TWI297553B - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
TWI297553B
TWI297553B TW091119506A TW91119506A TWI297553B TW I297553 B TWI297553 B TW I297553B TW 091119506 A TW091119506 A TW 091119506A TW 91119506 A TW91119506 A TW 91119506A TW I297553 B TWI297553 B TW I297553B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
organic
layer
forming
molecular
semiconductor layer
Prior art date
Application number
TW091119506A
Other languages
English (en)
Inventor
Horng Long Cheng
Wei Yang Chou
Chai Yuan Sheu
Yu Wu Wang
Jia Chong Ho
Chi Chang Liao
Original Assignee
Ind Tech Res Inst
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ind Tech Res Inst filed Critical Ind Tech Res Inst
Priority to TW091119506A priority Critical patent/TWI297553B/zh
Priority to US10/301,632 priority patent/US6737303B2/en
Priority to JP2003279321A priority patent/JP4684543B2/ja
Application granted granted Critical
Publication of TWI297553B publication Critical patent/TWI297553B/zh

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K10/00Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having a potential-jump barrier or a surface barrier
    • H10K10/40Organic transistors
    • H10K10/46Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
    • H10K10/462Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
    • H10K10/466Lateral bottom-gate IGFETs comprising only a single gate
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/191Deposition of organic active material characterised by provisions for the orientation or alignment of the layer to be deposited
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K10/00Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having a potential-jump barrier or a surface barrier
    • H10K10/40Organic transistors
    • H10K10/46Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
    • H10K10/462Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
    • H10K10/464Lateral top-gate IGFETs comprising only a single gate

Description

1297553
