TWI293575B - - Google Patents

Description

1293575 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種電漿處理裝置，具體而言，係關於 一種在液晶面板等製造時所使用的電漿處理裝置。 【先前技術】 液μ面板係在玻璃基板或者是樹脂基板上進行所需之 成膜處理、钱刻處理所加以成型。於該液晶面板的製造步 驟中使用有電漿蝕刻、電漿灰化、電漿c ν D及電漿濺鍍 等電漿處理。在該等處理之中，雖然可將基板以產品的尺 寸大小進行處理，但是為了提昇製造效率以進行量產，一 般疋將可分割為複數片液晶面板之大尺寸基板作為加工 而採用在该加工品上施以進行電锻處理之產品製造方 法0 就邗馮將大尺寸之基板來作 之 …— 口从遣仃浆處 "5，係具有將大尺寸加工品進行電漿蝕刻等處 之處理室、在處理室於直 〜 狀悲下將加工品進行輸入或 I預：至，以及在預抽室及處理室之間將加工品輸出 進行所需處理之梦晉 乂 ^相關的專利文獻如特開2002 二3…公報、特開2001 —號 面板在以往並未使用有這樣大型，， 疋為了在液晶電視等物品上使用大。 寸| 襞處理之加寸難隨大4此，二=導致以1 成複數液晶面板之單枚加工 可分’ 文日日衣置，必須要能處 1293575 、：'5m〜2m或者是以上之尺寸之加工品。 疋加工品這樣大型化會使 無法針對加工品進行平均的理裝置 用傳統:=題。該問題是在電毁產生裘置中，是使 之影響顯著化，導;：頻率電衆源’使得固定波（波長: 物理原因而生成。 彳j 乂及另侧之蝕刻率不同之 3:免因該固定波所導致之問題的方法，有不改變i 生糟由^極分割為複數個以均勻的產 ^ ,，以及將施加在電極之高頻率電壓之頻率數 ⑽例如2ΜΗ…，使得高頻率之波長相對 品之大小十分的長之方法。

但疋’在分割電極以產生電料，相鄰的電極之間 因，電漿無法連續導致電漿不能平均的作用在加工品上 問題。又’在降低高頻率之頻率數時，與頻率高的場合 以比較會有㈣率下降導致生產效率低下的問題產生。° 又。在具備有陽極及陰極之習用的平行平板型電毁處 理裝置處理加工品時’是在陽極上輸入加工品，再由陽： 將加工品加以輸出，故為了要在電極間得以操作可將加工 品進行輸入及輸出之升降及輸出輸入用工作臂，陽極與陰 極之間必須具有一定的間隔。但是，當陽極及陰極之間= 變大時，會導致電漿蝕刻時之蝕刻率下降，又，當處理室 大奏北後，-參喜！用真I株 空裝置之問題。 ~ 6 !293575 【發明内容】 本發明為了要解決上述問題， 於邊 ]崚其目的在提供一種針對 於遭長1.5m以上之大尺寸平板型 ^ ^ ^ . 汉孓之加工品，在不降低 …丨… 才又了均勻的進行電漿作用，藉 置。 处的同生產效率之電漿處理裝 為了達成上述之目的，本發明係具備有以下之結構。

