TWI314924B - Method for producing ethylene and propylene - Google Patents

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TWI314924B
TWI314924B TW095134254A TW95134254A TWI314924B TW I314924 B TWI314924 B TW I314924B TW 095134254 A TW095134254 A TW 095134254A TW 95134254 A TW95134254 A TW 95134254A TW I314924 B TWI314924 B TW I314924B
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Yoshikazu Takamatsu
Kouji Nomura
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Asahi Kasei Chemicals Corp
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1314924 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 * 本發明係關於一種藉由接觸轉化而自烴原料製造乙烯以 ; 及丙烯之方法。更具體而言,本發明係關於一種乙烯及丙 * 稀之製造方法,其係藉由接觸轉化而自烴原料製造乙稀以 及丙烯之方法,該方法使含有20質量%以上至少】種碳數 為4〜12之稀烴之烴原料’於反應器内與含彿石成型體觸媒 • 相接觸,進行該至少1種碳數為4〜12之烯烴之接觸轉化反 應’藉此製造乙烯以及丙烯。 【先前技術】 關於使用含有沸石之觸媒,使含有烯烴類之烴原料接觸 轉化的方法’已知有多種方法’關於使用含有沸石之觸 媒’使含有烯烴類之烴原料接觸轉化,製造乙烯以及丙烯 的方法,有多個報告。 然而,因如下理由而難以使用含有沸石之觸媒,使含有 鲁 @烴類之烴料接觸轉化,高效且長時㈣定地製造 以及丙烯。 乙蝉以及丙稀係於彿石觸媒存在之條件下向婦煙類芳香 族烴轉化反應之中間體,藉由逐次反應轉化為芳香族烴。 因此’於使用合有_石之觸媒,使含烯烴類之烴原料接觸 轉化,製造乙婦以及㈣之情形時,為高收率 物,須嚴格控制觸婵$、、壬& + G Λ 的 啁某之活性或反應條件。即,若觸媒之活 性過高,或者接觸陆Μe ' 觸時間過長,則生成之乙烯及㈣ 次反應而轉化為芸惫> M ^ ”、方香私烴。相反,若觸媒之活性過 114694.doc 1314924 接觸時間過短,則導致乙烯以及丙烯之收率降低。 另一方面,因烯烴反應性較高,故而若使用含有沸石之 觸媒,使含有烯烴類之烴原料進行接觸轉化反應,則易於 觸媒表面產生碳質析出(填隙)。因此,連續進行轉化反應 時,因填隙而使觸媒劣化(填隙劣化),觸媒活性迅速^ 降。 #因填隙劣化而觸媒活性下降之觸媒,一般而言,可於含
氧氣體之存在下進行加熱’燃燒除去填隙料,使觸媒活性 恢復。 …、、而’若反覆進行該再生操作,則導致觸媒活性無法充 刀^復纟原因在於,上述再生操作中,因填隙料之燃燒 而產生水蒸氣,於該水蒸氣之存在下加熱沸石日寺,因作為 沸石活性點之鋁自沸石钻曰 、,-口日日脫離,而引起觸媒之永久性劣 化,(再生劣化)。 如上所述,使用含沸石之觸 興螺’進仃含有烯烴類之烴4 料之接觸轉化反應時,特別容易引起填隙,因此,由於多 要頻繁進行該再生操作’故而非常容易產生再生劣化。> 於專利文獻1中,揭示有蚀 有使用質子型ZSM-5沸石,將石) 數為.5以上之烷烴、烯烴 1 ^ ^及/或環烷烴(環烷)轉化為芳考 族煙、乙烯以及丙烯的方、本 一 / ‘、、'而於該方法中,雖可以举 尚收率獲得芳香族烴,但 果 -乙稀Μ及丙烯之收率較低。 於專利文獻2中’揭示右蚀 .有使用質子型ZSM-5沸石,將赛 數為2〜4之烯烴、烷烴轉化 古沐缺^ 化為方香族烴、乙烯以及丙烯以 方法。然而於該方法中间样 樣可以較高收率獲得芳香族烴, 114694.doc 1314924 但乙)fcip以及丙稀之收率較低。 於專利文獻3以及4中,揭示有使用鋁磷酸鹽系分子篩, 將丁烯轉化為乙烯以及丙烯的方法。但於該方法中同樣乙 埽以及丙稀之收率較低。 於專利文獻5中揭示有使含有具有特定組成之碳數為斗以 上之烷烴與烯烴的混合物之烴原料接觸質子型沸 石,精此製造乙稀以及丙缚之方法。但於該方法中,因轉 化率較低,故而須大量地再循環未反應原料。 ,於專利文獻6中,㈣有❹含有磷之特定質子型ZSM5 沸石’將碳數為3〜2〇之烴轉化為乙稀以及丙烯的方法。但 於該方法中,關於將稀烴作為原料之情形時,只評價原料 供給1分鐘後之初期性能。 ’、’
