TWI294047B - Optical element, method for manufacturing such an element and a method for aligning al light beam and such an element - Google Patents

Optical element, method for manufacturing such an element and a method for aligning al light beam and such an element Download PDF

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Description

1294047 玖、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種光學元件。 【先前技術】 K務上已經熟知此種元件。舉例來說，該光學元件包括 一透鏡、一光柵、一狹縫、一光圈、一光學濾波器、一光 學導體（例如光纖纜線）、以及一面鏡或類似的元件。使用期 間，該光學元件係被放置於一條以上光束（舉例來說，於一 光學系統中）的路徑中。因此，該光學元件的接收平面將會 接收到該光束，舉例來說，由包括該光學元件之外側表面 的平面來接收。 當該光學元件係一完美的光學面鏡時，該接收表面便可 能為此種元件的光反射表面。 相反地，如果該光學元件被設計成用以讓至少部份的入 射光束通過的話，舉例來說，當該光學元件為一透鏡、一 光栅一狹、縫、一光圈、—光學遽波器或是類似元件時， 該光學元件的各個接收平面便可接收到該光束，舉例來 '等平面釭延伸於δ亥光學元件的前側、背側及/或内部。 正常地說，一光學系統的每道光束以及每個光學元件都 g互相對|肖以作為預期的用途。舉例來說，吾人可能 希望將.亥光學系統及該雷射光束精確地對準於一光學系統 的特定光軸上。舉例來說，對準的預期精確度可能達到微 f的程度。根據熟知的第一種方法，可利用目視檢查來進 行。亥光束肖《學元件的對準。而後，必要時便可以手動
O:\88\8825! DOC 1294047 來校正該光束及該光學元件的個別位置。 ==的第二種方法，可利用已經通過該光學元件之 亥光束的特徵來對準每道光束與每個光學^件。舉例 :如果该光學兀件為一繞射元件的話，當該光學元件 =束於—特殊位置中對準時，吾人預期該光束便會發 生将殊的繞射。因此，藉由碧袞 猎由硯察該光學元件所產生的光束 -射情形便可對此光學元件與一光束來進行對準。 該等兩種對準方法皆相當麻煩且耗時，尤其是當-光學 糸統包括數個必須互相對準且與至少—光束進行對準的光 學疋件時更為麻煩。再者，該些方法都無法達成預期的高 度對準精確度。 國際申請案WO 02/3 1569(Ohnstein等人提申）便揭示出一 種微定位系統，用以精確地定位一光學元件與一光學裝置 (例如雷射二極體）的相對位置。該設備包括一載體，其可相 對於基座選擇性地於X方向中移動。該光學元件會被耦合 至該載體，使得該光學元件可相對於該基座於丫方向中: 動。根據Ohnstein，可以移動該光學元件，用以讓光束與該 光學元件的選擇區產生交會。該光學元件較佳的係具有具 不同光學特徵的不同區域。因此，當該光束於該等不同區 域之間移動時，該光學元件便會產生不同的光學結果。根 據Ohnstein，此種效果可運用於光學對準之類的應用中。 曰本專利申請案JP08005507揭示一種光學軸對準的方去 與裝置，其中使用雷射光束來對準光纖。對準該等光纖之 後便可具有最大的雷射光傳送強度。