亦即’該電毁處理裝置’係為了在成型為平板狀的加 -上施以電聚處理，其特徵在於該電|處理裝置具備 有： 預抽室，係為了將該加工品進行供給或排出； 電水處理至，係透過該預抽室以及閘閥串聯連結設 以將该加工品在預抽室之間進行輪入或輸出； 口載妝係將该加工品支撐為平坦狀，並可同時與該加 工品在該預抽室以及電漿處理室之間進行輸送； 輸送機構，係於支撐設置於該預抽室以及電漿處理室 勺載肢之支撐機構間，進行載體的來回輸送。 。又’違電毁處理裝置，其特徵在該設置於預抽室之支 :機構係可將載體進行上下方向分離之2段式結構，並設 有升降機構’其可將設置於該預抽室之支撐機構進行上 將方向私動’以將被支撐機構支撐之載體在預抽室以及電 R處理至之間進行輸送至所需之高度位置。 又該升機-構土置者章，機-構，其可將^ 於载體之*持^ m 叉保位置以及由載體移出之位置間進行變位移 1293575 進行載體之移動 動’藉此可於上下2段設置之支撐機構間 作業。 又，在該預抽室上設置有在預抽室中可針對該加工品 施以前處理或者是後處理之電毁裝置，藉此可利用在電將 處理室之電襞處理時間來對加工品進行前處理或後處理: 如此可將加工品之處理時間進行有效率的縮短。 又，在該預抽室的底部上設置有藉由升降機構使得載 體之支撐機構下降時，與載幾接觸以將載體冷卻之冷卻裝 :’故可以輕易的冷卻因電聚處理而被加熱的加工品，使 仔處理時間加以縮短來達到確實的處理效果。 又，在該電毁處理室上設置有作為電聚產生裝置，以 和載體之移動方向略為垂直方向的預定間隔下用以產生線 ^電漿之複數電極’在電毅處理時，藉由該輸送機構可將 :載體至少通過該電極所設置間隔以上之移動範圍以進行 ，勺私動掃彳田，藉由將加工品以移動掃描之電漿處理方 式可^大型之加工品施以均句#冑毀處理效果。 藉由本發明之電梁產生裝置，可以在預抽室以及電激 Γ/之間對加工品進行有效率的輸送以及施以所需之電 水⑽。X ’藉由在懸室設置所需之電㈣，可以對在 至内之加工品施以前處理或後處理，故能 的電漿處理。 丁令双丰 又肖由在電聚處理室内將加工品進行移動掃描之处 構，-即使針對^大.型的如τ 0介1 ^ 遠到减音Μ +荃的加工1亦可以施以均-勻的電衆作用以 達到確貫的電漿處理 1293575 【實施方式】 以下便基於所添附之圖式對本發明之最佳實施形態進 于羊、田的°兒明。弟一圖係本發明電漿處理裝置之整體結構 不思圖。该圖中之符號（1 0 )者為預抽室，符號（4 0 ) 者為包裝處理室。符號（1 1 )者為對預抽室進行加工品 之輸出及輸入的閘閥，符號（4 2 )者為設置在預抽室（丄 〇 )以及電漿處理室（4 〇 )之間的閘閥。加工品（5 ) _係支#牙於載體（5 〇〕上，並於預抽室（丄〇 )及電漿處 里室（4 0 )之間進行輪入及輸出以進行所需之電漿處理。 (預抽室） 、帛二圖為預抽室（1 〇 )及電漿處理室（4 0 )之俯 視不思圖。如圖所示，預抽室（丄〇 )及電漿處理室（4 〇 )疋藉由閘閥（4 2 )加以串聯設置。 藉由本實施型態的電漿處理裝置以進行所需要之處理 的加工品（5)是可由單片之基板以分割為複數片之液晶 •面板，且其長寬之尺寸為丄七…之大尺寸基板。 =至（1Q)及電滎處理室（4◦)則設置為可將該大 戶 =加工品（5)加以平放支撐並進行水平輸送以進行 所品處理之尺寸。 =加工品（5)之載體（50)之本體係可將加工 • = 5 )以平坦狀加以支撐之平板體，本實施 ，平板體之本體侧面上設置有可自由滾動之滾輪(52) 又，载體（5—〇)之形態亦是可與輸送該载體（5 結構加以結合之其他形態。 ）之 9 1293575 載體（5 〇 )之本體係較加工品（5 )之平面尺寸為

狀本體上，設置有在載體（5 用以供將加工品（5 )朝載體 (5 0 )之上方突出分離之突起插梢穿過之穿孔。 具備有預抽室（i 0 )及電漿處理室（4 〇 )的電漿 處理裝置在預抽室（1 〇 )及電漿處理室（4 〇 )之間， 將加工品（5 )進行有效率的輸送以縮短處理步驟之時間 是產品量產上所不可欠缺的。 本發明之電漿處理裝置可針對於大型之加工品 進行確實的電漿處理 (4 0 )之間，將加 量產性。 处理’並於預抽室（1 〇 )及電漿處理室 將加工品（5)進行有效率的輸送而提高 ， 第二圖是本發明預抽室（1 0 )之内部結構放大示意 圖。本實施形態之電漿處理裝置於預抽室（1 〇 )之内部 :置有作為將載體（5 0 )以上下方向平行的加以分離支 φ撐之支撐結構的兩個支撐執道（1 2 a )、（丄2 b )， 並具備有在支撐軌道（12a) 、（12b)於平行支撐 々狀心下’將该支撐機構進行上下方向升降之升降機構。 第二圖所表示者為於上段之支撐軌道（1 2 a )上支 撐有加工品（5)以及載體（50)，而下段之支撐軌道 (1 2 b )呈未有物品之狀態。 • 第四圖所示者為由載體（5 0 )之輸送方向所見之預 • ( 1 Q ) 书部狀態示意圖，圖中可見到預抽室（1 内部設置有支撐軌道（1 2 、（1 2 b )以及支 10 1293575 撐執道（1 2 a ) 、（ 1 2 b )的升降機構。 如圖所示，載體（5 〇 )係藉由設置在預抽室（丄〇 ) 之寬度方向對向上之一對支撐執道（12a) 、（12b) 加以支撐，藉由滾輪（5 2 )在支撐執道（丄2 a )、（ 1 2 b )上滾動而朝支撐轨道（丄2 a )、（丄2乜）之長 度方向自由移動。該支撐執道（丄2 a )、（丄2 b )係