發明背景 j發明有關於一種形成具有分子排列之有機 別有關於一種利用偏極光和光罩曝光製程來; 成八有刀子排列之有機半導體層的方法。 有機半導體材料(organic semic〇nductc)r ),經國内外各研究單位實際製作的驗證,是適 口 ,作薄膜電晶體元件(thin f ilm transist〇r)的熱門候 ,材料之,也是製作許多電子元件與光電元件的熱門材 料。劍橋大學Sirringhaus等人所製作的有機薄膜電晶體 (OTFT’ organic thin film transist〇r),藉由有機分子 自組織(self —organization),得到不同異向性結構排 列^發現分子鏈有較佳排列可明顯增強電荷傳輸效率,使 電晶體的特性大幅提昇(載子移動率(carrier mobuuy) I,加至少1 〇 〇倍),證明控制有機分子的排列對於電性的 提昇有其重要性(Nature,Vol 401, p.685,1999)。 目前已知控制有機分子排列的技術可分成三類:(i) 自組織(self-organization)控制,(2)磨擦(rubbing)或 拉引(pul 1 ing)控制,(3)溶劑回火製程(s〇lvent annealing process)。以下分項說明。 (1)自組織(self-organization)控制:劍橋大學 Sirringhaus等人製作一種有機整合元件,包含有機薄膜 電晶體與有機發光二極體。其電晶體結構中之有機分子排 列的控制方式’是利用有機分子内的官能基與基板所帶原 子(如矽)產生作用力,利用此作用力使分子以自組織方式
〇412-8193TWF(N);910016;Cathywan.ptd
1297553 五、發明說明(2) 產生較佳排列(Nature,Vol 401,P.685, 1999)。 (2) 磨擦(rubbing)或拉引(pulling)控制:U. S. Patent No· 6, 326, 640中,先利用機械磨擦、或由電場或 磁場拉引產生配向膜,然後在配向膜上形成有機分子膜, 使有機分子延著配向膜之排列而排列。 (3) 溶劑回火製程(solvent annealing process):在 U.S· Patent No· 6, 312, 971中,先將有機半導體利用印 刷(print ing)或旋塗(spin-coating)的方式沈積在基板 上’選擇可使有機分子重新排列之特定溶劑,利用溶劑之 蒸氣來使有機分子產生排列,可改善〇TFT的電性。 上述二種傳統上控制有機分子排列的方法,都只能使 得有機半導體分子在整個基板上形成同一種方向的排列, 無法控制不同區域的分子排列。 發明之目的及概述 有鑑於此,本發明之目 控制有機半導體之分子排列 板之不同區域上,形成有不 層。如此,可精確定義電晶 向,可達到改善元件特性及 由於不同區域具有不同分子 可控制有機分子在某個方向 有較佳的載子傳導效率,同 分子的排列不利載子傳導, 的為解決上述問題而提供一種 的方法。本發明可以在同一基 同分子排列方向的有機半導體 體通道中有機分子排列的方 電路設計要求之目的。此外, 排列方向,於0TFT通道區中, 排列較有次序,使0TFT操作時 時於非通道區中,可控制有機 使其導電度降低。如此,可降
〇412.8193TlVF(N);910016;Cathywan.ptd 第6頁 1297553 五、發明說明(3) 低畫素(pixel)與畫素之間可能產生的漏電或串音 (crosstalk),達成不需直接對於有機材料進行圖案化 (pattern)的目的。 為達成本發明之目的,本發明提供一種形成具有分子 排列之有機半導體層的方法,其包括以下步驟。首先,在 一基板上或一介電層上形成一可感光排列之有機分子層。 接著,使用偏極光,經由一光罩對於該可感光排列之有機 分子層進行曝光,使該可感光排列之有機分子層具有分子 排列,而形成一配向膜。最後,在配向膜上形成一有機半 導體層,使得有機半導體層延著配向膜之排列而具有分子 排列。 實施例 第1 a圖至第1 c圖顯示依據本發明較佳實施例形成具有 分子排列之有機半導體層之方法的製程剖面示意圖。 請參閱第la圖,在一基板或一介電層1〇上形成一可感 光排列之有機分子層2 0。適用之基板可為矽晶圓、玻璃、 石英、塑膠基板、或可撓式基板。 接著,使用偏極光(polarized 1 ight),經由一光罩 (未顯示)對於可感光排列之有機分子層2〇進行曝光,使可 感光排列之有機分子層2 0具有分子排列,而形成一配向膜 22如第lb圖所示。 可依據需要,使用不同方向的偏極光,對於可感光排 列之有機分子層2 0之不同區域進行多次曝光,而使得所形
0412-8193TWF(N);910016;Cathywan.ptd 第7頁 1297553 五、發明說明(4) 成之配向膜22之不同區域上有不同的 如,參閲第以圖,首先,使用一第一::;列方向。例 并K去鹿- a# 艰極光,經由一第一 i l : : ϊ1,1 ;77 ^ ^ - ^ - 有-第-分子排列方向。 ν配向膜22之區域I具 接著,仍參閱第lb圖,使用一第二偏極 二光罩(未顯示,遮蔽區域ί和區域Ιπ〜 可 ==子㈣之區域Π進行曝光,使得所== 22之£域Π具有一第二分子排列方向。
一 一接著,仍參閱第lb圖,使用一第三偏極光,經由一第 二光罩(未顯示,遮蔽區域丨,n, IV,v),對於可感光排 列之有機分子層20之區域III進行曝光,使得所形成配向 膜22之區域III具有一第三分子排列方向。 接著,仍參閱第1 b圖,使用一第四偏極光,經由一第 四光罩(未顯示’遮蔽區域I〜III和V),對於可感光排列之 有機分子層20之區域IV進行曝光,使得所形成配向膜22之 區域IV具有一第四分子排列方向。區域v則是沒有排列 (random) °
