-二氯-4-苯氧基苯乙酮、4-二甲基胺 基苯曱酸戊酯、2-(鄰-氣苯基）-4,5-二苯基咪唑基二聚物、 α，α-二烷氧基苯乙酮、α-羥基苯烷酮、α-胺基苯烷酮及類 似物。較佳係兩或多種光起始劑之混合物。 至少一種光起始劑在組合物中之存在量範圍一般係從約 0.01至約4重量％，更普遍地係約0.1至約1重量％。 根據本發明組合物也包含一或多種選自染料、至少一種 經胺改質丙烯酸系寡聚物、助黏劑、整平劑、光敏劑、溶 劑及類似物之組份。 本發明組合物可使用之染料實例包括，但不限於這些如 Kalle染料（2-二乙基胺基-4-(2,2-二氰乙烯）-甲苯）以提供背 景吸收，消除特別藉高反射基板如金屬所反射之光化光（如 UV光）所造成之顯影殘留。當然，也可使用其他具有適當 UV吸收之染料。一些其他染料實例是Victoria純藍FGA(C1 基藍 81) ; Neozapon快紅 BE(C1溶劑紅 122) ; Sudan藍 II(C1 溶 劑藍 35) ; Victoria Cyan F6G(C1 42025);曱基紫 2B(C1 42535);結晶紫（Cl 42555) ; Malachite綠（Cl 42000);中性 紅（Cl 50040);羅丹明（Rhodamine) FB(C1 45170);羅丹明 6GCN Extra(Cl 45 1 60)。當此組合物用於具高反射基板之結 構物上時，染料是特別重要的。 若染料係存在於組合物中，其含量範圍一般係從約0.005 至約0.2重量％，較佳係約0.01至約0.1重量％。 本發明組合物最好包含至少一種經胺改質丙烯酸系寡聚 物（已知為丙烯酸醋化胺）以作為輔助可光聚合化合物。一些 O:\90\90902.DOC -34- 1336423 典型經胺改質丙烯酸系寡聚物之實例可以，例如下式之一 表示： r30CI 〇 /N Ri 〇〇~ 〇— C— C= CH2

R400 R κ200 及

R 30(^ i? R, 400

/ II c—C=CH 200 其中 R1〇〇 是 Cmo 烷基、-(EO)aa-、-(PO)aa-或 R500·

其中EO是環氧乙烷，PO是環氧丙烷，aa是1至10之整數， R5〇o與R600各為相同或不同並各可獨立地為C^o烷基；R200 是氫或C1-6院基，R300與R400各可能相同或不同且獨立地各 為氫或CN18烷基，該烷基是未經取代或經至少一個選自鹵 烷基、C!.4烷氧基、羧基、胺基、羥基、芳基、磺醯基、烷 氧羰基、胺基羰基組成之群的成員取代；W是1至10之整數。 胺丙烯酸系寡聚物的分子量一般為約200至約2,000。胺丙 烯酸系寡聚物也包含聚氧化烯部分。一些市售經胺改質丙 烯酸酷寡聚物之實例包括Ebecry® 81、Ebecry® 83、 Ebecry® 7100(UCB化學品公司，Smyrna，GA)、Laromer® PO 77F(LR 8946)、Laromer® PO 94F(LR 8894)、Laromer® LR O:\90\90902.DOC -35- 1336423 8956、Laromer® LR 8996(BASF，Mt. Olive，NJ)、Actilane 584、Actilane 587、Actilane 595(Akcros化學品公司，Akzo Nobel NV 之一部門）及 CN501、CN502、CN550、CN551、 CN371、CN381、CN383、CN384、CN385(Sartomer公司， Exton，PA) 〇 當經胺改質丙烯酸系寡聚物存在於組合物中時，其存在 量範圍一般係從約0.1至約20重量％，更普遍地係約0.5至約 10重量％。 溶劑的實例包括，例如醇醚衍生物如乙氧基乙醇醚、曱 氧基乙醇醚、丙二醇單甲基醚、二乙二醇單甲基醚、二乙 二醇單乙基醚、二丙二醇二甲基醚、丙二醇正丙基醚或二 乙二醇二曱基醚；醇醚酯衍生物如乙氧基乙醇醚乙酸酯、 甲氧基乙醇醚乙酸酯或丙二醇單曱基醚乙酸酯；羧酸酯如 乙酸乙酯、乙酸正丁酯及乙酸戊酯；二元酸之羧酸酯如二 乙氧酸酯及二乙基丙二酸酯；乙二醇之二羧酸酯如二乙酸 乙二醇酯及二乙酸丙二醇酯；及羥基羧酸酯如乳酸曱酯、 乳酸乙酯、乙二醇乙酯及乙基-3-羥基丙酸酯；酮酯如甲基 丙酮酸酯或乙基丙酮酸酯；烷氧基羧酸酯如3-甲氧基丙酸 甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯或甲基 乙氧基丙酸酯；酮衍生物如甲基乙基酮、乙醯基丙酮、環 戊酮、環己酮或2-庚酮；酮醚衍生物如二丙酮醇甲基醚； 嗣醇衍生物如丙酮醇或二丙酮醇；内S旨如丁内醋；醢胺衍 生物如二曱基乙醯胺或二曱基曱醯胺、曱氧苯及其混合 物。若溶劑存在於組合物中時，其存在量一般係在約30至 1336423 約8 0重量％範圍内。 助黏劑的實例包括笨并三唑及苯并三唑衍生物如竣基笨 并三唾。其他苯并三唑衍生物之實例可在美國專例第 4,428,987號中找到。額外助黏劑實例包括醯胺如二異丙基 乙龜胺及有機梦烧材料如，例如ΑΡ115，一種由snicon Resources公司（Chandle，AZ)購得之有機矽烷。其他為適合 助黏劑之有機矽烷材料實例包括，但不限於N_2_(胺基乙 基）-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N_2_(胺基乙基）·3_胺基 丙基三甲氧基矽烷、Ν-2-(胺基乙基）_3_胺基丙基三乙氧基 矽烧、3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3_胺基丙基三乙氧基石夕 烧、3-三乙氧基矽烷基-N-(l，3-二甲基-亞丁基）丙基胺、Ν_ 笨基-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、U·胺基十一基三曱氧基矽 烷、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷、3_胺基丙基二甲基乙氧 基矽烷、3-(1-胺基丙氧基）-3,3-二甲基-1-丙烯基三甲氧基矽 院、6-(胺基己基胺基丙基）三甲氧基發烧、雙3-(三甲氧基 矽烷基）丙基二伸乙基二胺、三甲氧基矽烷基丙基二伸乙基 三胺、（胺基乙基胺基甲基）苯乙基三甲氧基矽烷、3_去水甘 油氧基丙基三甲氧基矽烷、甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽 烷、苯基三乙氧基矽烷、對-胺基苯基_三乙氧基矽烷、β_(3,4_ 環氧基-環己基）-乙基三甲氧基矽烷、對-甲基-二矽烷-甲基 甲基丙稀酸醋；乙稀基三氯石夕烧；及四甲基二乙稀基二石夕 氮烷。 適合的整平劑實例包括界面活性劑如氟化界面活性劑， 包括氟矽酮基質之非離子表面活性劑（Megafac R-08， O:\90\90902.DOC -37- 1336423