藉由内側面引導滾輪（5 2 )之外側面以決定載體（5 〇 ) 之輸送方向。 牙^ 1 2 a ) 、（ ；[ 2 b )之升降機構係包括 有支揮支採軌道（12a)'(12b)之支擇臂（14)、 將支撐臂（1 4 )支揮至立起狀態之上下動板（工6 )以 及驅動升降該上下動板（16)之驅動馬達（18)。咳 丄下動板（1 6)係與驅動馬達（1 8)之出力軸連接之 …'文軸（1 g )螺合，藉由螺紋軸（ 來進行上下動板（16)之升降。）之正反向旋轉 a 第:圖表示者為滾輪（5 2)支揮在支擇軌道（工2 1 2 b )上之狀態，支撐執道（1 2 a )( a 以及載體（50)係藉由朝支撐軌、（1 (12 b)之寬度方向（與載體（5〇)之輪 ，方向）移動’使得滾輪（52)由支撐軌道向垂直

a )、（ ? h、 狀怨。作為將切軌道、U 2 b )朝寬度方向移動之移動 (2〇)，並於相對於上下動板（16)有^達/『〇)、 見度方向上所 11 1293575

支撐之滑塊（2 4 )上螺合有與馬達（ 妞 > 丄田^ . J 竿由運 接之螺紋軸（2 2 ) 之大^預抽室（1 0 )上設置有可供支撐臂（1 4 )移動 =、的穿孔，在該穿孔之周緣所設置的凸緣與固定= 辟：）之凸緣（2 5 )間係藉由風箱（2 6 )加以連 可在維持預抽室（1〇)於真空之狀態下進： 進：上1 4 )於見度方向上之移動’讓上下動板（i 6 ) 進仃上下作動。 '1 〇 ) 如此一來，支撐軌道（12a) rin 支擇載體（50)並進行載體（5Ω: (:2b)便可在 藉由支律軌道（12a) bo:輪送狀態’《及 之彡浐 ^ l2b)解除载體（5〇) b)二 （5〇)由支律軌道（"a)、（12 (12b)之::：行切換。上述將支撐執道（12〇、 2〇、㈣之操作’以及升降切軌道（1 預抽室（10)中：之操作均是獨立加以控制之操作，在 主Q 1 0 )中係將升降上 牡 將支禮臂（“）朝寬度方向移動：二力6):操作以及 载體（5〇)移動之操作。動之&作加以合併以進行 又，將支撐執道（1 移動之機構以及升降支撐軌道(；2()2b:朝寬度方向 _除了使用作為驅動源之馬達 =(12b)之 當的驅動源’其結構並不僅限===如汽缸等適 —在第三.爵/ π 弟一圖所不之結構。 0 )底部之冷卻f置:7 )是作為組裝在縣室（1 的冷卻板。該冷卻板（27)是在電 12 1293575 锻處理室（4 n B 進行加工品（5 )之電漿處理時， :、皮Γ漿處理室（4 0)進行加工品（5)之灰化處理：， 7; 載體（5 〇 )進行冷卻之用。該冷卻板（2 作，該載：體ΓΓ置有供冷水流通之管路來進行水冷動 (5 〇 )係與冷卻板（2 7 )之上面以面接觸 二進行熱傳導來達到冷卻效果。 付號（2 8 )是在冷卻板（2 7 )上面接觸有載體（5 之狀態下’作為將載體（5 ◦)所支樓之加工 5 0 )之上面加以向上突出分離之突起機構的突 起插梢。該突起插梢（2 8 )係貫穿冷卻( 2 7 )之厚 f方向，#由風箱（2 9 )而在預抽室（丄〇 )於氣密： 悲下向上進行突起。如前述，在載體（5 Q ) ±係設置有 對應於突起插梢（2 8 )之設置位置的穿孔，突起插梢（2 8 )貫穿冷卻板（2 7 )以及載體（5 0 )使得加工品（5 ) 由載體（5 0 )向上突起。該突起插梢（2 8 )係藉由汽 缸等驅動機構而由預抽室（i 〇 )之外側進行操作。 付號（3 0 )是設置在預抽室（1 〇 )内部上方之電 漿裝置。預抽室（1〇)是在電漿處理室（4〇)中，對 加工品（5 )進行所需之電漿處理的前處理或是後處理而 可進行電漿灰化等之電漿處理者。作為設置於預抽室（1 0 )中之電漿裝置’可以為RIE(Reactive Ion Etching)、 MDS(Microwave Downstream Source) 、 ICP(Inductively Coaled Soui^e)-# 符號（3 2 )是閥體，符號（3 4 )是使得預抽室 13 1293575 Ο)進行真空排氣之真空排氣裝置。該真空排氣裝置（3 4 )係配合預抽室（χ 0 )内之加工品（5 )的供給或排 出時間而驅動。符號（3 6 )是使得預抽室（1 〇 )與外 界開放之閥體。 ^ 第五圖係表示電漿處理室（4 〇 )之内部結構。符號 (4 4)是作為在電漿處理室（4 〇)内用以支撐載體（5 〇 )之支撐結構的支撐軌道。該支撐軌道（4 4)係與第 四圖所示之支撐軌道（i 2 a )、（丄2 b )同樣形成為 軌道狀，由預抽室（1 〇 )所輸入之載體（5 〇 )的滾輪 (5 2 )則被引導支撐在軌道上。該支撐軌道（4 4 ^^ 預先固定組裝在預設的高度位置^ “ 在電聚處理室（40)的内部上方設置有電裝產生裝 置（45)。該電聚產生裝置（45)是在载體（5〇) =寬度方向上’以載體（5Q)之輸送方向上以預定間隔 戶加以設置的細長電極（45a)。亦即，電激產生裝置 =5)是於載體（5〇)的輸送方向之垂直方向上，以 預定間隔加以設置以產生線狀之電漿。 如此一來，當電漿產生裝置產 座生線狀之電漿時，對載 粗（5 0 )所支撐之加工品（5 ) J進仃電漿作用便會產生 ◎。然本實施形態在線狀電漿產生