接著,在配向膜2 2上形成一有機半導體層。有機半導 體層之形成方式可為沈積法,例如真空蒸鍵法(v a c u u m evaporation)、氣相沈積法(vapor deposition)、溶液沈 積法(solution deposition)、或有向性沈積法。此有機 半導體層會延著配向膜22之排列而具有分子排列,而形成 具有分子排列之有機半導體層30,如第lc圖所示。最後,
0412-8193TWF(N);910016;Cathywan.ptd 第8頁 1297553 五、發明說明(5) 在形成具有分子排列之有機半導體〇之 進行回火 過程。 如第lc圖所示,有機半導體層3〇在區域丨,π, ΠΙ, IV區的排列方向都和配向膜22 一致,而區域7則是沒有排 列。如此,在同一基板,可形成在不同區域上有不同分子 排列的有機半導體層,而得以控制分子排列。 本發明形成具有分子排列之有機半導體層的方法,可 應用於製造各種有機元件,如有機發光二極體(〇led; organic light emitting diode)和有機薄膜電晶體 (OTFT; organic thin film transist〇r)。 第2a至2c圖顯示本發明形成有機發光二極體之方法的 製程剖面圖。參閱第2a圖,在一基板10上依序形成一陽極 (an〇de)40 和一電洞傳導層(h〇le transfer layer)41。適 用之基板10可為矽晶圓 '玻璃、石英、塑膠基板、或可撓 式基板。1¼極40可為半透明之電極, 例如以濺鍍法形成銦錫氧化物(I TO ; indium-tin-oxide)。接著,在電洞傳導層41上形成一可 感光排列之有機分子層24。 接著’使用偏極光,經由一光罩(未顯示,遮蔽區域I 和111)對於可感光排列之有機分子層24之區域11進行曝 光,使可感光排列之有機分子層24之區域I I具有分子排 列,而形成一配向膜2 5,如第2b圖所示。區域I和111則是 沒有分子排列(random)。 同樣地,可依據需要,使用不同方向的偏極光,對於
1297553 五、發明說明(6) 可感光排列之有機分子層24之不同區域進行多次曝光,而 使得所形成之配向膜25之不同區域上有不同的分子排列方 向。 接著’參閱第2c圖,在配向膜2 5上形成一有機半導體 層作為發光層(luminescent layer),有機半導體層會延 著配向膜25之排列而具有分子排列,形成具有分子排列之 有機半導體層35。圖中顯示,有機半導體層35在區域II的 排列方向和配向膜25 —致,而區域I和丨π則是沒有排列。 仍參閱第2c圖,最後,在有機半導體層35上依序形成 一電子傳導層50和一陰極(cathode)42,而完成OLED之製 作。 第3圖顯示依據本發明之方法所形成之上閘極式 (top-gate)有機薄膜電晶體之構造。其中,形成具有分子 排列之有機半導體層之方法和前述大致相同,茲簡述如 下。在一基板1〇上形成一可感光排列之有機分子層,再使 用偏極光’經由一光罩對於可感光排列之有機分子層之區 域II進行曝光’使可感光排列之有機分子層之區域π具有 分子排列,而形成一配向膜25。接著,在配向膜25上形成 一有機半導體層,此有機半導體層會延著配向膜25之排列 而具有分子排列,而形成具有分子排列之有機半導體層 35。圖中顯示,有機半導體層35在區域π的排列方向和配 向膜25 —致,而區域I和ΙΠ則是沒有排列。 接著,在有機半導體層35上形成一金屬層,再蝕刻形 成源極72和汲極74。然後,形成一介電層6〇。介電層之介
0412-8193TWF(N);910016;Cathywan.ptd 第10頁 1297553 五、發明說明(7) 電常數可大於3,可為無機材料或高分子材料。最後,形 成一閘極76。 第4圖顯示依據本發明之方法所形成之下閘極式 (bottom-gate)有機薄膜電晶體之構造。其中,形成具有 刀子排列之有機半導體層之方法和前述大致相同,茲簡述 如下。在一介電層62之一表面上形成一閘極82,在介電層 62之另一表面上形成一可感光排列之有機分子層,再使用 偏極光’經由一光罩對於可感光排列之有機分子層之區域 11進行曝光,使可感光排列之有機分子層之區域丨丨具有分 子排列,而形成一配向膜25。接著,在配向膜25上形成一 有機半導體層,此有機半導體層會延著配向膜25之排列而 具有分子排列,而形成具有分子排列之有機半導體層35。 圖中顯示,有機半導體層35在區域n的排列方向和配向膜 2 5 —致’而區域I和I丨I則是沒有排列。 mtl,在ff半導體層35上形成一金屬層,再钱刻形 成源極8 4和没極8 6。 之吏:偏極光和光罩曝光製程來定義配向膜 得有機半導體層具有分子排列方向。*此機=層,: 方向之偏極光對於可感光排列之有機分子芦 用不5 行曝光,可在同一基板,形成在不同區域丄同區域進 列方向的有機半導體層。如此,可精確定 问分子排 有機分子排列的方向,可達到改善元件特性=體通道中 求之目的。此外,由於不同區域具有不 '路設計要 J刀子排列,於
1297553 五、發明說明(8) OTFT通道區中,可批 庠,# DTFT P从*二有機分子在某個方向排列較有a ^使㈣#作時有較佳的載子n大 :中,可控制有機分子的排列不利載子道 漏雷4志立r 晝素(Plxel)與畫素之間可能產生的 ==(rssiaik)’達成不需直接對於有機材料ί 灯圖案化(pattern)的目的。 ^ 雖然本發明已以較佳實施例揭露如上,然其並用 限制本發明,任何熟習此項技藝者,纟不脫離本發明 神和範圍β ’當可做更動與潤姊,因此本發明之保護範; 當以後附之申請專利範圍所界定者為準。
