TWI291999B - Vorrichtung zur schmelztauchbeschichtung eines metallstranges - Google Patents

Description

1291999 玖、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明關於一種將一金屬條帶熔融浸鍍覆的裝置，特 別是用於將鋼帶熔浸覆者，其中該金屬條帶垂直通過一個 容納該熔融鍍覆金屬的容器及一條接在前面的導引通道， 其中利用至少二個設在該金屬條帶兩側的電感器產生一股 電磁場，以將容器中的鍍覆金屬保持在導引通道的區域中 〇 【先前技術】 傳統的金屬帶的金屬熔浸鍍覆的設備有一維修密集的 部分，亦即鍍覆容器（它具有位在其中的設計所要鍍覆 的金屬帶的表面，在鍍覆前要清洗除去氧化物剩餘物，並 作活化以與鍍覆金屬接合。因此之故，該金屬帶表面在鍍 覆前要在一還原性的大氣中用熱程序處理。由於氧化物層 先别用化學方式或用刮磨方式除去，因此利用這種還原性

們會利用重力配合吹離裝置 一直到鍍金屬完全凝固為止鋼 覆容器中須轉向到垂直方向。這點伤剎

。這點係利用一滾子達成，該 1291999 滾子在液態金屬中跑動e tf_、、奋 ㈣此/衰子m態鍍覆金屬作用而 有很厲害的磨損。因此合袢# ^ ㈢仏成生產作業中的停止運轉及全 面停擺的情事。 /藉著使鑛覆金屬的有所要的小的施覆厚度（這種厚度 係全在微米範圍内變動），可符合鋼帶表面品質的要求。 j表示，該用於導引鋼帶的滾子的表面也要有高品質，在 這些滾子表面的瑕失—般會造成鋼帶表面損壞，這點也是 該設備常常要停止運轉的另一原因。 為了避免此-問題（它係與該在液態鍍覆金屬中跑動 的滚子的問題一起存在），故使用下方開Π的鑛覆容器， 其下方區域有-導引通道以供鋼帶垂直向上通過，並使用 -電磁封閉件以作密封。在此該封閉件係一電磁電感器， 該電感器利用推回（zuriickdrangen)、泵動式、或束缚 (einschnt^en)的電磁式交流場或漂移場工作、這種電磁場 將鍍覆容器下方密封住。 這種解決方案的一個例子見於歐洲專利Ep〇673444B1 。依國際專利W096/03533或日本專利JP 5086446的解決 方案也使用一電磁封閉件將鍍覆容器下方密封。 在此，要確保該鍍覆容器的下方開口的導引通道的密 封性，及是一個重要而困難的課題，主要是當我們考慮到 由於電磁封閉件停電時會引起的意外的情況。為此，先前 技術揭示了各種不同的可能方式。 歐洲專利EP 0 630 421 B1為此在導引通道下方設有 束、、專手#又（Einschntirung)，有一官路由此束缚手段通到 1291999 一個用於容納熔融液狀的鍍覆金屬的預置容器。此文獻並 未對這種稱為回流阻塞件的裝置的設計作進一步的說明。 日本專利 JP 2000-273602A[特公（開？）平-1 2-273602] 提到在導引通道下方有一捕集盆以將經過導引通道向下流 出的鍍覆金屬收集。這些鍍覆金屬送到一容器，由該處經 一泵抽出再送到鍍覆槽。此處也未具體特別說明如何將流 出的鍍覆金屬捕集。 歐洲專利EP0855 450 B1詳細討論導引通道的下方區 域如何確保密封的問題。為了確保此點，該文獻提到各種 不同的解決方案。依其一種設計，可設二個移動器，設在 金屬條帶兩側，垂直於金屬條帶表面在其上移行過來。這 種移動器當作封閉塞之用，且當有必要時，可保持與金屬 條帶接觸，以防止液態金屬經導引通道向下流出。然而此 設計需要將移動器作較繁複的控制，以確保其功能。