之蕾將1 』刀ϋ丄tr 口 l J 窀水作用導致斑點產生之問 域，ϋ t 以針對產生電漿之區 — 曰由與加-工-品（5 )言ft 加工σ Λ 勹進仃移動掃描 1使得 口口（ 5 )整體能夠獲得均勻的電啼 J电沒作用而解決。 14 1293575 由於電漿是與載體（50)之輪逆方△ + 士 ^ u ^ <輸迗方向垂直的方向以 、银狀產生，藉由支撐軌道（4 4 ) 輪穿古a 4 4」將載體（5 0 )引導至 進行至少在電漿產生裝置（45)之電極（4 3叹置間隔以上之移動掃描，故可以讓加工品（5 ) =體進行均勾的電漿作用。當然，可以設置為單方向進 仃知描之方法，亦可以設置為載 間進行來回移動之掃描方法。 預定的S巨離 =(5 G)之掃描距離可以基於設置在電漿產生裝 f二上之電極（45a)之間隔距離，於可對加工 口口（5)均勾進行電聚作用下進行設定，而掃描速度亦可 對應於電漿處理之内容進行適當的設定。 藉由使用將複數個電極（45〇以預定間隔加以設 置之電漿產生裝置（4 5)之方法’具有即使使用在處理 尺寸為i.5m〜2.或者是以上之大型加工品上，亦可 錯由電極（4 5 a )之設置數量或者是設置間隔的改變來 加以應對的優點。又’藉由針對電漿源使得加工 動掃描，即使«產生線狀對加工品進行作用亦可^ 電f的斑點（不均句性），具有不會受到加工品的大二 響而可進行加工品整體的均勻電漿作用之優點。 心 在本實施形態時’由於將加工品進行移動掃描而 可使付針對加X品可以進行均句的電t作用，因此可 除因為高頻率之固定波問題，因此亦可以使用習 / 生裝置之13M—HZ之高頻率來產生電毁。藉此，可 得與習用裝置相同㈣刻率效果，使用在大型加卫品也= 15 1293575 會有電漿處理效率低下的問題。 又，電漿產生裝置係將支撐加工品（5)之載體（5 二作為陽極以產生電[為此載體（5〇)便有作為接 地電位之必要。 第六圖及第七圖所示者為將载體（5〇)作為接地電 位W之連接機構示意圖。該載 r 4戰體（50)是在電漿處理室 二〇)@’於支撐在支擇軌道（44)之狀態下進行移 “、該機構係即使進行移動掃描時亦可以確保載體（5 u )之接地電位之機構。 弟六圖中，設置於載體（ L1 5 0 )内之接觸電刷（5 3 ) 上滑接有接觸梢（5 4 )，在盘妓_ + ^ , 〜 在接觸毛刷（5 3 )接觸的 狀您下接觸梢（5 4 )可逸4干μ ΠΓ > β 4 J 了進订上下作動，透過環體（5 5 ) 〜:：接觸梢（54)及接地桿（5 6)達到電氣連接。 = (57)是讓接地桿（56)在氣密之狀態下亦可進 =作並具有電氣絕緣性之作動封塊。在取代該作動封塊 27)±’亦可如第五圖所示將接地桿（56)組裝在 相（5 6 a )上以使得接地桿（5 6)可進行動作。 第七圖中，在載體（50)之輸送方向之端面上滑入 =觸梢（54) ’藉由彈簧（56)讓接觸梢（54) =彈力’而可以讓載體（5〇)透過接觸梢（54)以 經常的保持為接地電位。 (輸送機構） —作為在預抽室（1 〇 )以及電漿處理室（4 0 )之間 輸送載體C50)之方法，本實施形態所採用之方法係使 16 1293575 用載體輸送臂〔β η、 I沒（β 〇 )以輸送載體（5 ο )之方法。該載 2輸达臂（6 0)如第1圖及第五圖所示，係由電漿處理 ，間（4 2 ) s5：置面之對向面將臂體朝電衆 處理室 内邛輸送，藉由臂體之進退動作來進行 載體（5 0 )之私、"y* 片月,j ^作業。符號（6 2 )是讓載體輸送臂 在氣〇»之狀態下而直線移動之作動封塊。 ”ϋ載版輸运臂（60)以輸送載體（50)之方法 疋 5〇)之端面上卡合有載體輸送臂（6〇)， 將載體輸送臂（6〇)進行直㈣移動使得輸送臂㈠ 〇)與載體（50) _併進行移動。 第圖疋載體（5〇)以及載體輸送臂（6 0)之卡 口 2放大立體圖。本實施形態係在載體輸送臂（6 〇 ) 之前端設置有球狀的卡 ,,^ 下Ό邛（6 4 )，糟由將該卡合部（6 =入：置在載體（5 0)之端部的插槽（“）之卡 。)加以卡：。中’使得載體(5 ° )以及載體輸送臂(6 $成為球狀之卡人邮< 之卡合孔（66 與設置在插槽（“） 方向上，將载：：構是在载體（5〇)之輸送 態下-同)及載體輸送臂（"）於卡合狀 =，當載體（5〇)相對於載體輸送臂 J方向之移動時’便解除卡合狀態。 虽裁體輸送臂（6 〇 )與 上料時，便可t ( 5 0 )之卡合形態如 之間進仃裁體（5 〇 ) ^ U ； 則、。因此，如果載體（5 0 ) 1293575 及載體輸送臂（“）是形成為該卡合結 方法便不僅限於第八圖所示卡 載體(,5㈡上之插槽（“）_二之=: 載體輸达臂（6 0 )上則設置有可與該插槽（“)卡a 之卡勾而可成為在载體（5〇)之輸送方向上為卡合，； 下方向上為不卡合之形態。

由於載體輸送臂（A Q 4 ( 6 0 )係與載體（5 0 )之端面卡

合而與載體：5〇)進行平行之移動，因此就本實施形態 之電表處理1置而言，便不f要為了作為輸送載體（5 〇 ) 之空間而加大支撐軌道（“）及電毁產生裝i(45) w離。因此’加工品（5)在輸入電毁處理室（4 〇 )後之狀態下，加工品（5 )及電衆產生裝f ( 4 5 ) 可以十刀的接近，目此能夠提高相對於加工品（5 )之蝕 刻率。又’由於電毁處理室（4〇)<内容積能夠加以縮 口此電水處理至（4 〇)之真空排氣裝置亦可以有效 率的加以作動使用。 又，由於載體輸送臂（6 〇 )係由電漿處理室（4 〇 ) =舄面朝預抽室（1 Q 插入作動臂以在兩室之間進行载 ( 5 〇 )之壓動操作，因此載體輸送臂（6 〇 )必須要 具有進行該輸送操作之必要長度。由於加工品（5 )係2 m左右之大尺寸物品，因此載體輸送臂（6 〇 )亦必須使 用具有數m左右長度之結構。 :、又’在電普遽—理f 言^ 仃载體（5 〇 )之輸送機構並不僅限於第八圖所示之直接 18 1293575 作動式載體輸送臂（6 〇 )。 第九圖所示者係使用具有驅動臂以及驅動部 例：手臂（67)來進行栽體（50)輸送作業… 送1體(5。)是藉由支揮軌道(“)來進行 第十圖所示者係在載體（5 〇)之端 :::Γ51):在滑溝…)上設置有卡合= (4 4)上：：f5(〇6)9)之轉動來將引導於支揮軌道 /上之載體（5 〇 )進行輸送之實施例。 載體輸送臂（6 η彳、撼/ 9)在電漿處理室(4。)= 可使用。 仃加工σ口之移動掃描時亦 (連續運轉操作） 工。=下便就使用上述實施形態之電毁處理裝置，針對加 。°進行電聚處理之操作方法進行說明。 插室Tt，第一圖所示之狀態為起始狀態。也就是說，預 加工D 於上段之支撐軌道（12a)上支樓有載置 則是;;』！：：載體（5〇)，在電聚處理室（4〇)中 刻等所^ (5〇)上所支撐之加工品（㈧進行電漿蚀 裝處理時之0?;:處：。利：在電漿處理室（4 0 )進行電 進行所需之^ 預抽至（1 Q )中可對加X品（5 ) 道.(1 =之則處理。加工品（5)是支撐於上段之支樓軌 處理。 (―㈣ 19 ¢293575 第十圖所示者係在電漿處理室（4 Ο )結束電漿處 理後，將加工品（5 )由電漿處理室（4 〇 )與載體（5 同輪送至預抽室（1 Q )後的狀態。該輸送作業係 開啟閘間（4 2 )，將載體輸送臂（6 0 )伸入以將載體 (50)送入至預抽室之中。當預抽室（1〇) 下'^又之支撐軌道（12b)的高度與電漿處理室 之支撐軌道（4 4 )之高度一致時，便可以將載體（5 〇 ) # 以水平移動的方式由支撐軌道（44)輸送至支撐軌道（工 2 b )上。 第十二圖所示者係在預抽室（i 〇 )中，藉由升降機 構將支擇執道（1 2 a )、（ 1 2 b )由上方位置移動至 . 下方位置之狀態。所謂支撐軌道（1 2 a )、（ 1 2 b ) • 位於上方位置係指下段之支撐軌道（1 2 b )的高度與電 漿處理室（4 〇 )之支撐軌道（4 4 )的高度一致的狀態， 而所°胃支撐軌道（1 2 a ) 、（ 1 2 b )位於下方位置係 •指上段之支撐執道（12a)的高度與電漿處理室（4〇) 之支撐軌道（4 4 )的高度一致的狀態。前述設置於載體 (50)之插槽（66)與載體輸送臂（6〇)在上下方 向上並未卡合，藉由支撐執道（12a) 、 （12b)下 降至下方位置之操作，能使得卡合在下段之載體（5 〇 ) 上的載體輸送臂（6 0)與支撐在上段之支撐軌道（1 2 * a )上之載體（5 0 )卡合。 —— ^十三一厨上段之支撐軌道(IT a ) 的載體（50)藉由拉出载體輸送臂（6 〇)而由支撐軌 20 1293575 、、（12a)輸送至支撐 處理室（40)之狀態。加：4)，進而輸入至電漿 (4〇)後，便將閑間“二(）在輸入至電聚處理室 室（4(Π内對加工品…）加以封閉，並在電漿處理 毁處理時，係使用載體輸送需之電聚處理。在電 行移動掃插以對加工品（5/^60)將載體（5 〇)進 v )進行均勻的後處理。。 ’該預抽室（1 Q丨+ 外開放夕& u)亦可在預抽室（1 0 )進行對 ㈣放之前’使用電漿裝 仃對 行後處理。 (3 0 )來對加工品（5 )進 第十四圖所示者為對加工品 後，將支揮執道（12a)、η^ 處理 體（5 0〉#、人” （1 2 b )進打下降，將載 ,,、部板（2 7 )進行接觸冷卻之狀態。 體當=(36)開啟使得預抽室（1〇)通入外界氣 版5〇)便可獲得進-步的冷卻效果。該載體（5 —係將處理後之加工品（5 )由載體（5㈡移出至預 抽1 〇 )之外界後，於預抽室（1 0 )輸入下-個加 ϋσ (5)至載體（5〇)上之前，藉由冷卻板（Η) 來進行冷卻。 