1297553 圖式簡單說明 工扯第1 a f f1:圖顯示依據本發明較佳實施例形成具有分 #% ^胃& 層之方法的製程剖面示意圖。 第2a至2c圖顯示依撼士 二極體的製程剖面圖據本發明較佳實施例形成有機發光 第3圖顯示依據本發 、 、 膜電晶體的剖面圖。 法所形成之上閘極式有機薄 第4圖顯示依據本發明 膜電晶體的剖面圖。 法 所形成之下閘極式有機薄 標號之說明 1 0〜基板或介電層; 2 0〜可感光排列之有機 2 2〜配向膜; 分子層 24〜可感光排列之有機 2 5〜配向膜; 分子層 3 0〜具有分子排列之有 35〜具有分子排列之有 40〜陽極; #半導體層 機1半導體層 41〜電洞傳導層; 42〜陰極; 50〜電子傳導層; 60〜介電層; 62〜介電層; 7 2〜源極;
1297553 圖式簡單說明 74〜汲極; 7 6〜閘極; 8 2〜閘極; 8 4〜源極; 8 6〜汲極。 11111 第14頁 0412-8193TWF(N);910016;Cathywan.ptd

Claims (1)

1297553 六、申請專利範圍 1 · 一種形成具有分子排列之有機半導體層的方法,包 括下列步驟: 在一基板或一介電層上形成一可感光排列之有機分子 層; 使用 子層進行 列,而形 在該 體層延著 2. 如 有機半導 英、塑膠 3. 如 有機半導 沈積法。 4. 如 有機半導 真空蒸鍍 5. 如 有機半導 回火過程 6 ·如 有機半導 括: 偏極光 曝光, 成一配 配向膜 該配向 申請專 體層的 基板或 申請專 體層的 ,經由 使該可 向膜; 上形成 膜之排 利範圍 方法, 可撓式 利範圍 方法, 申睛專利範圍 體層的方法, 法、氣相沈積 申請專利範圍 體層的方法, 〇 申請專利範圍 體層的方法, 一尤罩對於該可感光排列之有機分 感光排列之有機分子層具有分子排 以及 一有機半導體層,使得該有機半導 列而具有分子排列。 第1項所述之形成具有分子排列之 其中該基板為矽晶圓、玻璃、石 基板。 第1項所述之形成具有分子排列之 其中該有機半導體層之形成方式為 第3項所述之形成具有分子排列之 其中該有機半導體層之形成方式為 法、溶液沈積法或有向性沈積法。 第1項所述之形成具有分子排列之 在形成有機半導體層之後,更包括 第1項所述之形成具有分子排列之 其中使用偏極光進行曝光的步驟包
297553 a、申請專利範圍 排 接著重覆上述步驟至少一次,使得所形成之該配向膜 工的不同區域上有不同的分子排列方向, /中不同次的曝光可使用不同方向的偏極光,對於可 感光排列之有機分子層之不同區域進行曝光。 7· 一種形成一有機元件的方法,其包括下列步驟: 在一基板或一介電層上形成一可感光排列之有機分子 使用偏極光,經由一光罩對於該可感光排列之有機分 子層進行曝光,使該可感光排列之有機分子層具有分子^ 列’而形成一配向膜; _ 在該配向膜上形成一有機半導體層,使得該有機丰導 體層延著該配向膜之排列而具有分子排列;以及 形成一電極。 、8·如申請專利範圍第7項所述之形成有機元件的方 法’其中該有機元件為一有機發光二極體(0LED),該方 包括下列步驟: 〆 在一基板上依序形成一陽極和一電洞傳導層; 在該電洞傳導層上形成一可感光排列之有機分子層; 使用偏極光,經由一光罩對於該可感光排列之有機分 子層進行曝光,使該可感光排列之有機分子層具有分子^ 列,而形成一配向膜; 在該配向膜上形成一有機半導體層作為發光層,使得
0412-8193TWF(N);910016;Cathywan.ptd 第16頁 1297553 六、申請專利範圍 酉己向膜之排列而具有分子排列;以 該有機半導體層延著該 及 在該有機半導體層上依序形成一電子傳導層和一陰 極0 9·如申請專利範圍第7項所述之形成有機元件的方 法’其中該有機元件為一有機薄膜電晶體(0TFT),該方法 包括以下步驟: 在一基板或一介電層上形成一可感光排列之有機分子 層;
使用偏極光,經由一光罩對於該可感光排列之有機分 子層進行曝光,使該可感光排列之有機分子層具有分子排 列’而形成一配向膜; 在該配向膜上形成一有機半導體層,使得該有機半導 體層延著該配向膜之排列而具有分子排列;以及 形成一介電層、閘極、源極、和汲極。 I 0 ·如申請專利範圍第9項所述之形成有機元件的方 法,其中該介電層之介電常數大於3。 II ·如申請專利範圍第1 〇項所述之形成有機元件的方 法,其中該介電層為無機材料或高分子材料。
1 2 ·如申請專利範圍第9項所述之形成有機元件的方 法,其中該有機元件為上閘極式(top-gate)之有機薄膜 晶體(0TFT)。 ' 1 3 ·如申請專利範圍第9項所述之形成有機元件的方 法,其中該有機元件為下閘極式(bottom-gate)之有機薄
1297553 六、申請專利範圍 膜電晶體(OTFT)。 Hi 第18頁 0412-8193TWF(N);910016;Cathywan.ptd