O:\88\8825l D0C 1294047 美國專利案4,871，250(Koseki提申）則係關於一種雷射光 束監視器，用以檢測高功率雷射裝置所產生之雷射光束的 力率及模式圖案。該監視器包括一光束強度檢測板，其係 被5又计成於該雷射光束被投射於其上時來檢測一雷射光束 的局部化強度。已檢測的雷射光束模式圖案則可顯示於一 CRT顯示器上。透過該顯示器，必要時，作業員便可調整 δ亥雷射裝置的前面鏡與後面鏡的對準情形，用以校正或改 變該雷射光束的模式圖案。因此，K〇seki利用該第二方法 來對準一光束及光學元件（該些光學元件為該雷射裝置的 該等前後面鏡）。 本發明的目的係解決上述的問題，明確地說，可非常快 速且非常高精確地讓每個光學元件及每道光束互相對準。 【發明内容】 本發明提供一種配備一接收平面的光學元件，其包括一 用以接收至少一光束的接收部，其中該接收平面配備至少 一光檢測70件，其係被設計成用以檢測是否有至少部份該 光束被投射於其上。 可以非常簡單的方式讓此光學元件及該光束互相對準， 因為至少一光檢測元件可提供與該位置有關的精確資訊， 其中該光束會碰觸到該光學元件的接收平面。再者，依照 每個檢測元件的特性而定，可於使用該光學元件期間非常 快速且連續地獲得該資訊。 —田正確地對準该光學元件及該光束之後，該光學元件便 會於該接收平面的接收部中接收該光束。該至少一光檢測
O:\88\88251 DOC 1294047 元件將會檢測是否有至少部份該光束被投射於該檢測元件 之上。利用該元件便可主動或被動地達到檢測的目的。此 處’主動檢測包含可於檢測該光束時用以產生一信號的檢 測元件，舉例來說，該元件可能包括一熱耦。被動檢測則 意味著當該光束被投射於其上時該檢測元件的特定可測特 徵便會改變，舉例來說，該元件可能包括具有電阻的材料， ϊ 5亥光束的光被投射於其上時，該電阻便會改變。 可以數種方式來排列該檢測元件，以獲取與入射光及光 學元件之相對位置有關的資訊。根據第一具體實施例，該 至少一光檢測元件會被排列於該接收部旁邊。此時，如果 正確地對準該光束與該光學元件的話，該檢測元件將不會 檢測該光束。另一方面，如果未正確地對準該光束與該光 學疋件的話，那麼該光束便會被投射於該至少一光檢測元 件之上，因此該元件便會檢測該接收平面中該光束的位 置。此時，便可將該光束與該先學元件移動至新的個別位 置’使得該光束不再被投射於該至少一光檢測元件之上。 可以手動方式及/或自動方式（例如利用可從該至少一光檢 、j元件中接收資料的電細）來進行該移動。舉例來說，該移 動可旎包括重新定位及/或重新導向該光學元件及/或該光 束。例如，利用本技術中所熟知的一種以上定位系統便可 達到此目的。 有利的係，如果將每個光檢測元件排列在該接收部旁邊 的活，那麼該至少一光檢測元件實質上便圍繞該接收平面 之該光接收部的至少一部份。因此，該至少一光檢測元件
O:\88\8825I.DOC -9- 1294047 貫質上可於該接收部的所有面上檢測該光束與該光學元件 是否有正確地對準。較佳的係、，被該檢測㈣圍繞的該光 接收部部件僅略大於該接收平面中所看見之該光束的剖 面’因此可非常精確地進行對準。 根據-替代具體實施例，該至少一光檢測元件至少部份 延伸於該接收部之中。此時，t該光學元件與該光束正確 地對準之後’該光束的特定部份將會被投射於該至少—檢 測元件之上。對準變化可能會導致每個檢測元件檢測到不 同的光束。如果此種對準變化並非預期的$，那麼該光束 與該光學元件便可向後移至__可正確對準的相對位置處。 於隨附的申請專利範圍中會提及本發明的進一步有利的 具體貫施例。 本發明還關於-種製造本發明之光學元件的方法以及對 準至少一光束與本發明之光學元件的方法。 再者’本發明關於-種光學裝置，用以將資訊記錄於一 旋轉光碟（例如CD或DVD)的資訊層上及/或從一旋轉光碟 的資訊層中來再生資訊。根據本發明t裝置的特徵為存在 至少一本發明的光學元件。 現在將以附圖中的示範具體實施例為基礎詳細地說明本 發明。 【實施方式】 圖1為光學元件1的部份圖式。該光學元件」具有一用以接 收光束2的接收平面10。