第十五圖所示者為藉由突起插梢（2 8 )將加工品 (5)由載體（5Q)加以向上突起，並由載體（5〇) ^方將加工„( 5 )加以分離，並將作為輸送機構之輸送 # ( 7 0 )伸入預抽室（丄〇 )中以進行加工品（5 )之 輸*作業之狀態。輪％臂(7 0 )係在^ 相互不干涉之情況下伸入以由預抽室（1 〇 )將處理後之 21 1293575 加工品（5)取出。 之後，再使用輪送臀,^ ,,§r η π 1 (7 〇)將下一個加工品（5) 輸入至預抽至（1 Q ) 、 y ^ 〈中载置在突起插梢（28)上面 後，將突起插梢（2 8 l^ ^ σ r ^ 下降以載置在载體（5 0 )上。 當加工。口（ 5 )設置在欹μ , ^ 栽肢（5 〇)上之後，便對預抽室 (1 0 )進行真空排氣。 如第四圖之說明般， 精由支撐軌道（12a) 、（1 2匕）在外側上的些許變位’使得載體（5 〇 )由支撐的 位置移動至與外側分離之位置。再度設置有加工品（5) 之載體（5 0 )則在該哉_ , r ^、 』仕4载體（5 Ο )支樓於冷卻板（2 7 ) 上之狀態下，將支撐轨道f Ί 〇 、 牙軌道（1 2 a )、（丄2 b )朝外側 開啟，進一步的下降至載體（5 0 )可支撐在上段之支撐 軌道（1 2 a )上的位置，使得上段之支撐軌道（丄2 a ) 的高度與載體（5 0 )的高度一致，將支撐軌道（工2 a )、 (1 2 b )之寬度縮減之支撐上段之支撐軌道（丄2 a )。 第十六圖所不者為藉由升降機構將支撑執道（1 2 a )、（ 1 2 b )上升至上方位置之狀態。在上段之支撐 軌道（12a)上支撐有載體（5〇)及加工品（5)， 而下段之支撐軌道（1 2 b )則成為空擺之狀態。藉由支 撐軌道（1 2 a )、（丄2 b )移動至上方位置，預抽室 (1 0 )便此夠對加工品（5 )進行前處理，而當下段之 支撐軌道（1 2b)與電漿處理室（4〇)之支撐軌道 4 ) 一高度—致―’―以可在預抽室（1 〇 )及電漿處理室（4 0 )之間 < 進行載體（5 0 )之橫向輸送狀態時，也就是 22 P93575 第一圖所示之起始狀態。 如此-來，將加工品（5)由預抽室（1〇)朝電漿 處理室（4 0 )輸送，並將電默處理後之加工品（5 )移 出至電聚處理裝詈之夕卜如 4 忒罝之外側，然後將下一個加工品（5 )輸 入至預抽室（1 3 , 丄υ」使凡成一個循環的操作。將該操作依 順序反覆的進行便可以造诗 連、戈的對加工品（5 )進行電漿處 理。 • 本實施形態之電衆處理跋置係將預抽室（10)以及 電漿處理室（4 0 ) Π * Η絲+ i 、、 串聯方式設置，可於預抽室（1 〇 ) 中進仃別處理及後處理，因此可以連同電漿處理室（4 〇 ) 中之電衆處理對加工品η \ , (5 )轭以前處理以及後處理，如 -此便^大幅的降低加工品（5)的處理時間。 … 十八圖疋對加工品進行有機膜去除、電漿處 理、灰化之例子，第+ 1 m μ _丄 圖所不者為依有機膜去除、電漿 處理、灰化之順序進杆虫 λ 串聯處理的步驟及所需時間圖，第 癱十八圖係將電漿處理盥有嬙赠土队 ^ 雩“Ώ 。有祛臈去除、灰化進行並聯處理的 步驟及所需時間圖。如太总 處理< , α β形悲之電漿處理裝置係並聯 处之守，則如弟十八圖所示，可有效利用電漿㈣ 時間來達到整體處理時間的有效降低。 又’上述的實施形態因為載體（5 _ ，因此= - 仁亦可如弟十九圖所示， 白士 轉之滾輪（1 3 a ) 、r Ί η 將了自由方疋 )、（I3b)作為支撑部，並在滾輪 23 1293575 a n . b)上支撐有形成為平; 〇)。在這樣的場合時，載體：十板狀之载體（5 滾輪（1 3 a ) ( 1 3 b )。 ）之支撐機構便成為 上述之貫施形態雖是利用 行載體（5 0 )的於…,^ 風組輸运臂（6 0 )進 驅動滾輪（1 3 a )、f τ ^ h、 丁九圖所不，設置可 错由滾輪（1 3 a )、（1 q h、 UK 1 5 )， (5 〇 ^ 6, n b)的驅動旋轉來達到載體 U)輸达的目的。此時，驅動滾輪#士“ 〇)之支樓機構。當滾輪（"〇輪以為支撐载體（5 滾輪時，在電漿處理室（4 1 3 b )為驅動 ，驅動滾輪，藉由驅動滾輪之控= 二4 (V亦 在預抽室（10)以及電聚處理室（、載：（50) 當加工品⑴在電浆處理室（40)中上之間進行輸送。 利用驅動滚輪之控削將,）中進行電毁處理時， 勻的電製處理，將加工品進行移動掃描以進行均 室（二所：’藉由本實施形態之電毁處理裝置，在預抽 至（1 0)中設置有支撐加工品 支撐部之升降機構以及於、 ）之上下兩段支撐部、 此可以將： 品（5)之輸送機構，因

此可u將加工品（5 )在預抽官f M ί 4 η、… 貝抽至（1 0 )以及電漿處理室 之間進打有效率的輸送，又， 率的進行所需的處理。 7針對加工品有效 又’即使本實施形態之電漿處理裝置用來使用在 "里 ^以確只的達到均勻的加工品處 理效果，另外，並不僅限於大尺寸液晶面板之處理，亦可 24 !293575 作為各種產品之量產裝置使用。 【圖式簡單說明】 第一圖係本發明電漿蝕刻裝置之一實施形態的整體結 構示意圖。 乐一圃你％泵触刻裝置之平面設置示意圖。 第二圖係預抽室之内部結構示意圖。 第四圖係預抽室之内部結構示意圖。 _ 第五圖係電漿處理室之内部結構示意圖。 第六圖係載體作為接地電位之結構示意圖。 第七圖係載體作為接地電位之其他結構示意圖。 第八圖係載體輸送臂及載體之卡合部的結構示意圖。 . ^㈣制機械手^㈣⑽^結構示意圖。 ， =圖係使用㈣進行载體輸送之結構示意圖。 示意圖圖係本發明電聚處理裝置進行電毁處理操作之 示意圖第了二圖係本發明電聚處理襄置進行電浆處理操作之 弟十三圖係本發明電聚處理裝 示意圖。 進仃電桌處理操作之 第十四圖係本發明雷將 示意圖。 電水處理裝f進行電聚處理操作之 弟十五圖係本發明電漿處 屬。一^—茗置進仃電漿處理操作之 之 第十六圏係本發明電聚處理裝置進行”處理操作 25 1293575 示意圖。 第十七圖係以串聯方式進行電漿處理之所需時間示意 圖。 第十八圖係以並聯方式進行電漿處理之所需時間示意 圖。 第十九圖係支撐載體之支撐部的其他實施例示意圖。 【主要元件符號說明】 ^ ( 5 )加工品 (1 0 )預抽室 (1 1 )閘閥 (12 a) (12b)支撐執道 ( 1 4 )支撐臂 ^ (16)上下動板 (1 8 )驅動馬達 (2 0 )馬達 ( 2 6 )風箱 (2 7 )冷卻板 (2 8 )突起插梢 (3 0 )電漿裝置 (3 4 )真空排氣裝置 (4 0 )電漿處理室 * ( 4 2 )閘閥 二 ------------------(44 (4 5 )電漿產生裝置 26 1293575 (4 (5 (5 (5 (5 (5 (6 (6 _ ( 6 (6 (6 . (6 (6 (7 a )電極 )載體 )滑溝 )接觸電刷 )接觸梢 )作動封塊 )載體輸送臂 )卡合部 )插槽 a )卡合孔 )機械手臂 )驅動部 )搖臂 )輸送臂 27