TW091119506A 2002-08-28 2002-08-28 TWI297553B (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW091119506A TWI297553B (zh) 2002-08-28 2002-08-28
US10/301,632 US6737303B2 (en) 2002-08-28 2002-11-22 Process for forming organic semiconducting layer having molecular alignment
JP2003279321A JP4684543B2 (ja) 2002-08-28 2003-07-24 分子配列を有する有機半導体層の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW091119506A TWI297553B (zh) 2002-08-28 2002-08-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TWI297553B true TWI297553B (zh) 2008-06-01

Family

ID=31974897

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW091119506A TWI297553B (zh) 2002-08-28 2002-08-28

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6737303B2 (zh)
JP (1) JP4684543B2 (zh)
TW (1) TWI297553B (zh)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW582059B (en) * 2003-03-11 2004-04-01 Ind Tech Res Inst Organic component, method for forming organic semiconductor layer with aligned molecules, and method for forming organic component
JP4194436B2 (ja) * 2003-07-14 2008-12-10 キヤノン株式会社 電界効果型有機トランジスタ
GB0318817D0 (en) * 2003-08-11 2003-09-10 Univ Cambridge Tech Method of making a polymer device
KR100647325B1 (ko) * 2005-04-21 2006-11-23 삼성전자주식회사 저면발광형 유기발광소자
US20070040165A1 (en) * 2005-08-16 2007-02-22 Klaus Dimmler Method of fabricating organic FETs
JP2007096160A (ja) * 2005-09-30 2007-04-12 Oki Data Corp 半導体複合装置、及びこれらを用いたプリントヘッド並びに画像形成装置。
US8212243B2 (en) * 2010-01-22 2012-07-03 Eastman Kodak Company Organic semiconducting compositions and N-type semiconductor devices
US8309394B2 (en) * 2010-01-22 2012-11-13 Eastman Kodak Company Method of making N-type semiconductor devices
CN102201535B (zh) * 2011-03-30 2013-02-13 合肥工业大学 可紫外光刻微图案化的有机薄膜晶体管半导体材料及用途
CN104035237B (zh) * 2014-05-30 2017-03-01 京东方科技集团股份有限公司 光配向膜及其制作方法、液晶显示器
US20220045274A1 (en) * 2020-08-06 2022-02-10 Facebook Technologies Llc Ofets having organic semiconductor layer with high carrier mobility and in situ isolation

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0983040A (ja) * 1995-09-12 1997-03-28 Sharp Corp 薄膜トランジスタ及びその製造方法
TW515926B (en) * 1996-07-10 2003-01-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd Liquid crystal alignment film and method for producing the same, and liquid crystal display apparatus using the same and method for producing the same