作為以上方法共通之胜AW η /、逋之特徵’可列舉使用質子型沸石。質 4* /弗石之情形時,一般因 m*口酸強度較強’故而乙烯與丙烯 令易逐次轉化為芳香族拘 座… 難以提高乙烯以及丙烯之收 率此外,使用含有烯烴之炉眉# ^ 或再生劣化。 原科時’谷易引起填隙劣化 於專利文獻7中,揭示有盥 π ^先則3有質子之沸石觸媒不 同的不含有質子之濟石觸 ㈣不 ,bAr 媒、以及使用該觸媒將烴原料轉 化為乙婦以及丙烯與單環芳香族烴的方法。 ㈣ 該方法中使用之觸媒於不易引起 效,但無法解決填隙劣 4化方面較為有 'M Jf U B# ^ » 2| 碭因此,使用含較多烯烴之 工原科時,容易引起填隙劣化。 之 於專利文獻8中,揭示 不有使用含有二氧化石夕氧化!呂莫耳 H4694.doc 1314924 比為200〜5000之IB族金屬的非質子型中等細孔徑沸石,將 碳數為4〜12之烯烴轉化為乙烯以及丙烯的方法。 [專利文獻1 ]曰本專利特開昭49_4〗322號公報 [專利文獻2]日本專利特開昭5〇_49233號公報 [專利文獻3]美國專利第4,527,〇〇1號公報 [專利文獻4]美國專利第4,613,721號公報 [專利文獻5]曰本專利特開平3_27327號公報 [專利文獻6]曰本專利特開平6_73382號公報 [專利文獻7]國際公開第1996/〇1333丨號手冊 [專利文獻8]國際公開第2〇〇〇/〇1〇948號手冊 [發明所欲解決之問題] 本發明係一種藉由接觸轉化而自烴原料製造乙烯以及丙 烯之方法,更具體而言,係關於一種乙稀及丙稀之製造方 法,其係藉由接觸轉化而自烴原料製造乙烯以及丙烯之方 法該方法使含,有2〇質量°/。以上至少1種碳數為4〜12之烯 k的:^原料’於反應器内與含沸石成型體觸媒相接觸,進 行及至)1種奴數為4〜12之烯烴的接觸轉化反應,藉此製 造乙稀以及丙稀。 先則所提出之技術中,首先,於使用質子型彿石作為 觸媒之情形時,該觸媒因—般酸強度較強,故而乙稀血丙 烯容易逐次轉化為芳香族烴,難以提高乙烯以及丙婦之收 率此外’使用含有缚烴之烴原料時,存在容易引起填隙 劣化或再生劣化之問題。 , 近年來,作為所提出之使用非質子型沸石之例,可列舉 114694.doc 1314924 專利文獻8。於該專利文獻8之實施例中,以二氧化矽氧化 紹莫耳比(Si(VAl2〇3莫耳比)為300之沸石為肀心進行報 告’亦揭示有以二氧化矽氧化鋁莫耳比3,〇〇〇之實施例。 然而,使用二氧化矽氧化鋁莫耳比為3〇〇之成型體觸媒之 實施例中,僅揭示有直至24小時之反應結果。又,二氧化 矽氧化鋁莫耳比為3000之實施例僅為將沸石粉末壓縮成型 而使用之例’並未揭示可4性實施之進行成型體觸媒化 之例。又,關於使用之烴原料中二烯烴類之濃度對填隙劣 化的影響無任何涉及。 根據本發明者等人之研究,使用專利文獻8所揭示之沸 石觸媒,即,使用⑴具有5〜6 5人細孔徑之中等細孔徑沸 石,(2)實質上不含有質子,(3)含有選自由屬於週期表第 IB族之金屬所組成之群中之至少旧金屬的沸石觸媒之情 形時’亦存在如下問題:該二氧切氧魅莫耳比較低二 沸石,於工業性實施時對於填隙劣化之耐性仍不充分,須 頻繁再生,或者原料烴中所含有之二烯烴化合物濃度變高、 時,劣化更加顯著。為除去原料中之二婦煙類,須進行蒸 顧分離、部分氫化等原料前處理純化,故而 : 之情形時非常不利。 性實把 力一万面 一軋化矽氣化鋁莫耳比較高之情形時, 如下問題:利用成型體觸媒 躅琛之離子父換的銀載持變得非堂 困難,為獲得工聿上充分之、、壬w 于非常 負荷變大。 /郑甲之 【發明内容】 H4694.doc
•10- 1314924 於如下情況下,本發明者等人為解決上述問 覆研究之結果發現,將用於沸石成型體觸媒 〜 比設定於拉堂β !¥! ^ ^ is 棋::可同時抑制於使用含缔石成型體觸 媒,將3稀煙之烴原料轉化為乙稀以及丙婦之方 問題的觸媒之填隙劣化以及再生劣化成為 Φ入古-.硌卜4 夏接从於原料烴 y 1之狀態供給於反應中,而不對觸媒製備施
2大“,結果可以簡便之方法’長時間穩^且高效地 製k乙烯以及丙烯,直至完成本發明。 即,本發明係—種如下述所揭示之藉由接觸轉化而自煙 原料製造乙烯以及丙烯之方法。 田[1]一種乙烯及丙烯之製造方法,其特徵為,使含有質 以上至少1種碳數為4〜12之烯烴的烴原料,於反廡器 内與含沸石成型體觸媒相接觸,進行該至少丨種碳數為 4〜12之烯烴之接觸轉化反應,藉此製造乙烯以及丙烯,該 3沸石成型體觸媒中之沸石滿足下述必要條件(1 )、、 (3)以及(4), (1) 該沸石為具有5〜6 · 5 Α細孔徑之中等細孔徑沸石, (2) 該沸石實質上不含有質子, (3) 該沸石含有選自由屬於週期表第IB族之金屬所組成之 群中至少1種金屬, (4) 該沸石之二氧化矽氧化鋁莫耳比(Si〇2/A】2〇3莫耳比) 為800以上2,〇〇〇以下。 [2j如上述之乙烯及丙烯之製造方法,其中,該烴原 料相對於該烴原料之重量,含有、5〇質量%以上之該至少^ 114694.doc
(S -II · 1314924 種碳數為4〜12之烯烴。 _ P]如上述⑴或⑺之乙烯及丙婦之製造方法,其中,該 烃原料相對於該烴原料之重量,含有2.5質量%以下的至少 1種碳數為3〜12之二烯烴化合物類。 [4] 如上述[1]~[3]中任—項之乙烯及丙稀之製造方法,其 中,該含沸石成型體觸媒中之沸石載持銀與鹼金屬,且實 質上不含有質子。 [5] 如上述[1]〜μ]中任—項之乙烯及丙稀之製造方法,其 中’該含沸石成型體觸媒中之沸石選自ZSM_5型沸石所組 成之群。 [6] 如上述[1]〜[5]中任一項之乙烯及丙烯之製造方法,其 中,該含沸石成型體觸媒,與該烴原料接觸之前,於水蒸 氣之存在下,於500。(:以上之溫度進行加熱處理。 [7] 如上述[1]〜[6]中任一項之乙烯及丙烯之製造方法,其 中,該反應器為隔熱型固定床反應器。 [8] 如上述[1]〜[7]中任一項之乙烯及丙烯之製造方法,其 中,該接觸轉化反應之反應條件為反應溫度: 500〜5 80 C、烴原料之分壓:〇·〇5〜〇.3 MPa、重量時間空間 速度:2〜10 hr·1。 [發明之效果] 藉由本發明之含沸石成型體觸媒、製造方法,可自烯烴 系煙原料南效穩疋地製造乙稀及丙稀。本發明之方法中所 使用之含沸石成型體觸媒,因對劣化之耐性極高,故而可 以簡便之方法長時間高收率且穩定地製造。又,即使於原 H4694.doc -12- 1314924 料烴混合物中含有二婦烴化合物類,若於η質量⑽内, 亦可直接供給於反應中。不會於觸媒製備步驟中施加較大 負荷。該等特徵於工業上實施本發明方面極為有利。 【實施方式】 以下’對本發明進行詳細說明。 本發明之方法中’使用含有20質量%以上 數為4〜12之稀煙的煙原料作為製造乙稀以及丙稀之原料。 ==方法中,所謂「烴原料」係表示,主要含有 選自由碳數為!〜12之烴,例如碳數為 烴、烯烴、環烷柄彳提々、n 沉^異烷 ^ 工(裒、及具有側鏈烷基之環烷烴所組 成之群中至少1種的原料。 重::二法中,上述烴原料含有相對於上述烴原料之 二=以上之至少一種碳數為4〜12烯烴。 狀、乍為本發明方法之構成條件之「稀煙」,除直鍵 稀煙之含量不足環 不充分,故而於本發明:方法Γ 以及丙烯之收量 °/0以上、較好的β 1 _,上述烴原料含有20質量 上、最2 質量%以上、更好的是4。質量%以 又上述烴原料亦種碳數為4〜12稀烴。 甲醇等含氧化合物作為雜質。二丁基第三丁鍵、 於本發明之方法中令 質量〇/。之丙二烯、丁 _可使用於烴原料中含有至多2·5 類,甲基乙炊望丁 —烯、戊二烯等二烯烴(二烯)化合物 、乙炔化合物類者。可知該等二烯烴化合物 114694.doc (£ -13· 1314924 類§有聚合性,成為填隙劣化之原因。通常,當然較好的 是二烯化合物類藉由蒸餾分離、部分氫化等處理儘量減 少,但是不得不說相關之前處理於工業性實施之情形時非 常不利。然而,令人驚奇的是,於使用本發明之含沸石成 型體觸媒之情形時,如上所述,即使為含有二烯烴化合物 類之:^原料,若其濃度為2.5質量%以下,則亦可無須前處 理而直接作為原料使用。 作為可於本發明之方法中使用之烴原料之例,可列舉如 下者。 (1) 自使石腦油等石油系烴熱分解所得之生成物分離之 C4餾分及C5餾分、以及將該C4餾分及。餾分中之二烯烴 部分氫化為烯烴的餾分, (2) 自上述C4餾分分離除去一部分或全部丁二烯以及異 丁烯之餾分, (3) 自上述C5餾分分離除去一部分或全部異戊二烯以及 私戊—稀之顧分, (')自將減壓輕油等石油系煙流動接觸分解(FCc)而獲得 之生成物分離之C4餾分以及汽油餾分,以及 (5)自煉焦器分離之C4餾分以及汽油餾分。 又,該等既可單獨使用,亦可將2種以上混合使用。 於本發明之方法中,使如上所述之烴原料於反應器内與 特定之含沸石成型體觸媒相接觸,進行上述烴原料中所含 有之至少1種碳數為4〜12烯烴之接觸轉化反應,藉此獲得 含有乙烯以及丙烯之反應混合物,自所得之反應混合物分 114694.doc 1314924 離乙烯以及丙烯。 「於本發明之方法中,使用具有5〜6·5 A之細孔徑之所謂 中等細孔徑滞石」作為上述含冻石成型體觸媒中之滞石、 「中等細孔徑沸石」表#「細孔徑之範H於以A型彿石 為代表之小細孔徑沸石的細孔徑與以絲光沸石或者X型或 γ型沸石為代表之大細孔徑沸石的細孔徑之中間的沸石」, 於其結晶構造中為具有所謂氧10員環之沸石。 作為中等細孔徑沸石之例,可列舉ZSM-5、ZSM-8、 ZSM-11 . ZSM-12 ^ ZSM-21 > ZSM-23 ^ ZSM-35 ^ ZSM-38 等’其中較好的是ZSM-5、ZSM-11、ZSM-8等ZSM-5型沸 石或 ZSM-38。 又,亦可使用 P. A. Jacobs and J. A. Martens著,,Stud. Surf. Sci.
Catal·” 33,Ρ.167·215 (1987,荷蘭)中揭示之類似 zsm_5、 ZSM-11之彿石。 該等之中特別好的是ZSM-5。 作為本發明之方法中之含沸石成型體觸媒之沸石可使用 實質上不含有質子之沸石。 本發明之方法中之「實質上不含有質子」係表示,藉由 下述液相離子交換/濾液滴定法所求得之上述沸石中之質 子量(酸量)為每丨克上述沸石0.02毫莫耳以下❶較好的是, 每1克上述沸石之質子量為0.01毫莫耳以下之沸石。 液相離子父換/滤液滴疋法為Intrazeolite Chemistry, 「ACSSymp.Ser.」,218,P369_382(1983,美國),日本化 學會志,[3],P.52卜527 (1989)等中揭示之方法。 15 114694.doc 1314924 使用該方法之本發明中之質子 、 氣中煅燒之含沸石忐剂祕 “ 下進行。將於空 〜之3 “成型體觸媒使用NaCi水 換處理後,藉由㈣心收心, =離子交 之沸石以純水洗淨,全量回收所得之洗液;= 回收 算為每單位含濟石成型體觸媒中所含之量,將換 濟石之質子量。 ^所3之/弗石重量的值作為 再者,已知銨離子型以及多價金屬 ^頂盒屬陽離子型沸石(例如 稀土類金屬陽離子型彿石)藉由加熱處理而生成質子。 因此’於利用上述方法測定質子量之前,須锻燒處理含 沸石成型體觸媒。 作為本發明之方法中之含沸石&型體觸媒之滞石,使用 含有選自由屬於週期表第汨族之金屬(以下稱為「ib族金 屬」),即,銅、銀、金所組成之群中至少〗種金屬者。作 為較好之IB族金屬,可列舉銅、銀,更好的是銀。 再者’本發明中,「週期表」係指CRC Handbook of
Chemistry and Physics,75th edition [(David R. Lide等著, CRC Press Inc.發行(1994-1995年)],1-15頁所揭示之週期 表0 上述「含有IB族金屬」係表示以所對應之陽離子之狀態 含有IB族金屬。其中,IB族金屬除於上述沸石中以陽離子 之狀態含有者以外,進而亦可以陽離子以外之狀態含有, 例如,可以氧化物之狀態含有。 作為使沸石中含有IB族金屬之方法之例,可利用將不含 114694.doc -16- 1314924 有IB族金屬之彿石藉由眾所周知之離子交換法進行處理的 方法使之含有。藉由離子交換法使沸石中含有把族金屬之 . 清^ %,須使用1B族金屬之鹽。作為IB族金屬之鹽,例 ,如’可列舉硝酸銀、乙酸銀、硫酸銀、氯化銅、硫酸鋼、 ' 硝酸鋼、氣化金等。 作為IB族金屬陽離子,含沸石成型體觸媒中所含有之把 族金屬量並無嚴格限制,因本發明中所使用之彿石之二氧 • 切氧化銘莫耳比為_〜2,_ ’且’係使之離子交換載 :者’故而自交換容量、含沸石成型體觸媒中之滞石含 置’自然決定IB族金屬之含量。因此,以相對於沸石之交 換點之m族金屬陽離子之交換率表示時,若交換率較低則 活性不充分,若提高交換率則離子交換製備步驟之負荷變 大,故而通常為5%〜80%之範圍,較好的是25%〜⑽之範 圍’更好的是3〇〜7〇%之範圍。 再者’滞石中職金屬之含量’可藉由眾所周知之方 馨法,例如藉由X射線螢光分析法等求出。 本發明之方法中之含沸石成型體觸媒之沸石,如上所述 為實質上不含有質子之沸石,故而⑽族金屬陽離子交換 所殘留之離子交換點,以自驗金屬以及驗土類金屬選擇之 ·. 2少1種金屬之陽離子進行離子交換。較好的是以自鹼金 Μ擇之1種金㈣離子進行交換,更好的是以選自由納 以及鉀所組成之群中至少1#金屬陽離子進行離子交換。 即,本發明之方法中之含沸石成型體觸媒之沸石係含有 自驗金屬以及鹼土類金屬選擇之至少!種金屬㈣族金属 114694.doc 17 1314924 兩者之沸石。 作為m中切自驗金^及驗土類金w 屬之方法,可列舉以對應之" 交換載持之方法。 于的狀態使之離子 自鹼金屬以及鹼土類金屬 據金屬之種類而不同 種金屬之含量根 故而自交換容量、含沸:=:由離子交換使之栽持者, 金屬之離子交換載持量自然決定。巾之,弗石…軸 =備本發明之含沸石成型體觸媒之情形時,使沸石中人 有自驗金屬以及驗土類金屬選擇之各 ::π::金屬之方法的順序或次數並無 上—不含:上所述’須使含有金屬後之彿石實質 例如’作為本發明合 陽離…, 成型體觸媒,製備為銀/鈉 =子:換型之情形時’若”石成型體觸媒中存在驗性 型:將=分銀無法作為銀陽離子而載持,故而須於成 弗石轉換為質子型。因此,較好的是首先將作為質 石成型之含彿石成型體觸媒交換為鋼型(較好的是 2確酸納水溶液),成為納型(非f子型)後,導人銀陽離 子(較好的是硝酸銀水溶液)之方法。 本發明之方法中含沸石成型體觸媒之彿石之二氧化石夕氧 化鋁莫耳比(si02/A1203莫耳比)必須為_以上。以 下。 若二氧化石夕氧化銘莫耳比低於800,則由於伴隨轉化反 Π 4694.doc -18- 1314924 應之填隙,而含沸石成型體觸媒之劣化加速,例如,因以 固定床2塔擺動(swing)方式實施本發明之 變快’故而再生頻率亦增力”因此,亦加速再生 仃。又,於原料烴中含有二稀烴化合物類之情形時,填隙 錢變得更為顯著,切換頻率變得更快,已對穩定的運轉 之持續帶來阻礙。為避免上述問題,須預先處理原料 -婦煙化合物類,於工隸實施之情形不利。 另-方面’若二氧化矽氧化鋁莫耳比超過2,_ 媒製備上之問題較大。為維持高石夕紹比含缔石成型體觸媒 之觸媒活性’而製備為等量之銀含量,為此 、 離子交換率。然而,藉由離子交換將本發明之含:石= 體觸媒製備為非質子、IB屬金屬交換 = 率變高,而交㈣率惡b ^者離子父換 避免該問題須提高交換液中之金屬濃度 :夕氧化㈣耳比超過2,_之情形時,難以同時進 鹼金屬之離子交換、利用出族金屬之 業性實施本發明之情形時,觸媒製備需要長時 又’存在需要過剩之化學藥品量’隨之產 之問題,非常不利。 ㈣里過多 本發明之含沸石成型體觸媒中含有之滞石 化紹莫耳比較好的是_以上、1,議 ㈣石夕氣 以上、M00以下。 了 ’更好的是 沸石之二氧切氧化紹莫耳比,藉^所周知之 例如將沸石完全溶解於驗性水溶液、或者_水溶液中,’ 114694.doc •19· 1314924 藉由電漿發光分光分析法等分析所得之溶液而求出。 作為本發明之方法中之含濟石成型體觸媒之沸石,亦可 使用構成沸石骨架之鋁原子之一部分以以、以、B、。等 元素取代之金屬錄石夕酸鹽,或構成滞石骨架之銘原子全部 以上述元素取代之金屬矽酸鹽。 於此情形,將金屬鋁矽酸鹽或金屬矽酸鹽中之上述元素 之含量換算為氧化銘之莫耳數,算出二氧化石夕氧化耳 比。 ' ^ 本發明之方法中之含沸石成型體觸媒,期望以抑制填隙 劣化或提高乙烯以及丙烯之收率為目的,亦可進而使上述 含彿石觸媒中含有選自由V、Cr、M。、w、Mn、pt、pd\ Fe^Ni^Zn^Ga#^^IIb.In. Vb; VIb;vnb 之金屬所組成之群中至少1種金屬而使用e 、本發明之方法中之含沸石成型體觸媒以進一步提高對填 隙劣化之对性為目的’與該烴原料相接觸之前,如上述於 水蒸氣存在下’於5〇(rc以上之溫度加熱處理含沸石成型 體觸媒。加熱處理較好的是於5〇〇β(:以上、9⑻。◦以下之㈤ 度,水蒸氣分壓0.01氣壓以上之條件下進行。 酿 本發明之方法中之含沸石成型體觸媒存在若長時間用於 轉化反應則引起填隙劣化之情形’但於此情形時,通常可 藉由於空氣中或含有氧氣與惰性氣體之混合氣體中,於 .。(:之溫度燃燒除去觸媒上之填隙料,而使引起填 隙劣化之觸媒再生(以下將該處理稱為「再生處理」)。 本發明之方法中之含沸石成型體觸媒,通常將氧化鋁、 114694.doc -20· 1314924 乳化矽/氧化鋁、乳化鉛、二氧化 土、黏土等多孔性耐火性無機氧化物作為黏合劑或者:型、 用稀釋劑(基質)混合於上述沸石中,使所得之:= 型,使用所得之成形體作為含濟石成型體觸媒。 使用基質或者黏合劑之㈣時,該等之含量, 石與基質或黏合劑之重i 、; ’弗 〇/ W董置之合计,較好的是10〜9〇質| /〇,更好的是20〜50質量%之範圍。 、 於本發明之方法巾,腺1 L A ^ Λ ^ 上之3沸石成型體觸媒填充於 =應%内,進行至少!種碳數為4〜12之稀烴之接 反 應广數為化之埽烴之接觸轉化反應,較好 ;中之碳數為4〜12之埽煙以高選擇率轉化為乙婦以= 之條件進行。反Λ产^質不反應,且以如下所示 綱〜贼。煙Hr的是400〜峨’更好的是 MP心越低越好,s常為〇·〇ι〜1 ’較料KG5〜G·3咖。更料η目料含彿 型體觸媒之重量的烴原料 W00W,較好的是2”1〇h-重量時間空間速度黯…為 r之範圍。烴原料與含沸石觸 接觸時間較好的是5秒以下,更好的是丨秒以下。 又’上述煙原料可為與稀 體可使用氫氣、甲烧、水蒸秦1之混5物。作為稀釋氣 的是進行氫氣稀釋。即,氨氣氣4惰性氣體等’較好 但同時具有引μ成㈣等m抑反Γ媒之填隙劣化, 煸 寺虱化反應,使丙烯純度(丙 2丙W㈣))降低之不良影響。於本發明之方法中, 不進订氫乳之稀釋’亦可減少觸媒之填隙劣化,可穩 】14694.doc 1314924 定運轉’故而較好的是不進行氫稀釋。 若於上述烷烴實質上不反應之條件下進行轉化反應,則 選擇性促進烴原料中烯烴之轉化反應、抑制烷烴之轉化反 應之結果,可抑制烷烴之轉化反應所導致之曱烷、乙烷、 丙燒等之副生’容易自反應混合物分離/純化乙烯以及丙 稀。 本發明之方法中’用以使烴原料與含沸石成型體觸媒相 接觸之反應器亦可使用固定床式、移動床式、流動床式或 者氣流運送式之任一反應器。 本發明之方法中所使用之含沸石成型體觸媒因不易產生 填隙導致之劣化,故而即使使用固定床反應器,亦可長時 間穩定地製造乙烯以及丙烯。 又,烷烴之轉化反應為較大之吸熱反應,烯烴之轉化反 應根據反應條件而不同,為微吸熱反應或發熱反應。因 此,於上述烷烴實質上不反應之條件下,使烴原料中之烯 烴選擇性地反應之情形時,無需供給反應熱,因此亦可使 用結構簡單的1段隔熱式固定床反應器。 [實施例] 以下,根據實施例以及比較例,對本發明更具體地進行 說明’本發明並因該等之例而受任何限定。 再者,於實施例以及比較例中進行之測定方法如下所 述。 (1)利用液相離子交換/濾液滴定法之質子量之測定 研缽中進行研磨,使2.5 g於空氣中以4〇〇〜6〇(rc之溫度 114694.doc -22- 1314924 坂燒之含沸石成型體觸媒,於25 溶液中於冰浴冷卻條件、m 3·4莫耳/升之NaC1水 之混合物彳h5G ^料f換。過滤所得 洗淨之水的―。心有用於 液(含有用於洗淨之水“ H水溶液巾和滴定該滤 自中和點求取質子量,自入*、我z; 成型體觸媒中之滞石含 1自3 /弗石 ⑺沸石之仙比之敎八換以沸石重量標準。 將〇.2 g沸石添加5 <;π g N之NaOH水溶液中。將直轉移 商標)製造之内管的如―^ ? ,饴閉微型高壓罐。於油浴中保持15〜70小時, 藉此使沸石元全溶解。將所得之沸石之溶液以離子交換水 進订轉釋’以電毁發光分光分析儀(ICp裝置)測定稀釋液 中之石夕、紹/辰度’自其結果計算沸石之二氧化石夕氧化紹莫 耳比。 、 ICP裝置以及,測定條件 裝置:JOBIN YVON(JY138 ULTRACE)理學電氣公司製 測定條件 矽測定波長:251.60 rim 紹測定波長:3 96.1 5 2 nm 電漿功率:1.0 kw 霧化氣體:0.28 L/min 屏蔽氣體:0.3~0.8 L/min 冷卻氣體:13 L/min (3)反應轉化率、收率 114694.doc •23 · 1314924 ^化率(τ烯標準之㈣轉化她據下式算出。 轉化率=(原料中碳數為 ,、鳶许、丨山 婦煙濃度-生成物中丁嫌 ,辰度)/原料中碳數為4〜8之烯烴濃度 珉物1f 丁廊 乙烯、丙烯收率以生成物中 表示。 己席、丙烯濃度(質量%〕 [實施例1] ==氧化㈣化紹莫耳比為石成型