Claims (1)

1293575 十、申請專利範圍·· 1 、一種電漿處理裝詈，孫盔Ύ六 衣直係為了在成型為平板狀的加 工品上施以電漿處理，JL特徼力私兮+狀$ 狩傲在於该電漿處理裝置具備 有·· 預抽室，係為了將該加工品進行供給或排出； 電漿處理室，係透過該% $ 3 必幻4 ?貝柚至以及閘閥串聯連結設 置，以將該加工品在預抽室之間進行輸入或輸出；

載體，係將該加工品支禮為单+业 口口文T牙馬十坦狀，並可同時與該加 工品在該預抽室以及電漿處理室之間進行輸送； 輸送機構，係於支撐設置於該預抽室以及電㈣㈣ 上的載體之支撐機構間，進行載體的來回輸送。 2、如申請專利範圍第j項所述之電漿處理裝置，其 特徵在該設置於預抽室之支撐機構係可將載體進行上下方 向分離之2段式結構’並設置有升降機構，其可將設置於 該預抽室之支撑機構進行上下方向移動，以將被支擇機構 支掉之.載體在㈣室以及電#處理室之間進行輸送至所需 之南度位置。 3、如中請專利範圍第2項所述之„處理裝置，並 特徵在該升降機構上設置有移動機構，其可將切機構^ 載體之支撐位置以及由載體移出之位置間進行變位移動。 4、如申請專利範圍第2項所述之電漿處理裝置，其 特徵在該載體係於成型為平板狀之本體的兩側面：設置： 可鱼由轉動的Jg輪· ^~XCSf Λ ——..一—--—----------------------------——-.... 設置於預抽室以及電襞處理室之該支撐機構乃是支撐 28 1293575 該滾輪以將載體引導輸送之支撲軌道。 5、 如申請專利範圍第2項所述之電漿處理裝置，其 特徵在該載體係由成型為平板狀之本體所構成； 設置於預抽室以及電漿處理室之該支撐機構乃是支撐 該本體以將載體引導輪送之可自由轉動的滾輪。 6、 如申請專利範圍第2項所述之電漿處理裝置，其 特徵在該載體係由成型為平板狀之本體所構成； 〃

設置於預抽室以及電漿處理室之該支撐機構乃是驅動 載體引導輸送之驅動滾輪。 * 7、如中請專利範圍第4或5項所述之電漿處理裝 置’其特徵在該輸送機構乃是與支撑機構平行以朝電將户 理室内進行輸入的直接驅動臂’且可裝卸的組 ：： 面之載體輸送臂。 而 〇…寻利範圍第4或5項所述之電衆 置’其特徵在輸送機構乃是與支㈣構平行而在電 室内進行彎曲動作的機械手臂。 水处 :、如申請專利範圍第4或5項所述之電漿處理裝 置，〃特徵在輸送機構乃是與支撐機構平行 裝在設置於載體端部之滑溝上的搖臂。 、P的組 1 〇、如申請專利範圍第2項所述之電漿處 其特徵在該預抽室上設置有在預抽室中可針=破置’ 以前處理或者是後處理之電漿裝置。 ^加工品施 要1 1、專—普範野第1 0項所述之電漿产理缺 置，其特徵在該電漿裝置係R丨Ε裝置。 灸4 29 1293575 1 2、如申请專利範圍弟1 〇項所述之電裝處理參 置’其特徵在該電漿裝置係微波下蒸氣裝置（micr〇 downstream) 0 1 3、如申請專利範圍第1 〇項所述之電裝處理穿 置，其特徵在該電漿裝置係I C P裝置。 1 4、如申請專利範圍第2項所述之電漿處理事置， 其特徵在該預抽室的底部上設置有藉由升降機構使得載體 之支撐機構下降時，與載體接觸以將載體冷卻之冷卻裝 置。 π 、 1 5、如申請專利範圍第i 4項所述之電漿處理裝 置，其特徵在該預抽室的底部上，設置有於冷卻裝置在支 撐載體之狀態時，將載體所支撐之加工品由載體之上面加 以向上突出分離之突起機構。

1 6、如申請專利範圍第1 5項所述之電漿處理裝 置’其特徵在設置有加工品於突起之狀態時，將該加工品 由預抽室加以輸出之輪出機構。 〇〇 、如中請專利範圍第1或2項所述之錢處理学 置’其特徵在該電^理室±設置有作為、 以和載體之移動方6 * 王衣置， 線狀電毁之複數電&^直方向的預定間隔下用以產生 將該載體至少通=在電毅處理時’藉由該輸送機構可 行完整的移動掃推…所設置間隔以上之移動範圍以達 30 1293575 與載體經常的保持電氣接觸之接觸機構。 十一、圖式： 如次頁

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