另一 種設計係使用一條輸送帶，該輸送帶將跑出來的鍍覆金屬 從導引通道的下方區域送入一捕集容器。但這種解決方案 很繁複，且會造成一種危險，即該輸送帶在經長時間後會 積聚鍍覆金屬且因而不再能執行其功能。用於防止熔融鍍 覆金屬跑出的第三個替代方案係設一氣體噴嘴系統。在此 ，一股乱流從下朝向導引通道過去，將跑出的鍍覆金屬向 上拉並因而將導引通道下方開口密閉。這種解決方案也很 繁複且只能有條件付諸實用。 在法專利FR 2 798 396A發表了—㈣浸鑛覆設備， 其中在鍍覆容器的底區域在進入導引通道的過渡區處設有 1291999 、阻塞裔（Sperrwerk)。該阻塞器係要將鍍覆金屬的液流與 導引通道隔開。為&，它設有壁或「引導金屬片」，其設 1㈣於流動者。但在此文獻發表的阻塞器並不適用於 在而要的情形中將熔融鍍金屬保持在導引通道的區域。同 樣地矛丨J用此阻塞器不可能對錢覆程序造成影響。 【發明内容】 本I明的目的在提供一種將金屬調帶作熔浸鍍覆的裝 置藉之可將鍍覆程序最適當地實％，且可用冑單方式確 保在嚴苛的操作狀態，例如當電感器的電流供應切斷時， 該設置也能可靠地操作。 攻種目的達成之道，依本發明，係利用一個設在該容 為底區域中在導引通道上方的封閉手段，以選擇性地該溶 融鍍覆金屬到金屬條帶及/或到導引通道的流路釋放或中 斷。 因此依本發明，該鍍覆金屬的流路（特別是通到導引 通道者）T選擇性地釋放或中冑，如&特別是在操作障礙 的情形，不令有熔融鍍金屬經導引通道由該鍍覆裝置流出 之虞。 利用這種設計避免鍍覆.裝置損壞或經濟的損失。 本發明第一個次要特點為：該封閉手段設計成閘 (Wehr)形式，該閘可相對於容器的底區域運動。 依一實施例，該閘有二個相配合的部分，該二部分可 各垂直於金屬條帶的表面運動。如不採此方式（或者盼了 此方式外’同時另外）也可使該閘可沿金屬條帶的運送方 1291999 向運動。 在最後所述的情形，該閘可設計成-體式’且呈箱形 。如此’㈣可廉價地製造’且可用特別簡單的方式確保 該裝置的操作無礙。 «亥閘之者向谷盗底區域的那一端的區域宜有遮蓋手段 藉這：遮蓋手可使鑛覆槽液（由於使用電感器作電 磁激發會使紊流帶入該槽液中）變平靜。依一特點，該遮 蓋手段設計成壁部段形式，該壁部段平行於容器的底區域 延伸。另-種設計中，該遮蓋手段設計成板形式，該板有 一縫隙形的凹隙，以供金屬條帶通過。 該封閉手段（特別是閘）宜與手動式、氣壓式、或油 麼式動作手段連接；在此該動作手段可與設備的控制裝置 連接，該控制裝置可使熔融鍍覆金屬條帶及/或到導引通 道的流路釋放或中斷。 在圖式中顯示本發明的實施例。 【實施方式】 第1圖以示意方式顯示一熔浸鍍覆裝置，有一金屬條 帶（1)通過此裝置。 ^ 此裝置有一容器（3)，充以熔融鍍覆金屬（2)，該熔融 鍍覆金屬可為例如鋅或鋁。所要鍍覆的金屬條帶（1)(呈鋼 帶形式）垂直向上沿運送方向R通過容器（3)。在此位置可 看出，基本上也可以將金屬條帶從上往下通過容器（3)。 為了使金屬條帶（1)通過容器（3)，故該容器（3)底區域係開 放者；此處導引通道（4)係呈過度誇張的大小或寬度顯示。 11 1291999 為了使熔融鍍覆金屬（2)不能通過導引通道（4)向下流 出，故在金屬條帶（1)兩側有二個電磁電感器，它們產生 一磁場，該磁場將上推力作用在熔融鍍覆金屬中，該上推 力與鍍覆金屬（2)的重力抗衡，因此將導引通道（4)下方密封 〇 該電感器（5)係二個對立設置的交流場電感器或漂移場 電感器，它們在2Hz〜ΙΟΚΗζ操作，並且構建一個垂直於^ 送方向的電磁橫場。