舉例來說，該接收平面1〇可能包括 一外側表面及/或光學元件1的交又平面。該接收平面1〇包 O:\88\8825I.DOC -10- 1294047 括用以接收至少-光束2的圓形接收部！ i。於圖丄中，光 束2係垂直圖面延伸。因此，係以剖面形式來顯示該光束2。 如圖所不，接收平面1〇具有—相當簡單的光檢測元件3， 其具有中斷ϊ哀的形式。此檢測元件3實質上圍繞著該接收平 面1 〇内的光接收部11。 於圖1的具體實施例中’該檢測元件3係被排列在該接收 部11的旁邊。該檢測元件3係被排列成用以檢測是否有至少 部份該光束2被投射於其上。為達此目的，該檢測元件仏 括具有電阻的材料，當該光束2的光被投射於其上時，該電 阻便會改變。舉例來說，此種材料包括金屬（例如銅）、合金 及/或其它合宜的材料。 再者，该檢測元件3的不同部份會被排列成被連接至一電 測1裝置。為達此目的，該光學元件丨包括五條電連接線， 每一條皆為一延伸於該接收平面u中的接觸片5。每條接觸 片都係由導電材料所組成，例如金屬或類似的材料。該等 接觸片5會被電連接至該檢測環3的外緣。其中兩個接觸片 5a 5e會分別被連接至該檢測元件3的兩側，該等兩側會與 該環形檢測元件3的中斷部相鄰接。第三接觸片兄會被連接 至位於該環中斷部反側位置處的檢測環3。其餘的兩個接觸 片5b、5d則會被耦合至該檢測元件3中位於其它三個接觸片 5a、5c、5e位置之間的位置處的兩側。因此，循逆時鐘看 去，该檢測元件3的第一環部3 a的端點係分別被連接至第一 與第二接觸片5a、5b ;第二環部3b的端點係分別被連接至 第二與第三接觸片5b、5c ,·第三環部3c的端點係分別被連
O:\88\8825I.DOC -11 - 1294047 接至第二與第四接觸片5c、5d ;而第四環部3d的端點係分 別被連接至第四與第五接觸片5d、5e。該等四個環部3a-3d 的位置互相對稱於該接收平面10。 可以不同的方式來製造圖1所示之光學元件1。根據本發 &明’有利於該光學元件丨已經配備採用至少一薄層沉積技術 (舉例來說，化學氣相沉積（CVD)、電漿增強 CVD(PE-CVD)、分子束磊晶（MBE)、濺鍍及/或蒸發)的光檢 測％ 3的情況。採用此種技術時，便可以極高的精確度來劃 么a亥檢測元件3。視所運用的技術而定，可針對該檢測元件 3的直徑、於该光接收平面丨〇中被測量的檢測元件3的寬度 W以及於垂直δ亥光接收平面處被測量的檢測元件3的厚度 等方面達到奈米等級的精確度。因此，可於製造期間以極 同的精確度來控制每個環部3 a-3e的體積，用以產生該檢測 几件3特定預期的電氣特徵。該等電接觸片5可與檢測元件3 一起製造。另外，使用該等技術有可能製造出非常小的檢 測元件3，提供下面所述的特定優點。除此以外，薄層沉積 技術能夠於許多不同類型的光學元件上製造該檢測元件。 再者，可以利用一種以上的此等技術一起製造光學元件丨與 檢測元件。舉例來說，如果如前述般的光學元件的尺寸非 常小的話，這便相當有利。例如，可將此等小型的光學元 件運用於高資料密度的光學儲存系統中，其中小型體積將 極受歡迎。 當第一具體貫鞑例的光束2與光學元件丨經過正確的對準 之後，全部的光束2便會與光學元件丨的接收平面1〇的圓形 O:\88\8825I.DOC -12- 1294047 接收部11交叉。此時，實皙 士，时 貝上该檢洌元件3的環部3a_3cm 電^會受到該光束2的影響。當光束埃光學元们產生 ^私度的*對準情形的話’部份的光切會被投射於該 二::件3上，如圖2所示。接著，其上有光束 Γ 度將會提高’導致該環部的電阻產生變化。舉例 來祝，如果檢測元件3由銅舉例來說，如果檢測元件3包括 :屬_)的話，那麼該光束2照射到的環部的電阻將會 提咼。 接續上述，可以利用該檢測元件3讓光束2與光學元件i 互相對準，使得該光學元件1#f上可接收該接收平面⑺之 接收部U中的光束2,產生如^所示的情況。於本且體實 ㈣中’該檢測元件3的使用法包括測量其電阻，用以檢測 疋否有至少部份的光束2被投射於其上。為達此目的，可利 用該等第-與第五接觸片5a、5e經由m(未 電流I至該檢測元件3之上，該電流〗會流經所有該等環部 3a-3d。另外’可用一測量裝置（未顯示）來測量每個該等接 觸片5a 5e的電位v。檢視前面的圖形，如果光束2與光學元 件1經過正確的對準之後，實質上該檢測元件3的環部h_3d 將會具有相等的電位，導致接觸片5&至5€具有實質上相等 的電位。相反地，如圖2所示，如果光束2與光學元件丨於义 方向中沒有對準的話，其中有部份的光束照射在第三環部 虹上，那麼此第三環部3(：的電阻將會改變，從而在相鄰的 第三與第四接觸片5c、5d之間產生電位差變化。該測量裝 置將會測量到此電位差。接著，舉例來說，便可以手動及/
O:\88\88251.DOC -13 - 1294047 新對準光束2與光學元件11以抵消所觀察 使得該光束2不再被投射於該光檢測元件3 牛例來5兄’當檢測到該檢測元件3有特定溫度上升 ^降更可移動光束2與光學元件1，使得該檢測元件3的溫度 攸上面可以發現，藉由從第一相對位置（其中該至少 檢測元件3會檢測到光束2)將光束2與光學元件旧動至第 -相對位置（其中實質上該檢测元件3並不會檢測到光 j可對準及/或重新對準光束2與光學元件i。圖示的係 一可能的第一位置，其中於X方向中並未對準；而圖i顯示 的則，於X方向中重新對準之後的可能的第二位置。藉由依 序地掃描光束2與光學元件i或將其移動至—第三相對位置 (其中该至少一光檢測元件3會再次檢測到光束便可改良 對準的精確度。舉例來說，於χ方向中的進—步相對移動及 /或於7方向令的相對移動之後便可獲得第三位置。而後便 可利用該等第…第：及第三相對位置所獲得的檢測結果 來决疋光束2與光學元件丨的最終相對位置，舉例來說，可 藉由光束2被該光檢測元件3檢測到的所觀察到之相對位置 來進行平均。 有利的係，該光檢測元件3的體積非常地小，因此當被光 束2照射之後，該元件3便可極快速地升溫，因而便可以特 定的精確度極快速地來進行前述的對準程序。舉例來說， 該體積可能小於約10,000 μιη3。另外，為改良可獲取之對準 的精確度，至少部份被該檢測元件3圍繞的該光接收部部件 O:\88\88251 DOC -14- 1294047 較佳的係能夠僅略大於從該接收平面ι〇看去之該光束2的 剖^ °另外，該光檢測元件3於垂直該光接收平面（x，y)處所 測量到的厚度非常地小，舉例來說，厚度約⑽陣以下， 尤其是約1μιη以下甚至約100nm以下。檢測元件3的宽度w 也非常地小，例如寬度約i _以下，尤其是寬度料於約 100 μιη甚至寬度W小於約1 。 圖3為本發明之替代具體實施例的示意圖，其包括一光學 元件1，，該光學元件i，具有至少部份延伸於接收平面1〇，之光 接收部之㈣數個檢測㈣3，。該些檢測元件包括平行 分隔的金屬條3’，每條金屬條的兩端皆具有兩片接觸片卜 使用時’可利用該等接觸片5,於該等檢測條3•之上進行電流 -電壓測量用以檢測光束2是否被投射於該等檢測條3，: 上。如果如預期般地光束2並未被投射的話，便可重新對準 光束2與光學元件於本具體實施例中，除了作為對準用 途的光檢測器之夕卜，該等檢測條3,還具有進一步的功能。舉 例來說，該等檢測條3,的尺寸可加以調整使其作為光閘， 用以對光束2提供特定的繞射作用。 雖然已經參考附圖詳細地說明本發明的圖解具體實施 例，^過應該瞭解的係，本發明並不僅限於該些具體實施 例。熟習本技術的人士亦可進行各種修改或變化，而不合 脫離申請專利範圍所定義之本發明的料或精神。 a 舉例來說’該光學元件可能配備至少兩個分隔的光檢測 元件3。舉例來說，該等至少兩個檢測元件之間的距離略大 於該光束的直徑（於該接收平面中所測得的直徑），因而便可 0\88\8825I.DOC -15- 1294047 以極高的精確度讓光束與光學元件互相對準。