媒元全溶解’以❹法衫求得)之ZSM5型彿石的成 型體觸媒(含30質量%之Si〇黏人
τ、 2黏。劑,1.6 ηπηφ * 5〜1C mmL)之Η交換型分散於i ν硝酸鈉k々 月酉文鈉水溶液(10 cc/g-沸石成 支體)中’於室溫反覆進行3次H、時之離子交換處理。繼 而進行過渡、水洗、乾燥,製備Na交換型ζδΜ_5·2成型 體觸媒。使之分散於0.0017 N石肖酸銀水溶液(i〇 cc/g沸石 成型體)中’於室溫下進行2小時離子交換處理。繼而進行 過濾、水洗、乾燥,製備觸媒A ^ ス螢光X射線分析測定之觸媒A之Ag量為〇 〇95質量%。 即,相對於沸石交換點(鋁量)之銀陽離子之佔有率(離子交 換率)為46·2°/〇。 將觸媒Α填充於内徑27.2 之赫史特合金c製反應器 中,於溫度650。(:、蒸氣流量2 1 8 g/hr、氮氣流 *220 NL/hr 之條件下進行5小時氣烘。 依據上述方法’藉由液相離子交換/濾液滴定法求得氣 烘處理後之觸媒A之質子量’為0 0014 inmol/g-沸石。 將氣供處理後之觸媒A60 g填充至内徑27.2 mm(j)之赫史 114694.doc •24- 1314924 特合金c製反應器中。 將表1所示之C4萃餘物-2(自將石腦油蒸氣裂解所獲得之 C4餾分,萃取丁二烯以及異丁烯而獲得)2Ν〇 ι作為原 料,於反應溫度550。(:、C4萃餘物_2之供給量45〇 g/hr (WHSV=7.50 hr·1)、o.i MpaG之條件下進行反應。 將自原料供給開始特定時間後之反應生成物自反應器出 口直接導入氣相層析儀(TCD,FID檢測器)分析組成。 再者,以如下條件進行利用氣相層析法之分析。 (氣相層析法分析條件)
裝置:島津製造所製造之GC-17A 管柱:美國SUPELCO公司製造之訂製毛細管柱spbj(内 徑 0.25 mm ’ 長度60 m,膜厚 3.0 μιη) 樣品氣體量:lml(取樣管路保溫於200〜3〇〇。〇 升溫程序:於40 °C保持12分鐘,繼而以5°C/分鐘之速度 升溫至200°C後,於200°C保持22分鐘。 分離比:200 : 1 載體氣體(氮)流量:120 ml/分鐘 FID檢測器:空氣供給壓50 kPa(約500 ml/分鐘),氫氣 供給壓60 kPa(約50 ml/分鐘) 測定方法:串連TCD檢測器與FID檢測器,以TCD檢測 器檢測氫以及碳數為1及2之烴,以FID檢測器檢測碳數為3 以上之烴。分析開始1 〇分鐘後’將檢測之輸出自TCD切換 為 FID。 適當地一面實施反應_生成物之分析’ 一面持續反應4 8小 114694.doc -25- 1314924 時。將結果示於表2、圖1。 再者,本實施例中反應開始2小時後與48小時後之丙歸 收率差[PY收率(2小時)-PY收率(48小時)]抑制為僅2%。 自本實施例以及比較例1可知,含沸石成型體觸媒之沸 石之矽鋁比為400時,由於連續運轉2天的填隙劣化而?丫收 率下降’相對於此’若使用矽鋁比為1,22〇之沸石,則可 將連續運轉2天之丙烯收率下降抑制為僅2%。即,以簡便 之固定床反應器2塔擺動方式工業性實施本發明之情形 時’本發明之觸媒即使循環2天,切換時之結果變動亦較 小(運轉管理上所容許之水準),故而顯示其係可循環運轉2 天者。 [實施例2] 除使用C4萃餘物-2 No. 2作為反應器供給原料以外,進 行與實施例1相同之反應實驗。C4萃餘物_2 N〇. 2含有2 25 質量%之二烯烴化合物類(甲基乙炔、丙二烯、丁二烯)。 將反應結果示於表2、圖1。 反應開始2小時後與48小時後之丙烯收率差為2 56%。自 本實施例以及比較例2可知,即使使用二烯烴化合物類濃 度為2.25質量%之原料時,若使用本發明之含沸石成型體 觸媒,亦不會對劣化帶來不良影響,可無問題地實施2天 之連續運轉。 [比較例1] 使含有一氧化矽氧化鋁莫耳比為4丨〇(使該含沸石成型體 觸媒完全洛解,以ICP法測定求得)之ZSM5型沸石的成型 114694.doc -26 - 1314924 體觸媒(含有30質量%之叫黏合劑…_φ*5〜10 L)之Η交換型分散於】Ν確酸納水溶液 型體)中’於室溫下反覆進行3次】小時之離子交換處理。 繼而進行過遽、水洗、乾燥,製備Na交換型ZSM_5/Si〇2成 型體觸媒。使之分散於G.GQ145 _酸銀水溶液⑽時沸 石成㈣)中’於室溫下進行2小時離子交換處理。繼而進 仃過濾、水洗、乾燥而製備觸媒B。 以螢光X射線分析所測定之觸媒8之Ag量為〇 〇94質量 %。即,相對於沸石交換點(紹量)之銀陽離子之佔有率(離 子交換率)為15.3%。 將觸媒B填充於内徑27·2叫之赫史特合金1反應器 中於'皿度650 c、蒸氣流量218 g/hr、氮氣流量220 NL/hr 之條件下進行5小時氣烘。 以與實施例1相同之方法求得氣烘處理後之觸媒B之質子 3: ’ 結果為〇.〇〇16mmol/g-沸石。 除使用氣烘處理後之觸媒B以外,與實施例丨同樣進行反 應評價實驗。將結果示於表3、圖丨。再者,本比較例反應 開始2小時後與48小時後之丙烯收率差稍微較大為4.6%。 [比較例2] 除使用C4萃餘物_2Νο· 2作為反應器供給原料以外,進 仃與比較例1相同之反應實驗。將結果示於表3、圖i。 再者’本比較例中反應開始2小時後與48小時後之丙烯 收率差為8%,明顯出現丙烯收率降低。 [實施例3] ]14694.doc -27· 1314924 使含有二氧化矽氧化鋁莫耳比為u,使該含沸石成型 體觸媒完全溶解,以ICP法測定求得)之ZSM5型沸石的成 型體觸媒(含有30質量%之以〇2黏合劑,16 mmL)之Η交換型分散於i N確酸納水溶液(1()⑽·沸石成 型體)中,於室溫下反覆進行3次丨小時之離子交換處理。 繼而進行過滤、水洗 '乾燥,製備Na交換型ZSM_5/si〇2成 型體觸媒。使之分散於0.0026 N硝酸銀水溶液(1〇 “/卜沸