Dainippon墨水化學公司的產品）。另外非限定氟碳化物界面 活性劑包括氟化烷基聚氧化烯及氟化烷基酯。這些化合物 之代表結構係列於下：

RrRiK.O)^ (1)

RfR-0C(0)R3 (2) 其中Rf包含從約6至約18個碳原子，其各連接約〇至約3個 氟原子。當R存在時，其是具有約1至約1 〇個碳原子之烧基 或氧化浠基’ Ri代表具有從約1至約4個碳原子之伸炫基， R·2是氫或具有約1至約3個碳原子之小烷基戴帽基。R3代表 包含醋基上的碳共具約2至約22個碳原子之烴部分。此烴可 為線性、分枝或環狀飽和或不飽和並為未經取代或經取 代。11些結構物之非限定市售實例包括由DuP〇nt購得之

Zonyl 9075、FSO、FSN、FS-300、FS_310、FSN_1〇〇、 FSO-100、FTS及TBC及由米里蘇達州聖保羅市3M公司購得 之 Fluorad界面活性劑 FC_43〇、fc_431、FC 74〇、Fc i7〇c 及 FC-171。 本發明組合物使用整平劑時，其存在量範圍一般係從約 0.001至約1重量％，較佳係從約〇 01至約〇 5重量％。 所製得之光組組合物溶液可藉任何光阻技術中慣用方 法，包括浸潰、喷霧、迴旋及旋塗塗佈在基板上。例如， 旋塗時，可就所用旋轉設備類型及旋轉程序所容許之時間 篁，調整阻劑溶液之固體含量百A比以提供所需厚度之塗 層。適合的基板包括，㉟不限於如鎢、金、銅、鈦、鉑及 鎳等此類金屬。光阻也可被塗佈在抗反射塗層上。

O:A90\90902.D〇C •38- !336423 然後將光阻組合物溶液塗佈在基板上並在約7(rc至約 150°C之溫度下加熱板上處理基板約3〇秒至約6〇〇秒，或在 對流烘箱中處理約15秒至約9〇分鐘。此溫度處理係經過選 擇以降低光阻中殘留溶劑之濃度，同時不造成固體組份大 量熱降解。一般，希冑最小化溶劑濃度並進行上述溫度處 理直到實質上所有溶劑都蒸掉，而約1〇至125微米大小厚之 光阻組合物塗層仍留在基板上。在較佳具體實施例令，溫 度係從約95°C至約12GX：。進行處理直到溶劑錢變化速率

變得極不明顯。溫度及時間的選擇係視使用者所需之光阻 性質以及所用設備和商業所需塗佈時間而定。然後令塗佈 基板在光化輻射，如波長從約3〇〇毫微米至約5〇〇毫微米之 紫外線輻射、X—射線、電子束、離子束或雷射輻射下以所 用適σ光罩、陰極板、模板、樣板等所產生之任何所需圖 案進行圖案曝光。 視情況可在顯影前令光阻進行後曝光第二次供烤或加數 處理。加熱溫度可在約贼至約15〇t範圍内，更佳係約ι〇〇

c至約uot。加熱可進行約3〇秒至約2分鐘，更佳係在加 熱板上加熱約60秒至約9G秒，或藉對流供箱進行約3〇 45分鐘。 ’ 已曝光塗有光阻之基板藉浸潰在顯影溶液中或利用喷袭 顯影程序顯影以除去未曝絲域。此溶液最好，例如芦氮 氣授動㈣之。令絲料在_以直料有光阻㈣ 自未曝光區域溶解1㈣包含氫氧频或驗金屬氨氧化 物之水性溶液。—種較佳顯影劑是—種四Μ氫氧化錄水 臂39- 1336423 性溶液°自11影溶液中移開®案化基板後，可進行選用後 心熱處理或烘烤以增加塗層黏性及對後影像化加工之化 學抵抗力。後顯影熱處理包括在低於塗層軟化點下以加熱 板或烘箱烘烤塗層及基板或uv硬化程序。 下列特疋實例提供本發明組合物之製造及利用方法說 明。但疋，這些實例不欲以任何方式限制或限定本發明範 圍且不應被解釋為提供實施本發明唯一必須利用之條件、 參數或數值。除非另外指示，所有份數及百分比係以重量 為基準。 在適合條件下將量得組份量不以任何特定或固定順序加 入尺寸適合的容器中，其指示組成份的添加順序不重要。 所有組成份係在室溫下供應。實例調配物的組成係列於表丄 中。表1所列用量是"現有的”（如由供應商所獲得般）。用於 產生本文所述各種調配物之組份身分係揭示於下面表2 土_’包括各"有效物"百分比是非1〇〇重量％之組成份。 --” 一，，一 ν λ至〜組；j又了刀 w 表1 實例1 實例2 實例3 實例4 實例5 實例6 實例7 組份 % % % % % % % SB404 76.62 71.54 76.80 71.78 71.15 71.15 76.7 厂 SR-268 13.88 13.48 13.91 13.52 13.41 13.41 13.9 CBT 0.18 0.19 0.18 0.18 CN371 0.86 0.81 0.87 0.81 0.81 0.81 0.87 Irgacure 907 1.77 2.30 1.42 2.31 2.29 2.29 1.42 ITX 0.27 0.61 0.17 0.61 0.61 0.61 0.17 KalleG-線染料 0.02 0.05 0.02 0.05 0.05 0.05 0.02 Iconol TDA 9 0.37 0.35 0.37 0.35 0.35 0.35 I 0.49 Megafac R08 (90%) 0.12 0.07 0.15 0.07 0.07 0.07 0.15 AP115 4.96 N,N-二異丙基 0.50 1336423 乙醯胺 EZ染料，10% 0.12 0.12 PGME 6.00 5.98 5.99 6.00 5.95 5.95 5.98 PGMEA 0.00 4.62 0.00 4.49 4.82 0.36 總和 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00 100.01 表2 組份 名稱 SB404 芳族酸丙烯酸半酯(55%有效物於PGMEA) (Sartomer) SR-268 二丙稀酸四乙二醇醋(Sartomer) CBT 羧基苯并三《坐 CN371 經胺改質丙烯酸系寡聚物(Sartomer) Irgacure 907 2-甲基-l-[4-(曱基硫基）苯基]-2-嗎福啉丙-1-酮 (Ciba Specialty) _ ITX 異丙基〃塞吨嗣 KalleG-線染料 染料 IconolTDA9 十三基醇乙氧化物(9EO)(BASF) Megafac R08(90%) 經氟石夕改質之非離子界面活性劑(Dainippon墨水 公司)(90%有效物於PGME製得溶液中） AP115 有機矽烷助黏劑（10%有效物於PGMEA)(Silicon Resources) Ν,Ν·二異丙基乙醯胺 N，N-二異丙基乙醯胺 ΕΖ染料，10% 染料(10%有效物於PGME中） PGME 丙二醇曱基趟(Dow化學） PGMEA 丙二醇甲基醚乙酸酯(Dow化學） 將阻劑樣品（實例1至7)旋塗在鍍銅4"矽晶圓表面上至60 微米之厚度並在11〇 °C下烘烤10分鐘以除去溶劑。利用 Perkin Elmer 340校準器以700-1000毫焦耳/平方厘米之能 量進行晶圓曝光。以〇 · 2 61N四甲基氫氧化敍水性溶液進行 顯像（3X 60秒攪煉）。已顯像阻劑呈現良好解析度、乾淨顯 影、整齊輪廓且加熱至120°C時無熱流。利用經緩衝0.12N 氫氧化鉀水性溶液（3x60秒攪煉）或經缓衝0.08N氫氧化鉀水 性溶液（4x60秒攪煉）進行已曝光阻劑之顯像時，預期可獲得 1336423 類似結果。 本發明先前述述說明並描述本發明。此外，揭示内容僅 顯不及描述本發明較佳具體實施例，但如上述般，應了解 本發明可用於各種其他組合、改良及環境中並可在本文所 . 厂、相對於上述教導及/或相關技術之技巧或知識之本發明 . 觀念Ιϋ圍内變化或改良。上文所述具體實施例另外希望解 釋實把本發明之已知最佳模式並使熟諳此技者可將本發明 藉由本發明特定應用或用途所需各種改良用於此或其他具· 體實施例中。因此，此描述不欲將本發明限制在本文所揭鲁 示形式。而且，希望將所时請專利範圍解釋成涵蓋替代 具體實施例。

-42·

Claims (1)

1336423 第093103338號專利申請案 中文申請專利範圍替換本(99年4月） ---------- 拾、申請專利範圍： Λ 修(更)正本 Wl ι_—— ^ 1. 一種組合物，其包含 a)具有下式之可光聚合化合物·· c- I R2 1~ 白6a ?3 ^ •I一? 白4白6

其中R!是氫及R2是未經取代或經一或多個C312環烷 基、C】·6烷氧基、2,3-環氧基丙基、羥基、氰基、Ci-5 烧基或鹵素基取代之C6-2〇芳基；R5a是氫；R6a是氫； R3是氫；R4是-(CH2)n-C(=0)-0R7，其中 R7是氫，η是 〇 ; R5是氫；心是乂，其中X是-C( = 〇)_Ri〇，而R丨〇是 -O-Rn-O-CpcO-Cd# CH2, ^是匕伸烷基，Rl2 是氫；j、k、e、t及z是各可使j、k、e ' t及z之總和 在約2至約20範圍内之整數，其中〗與1^各等於或大於 1，且e ' t及z各為〇 ; b) 至少一種乙烯系不飽和可光聚合聚氧化烯親水性單 體， c) 至少一種非離子界面活性劑；及 d) 至少一種光起始劑； 其另包含至少一種經胺改質丙烯酸系募聚物。 2.如申請專利範圍第【項之組合物，其中b)至少一種乙稀系 不飽和可光聚合聚氧化烯親水性單體係選自二丙烯酸二 乙二醇酯、二丙烯酸三乙二醇酯、二甲基丙烯酸二乙二 90902-990428.DOC 1336423 醇酯、二曱基丙烯酸三乙二醇酯、二丙烯酸三丙二醇酯、 二曱基丙烯酸三丙一醇s旨、二丙稀酸四乙二醇醋、二曱 基丙稀酸四乙二醇酯、二丙稀酸五乙二醇酯、二曱基丙 稀酸五乙二醇酯、二丙稀酸五丙二醇酯、二曱基丙稀酸 五丙二醇酯、丙氧基化（3)三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、丙 氧基化（6)三經甲基丙院三丙烯酸酯、乙氧基化（3)三經甲 基丙烧三丙稀酸酯、乙氧基化（6)三經甲基丙炫三丙婦酸 酯、乙氧基化（9)三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、丙氧基化三 羥曱基丙烷三丙烯酸酯、丙氧基化三羥曱基丙烷三曱基 丙烯酸酯、乙氧基化（2)雙酚A二曱基丙烯酸酯、乙氧基化 (3)雙紛A二丙烯酸酯、乙氧基化（4)雙酌·α二甲基丙浠酸 酯、乙氧基化（8)雙酚Α二丙烯酸酯、乙氧基化（4)雙紛a 二丙烯酸酯、乙氧基化（6)雙酚A二丙婦酸酯、乙氧基化（6) 雙酚A二甲基丙烯酸酯、丙氧基化（2)新戊二醇二丙烯酸 酯、丙氧基化（3)縮水甘油三丙稀酸酯、聚乙二醇二丙烯 酸酉曰、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、聚丙二醇二丙婦酸酯、 聚丙二醇二甲基丙烯酸酯、2_(2_乙氧基乙氧基）乙基丙烯 酸酯、乙氧基化（4)異戊四醇四丙烯酸酯、高度丙氧基化 (5.5)縮水甘油三丙烯酸酯 '乙氧基化縮水甘油三丙烯酸 醋及丙氧基化（3)縮水甘油三丙烯酸酯組成之群。 3·如申明專利範圍第1項之組合物，其中c)至少一種非離子 界面活性劑係選自烷氧基化醇、烷氧基化烷基酚或其混 合物。 4·如申請專利範圍第3項之組合物，其中c)至少一種非離子 90902-990428.DOC -2- 1336423 界面活性劑是—種烷氧基化醇。 5.如申請專利範圍第1項之組合物，其中該經胺改質丙烯酸 系寡聚物係選自 ^4〇〇 N—R10cr~〇— c-C=CH R 200 ^30(^ 及 Ο N R400 -^o~c-c=ch2] R200 其中 Ric^CMo院基、-(E0)aa-、_(PO)aa_或 R

^600 中EO疋j衣氧乙炫，p〇是環氧丙烧，aa是從1至1〇之整 數，R5〇0與R6〇〇各可能相同或不同並獨立地各為Cl io烷 基’汉2〇〇疋氫或C!·6院基’尺3〇〇與R4〇〇各可能相同或不同並 獨立地各為氫或Cl ls烷基，該烷基是未經取代或經至少 一個選自鹵烷基、c〗_4烷氧基、羧基'胺基、羥基、芳基、 蟥醯基、烷氧羰基、胺基羰基組成之群的成員取代；且W 是從1至10之整數。 6. 一種形成光阻圖案之方法，該方法包括： 1)提供一基板一層如申請專利範圍第丨項之組合物； 90902-990428.DOC )7 /層在光化輻射下進行圖案影像曝光以造成已曝光 光阻之溶解度的改變；及 3)令該光阻顯影以形成圖案。 —種組合物，其包含： a)具有下式之可光聚合化合物