較佳的頻率範圍對於單相系統（交漭 場電感器）係在2KHz〜麵z間，對於多,相系統（例= 移場電感器）係在2Hz〜2KHz間。 你 在容器（3)的底區域中設有一封閉手段（7)或门，），在 第1圖的實施例中它係設計成二部分式，呈一閘的形式。 在此，該開的二部分（7)(7，）可平行於容器（3)的底^雙箭 頭方向運動。為了作運動，設有動作裝置⑴)，它們在‘ 中只用示意方式呈活塞缸單元形式顯示；#然也可用各種 其他方式的動作手段。 "閘（7)或（7，）設計成分成二部分的箱的形式，其中該二 半部(7)與(7’)可互相配合，使它們在容器⑻的底區域⑻ 中接到導引通道⑷的區域。這種狀況示於第i圖中。因此 鑛覆金屬⑵不會侵入到導引通道⑷或金屬條帶⑴。閑 (7)或（7，）的這種封閉位置特別是對於二種下述操作 重要意義。 第一種情況，在鑛覆設備向上移行之前，將此位置佔 住。如此’該金屬條帶⑴沿運送方向R朝上運動而不會 12 1291999 使鍍覆金屬（2)侵到其上，而電感器（5)動作。然後，該二 個閘部分⑺或(7，)才沿雙箭頭方向從金屬條帶⑴離開， 因此，鍍t金屬⑵可經過如此開放的箱而侵到金屬㈣ (1)以及到導引通（4)的區域。由於電感器（5)受動作，放不 會有鍍覆金屬（2)向下經導引通道（4)流出的情事。因此閘 (υ(7，）首先將該下方開放的導引通道（4)圍住，並因此圍 住該經由導引通道（4)通過去的金屬條道（1)一直圍到容器 (3)底區域（6)上方的最適當高度為止，因此不會有鍍覆金 屬⑵向導引通道⑷的方向流出。㈣，隨著鍍覆程序開 始’將閘⑺(7’)打開，如此，該鍍覆金屬⑵可以用最佳 化的時間及量而流到金屬條帶（1)及流入導引通道（4)中， 但該導引通道（4)受電感器（5)以電磁方式密封。 第種匱況中，如果造成斷電情事，且電感器（5)(例 如一直亦即不能將導引通道（4)下方利用所形成的電磁場密 封二在此情形中，該二閘部分⑺(7，)沿雙箭頭方向朝金屬 條V (1)移動，直到它們互相接觸且繞著金屬條帶（1)構成 虡相密封件為止。如此不會再有其他鍍覆金屬（2)跑向金屬 條f (1)及到導引通道（4)，如此可確保該導引通道（4)呈機 械式密封。藉著不會有鍍覆金屬向下從導引通道（4)流出。 第2圖再以立體圖示意顯示該閘（7) (7，），而且係在其 封:狀者。雙箭頭表示該：閘部分⑺（7，）可相對於金屬 條帶⑴的運送方向R朝何方向運動，第1圖的動作手段 (11)用「於作此作用。圖巾可看出，在閘⑺（7，）的底區域中 有 通過開口」以供金屬條帶（1)通過；然而在圖示的閘 13 1291999 (7)(7’）的封閉位置時，可確保不會不鍍覆金屬（2)跑向金 屬條帶（1)及導引通道（4)。 由於閘(7)(7，)將鍍覆金屬擋住，因此如果該閘由儘量 少的個別元件構成，則报有利於閘（7)(7，）作穩定爲可靠的 操作。雖然第1或第2圖的解決方案設二部分式的閘 (7)(7’），但第3圖中可看出，該閘（7)也可設計成一部分 式。如此該箱形設計閘（7)在其關閉的狀態時，就倚在容器 (3)底（6)並因而將導引通道（4)密封。要將閘（7)開放，係 將之垂直向上，亦即沿運送方向R移動，為此再使用該動 作手段（11)。 要實施鍍覆程序以製造高品質的鍍覆金屬條帶，如果 設法使鍍覆槽液保持儘量平靜，則甚有利。因此這點並非 可隨隨便便就能確實達成，因為該電磁電感器（5 )受到產生 的磁場而在鍍覆金屬（2)受感應產生擾動。 為了使鍍覆槽液表面平靜，依第4圖的實施例，在閘 (Ό(7’）的端區域設有遮蓋手段（9)，藉之可使該由電感器 (5)產生的液流不會沿底表面的方向擴展開來。 