石成型體)中’於室溫下進行2小時離子交換處理。繼而進 行過濾 '水洗、乾燥而製備觸媒C。 同樣’使含有二氧化石夕氧化紹莫耳比為85〇之ZSM5型沸 石的成型體觸媒(含有3〇質量%之_黏合劑,16 5〜1〇 mmL)之Η交換型進行Na交換,繼而進行Ag交換,進 行過濾、水洗、乾燥而製備觸媒D。 其中,硝酸銀水溶液濃度設為〇 〇〇16 N ^ 媒C之Ag量為0.094質量 。即,相對於沸石交換點 以螢光X射線分析所測定之觸 % ’觸媒D之Ag量為〇·〇93質量% (銘量)之銀陽離子之佔右垄彳雜名六 伯男手(離子交換率),觸媒C相當於 69%,觸媒D相當於31.5%。 所得之觸媒C以及D與實施例!同樣,填充於内徑272 ππηφ之赫史特合金C製反應器中,於溫度65〇。(:、蒸氣流量 218g/hr、氮氣流量22〇NL/hr之條件下進行5小時氣烘。 氣烘處理後之觸媒c之質子量為0 0014 mm〇i/g_沸石。 又,觸媒D之質子量為0 〇〇15 mm〇1/g_沸石。 除使用氣烘處理後之觸媒c以及觸媒£)以外,與實施例 114694.doc •28- 1314924 、2同樣進行反應評價實驗。將結果示於表4。 [比較例3] 使含有二氧化矽氧化鋁莫耳比分別為2,300、3,000(使該 含沸石成型體觸媒完全溶解,以lcp法測定求得)2ZSM5 型沸石的成型體觸媒(含有3〇質量%之以〇2黏合劑,i6 ηιηιφ * 5〜1〇 mmL)之H交換型分散於m硝酸鈉水溶液〇〇 cc’g-沸石成型體)中,於室溫下反覆進行3次工小時離子交 換處理繼而進行過渡、水洗、乾燥,製備仏交換型 ZSM-5/SxO2成型體觸媒。使之分散於〇〇in硝酸銀水溶液 (1〇 cc/g-沸石成型體)中,於室溫進行2小時離子交換處 理。繼而進行過遽、水洗、乾燥而製備觸媒E(石夕銘比 2200)觸媒 F。 以螢光X射線分析所測定之觸媒E之Ag量為〇 〇84質量 % ’觸媒F之Ag量為〇.〇44質量%。即,以相對於沸石交換 點(紹量)之銀陽離子之佔有率(離子交換率)表示,觸媒£相 當於77% ’觸媒ρ相對於53〇/〇。 將所得之觸媒E以及F與實施例i同樣填充於内徑2 7.2 之赫史特合金c製反應器中,於溫度65〇它、蒸氣流量 218 g/hr、氮氣流量22〇 NL/hr之條件下進行$小時氣烘。 氣烘處理後之觸媒E、觸媒F之質子量為〇〇〇14 mm〇i/g_ 沸石。 除使用氣烘處理後之觸媒£以及觸媒F以外,與實施例工 同樣進行反應評價實驗。 觸媒E中之2 Hr之C4烯烴轉化率為6〇4%,丙烯收率為 114694.doc •29· 1314924 丙烯收率為 但未逹到所 又,48小時 20.7%,48 Hr後之C4烯烴轉化率為47 8%, 16.4%。觸媒E中銀離子交換處理液濃度提高, 期待之銀父換載持量,成爲初期活性較低者, 時之活性降低亦較大。 另一方面之觸媒F中, 時時之C4烯烴轉化率顯著降低 為32%,故而終止繼續及廡 M及愿觸媒卩中,即使相對沸石交 換點之銀陽離子之佔有率達到麵,銀含量亦只能達到 〇.〇83f量%,容易推定最初活性較低,雖提高銀離子交換 處理液濃度,但只能達到所期望之銀交換載持量之一半, 活性顯著降低。 、自本比較例判斷,含有矽鋁比超過2000之彿石之含沸石 成里體觸媒,於其製備步驟中,無論是否提高銀交換處理 液濃度’離子交換效率均降低,故而無法充分進行銀交換 # # 卩使將相關觸媒供給於反應巾’亦無法獲得充 分之活性。 114694.doc 1314924 [表i]
成分 C4萃餘物-2 No. 1 No. 2 甲基乙炔 0.01 0.02 丙二稀 0.10 0.12 丙烯 0.06 0.06 丙烧 0.05 0.05 丁二烯 1.14 2.12 丁烯 76.92 76.46 丁烷 21.02 20.57 戊烯 0.25 0.22 戊烧 0.23 0.20 苯 0.00 0.00 C6非芳香族烴 0.01 0.01 曱苯 0.02 0.02 C7非芳香族烴 0.17 0.15 C8芳香族烴 0.00 0.00 C8非芳香族烴 0.02 0.01 C9 +烴 0.01 0.01 合計 100.00 100.00 二烯烴化合物類 1.26 2.25 114694.doc -31 - 1314924
[表2] 實施例1 觸媒A 二氧化矽氧化鋁莫 耳比 1220 銀含量(Wt°/o) 0.095 反應原料 No. 1 反應時間 2 14 26 38 48 C4烯烴轉化率(wt°/〇) 67.45 65.51 62.89 61.28 59.81 乙烯收率(wt%) 4.58 4.03 3.59 3.30 3.02 丙烯收率(Wt°/o) 22.34 22.00 21.30 20.74 20.34 實施例2 觸媒A 二氧化矽氧化鋁莫 耳比 1220 銀含量(wt%) 0.095 反應原料 No. 2 反應時間 _2 67.70 _14_ 65.73 26 38 48 C4烯烴轉化率(wt°/〇) 62.37 60.87 58.52 乙烯收率(wt%) 4.49 4.13 3.45 3.23 2.81 丙稀收率(Wt°/o) 22.48 22.03 21.20 20.61 19.92 [表3] 比較例1 觸媒B 二氧化矽氧化鋁莫 耳比 410 銀含量(wt%) 0.094 反應原料 No. 1 反應時間 2 14 26 38 48 C4烯烴轉化率(wt%) 66.63 63.22 60.00 55.82 52.91 乙稀收率(wt%) 4.17 3.55 3.02 2.43 2.08 丙烯收率(wt%) 22.42 21.53 20.54 19.02 17.81 比較例2 觸媒B 二氧化矽氧化鋁莫 耳比 410 銀含量(wt%) 0.094 反應原料 No. 2 反應時間 2 14 _2£ 56.01 _38_ 49.33 _48_ 45.83 C4烯烴轉化率(wt%) 66.50 60.55 乙稀收率(wt%) 4.14 3.11 2.46 1.72 1.44 丙浠收率(wt%) 22.38 20.72 19.09 16.14 14.32 114694.doc -32- 1314924 [表4] 實施例3 觸媒C 二氧化矽氧化鋁莫 耳比 1840 銀含量(wt%) 0.094 反應原料 No. 1 No. 2 反應時間 2 48 2 48 C4烯烴轉化率(wt%) 66.76 59.11 67.24 59.08 乙稀收率(Wt°/o) 4.19 2.89 4.52 2.90 丙烯收率(Wt°/o) 22.44 20.24 22.37 19.94 實施例3 觸媒D 二氧化矽氧化鋁莫 耳比 850 銀含量(wt%) 0.093 反應原料 No. 1 No. 2 反應時間 _2_ ~67.68 48 2 _48_ ^58.79 C4烯烴轉化率(wt%) 59.31 67.19 乙稀收率(wt°/〇) 4.63 3.01 4.54 2.95 丙烯收率(Wt°/o) 22.36 20.13 22.28 19.86 詳細地且參照特定之實施態樣對本發明加以說明,但業 者瞭解可於不脫離本發明之精神與範圍之前提下進行各種 改變或修改。 本申請案係基於2005年9月1 6曰申請之曰本專利申請案 (曰本專利特願2005-270322)、2005年12月14曰申請之曰本 專利申請案(日本專利特願2005-360230)者,於此參考並採 用其内容。 [產業上之可利用性] 藉由接觸轉化而自烴原料製造乙烯以及丙烯之方法,使 含有20質量%以上之至少1種碳數為4〜12之烯烴的烴原料 於反應器内與含沸石成型體觸媒相接觸,進行該至少1種 碳數為4〜12之烯烴之接觸轉化反應,藉此製造乙烯以及丙 烯,若於此方法中使用本發明之含沸石成型體觸媒,可高 114694.doc -33 - 1314924 效且穩定地製造乙烯以及丙烯。其原因在於,本發明之方 法中所使用之含沸石成型體觸媒對劣化之耐性極高,故而 可以簡便之方法長時間高收率且穩定地進行製造。又,即 使於原料烴混合物中含有二烯烴化合物類,若為2 5質量% 以内則亦可直接供給於反應中。於觸媒製備步驟中不會 增加較大負荷。該等特徵於工業性實施本發明時極其有 用。 【圖式簡單說明】 圖1係表示本發明實施例1、2、比較例1、2中之C4烯烴 轉化率的經時變化之圖表。 114694.doc 34·

Claims (1)

  1. I314^Ml34254號專利申請案 .................... 味 Γ申年8月 l 十、申請專利範圍: 。二AJL8 .......'^Ί 1.種乙婦及丙烯之製造方法,其特徵為使含有質量 /〇以上之至)1種碳數為4〜12之稀烴的烴原料,於反應器 内與含沸石成型體觸媒相接觸,進行該至少1種碳數為 4〜12之烯烴之接觸轉化反應’藉此製造乙烯以及丙烯, 該3 /弗石成型體觸媒中之沸石滿足下述必要條件⑴、 (2)、(3)以及(4): (1) 該沸石為具有5〜6.5人細孔徑之中等細孔徑沸石, (2) 該沸石實質上不含有質子, (3) 該沸石含有選自由屬於週期表第IB族之金屬所組成 之群中至少1種金屬, (4) 4沸石之二氧化矽氧化鋁莫耳比(Si〇2/Al2〇3莫耳 比)為800以上2,〇〇〇以下。 2. 如請求項1之乙烯及丙稀之製造方法,其+,該烴原料 相對於該烴原料之重量,含有5〇質量%以上之該至少工種 碳數為4〜12之烯烴。 Φ 如明求項1或2之乙烯及丙烯之製造方法,其中,該烴原 料相對於該烴原料之重量,含有25質量%以下之至少工 種碳數為3〜12之二烯烴化合物類。 4. 月求項1或2項之乙烯及丙埽之製造方法,其中,該含 沸石成型體觸媒中之沸石載持銀與鹼金屬,且實質上不 含有質子。 月求項1或2項之乙烯及丙稀·之製造方法,其中,該含 弗石成型體觸媒中之沸石選自由zs]y[_5型沸石所組成之 114694-9708l8.doc 1314924 '冬 i 群。 6. 如請求項1或2之乙烯及丙烯之製造方法,其中,該含沸 石成型體觸媒,與該烴原料接觸之前,於水蒸氣之存在 下,於5〇o°c以上之溫度被加熱處理。 7. 如請求項1或2之乙烯及丙烯之製造方法,其中,該反應 器為隔熱型固定床反應器。 8 如請求項1或2之乙烯及丙烯之製造方法,其中,該接觸 轉化反應之反應條件為,反應溫度:500〜580°C、烴原 • 料之分壓:0.05〜0.3 MPa、重量時間空間速度:2〜10 hr· 1
    114694-970818.doc
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