-中Ri與R_2可能相同或不同且各可獨立地選自氣、 Cm。烷基、C6.2G芳基、c6_2〇烷芳基、c6 2〇芳烷基、 烷氧基、C3·18環烷基、C2-2〇烯基、2,3·環氧基丙基、氰基 及Μ組成之群，該Cl.5说基、C6 2。芳基、c6 2。烧芳基土、 C6-20方烧基、Cll。烧氧基、〇318環烧基及Gw。烯基係未經 ，代或經-或多個CW裒烷基、氰基、Ci5烷基、Cl』 氧基、C6.2。方氧基、c6 2。芳炫氧基' 2,3•環氧基丙基、海 基或鹵素基取代； R3係選自氫、Cl.5。烷基、CV2。芳基、c6-2。烷芳基、c6 芳烧基、CW繼、c2，稀基、氰基、2,3_環氧基丙 及齒素組成之群，該Cl.a基、c6_2Q芳基、^烧芳基 匕心芳烷基、c^8環烷基及C2-2Q烯基係未經取代或經一或 多個c3.12環烧基、氰基、Cl戍基、Ci‘氧基、芳 氧基、c6.2。芳院氧基、2,3_環氧基丙基、經基或鹵素基取 90902-990428.DOC -4- 代； R4、R6與Rea可能相同或不同且各可獨立地選自氫、氰 基、Cl-5Q烷基、C6-2Q芳基、C6.2❹烷芳基、C6.2◦芳烷基、 3 18衣燒基、C2.2〇烯基、鹵素、各氧烧基化基中包含2至 4個妷原子之氧烷基化基，其中此基團可能具有1至20個 重複單位且末端為氫或C!·4烷基、X及-(CH2)n-C(=〇)-〇R7 組叙群，其中R7係選自氫、C丨·5。烷基、C6_2。芳基、C6_2。 烷芳基、C6·20芳烷基、C2-2〇烯基、C5-50碳環、NR7aR7b、 2,3-環氧基丙基，n是〇至3之整數，a⑴烷基、q心芳基、 C6-20烷芳基、C6-m芳烷基、c3_18環烷基、c2_2Q烯基及c5 5〇 碳環係未經取代或經一或多個環烷基、氰基、CM烷 丨院礼基、〇6·2〇^•氧基、〇6·2〇芳院氧基、2,3-環氧 基丙基、羥基或鹵素基取代，la與R?b係獨立地各為氫或 Cuo烷基，X是 _<：：(=〇)·‘或 _R6〇-C(=〇) CH2 R7〇，其中 r】〇 係選自-0-Rn_0_C(=0)_c(Ri2)=CH2、〇 r"_nh_c卜⑺_ C(R12)=CH2 及-NH-Rn-0_C(=0)_c(Rl2) = CH2 組成之群其 中R η是線性或分枝二價C4 〇伸烷基或其各氧烷基化基包 含2至4個碳原子之氧烷基化衍生物，此基團可能具有1至 20個重複單位；R6(^_c(=〇)_w_Rn_v· ; ▽與¥係各獨立 地選自Ο、S或NR100，其中R1〇〇是氫或Ci 6烷基；係如 上，R7〇是-(：(=〇)-1150或-氰基，其中r5〇是氫或烷基； Rl2是氫或Cw炫基； R5與Rh可能相同或不同且各可獨立地選自氫、q %炫 基、c6-2〇芳基、c6-20烷芳基、c6 2(^烷基、C3 μ環烷基… 1336423^ C2-2〇稀基、氰基、2,3-環氧基丙基、鹵素及羧基組成之群， 該Cwo烧基、c6_2。芳基、C6.2。烷芳基、c6_2〇芳烷基、C2_20 烯基及c^2環烷基係未經取代或經一或多個C3 i2環烷 基、氰基、Cy烷基、Cw烷氧基、c6_2〇芳氧基、C6.20芳 燒氧基、2,3·環氧基丙基、羥基或_素基取代；且 R40是任何可與[]j、[ ]k、[ ]e及/或[]t中的部份，包括 這些[]j、[ ]k、[ ]e及/或[]t所指部分共聚合之單體，而且 j、k及Z是各使j、k及z之總和在約2至約20範圍内之整數， 其中j與k各等於或大於i，z可能為〇，e是1至25之整數； (b)至少一種乙烯系不飽和可光聚合聚氧化烯親水性單 體，其係選自二丙烯酸二乙二醇酯、二丙烯酸三乙二醇 酯、二曱基丙烯酸二乙二醇酯、二曱基丙烯酸三乙二醇 酯、二丙烯酸三丙二醇酯、二甲基丙烯酸三丙二醇酯、 一丙烯酸四乙二醇酯、二甲基丙烯酸四乙二醇酯、二丙 烯酸五乙二醇酯、二甲基丙烯酸五乙二醇酯、二丙烯酸 五丙—醇酯、二曱基丙烯酸五丙二醇酯、丙氧基化（3)三 羥甲基丙烷三丙烯酸酯、丙氧基化（6)三羥曱基丙烷三丙 烯酸酯、乙氧基化（3)三羥曱基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基 化（6)二羥甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化（9)三羥甲基丙 烷一丙烯酸酯、丙氧基化三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、丙 氧基化二羥甲基丙烷三曱基丙烯酸酯、乙氧基化（2)雙酚A 二甲基丙烯酸酯、乙氧基化（3)雙酚A二丙烯酸酯、乙氧基 化（4)雙酚A二甲基丙烯酸酯、乙氧基化（8)雙酚人二丙烯酸 西曰、乙氧基化（4)雙酚A二丙烯酸酯、乙氧基化（6)雙酚a 90902-990428.DOC 1336423 —丙烯酸酷、乙氧基化（6)雙酚a二曱基丙烯酸酯、丙氧基 化（2)新戊二醇二丙烯酸酯、丙氧基化（3)縮水甘油三丙烯 酸酷、聚乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、 水丙二醇二丙烯酸酯、聚丙二醇二甲基丙烯酸酯、2_(2_ 乙氧基乙氧基）乙基丙烯酸酯、乙氧基化（4)異戊四醇四丙 稀酸酿、高度丙氧基化（5.5)縮水甘油三丙烯酸酯、乙氧 基化縮水甘油三丙烯酸酯及丙氧基化（3)縮水甘油三丙烯 酸酯組成之群； (c) 至少一種非離子界面活性劑，其係選自烷氧基化醇、 院氧基化烷基酚或其混合物；及 (d) 至少一種光起始劑；及 至少一種經胺改質丙烯酸系寡聚物。 8.如申請專利範圍第7項之組合物，其中該經胺改質丙稀酸 系寡聚物係選自 ^400

^30(^ 〇 R30^ ^400

其中 Rloo是 Cm〇烧基、-(EO)aa-、-(PO)aa-或 90902-990428.DOC ^600 R

其中EO是環氧乙烷，P〇是環氧丙烷，aa是從1至i〇之整 數’ R·與R6〇0各可能相同或不同且獨立地各為A丨〇烷 基；Rno是氫或C!·6烷基，r3〇〇與R·各可能相同或不同且 獨立地各為氫或烷基，該烷基是未經取代或經至少 一個選自鹵烷基、Cm烷氧基、羧基、胺基、羥基、芳基、 石夤酿基、烧氧羰基、胺基羰基組成之群的成員取代；且％ 是從1至10之整數。 9.如申請專利範圍第7項之組合物，其中對於a)，Ri是氫及 R2是未經取代或經一或多個(：3_12環烷基、Cm烷氧基、2,3-環氧基丙基、羥基、氰基、Cw烧基或鹵素基取代之C6_2〇 芳基；R5a是氫；R6a是氫；Κ·3是氫；R4是-(CH2)n-C(=0)-〇R7，其中r7是氫，！!是〇 ; r5是氫；尺6是\，其中 X疋-C(=〇)-R10 ’而 R10是-0-1^-0-0(=0)-(^(11,2) =CH2 ’ R11是02伸烧基，R12是氫；且e、t及Z各為0。 瓜一種組合物，其包含 a)從約30至約55重量％具有下式之可光聚合化合物