舉例來說， 該距離與該光束直徑之間的差值小於約丨mm，尤其是小於 約 1 μιη 〇 · 另外’可以-特定物體、轴線、點線、面等為基準來對 準該至少一光學元件與該至少一光束。根據進一步的具體 實施例，可於一光軸（例如光學系統的光軸）上來對準每道光 束及每個光學元件。 除此之外，每個光檢測元件3還可能包括數種材料，例如 金屬、合金、光導材料、其它種類的材料或該等材料的組 合。該檢測元件可能包括至少一熱#，其能触照其溫度 以產生一電信號。如果該檢測元件係被設計成當有至少部 伤5亥光束被投射於其上時便會升溫的話便非常有利，因為 以非常低廉、輕易設計的構件便可檢測到熱變化。另外， 此材料較佳的係能夠耐受高功率的光束，例如雷射光束。 另外，該光學元件可能包括一透鏡、一光學濾波器、一 光柵、一光學導體（例如光纖）、及/或其它光學元件。 當使用薄層沉積技術來製造至少一檢測元件日寺，如技術 熟練的人士所熟知般地可能要配合該等個別的沉積技術依 序地應用數道步驟’例如光罩製造、光阻塗敷、照射、蝕 刻、光阻移除、層沉積、及/或其它步驟。 另外，當利用電壓-電流測量法來檢測一檢測元件的溫度 時，可能會運用到直流電流及/或交流電流。 除此之外，％學元件！可能包括一個以上的接收平面，各 具有不同的形狀，例如平坦的平面、弯曲的平面及/或其它 O:\88\8825I.DOC -16 - 1294047 形狀。如果該光學元件包括數個包括至少一檢測元件的接 收平面的話，舉例來說，該些平面便可能互相平行延伸及/ 或於不同的方向中延伸，並且可能互相相鄰及/或互相分 隔。 如果該光予元件丨包括至少兩個接收平面的話，那麼每一 個便都包括至少-光檢測元件，該光束方向及該光學元件 的配向亦可互相對準。另外，藉由提供一包括數個接收平 面的光學元件亦可達到此對準的目的，其中至少有一光檢 測元件L伸於所有该些接收平面中，舉例來說，平行於該 至少一光束的預期路徑。 再者，母個接收平面皆可從週遭的區域及/或言亥光學元件 的内部接收一道以上的光束。 除此之外’每個該等接收平面皆可能包括-個以上的接 收區，用以接收該至少一光束。而且還可利用一光接收區 來接收一道以上的光束。 另外，可以許多不同的方式來構成每個光學元件丨、設計 其形狀及/或調整其尺寸。 風+ 〇來次，當欲讓光纖互相對準時，亦可將本發明之光 :兀件應用於許多不同種類的光學系統中，例如對準系 、充-匕的應用包括··光學切換及光學掃描裝置、光 存裝置等。 ^圖4所示，根據本發明之裝置的具體實施例為一光學儲 存裝置，明確地說，其為—碟片播放機。該裝置的主體為 ⑽’而且其包括—光學拾取單元102、—馬達⑺4、一導螺
O:\88\8825l DOC -17- 1294047 桿1 06、一導執1 〇8以及一轉盤11 0。 光學拾取頭102可沿著放置於該裝置中之碟片（例如資料 碟片（例如-CD或DVD))的最内側位置與最外側位置之間由 雙箭頭A所指示的方向（下文亦稱為往返方向）移動。導執 108會延伸於該往返方向中。光學拾取頭1〇2有一部份會與 導執108產生嚙合。當導執108於往返方向中移動期間，盆 會引導該光學拾取頭102。 光學拾取頭102包括一嚙合部i〇2a，其具有一螺旋孔，用 以讓導螺桿106延伸於其中。 。齒合部102a會與導螺桿1〇6緊密配合。該導螺桿1〇6會透 過一齒輪組被耦合至該往返馬達104的輸出軸，使得可以馬 達104來旋轉導螺桿1〇6。當導螺桿1〇6轉動時，光學拾取頭 102便可於該往返方向中移動。 作業中，會有一碟片被固定於轉盤110的正確位置中，該 轉盤係由一圖中未顯示的電馬達來驅動器動。 光學拾取頭102配備一物鏡112,用以作為根據本發明的 光學70件具體實施例。元件符號114表示的係光束。該裝置 進一步配備常用的光學構件與電子構件。該些光學構件中 有一項以上亦可能為本發明的光學元件。 【圖式簡單說明】 圖1為本發明之第一具體實施例的俯視圖，其中該光束與 該光學元件已經對準； 圖2為與圖丨雷同之俯視圖，其中該光束與該光學元件並 未對準；
O:\88\88251.DOC -18- 1294047 圖3為本發明之第二具體實施例的俯視圖，.以及； 圖4為根據本發明之光學裝置之具體實施例的概略設計 圖。 - 【圖式代表符號說明】 1 光學元件 2 光束 3 光檢測元件 3a-3d 光檢測元件3的環部 5a-5e 接觸片 10 接收平面 11 接收部 Γ 光學元件 3’ 光檢測元件 5’ 接觸片 l〇f 接收平面 1Γ 接收部 100 裝置主體 102 光學拾取單元 102a 嚙合部 104 馬達 106 導螺桿 108 導執 110 轉盤 112 物鏡 114 光束 O:\88\88251.DOC -19-

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  1. 丄號糞刺由社安 / ^p 5 a •塞·〜._聲邮洲嫌··>»·相…汗•嫌.杯抑 .1 霉i 中文申請專利範圍替換本(96年8月）％年f #峨更)正替換頁 拾、申請專利範園： 一-------- • 一種光學元件，其配備一接收平面（10)，該平面包括一 用以接收至少一光束（2)的接收部（11)，其中該接收平面 (10)配備至少一光檢測元件（3)，其係被設計成用以檢測 疋否有至少部份該光束被投射於其上。 2·如申叫專利範圍第1項之光學元件，其中該至少一光檢 測元件（3)係被排列在該接收部（u)旁邊。 3·如申請專利範圍第1或2項之光學元件，其中該至少一檢 測元件（3)包括具有電阻的材料，當該光束（2)的光被投 射於其上時，該電阻便會改變，其中該檢測元件（3)係 被設計成被連接至一電測量裝置。 4_如申請專利範圍第1或2項之光學元件，其中該至少一光 檢測70件（3)實質上會圍繞該接收平面（1〇)之該光接收 部（11)的至少一部份。 5·如申請專利範圍第4項之光學元件，其中該至少一檢測 元件（3)實質上係環狀。 6·如申請專利範圍第4項之光學元件，其中至少部份被該 檢測元件（3)圍繞的該光接收部僅略大於該接收平面（1〇) 中所看見之該光束（2)的剖面。 7·如申請專利範圍第丨或2項之光學元件，其中該至少一檢 測元件（3)係被排列成對稱於該光接收部（1 ”。 8_如申請專利範圍第丨或]項之光學元件，其中該接收平面 (10)配備至少兩個分隔的光檢測元件（3)。 9·如申請專利範圍第8項之光學元件，其中該等至少兩個 O:\88\8E251 -960808.DOC I I 1294047 外年少月h，給(避)正静換f ， **.i-#.-vt--v-·.·. .··. i _________ ^ ^ 0t~r "-T—*—-» 檢測元件（3)之間的距離略大於該光束（2)的直徑，該直 徑係於該接收平面（10)中所測得。 10·如申請專利範圍第9項之光學元件，其中該距離與該光 束直控之間的差值小於約1 mm。 11 ·如申請專利範圍第9項之光學元件，其中該距離與該光 束直徑之間的差值小於約 1 μηι 〇 12·如申請專利範圍第1或2項之光學元件，其中該光學元件 (1)已經配備採用至少一薄層沉積技術的至少一光檢測 元件（3)，該等薄層沉積技術包括CVD、PE-CVD、ΜΒΕ、 濺鍍及/或蒸鍍。 13.如申請專利範圍第丨或2項之光學元件，其中該至少一光 檢測元件（3)於垂直該光接收平面（x，y)處所測量到的厚 度約100 μιη以下。 14·如申請專利範圍第13項之光學元件，其中該厚度約1 μπι 以下。 15.如申請專利範圍第14項之光學元件，其中該厚度約1〇0 nm以下。 16·如申請專利範圍第1或2項之光學元件，其中每個光檢測 元件（3)於該光接收平面（1〇)處所測量到的寬度（w)約1 mm以下。 