因此，該液態鍍覆金屬之在導引通道（4)或在容器 中由電磁密封作用造成的渦流可利用閘（7)(7，）的設計，且 特別是利用遮蓋手段（9 )而避免。 當閘（7)設計成一部分式時，則可如第5圖所示：該閘 (7)的上方區域設有一凹隙（1 〇 )，該凹隙可使金屬條帶（工） 通過。在鍍覆金屬（2)中利用電感器（5)產生可使金屬條帶 (1)通過。在鍍覆金屬（2)中利用電感器（5)產生的液流在此 1291999 處利用遮蓋手段（9)[它們在此處幾何造成閘的内區域對 其餘的鍍覆槽液部分完全封合]而阻擋住。利用這種設計 - ，可將槽液表面最適當地變平靜，並確保高品質的鍍覆。 > 當操作有障礙時，特別是在電磁電感器（5)故障時，利 用動作手段（11)將閘關閉，如此不會有鍍覆金屬從容器 (3)流出之虞。 【圖式簡單說明】 (一） 圖式部分 第1圖係一‘熔浸鍍覆裝置的示意剖面圖，並有一條通 釋 過此裝置的金屬條帶（1)， ' 第2圖係一設計成二部分式的閘的立體圖， 第3圖係設計成一部分式的閘的立體圖， 第4圖係經該溶浸鍍覆裝置的一剖面的示意圖，它具 有設計成二部分式閘，其中該閘設有遮蓋手段， 第5圖係設計成一部分式的閘，具有遮蓋手段。 (二） 元件代表符號 (1) 金屬條帶（鋼帶） 籲 (2) 鍍覆金屬 (3) 容器 (4) 導引通道 (5) 電感器 (6) 容器的底區域 (7) 封閉手段 (7’） 封閉手段 15 1291999 (8) 封閉手段的端區域 (9) 遮蓋手段 (10) 凹隙 (11) 動作手段 R 運送方向 16

Claims (1)

1291999 拾、申請專利範圍： 1. 一種將一金屬條帶（1)熔融浸鍍覆的裝置，特別是用 於將鋼帶熔浸鍍覆者，其中該金屬條帶垂直通過一個容納 該炼融鍍覆金屬（2)的容器（3)及一條接在前面的導引通道 (4) ’其中利用至少二個設在該金屬條帶兩側的電感器 產生一股電磁場，以將容器（3)中的鍍覆金屬保持在導引通 道（4)的區域中，其特徵在： 有一個封閉手段（7) (7，），設在容器（3)的底區域（6)中 導引通道（4)上方，用於選擇性地將熔融鍍覆金屬（2)流到 金屬條帶（1)及/或流到導引通道的流路釋放或中斷。 2·如申請專利範圍第1項之裝置，其中·· 該封閉手段（7)(7，）設計成閘（7)(7，）形式，該閘 (7)(7’）可相對於容器（3)的底區域（6)運動。 3.如申請專利範圍第2項之裝置，其中： 该問有二個互相配合的閘部分（7)(7，），該閘部分 (7) (7’）可各垂直於金屬條帶（1)的表面移動。 4 ·如申請專利範圍第2項之裝置，其中： 該閘可沿金屬條帶（1)的運送方向（R)運動。 5·如申請專利範圍第2項之裝置，其中： 该間設計成一部分式且呈一箱的形狀。 6 ·如申清專利範圍第2或第3項之裝置，其中： 省閘（7)(7 )之背向容器（3)底區域（6)的開放端區域 (8) 有遮蓋手段（9)。 7·如申請專利範圍第6項之裝置，其中： 17 1291999 該遮蓋手段（9 )設計成壁部段形式，該壁部段平行於容 器（3)的底區域（6)延伸。 8·如申請專利範圍第6項之裝置，其中： 該遮蓋手段（9)設計成板形式，該板有一缝隙形的凹隙 (10)以供金屬條帶（1)通過。 9·如申請專利範圍第1或第2項之裝置，其中： δ亥封閉手段（7 )(7 ’）’特別是閘與手動式、氣壓式、或 油壓式動作手段（11)連接。 10 ·如申請專利範圍第9項之裝置，其中： _ 該動作手段（11)與一個設備控制裝置連接，該設備控 制裝置可將該熔融鍍覆金屬（2)之通往金屬條帶（1)及/或通 往導引通道（4)的流路釋放或中斷。 拾壹、圖式： 如次頁 % 18