R40 其中心與！^可能相同或不同且各可獨立地選自氫、 90902-99W28.DOC 1336423 Ci-50烷基、C6.20芳基、c6_20烷芳基、c6.20芳烷基' Cmq 烷氧基、C3-18環烷基、C2-2〇稀基、2,3-環氧基丙基 '氰基 及鹵素組成之群，該Cl μ烷基、芳基、c6 2〇烷芳基、 C6·20^"院基Ci_1Q烧氧基、C3.1S環烧基及c2_2G稀基係未經 取代或經一或多個C：3」2環烷基、氰基' Ci 5烷基、C16烷 氧基、芳氧基、C6_2〇芳烷氧基、2,3-環氧基丙基、羥 基或έ素基取代； R3係選自氫、Ci-50烷基、C6-2〇芳基、c6_20烷芳基、c6.20 芳烷基、C3_ls環烷基、烯基、氰基' 2,3環氧基丙基< 及鹵素組成之群，該Cl_5〇烷基、c0心芳基、c6 2〇烷芳基' C6-2〇芳燒基、C3_ls環烧基及C2_2〇稀基係未經取代或經一或 多個c^2環烷基、氰基、Ci_5烷基、Ci 6烷氧基、C62〇芳 氧基、C6心芳烷氧基、2,3_環氧基丙基、羥基或鹵素基取 代； R4 ' R0與尺“可能相同或不同且各可獨立地選自氫、氰 基、C^o烷基、C6 2〇芳基、C6 2〇烷芳基、C6 芳烷基、. 匸3-!8壤烷基、（：2_2〇烯基、鹵素、各氧烷基化基中包含2至 4個碳原子之氧烷基化基，其中此基團化基可能具有丄至 20個重複單位且末端為氫或Cl 4烷基、X及_(CH丄 -c(=o)-〇Rl·成之群，其中R7係選自氫、& 5〇烷基、Q 2〇 芳基、Cw烧芳基、Gw芳烷基、C2 2〇稀基、C5 5〇碳環、 NUu、2,3-環氧基丙基，n是從〇至3之整數，該Ci-5〇烷 基、c6-2〇芳基、c6-20烷芳基、€62()芳烷基、C3_〗8環烷基、 C2-2〇烯基及C5-5〇碳環係未經取代或經一或多個C3 η環烧[容] 90902.990428.DOC -9- 基、氰基、 、Ci.5烷基、Cm烷氧基、 C6-20芳氧基、C6-2〇芳

饧C]-4〇伸烧基或其各氧烧基化基包含2至4個碳原子之氧 烷基化衍生物，此基團可能具有i至2〇個重複單位； 是-cpohw-Rn-v-;冒與乂係各獨立地選自〇、ktNRi〇〇， R70是-C(=O)-R50 其中Rioo是氫或C!_6烧基；R"係如上， 或-氰基，其中R50是氫或C^o烷基； Rl2是氫或Ci-5烧基； R5與R5 a可能相同或不同且各可獨立地選自氫、C】5〇烧 基、匚6-2〇^'基、C6-20烧务基、C6-20芳烧基、（1!3-18環烧基、 C2-2〇烯基、氰基、2,3-環氧基丙基、鹵素及叛基組成之群， 該匸〗.“院基、C6.2〇芳基、C6_2〇烷芳基、C6.2〇芳烷基、C2.20 烯基及c^2環炫基係未經取代或經一或多個c3 i2環烧 基、氰基、Ci_5烧基、Cw烧氧基、C6.2〇芳氧基、C6_20芳 炫氧基、2,3-環氧基丙基、經基或齒素基取代；且 Κ·40是任何可與[]j、[ ]k、[ ]6及/或[]t中的部份，包括 這些[]j、[]k、[]e及/或[]t所指部分共聚合之單體，而且 j、k及Z是各使j、k及Z之總和在約2至約20範圍内之整數， 其中j與k各等於或大於1，z可能為，e是1至25之整數； b)從約5至約35重量％之至少一種乙烯系不飽和可光聚合 聚氧化烯親水性單體，其係選自二丙稀酸二乙二醇醋、 二丙稀酸三乙二醇自旨、二甲基丙婦酸二乙二醇g旨、二甲 基丙稀酸三乙H二丙婦酸三丙二醇自旨、二甲基丙 烯酸三丙二醇酯、-;祕缺 ， _ —丙烯駄四乙二醇酯、二甲基丙烯酸 四乙二醇醋、二丙烯酸五乙二醇醋、二甲基丙烯酸五乙 二醇醋、二丙烯酸五丙二_、二甲基丙賴五丙二醇 -曰丙氧基化（3)二备甲基丙烧三丙烯酸醋、丙氧基化⑹ 三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化(3)三羥甲基丙烷三 丙稀IS日、乙氧基化（6)三㈣基丙院三丙稀酸醋、乙氧 基化(9)二羥曱基丙烷三丙烯酸酯、丙氧基化三羥甲基丙 :三丙烯酸醋、丙氧基化三經甲基丙炫三甲基丙烯酸 酯、乙氧基化（2)雙齡a二甲基丙烯酸醋、乙氧基化⑺雙 盼A一丙烯酸g旨、乙氧基化⑷雙紛a二曱基丙稀酸醋、乙 氧基化⑻雙盼A二丙婦酸醋、乙氧基化⑷雙盼A二丙稀酸 醋、乙氧基化（6)雙紛a二丙稀酸醋、乙氧基化⑹雙紛A 二甲基丙烯酸自旨、丙氧基化⑺新戊二醇二丙稀酸醋、丙 氧基化（3)縮水甘油三丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、 聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、聚丙二醇二丙烯酸酯、聚丙 二醇二曱基丙烯酸酯、2_(2_乙氧基乙氧基)乙基丙烯酸 酯、乙氧基化（4)異戊四醇四丙烯酸酯、高度丙氧基化（55) 縮水甘油三丙烯酸醋、乙氧基化縮水甘油三丙烯酸醋及 丙氧基化（3)縮水甘油三丙烯酸酯組成之群； 〇從約0·01至約4重量％之至少一種非離子界面活性劑其 係選自烷氧基化醇、烷氧基化烷基酚或其混合物；及丨 9O902-990428.DOC -11 - 1336423 d)從約0.01至約4重量％之至少一種光起始劑；及 從約0.1至約20重量％之至少一種經胺改質丙烯酸系寡聚 物。 11·如申請專利範圍第10項之組合物，其中該經胺改質丙埽 酸系募聚物係選自 1—Rioo~ O—C—C=CH R 200

及 R30^ i? n^o-c-c=ch2 I R200 其中尺1〇〇是(：1-10烧基 ' -(EO)aa-、-(P〇)aa-或

其中EO是環氧乙烷，p〇是環氧丙烷，aa是從1至1〇之整 數’ R5〇o與Κ·6〇〇各可能相同或不同且獨立地各為 基；R2〇o是氫或C〗·6烧基’ R30〇與R40〇各可能相同或不同且 獨立地各為風或C 1 ·丨8烧基’該烧基是未經取代或經至少 一個選自齒烷基、C,·4烷氧基、羧基、胺基、羥基、芳基、 石黃酿基、烧氧羰基、胺基羰基組成之群的成員取代；且w 是從1至10之整數。 90902-990428.DOC -12· 1336423 12_如申叫專利範圍第1〇項之組合物，其中對於&)，&是氣， R2疋未經取代或經一或多個^^環烷基、Gy烷氧基、2,3_ 玉哀氧基丙基、羥基、氰基、Cm烷基或鹵素基取代之c6-2〇 芳基’ 1疋氫；R6a是氫；R3是氫；R4是-(CH2)n-C( 0)-0R7，其中r7是氫，n是〇 ; R5是氫；R6是χ ,其中 X是-C(=〇)-R10，而 Ri〇是 _〇_Rii_〇_c( = 〇) c(r…=CH2, Rl丨疋C2伸院基’ R12是氫；且e、t及Z各為0。 13. —種組合物，其包含 a)具有下式之可光聚合化合物 -C— I r2

R40 其中Rl與R2可能相同或不同且各可獨立地選自氫、 Cbso烧基、C6.2〇芳基、c6.2〇烷芳基、C6-2〇芳烷基、cN10 烧氧基、C^8環烷基、C2.2Q烯基、2,3_環氧基丙基、氰基 _ 及鹵素組成之群，該烷基、C6-2〇芳基、C6-20烷芳基、 C6·2。方烧基、Ci.1()院氧基、C3_is環烧基及C2_2〇稀基係未經 取代或經一或多個C3-〗2環烧基、氰基、Cw烧基' (216烧 氧基、〇6·2〇芳氧基、C6_2〇芳烧氧基、2,3-環氧基丙基、經 基或齒素基取代； · 係選自氫、C卜50烧基、C6_2〇芳基、C6-2〇统芳基、c6 2〇 务烧基、Cm環统基、Cm稀基、氰基、2,3-環氧基丙基 [S1 ^0902-9904^.000 -13 - 1336423 及函素組成之群，該Cl.威基、c㈣芳基' c6.2。燒芳基、 C：6-2。芳烷基、C3_1S環烷基及C2·2^烯基係未經取代或經一或 ”固C3-12環烷基、氰基、Ci 5烷基、Ci6烷氧基、C62。芳 氧基、C6·2。芳烧氧基、2,3_環氧基丙基、經基或齒素基取 代；

R4、Re與13可能相同或不同且各可獨立地選自氫、氰 土 Cl·50烷基、C6-20芳基、C6-20烷芳基、C6-2〇芳烷基、 C3-u%烷基、C22〇烯基、鹵素、各氧烷基化基中包含2至 4個碳原子之氧烷基化基，其中此基團可能具有1至2〇個 重複單位且末端為氫或^4烷基、x&_(CH2)n_c(=0)_0R7 組成之群，其中I係選自氫、Ci_5〇烷基、C6_2〇芳基、匕心 烷芳基、（：6-20芳烷基、c2-20烯基、c5-50碳環、NR7aR7b、 2,3·環氧基丙基，n是從〇至3之整數，該Ci5Q烷基、

芳土匸6.2〇燒^'基、C6_2〇芳烧基、c：3 — !8環烧基、c2.20烯基 及C5-5〇碳環係未經取代或經一或多個q〜環烷基、氰 基' c】-5烷基、Cl_6烷氧基、匕心芳氧基、C6 2〇芳烷氧基、 2,3-%氧基丙基、羥基或_素基取代，Rh與R7b獨立地各 為氬或Cl-20烷基，x是-C(=〇)-Rio 或-R60-C( = 〇)-CH2-R70， 其中 RI〇 係選自-O-Rn-O-Cpco-Cd+Cj^、_〇 R"_ nh-c(=〇)-c(r12)=ch2&-nh-r"-o-c(=o)-c(r12)=ch2 組 成之群’其中Rn是線性或分枝二價伸烷基或其各氧 院基化基包含2至4個碳原子之氧烷基化衍生物，此基團 可能具有1至20個重複單位；r6()是_C(=〇)_W_Ru_v_ ; w 與V係各獨立地選自〇、s*NRi〇〇,其中Ri〇〇是氫或Ci6烷 90902-990428.DOC $ -14- 1336423 基’ R!丨如上’心0是<(=〇)_尺5〇或_氰基，其中R5〇是氫或 C 1 _ 1 〇统基； Rl2是氫或CN5烷基； R5與RSa可能相同或不同且各可獨立地選自氫、Ci⑼烷 基、Cqo芳基、C6·2。。院芳基' C6·2。芳烷基、C318環烷基、 C2-20烯基、氰基、2,3·環氧基丙基、鹵素及羧基組成之群， 該Cwo烷基、C6 2()芳基、C6 2〇烷芳基、C6 2〇芳烷基、h 烯基及C：3·!2環烷基係未經取代或經一或多個Cm環烷 基、氰基、Cw烷基、c!-6烷氧基、c6-2〇芳氧基、c6_2〇芳® 烧氧基、2,3-環氧基丙基、經基或函素基取代；且 R40是任何可與[]j、[ ]k、[ ]e及/或[]t中的部份，包括 這些[]j、[ ]k、[ ]e及/或[]t所指部分共聚合之單體，而且 j、k、e、t及Z是各使j、k、e、t及Z之總和在約2至約20範 圍内之整數’其中j與k各等於或大於1，z、e及/或t可能為 0 ； b)至少一種乙烯系不飽和可光聚合聚氧化烯親水性單 · 體’其係選自二丙烯酸二乙二醇酯、二丙烯酸三乙二醇 酯、二甲基丙烯酸二乙二醇酯、二曱基丙烯酸三乙二醇 酯、二丙烯酸三丙二醇酯、二甲基丙烯酸三丙二醇酯、 . 二丙烯酸四乙二醇酯、二曱基丙烯酸四乙二醇酯、二丙 烯酸五乙二醇酯、二曱基丙烯酸五乙二醇酯、二丙烯酸 五丙二醇酯、二甲基丙烯酸五丙二醇酯、丙氧基化（3)三 羥曱基丙烷三丙烯酸酯 '丙氧基化（6)三羥曱基丙烷三丙 烯酸酯、乙氧基化（3)三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基[s] 90902-990428.DOC -15- 1336423 化(6)三羥曱基丙烷三丙烯酸酯、乙氡基化(9)三羥甲基丙 烷三丙烯酸酷、丙氧基化三羥曱基丙烷三丙烯酸酯、丙 氧基化三經甲基丙燒三甲基丙烯酸醋、乙氧基化⑺雙盼A 二曱基丙烯酸酯、乙氡基化（3)雙酚A二丙烯酸酯、乙氧基 化（4)雙酚A二甲基丙烯酸酯、乙氧基化（8)雙酚八二丙烯酸 酯、乙氧基化（4)雙酚A二丙烯酸酯、乙氧基化（6)雙酚A 二丙烯酸酯、乙氧基化（6)雙酚A二曱基丙烯酸酯、丙氧基 化（2)新戊二醇二丙烯酸酯、丙氧基化（3)縮水甘油三丙烯 酸酿、聚乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二曱基丙烯酸酯、 聚丙二酵二丙烯酸酯、聚丙二醇二曱基丙烯酸酯、2_(2_ 乙氧基乙氧基）乙基丙烯酸酯、乙氧基化（4)異戊四醇四丙 烯酸酯、高度丙氧基化（5_5)縮水甘油三丙烯酸酯、乙氧 基化縮水甘油三丙稀酸醋及丙氧基化（3 )縮水甘油三丙婦 酸酯組成之群； 0至少一種非離子界面活性劑，其係選自烷氧基化醇、淀 氧基化烧基紛或其混合物； d)至少一種光起始劑；及 至少一種經胺改質丙烯酸系寡聚物。 14.如申請專利範圍第】3項之組合物，其中該經胺改質丙歸 酸系寡聚物係選自 R30R ί? ^400 /N—Ri〇〇-~〇~C一C=CH2 片200 90902-99O428.DOC 】6 1336423 及

-c-c=ch2 R 200 其中 Rloo是 Cuo 烷基、_(E〇)aa·、_(p〇)aa_ 或 其中E〇是環氧乙烧，P〇是環氧丙烧，aa是從liL1〇之整 數，與r6〇〇各可能相同或不同並獨立地各為Ci i〇烧 基，R2❹〇疋氫或C"烷基，R3〇◦與尺4〇◦各可能相同或不同並 獨立地各為氫或C1 · i8烷基，該烧基是未經取代或經至少 一個選自IS烷基、Cl·4烷氧基、羧基、胺基、羥基、芳基、 〜醯基、炫氧幾基、胺基幾基組成之群的成員取代；且W 是從1至10之整數。 K如申請專利範圍第13項之組合物，其中對於a)，R〗是氫， h是未經取代或經一或多個C3心環烷基、Ci 6烷氧基、2,3_ 氧基丙基、經基、氰基、Ci-5燒基或鹵素基取代之C6_2〇 •芳基；R5a是氫；R“是氫；R3是氫；r4是 -(CH2)n-C(=0)-〇R7 ’ 其中 R7是氫，η是 0 ; R5是氫；RJX， '、中 X 疋-C(=O)-Ri0，而 R】0 是-〇-Rii-0-C(=0)-C(R12) CH ’ R"是C2伸烷基，Ru是氫；6與丨各不是〇，且z是〇。 申β專利範圍第13項之組合物，其中對於a)，Rl是氫及 90902-990428.DOC -17· 1336423 R2是未經取代或經一或多個（：3_12環烷基、Cw烷氧基、2,3_ 環氧基丙基、羥基、氰基、Cl_5烷基或鹵素基取代之c62q 芳基；R5a是氫；R6a是氫；r3是氫；尺4是_((^2)11_(：(=〇)_ 〇R7 ’其中R7是氫，η是0 ; R5是氫；116是又，其中乂是 -C(=0)-Ri〇，而 Rio是-〇-R"-〇-C(=〇)-C(R12)=CH2，Rn 是 C2伸烧基’ Ri2是氫；e、t及z各不是〇 ;且R4〇為 C一 1 一 C- I r4 Re u -*2 其中[]z中的R3及[]z中的R_5是氫，[]z中的r4是 _(CH2)n-C(=0)-0R7，其中r7是氫，η是〇 ; [ L中的尺6是 •(CH2)n-C(=0)-〇R7，其中r7是經Ci 6烧氧基取代之Ci.5〇 烧基，且η是0。 17. 如申請專利範圍第13項之組合物，其中對於甸，&是氫及 R2是未經取代或經一或多個(^ ^環烷基、Ci 6烷氧基、2,3_ 環氧基丙基、羥基、氰基、（:15烷基或函素基取代之c62〇 芳基，Rsa是氫；R0a是氫；R3是氫；r4是_(CH2)n· C(=0)-〇R7 ’其中r7是氫’ η是〇 ; r5是氫；尺6是又，其中 X疋-C(=〇)-R10，而 R1〇是 _〇-R"_〇_c(=〇)_c(Ri2) =Ch2， Rii疋C2伸坑基’ R丨2是氫；且e、t及z各為〇。 18. —種組合物，其包含 a)具有下式之可光聚合化合物 90902-990428.DOC -18· 1336423

其中Ri與R2可能相同或不同且各可獨立地選自氣、 ‘ Cuo烧基、C6.20芳基、C6-2〇烧芳基、c6.2〇芳烧基、c, 10 烧氧基、C；3·!8環烧基、C2.2〇烯基、2,3-環氧基丙基、氰基 及鹵素組成之群，該C〗-5〇烧基、C6_2〇芳基、c6_2〇烧芳基、 C6.2g芳炫基、Cuo炫氧基、環院基及C2_2G烯基係未經 ® 取代或經一或多個(：3·!2環烷基、氰基、Cm烷基、c, 6燒 氡基、C6_2〇芳氡基、〇6·2〇芳烧氧基、2,3-環氧基丙基、經 基或ifi素基取代； R3係選自氫、Cwo烷基、C6.2〇芳基、c6-2〇烷芳基、c6 2〇 务烧基、C3_ls環烧基、〇2·2〇烯基、氰基、2,3-環氧基丙基 及鹵素組成之群，該C^o烧基、C6_2〇芳基、c6.2()院芳基、 C6.2〇芳院基、C3.u環烷基及C2_2〇烯基係未經取代或經一或 多個Cm環烷基、氰基、Ci s烷基、Ci·6烷氧基、C6 ^芳 氧基、C6_2Q芳烷氧基、2,3_環氧基丙基、羥基或由素基取 代； · R4、尺6與可能相同或不同且各可獨立地選自氫、氰 · 基、烷基、C6.2〇芳基、C6 2〇烷芳基、芳烷基、 C3-Ui哀烷基、C2_2〇烯基、鹵素、各氧烷基化基中包含2至 4個碳原子之氧烷基化基，其中此基團可能具有1至汕個 重複單位且末端為氫或Ci-4烷基、X及-(CH2)n-C(=〇)_〇R7[s] 90902.990428.DOC •19- 1336423 組成之群，其中I係選自氫、Ci 5〇烷基、C6 2〇芳基、C6 2〇 烷芳基、C6-2〇芳烷基' C2-20烯基、c5-5〇碳環、NR7aR7b、 2,3·環氧基丙基，η是從〇至3之整數，該Ci 5Q烷基、C6 2〇 方基、〇6_2◦烷芳基、（^心芳烷基、C3丨8環烷基、c2心烯基 及Cs-w碳環係未經取代或經一或多個C3 12環烷基、氰 基、CN5烷基、Cm烷氧基、c62()芳氧基、c6心芳烷氧基、 2,3_%氧基丙基、羥基或函素基取代，R7a與尺八係獨立地 為氫或Cu。烷基，X是-c(=〇)·!^。或-r6()_c(=〇)_CH2_R7〇， 其中 Rio 係選自-〇-R"-0_C(=0)_c(Ri2)=CH2 、 -〇-Rn-NH-C(=〇)-C(R12) = CH2 及 _NH-Ru-〇_c(=〇)-C(Ru)=CH2组成之群，其中Rn是線性 或分枝二價C^o伸烷基或其各氧烧基化基包含2至4個碳 原子之氧烧基化衍生物，此基團可能具有1至2〇個重複單 位；R6G是-C(=〇)-W-Ru-V- ; W與V係各獨立地選自〇、8 或NR100，其中Rl〇〇是氫或Cl-6烷基；如上，r7〇是 -C(=0)_R50或-氰基’其中R5〇是氫或Cmo烷基； Rl2是氫或C!.5烧基； R5與RSa可能相同或不同且各可獨立地選自氫、Ci5〇烧 基、c6_20芳基、C6-20院芳基、C6_2〇芳烧基、〇3.18環烧基、 C2-2〇烯基、氰基、2,3-環氧基丙基、鹵素及羧基組成之群， 該匕⑴烧基、C6.2〇芳基、C6-2〇烷芳基、c6_20芳烷基、c2 2() 烯基及C3-丨2環烷基係未經取代或經一或多個c3丨2環燒 基、氰基、CN5烷基、Cw烷氧基、（：6·2〇芳氧基、C6-20芳 烧氧基、2，3 -環氧基丙基、經基或齒素基取代；且 -20- 90902-990428.DOC

1336423 r40是任何可與[]』、[]k、[ ]6及/或[]t中的部份，包括 . 這些[]j、[]k、[]e及/或[]t所指部分共聚合之單體，而且 j、k、e、t及z是各使j、k、e、t及z之總和在約2至約20範 圍内之整數，其中j與k各等於或大於i，z、e及/或t可能是 0 ； b)至少一種乙烯系不飽和可光聚合聚氧化烯親水性單 體’其係選自二丙烯酸二乙二醇酯、二丙烯酸三乙二醇 酯、二曱基丙烯酸二乙二醇酯、二甲基丙烯酸三乙二醇 酯、二丙烯酸三丙二醇酯、二甲基丙烯酸三丙二醇酯、着 二丙烯酸四乙二醇酯、二甲基丙烯酸四乙二醇酯、二丙 烯酸五乙二醇酯、二曱基丙烯酸五乙二醇酯、二丙烯酸 五丙二醇酯、二曱基丙烯酸五丙二醇酯、丙氧基化（3)三 羥甲基丙烷三丙烯酸酯、丙氧基化（6)三羥甲基丙烷三丙 烯酸酯、乙氧基化（3)三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基 化（6)三羥曱基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化（9)三羥甲基丙 燒三丙烯酸酯、丙氧基化三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、丙 | 氧基化三羥曱基丙烷三曱基丙烯酸酯、乙氧基化（2)雙酚a 二甲基丙烯酸酯、乙氧基化（3)雙酚A二丙烯酸酯、乙氧基 化（4)雙酚A二甲基丙烯酸酯、乙氧基化（8)雙酚a二丙烯酸 酯、乙氧基化（4)雙酌·Α二丙稀酸酯、乙氧基化（6)雙紛a 二丙烯酸酯、乙氧基化（6)雙酚A二曱基丙烯酸酯、丙氧基 化（2)新戊二醇二丙烯酸酯 '丙氧基化縮水甘油三丙烯 酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、 聚丙二醇二丙烯酸酯、聚丙二醇二甲基丙烯酸酯、2_(2_ [忘] 9O902-990428.DOC •21- 1336423 乙氧基乙氧基）乙基丙烯酸酯、乙氡基化（4)異戊四醇四丙 烯酸酯 '高度丙氧基化（5.5)縮水甘油三丙烯酸酯、乙氧 基化縮水甘油三丙烤酸醋及丙乳基化（3)縮水甘油三丙缚 酸醋； 0至少一種非離子界面活性劑，其係選自烷氧基化醇、炫 氧基化烧基盼或其混合物； d) 至少一種光起始劑；及

e) 至少一種經胺改質丙烯酸系募聚物係選自 R3〇H 〇 —Ri〇〇—〇—C— C=CH2 〜00 R2〇〇 及 / II N N — G一 C=CH2) R200

其中 Rl00是 Cl-ίο烷基、-(EO)aa-、-(PO)aa-或

其中EO是環氧乙烷，p〇是環氧丙烷，aa是從〗至之整 /、R6〇0各可能相同或不同並獨立地各為C】1〇院 200疋氫或Cl-6烧基，R3〇〇與R·4〇〇各可能相同或不同並 獨立地各為氫或ci·!8烷基，該烷基是未經取代或經選自 90902-990428.DOC -22- 1336423 鹵烷基、Cm烷氧基、羧基、胺基、羥基、芳基、磺醯基、 院氧幾基、胺基幾基組成之群中至少一員取代；且w是從 1至10之整數。 19.如申清專利範圍苐18項之組合物，其中對於a)，r〗是氫， R2是未經取代或經一或多個（：3-12環烷基、Cw烷氧基、2,3-環氧基丙基、羥基、氰基、（:〖_5烷基或鹵素基取代之c62〇 芳基；R5a是氫；R6a是氫；r3是氫；r4是_(CH2)n_ C(=0)-〇R7，其中r7是氫，^是〇 ; r5是氫；尺6是X，其中 X是-C(=〇)-R10，其中 r1〇是 _〇_Rii_〇_c(=〇)_ c(Ri2)=ch， 而R丨丨疋C2伸烧基，r12是氫；e與t各不是〇，且z是〇。 2〇·如申凊專利範圍第18項之組合物，其中對於a)，R!是氫及 尺2是未經取代或經一或多個c3 ipt烷基、Ci 6烷氧基、2,3· 環氧基丙基、羥基、氰基、Ci 5烷基或鹵素基取代之C6 2〇 芳基，R5a是氫；R6a是氫；R3是氫；r4是_(CH2)nC(=〇)_ 〇尺7,其中R7是氫，11是〇; &是氫；以是乂，其中乂是 -C(-O)-R10 , inRi〇^:-0-R11.〇.c(=〇).c(R,2)=CH2 > R,,^： C2伸烷基，R12是氫；e、t&z各不是〇 ;且尺4〇是 --C-C— FU R6 其中[]Z中的R3及[]z中Rs是氫’ []z中的R4是 -(CH2)n_C(=〇)-〇R7，其中 R7是氫，n*〇 ; [ ]z 中 的R6是 _(CH2)n-C(=〇)-〇R7，其中R7是經^ 6烷氧基取代之a 5〇 90902-990428.DOC •23 · 1336423 院基’且η是0。 21. 如申請專利範圍第18項之組合物，其中對於a)，R,是氫及 R2是未經取代或經一或多個C3_12環烷基、Cl_6烷氧基、2,3_ 環氧基丙基、羥基、氰基、CN5烷基或鹵素基取代之C6.2〇 芳基；Rsa是氫；R0a是氫；R3是氫；R4是_(CH2)n-C(=0)-〇R7 ’其中R7是氫’ η是0 ; R5是氫；尺6是乂，其中 X 是-C(=O)_R10 ’其中 r1〇 是-〇_Rii_〇_c(=〇)_c(r】2) -CH2’而R丨丨是C2伸院基，R丨2是氫；且e、t及z各為〇。 22. —種形成圖案於基板上之方法，其包括： 1)提供一基板一層之組合物，其包含； a)具有下式之可光聚合化合物：

R40

其中h是氫及R2是未經取代或經—或多個C312環烧 基、Ci_6烧氧基、2,3-環氧基丙基、經基、氮芙、〇 燒基或函素基取代之C6.2〇芳基；RSa是氫；是氫 R3 是氫；m(CH2)n-C(=〇)-〇R7，其中 R7是氫 a，η是 〇 而Rio是 R5是氫；R6是X，其中X是-COcOAm C2伸烷基，R12 、1及z之總和在 等於或大於1， -0-R"-0-C(=0)-C(Ri2)= CH2，Rn 是 是氫；j、k、e、t及Z是各可使j、k、e 約2至約20範圍内之整數，其中〗與让各 且e、t及z各為0 ; 90902-990428.DOC • 24· 1336423 b) 至少一種乙烯系不飽和可光聚合聚氧化烯親水性單 體； c) 至少一種非離子界面活性劑；及 d) 至少—種光起始劑； 2) 令該阻劑組合物層在輕射下進行影像曝光. 3) 令阻劑顯影以形成所需通道圖案；像曝光， 4) 將導電材料沈積在通道中以士 及 〃戍所需電路互連圖案； 5) 除去阻劑。 23. 如申請專利範圍第22項之方法， 少_ 4# rn. Βώ «ή- 、中該組合物另包含5 ν 種經胺改質丙烯酸系寡聚物。 I左至 90902-990428.DOC

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