17·如申請專利範圍第16項之光學元件，其中其中該寬度 (W)小於約1〇〇 μηι ° 18.如申請專利範圍第16項之光學元件，其中其中該寬度 (W)小於約1 。 O:\88\88251 -960808.DOC -2 - 1294047 f .* - ..... ' J " ·*-,τ - —.-.,,f 19·如申請專利範圍第1或2項之光學元件，其中每個光檢測 元件（3)的體積小於約10,000 μπι3。 20·如申請專利範圍第1或2項之光學元件，其中該至少一光 檢測元件（3)包括至少一導電材料，例如金屬。 21·如申請專利範圍第1或2項之光學元件，其中該至少一光 檢測元件（3)包括至少一熱耦。 22·如申請專利範圍第1或2項之光學元件，其中該光學元件 (1)包括電連接線（4)，其係被連接至該至少一光檢測元 件（3)，用以將該檢測元件連接至一測量裝置。 23. 如申請專利範圍第3項之光學元件，其中每個光檢測元 件（3)不同的部份係被設計成被連接至一電測量裝置。 24. 如申請專利範圍第1項之光學元件，其中該至少一檢測 元件（3)至少部份延伸於該接收部（u)之中。 25·如申請專利範圍第24項之光學元件，其中該至少一光檢 測元件（3)係被設計成用以提供一光柵。 26·如申請專利範圍第項之光學元件，其中該光學元件 (1)包括一透鏡。 27·如申請專利範圍第項之光學元件，其中該光學元件 (1)包括一光學濾波器。 28·如申請專利範圍第丨或2項之光學元件，其中該光學元件 (1)包括一光柵。 29.如申請專利範圍第1或2項之光學元件，其中該光學元件 (1)包括一面鏡。 3〇. 一種製造一光學元件之方法，其中一光學元件基板可利 〇：\88\88251-960808.DOC 1294047 %牟f月/曰修(更追替換寊丨 . ·.-·«, -^r，w,— ----|jm[j_________ ,.-、, -........ 用至少一薄層沉積技術而配備至少二光檢測元件（3)。 31· —種對準至少一光束及申請專利範圍第丨或2項之光學 兀件之方法，其中可將該光束（2)投射於該光學元件（1) 之上，讓該光學元件（1)於該接收平面（1〇)中接收該光束 (2)，其中可利用該至少一光檢測元件（3)來對準該光學 凡件（1)及該光束（2)，使得該光學元件實質上會在該接 收平面（10)之接收部（11)接收到光束（2)。 32·如申請專利範圍第31項之方法，其中可從該至少一光檢 測元件（3)會檢測到該光束（2)的第一相對位置中將該光 束（2)與該光學元件（1)移動至實質上該檢測元件（3)不 會檢測到該光束（2)的第二相對位置中。 33·如申請專利範圍第32項之方法，其中可依序地將該光束 ⑺與該光學元件⑴移動至一該至少一光檢測元件(3) 及/或另一光檢測元件（3)會再次檢測到光束（2)的第三 相對位置中，其中可利用針對該等第-、第二及第三相 對位置所獲得的檢測結果來決定該光束與該光學元件 (1)的最終相對位置。 34. 如申請專利範圍第31項之方法，其特徵為可於一光轴上 來對準該至少一光束及該光學元件（1)。 35. 如申請專利範圍第31項之方法，其中該至少一檢測元件 (3)的使用法包括測量其電阻，用以檢測是否有至少部 份該光束被投射於其上。 36·如申請專利範圍第35項 檢測元件（3)有特定溫度上升時， 之方法，其中當檢測到該至少_ 便可互相移動該光束（2) O:\88\88251-960808.DOC -4- 1294047 厂机————-—-~, %年/月/日修(更)正雜頁| 與該光學元件，使得該檢測元下降。 3 7· —種用以將資訊記錄於一旋轉光碟的資訊層上及/或從 一旋轉光碟的資訊層中來再生資訊的光學裝置，該裝置 包括如申請專利範圍第1或2項之光學元件。 O:\88\88251 -960808.DOC
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