TW508470B (en) * 1997-05-09 2002-11-01 Hitachi Ltd Liquid crystal display device
JPH11204261A (ja) * 1998-01-08 1999-07-30 Mitsubishi Electric Corp 有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2000010119A (ja) * 1998-06-23 2000-01-14 Mitsubishi Electric Corp 液晶表示装置および該装置に用いるアレイ基板の製法
JP3114723B2 (ja) * 1998-08-03 2000-12-04 日本電気株式会社 液晶表示装置およびその製造方法
AU777444B2 (en) * 1999-06-21 2004-10-14 Flexenable Limited Aligned polymers for an organic TFT
JP2001291594A (ja) * 2000-04-07 2001-10-19 Canon Inc 導電性液晶素子
JP3570974B2 (ja) * 2000-07-17 2004-09-29 Nec液晶テクノロジー株式会社 アクティブマトリクス型液晶表示装置
US6577798B2 (en) * 2000-07-18 2003-06-10 Reveo, Inc. Method for producing non-linear optical organic crystal film
US6582776B2 (en) * 2000-11-24 2003-06-24 Hong Kong University Of Science And Technology Method of manufacturing photo-alignment layer
JP3750055B2 (ja) * 2001-02-28 2006-03-01 株式会社日立製作所 液晶表示装置
US6777529B2 (en) * 2002-01-11 2004-08-17 Xerox Corporation Polythiophenes and devices thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP2004088096A (ja) 2004-03-18
US20040043531A1 (en) 2004-03-04
JP4684543B2 (ja) 2011-05-18
US6737303B2 (en) 2004-05-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6844579B2 (en) Organic device including semiconducting layer aligned according to microgrooves of photoresist layer
CN101926016B (zh) 有机薄膜晶体管、有源矩阵有机光学器件及其制造方法
KR101532759B1 (ko) 유기 박막 트랜지스터
JP5487421B2 (ja) トランジスタの構造及びその製造方法
US8450142B2 (en) Organic thin film transistors
KR100781829B1 (ko) 유기 박막 트랜지스터 및 그 제조방법
US20100032662A1 (en) Organic Thin Film Transistors
JP2005093921A (ja) 電界効果型有機トランジスタおよびその製造方法
JP2001177109A (ja) 薄膜トランジスタ
TWI297553B (zh)
WO2009066059A1 (en) Organic thin film transistors, active matrix organic optical devices and methods of making the same
JPWO2014136636A1 (ja) 薄膜トランジスタ
US8502356B2 (en) Organic thin film transistors
CN1790727A (zh) 有机薄膜晶体管阵列板及其制造方法
CN102110775B (zh) 实现半导体聚合物图形化的方法及其应用器件
WO2011150137A2 (en) Enhanced transistors employing photoactive organic materials and methods of manufacturing same
JP2005277204A (ja) 有機電界効果トランジスタ
KR102126526B1 (ko) 나노 구조를 이용한 유기 반도체 소자 및 이의 제조방법
KR101144474B1 (ko) 유기 박막트랜지스터 및 그 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees