TWI276845B - Color filter substrate and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description
I27684S 〇twf.d〇c/g 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於一種濾光裝置及其製造方法，且特別 是有關於一種彩色濾光基板及其製造方法。 【先前技術】 由於顯示器的需求與日遽增，因此業界全力投入相關 顯示器的發展。其中，又以陰極射線管(cath〇deray tube，
fRT)因具有優異的顯示品質與技術成熟性，因此長年獨佔 顯示器市場。然而，近來由於綠色環保概念的興起，基於 陰極射線管的能源消耗較大與產生輻射量較大之特性，加 上其產，扁平化空間有限，故陰極射線管無法滿足市場對 於輕、溥、紐、小、美以及低消耗功率的市場趨勢。因此， 具有南晝質、空間利用效率佳、低雜功率、無輕射等優 越特性之薄膜電晶體液晶顯示！！(thin film transistQr叫砲 crystal display，TFT_LCD)已逐漸成為市場之主流。其中， 彩色濾光基板為組立液晶顯示器的重要構件之一。 至圖⑴會示習知一彩色遽光基板的製作流程 =，_圖1A’首先’ f知彩色濾光基板的製作方法 广光罩(未繪示)以在-基板11上定義出-黑 :陣層(祕matrix)12。接著，如圖ib至圖id所示，依 四二光罩(未㈣）、—第三光罩(未繪示)以及一第 η、:不）以在基板10上定義出多個紅色濾光圖案 、言慮光圖案13b以及多個藍色滤光圖案i3c， U /思、’圖案13a、綠色濾光圖案13b以及藍色濾光 6 90twf.doc/g 圖案13c即形成了彩色濾光層13。之後，如圖1E所示， 在黑矩陣層11與彩色濾光層13上先形成一保護層 (overcoat layer)14，再於保護層14上形成一共用電極 (common electrode)15。接著，如圖ip所示，再利用一第 五光罩(未繪示）以在彩色濾光層13上方的共用電極15定 義出形成多個凸出結構(pr〇tmsi〇n)i6。然後，如圖ig所 示’利用一第六光罩（未繪示）以在黑矩陣層12上方的共 用笔極15上疋義出多個間隔物(photo spacer) 17。然後，如 圖1H所示，在共用電極15、凸出結構16以及間隔物17 上形成一配向膜層18。在完成上述的流程後，一彩色濾光 基板10便可被製作出。 值得注意的是，習知彩色濾光基板1〇的製造方法是; 採用六道光罩的製程。若要降低彩色濾光基板1〇的製造時 間與成本，則必須要改變製程，採行更少道的光罩之製作· 方法。亦即’若要將降低習知彩色濾光基板10的製造時間 與成本，習知彩色濾光基板10的製造方法仍有相當大的改 善空間。 【發明内容】 本發明之目的是提供一種製造成本較低的彩色濾光 基板。 本發明之另一目的是提供一種製造步驟較少的彩色 滤光基板。 本發明的再一目的是提供一種彩色濾光基板的製造 方法’其可利用較低成本製造彩色濾光基板。 7
Otwf.doc/g 本發明的又一目的是提供一種彩色濾光基板的製造 方法，其可利用較少步驟製造彩色濾光基板。 為達上述或是其他目的，本發明提出一種彩色濾光基 板，此彩色濾光基板包括一基板、多個彩色濾光圖案、一 黑矩陣層、多個間隔物、多個凸出結構以及一共用電極。 其中彩色濾光圖案配置於基板上。黑矩陣層配置於基板 上，且位於彩色濾光圖案之間。間隔物配置於黑矩陣層上， 並與黑矩陣層連接在一起。凸出結構配置於彩色濾光圖案 上，且黑矩陣層、間隔物以及凸出結構的材質相同。共用 電極覆盍彩色濾光圖案、黑矩陣層、凸出結構以及間隔物。 依照本發明一實施例所述之彩色濾光基板，其中基板 具有多數個次晝素區’且每一彩色濾光圖案是配置於其中 一次晝素内。 依照本發明一實施，彩色濾光基板更包括 一配向膜 層’此配向膜層配置於共用電極上。 ^依照本發明一實施所述之彩色濾光基板，其中彩色濾 光圖案包括至少一紅色濾光圖案、至少一綠色濾光圖案以 及至少一藍色濾光圖案。 一本發明另提出一種彩色濾光基板，此彩色濾光基板包 ^基板、多個彩色濾光圖案、一共用電極、一黑矩陣層、 ^個間隔物以及多個凸出結構。其中，彩色濾光圖案配置 J基板上。共用電極覆蓋彩色濾光圖案以及基板。黑矩陣 層配置於丑"用+ 用电極上，且位於彩色濾光圖案之間。間隔物 配置於黑矩陣層上，並與黑矩陣層連接在-起。凸出結構 8 ’Otwf.doc/g 配置於形色濾、光圖案上方之共用電極上，且黑矩陣層、間 隔物以及凸出結構的材質相同。 依照本發明一實施例所述之彩色濾光基板，其中基板 上具有多數個次晝素區，且每_彩色濾、光圖案是配置於其 中*一次晝素區内。 依照本發明一實施例，彩色濾光基板更包括一配向膜 層，此配向膜層覆蓋共用電極、黑矩陣層、凸出結構以及 間隔物。 依照本發明一實施例所述之彩色濾光基板，其中彩色 濾光圖案包括至少一紅色濾光圖案、至少一綠色濾光圖案 以及至少一藍色濾光圖案。 本發明再&出一種彩色濾光基板的製造方法，此彩色 濾光基板的製造方法包括下列步驟。首先，提供一基板。 在基板上形成多個彩色濾光圖案。接著，在基板上形成一 遮光材料層，以覆蓋基板以及彩色濾光圖案。然後，圖案 化遮光材料層，以同時定義出一黑矩陣層、多個凸出結構 以及多個間隔物。在基板上形成一共用電極，以覆蓋彩色 濾光圖案、黑矩陣層、凸出結構以及間隔物。 依照本發明一實施例所述之彩色濾光基板的製造方 法，其中圖案化遮光材料層之方法包括下列步驟。首先， 在遮光材料層上設置一光罩，此光罩具有一透光區、一非 透光區以及一半透光區。然後，進行一曝光製程以及一顯 影製程，以圖案化遮光材料層，而形成黑矩陣層、凸出結 構以及間隔物。 9 12768似一 g ^ 依照本發明一實施例所述之彩色濾光基板的製造方 法，其中形成彩色濾光圖案的方法包括下列步驟。首先， 在基板上形成一紅色濾光材料層。圖案化紅色濾光材料 層，以在基板上形成至少一紅色濾光圖案。接著，在基板 上形成一綠色濾光材料層。圖案化綠色濾光材料層，以在 基板上形成至少一綠色濾光圖案。然後，在基板上形成一 監色濾光材料層。圖案化藍色濾光材料層，以在基板上形 成至少一藍色濾光圖案。 本發明又提出一種彩色濾光基板的製造方法，此彩色 濾光基板的製造方法包括下列步驟。首先，提供一基板。 在基板上内形成多數個彩色濾光圖案。接著，在基板上形 成二共用電極’以覆蓋基板與彩色濾絹案。在共用電極 ^形成-遮光材料層。然後，圖案化遮光材料層，以同時 疋義-黑矩陣層、多個凸出結構以及多個間隔物。 在遮光材料層上設置一光罩， 透光> 程， 、依照本㈣-實_觀之純料基板的製造方 法’其中圖案化遮光材料層之方法包括下列步驟。首先， ’此光罩具有一透光區、一非
I J-TJ 法， 在基攸丄形成一红已濾光未
一红已濾光材料層。 層’以在基板上形成至少一 Μ乃沄巴栝下列步驟。首先， ^料層。圖案化紅色濾光材料 紅色濾光圖案。接著，在基板 10 I2768459〇tw,doc/g 上形成一綠色濾光材料層。圖案化綠色濾光材料層，以在 基板上形成至少一綠色濾光圖案。然後，在基板上形成一 藍色濾光材料層。圖案化藍色濾光材料層，以在基板上形 成至少一藍色濾光圖案。 ^ 基於上述，本發明所提出之彩色濾光基板的製造方法 採用較少道光罩之製程，因此可以較短時間與較少耗材製 作彩色濾光基板。若以上述的製造方法製作彩色濾光基 • 板，將可大幅降低彩色濾光基板的生產成本。 土 “為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯 易懂，下文特舉較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說 明如下。 " 【實施方式】 是二實施例 九圖2繪示本發明第一實施例之彩色濾光基板的結構示 。請參照圖2，彩色濾光基板100包括一基板110、多 ，衫色濾光圖案12〇、一黑矩陣層13〇、多個間隔物14〇、 =凸出結構150以及-共用電極16G。其中，彩色滤光 I本I20配置於基板110上。黑矩陣層130配置於基板110 矩陳且位於衫色濾光圖案120之間。間隔物140配置於黑 層130上，並與黑矩陣層13〇連接在一起。凸出結構 14〇配置於杉色濾光圖案120上，且黑矩陣層130、間隔物 3备1及凸出結構150的材質相同。共用電極160則覆蓋 Γ ,光圖案12〇、黑矩陣層130、凸出結構150以及間隔 I27684al〇twf.d〇c/g —在本實施例中，基板具有多數個次晝素區110a， 且每-彩色濾光圖案120是配置於其中一次畫素區11〇a 1更詳細而言，彩色栽圖案120包括至少—紅色濾光 圖木120a、至少-綠色濾光圖案12〇b以及至少一藍色滤 光圖案版。此外，彩色濾光基板更包括-配向膜層 ，此配向膜層170配置於共用電極16〇上。 承上述’基才反110例如為破璃基板、石英基板或是其 φ _當材料之基板。彩色濾光圖案12G(紅色濾光圖案 120a、綠色濾光圖案uob以及藍色濾光圖案12〇c)之材質 例如為樹脂(resin)或其他適當之材質。黑矩陣I 13〇、間隔 物140以及凸出結構150之材質例如為黑色感光樹脂或其 他適當之材質。共用電極16G之材f例如為銦錫氧化物 indium tm oxide, ITO)、銦鋅氧化物伽出咖—〇xide, IZ〇) =其他適當之材f。配向膜層⑺之材質例如為聚乙酿 ，樹脂(polyimide resin, PI)或是其他適當材料。以下將詳細 說明彩色濾光基板100的製造方法。 φ _圖3A至圖3靖示本發㈣—纽狀彩色濾光基板 士衣=方法流私圖。请先參照圖3A，彩色滤光基板的製造 方法是先提供一基板110。 然後’在基板110上形成一彩色濾光圖案12〇，而形 ^圖3G所示之結構。其中，基板110上具有多數個次 旦素區110a。在這些次晝素區u〇a内的彩色滤光圖案12〇 包括紅色濾光圖案120a、綠色濾光圖案議以及藍色遽 光圖案120c，而形成彩色濾光圖案12〇的詳細說明如圖3b 12 ’Otwf.doc/g 製圖3G所示。 首先，如圖3B所示，先在基板110上形成一紅色濾 光材料層120d，而形成此紅色濾光材料層120d的方法例 如是旋塗(spin coating)或是其他適當方法。 接著，利用一第一光罩Ml以圖案化紅色濾光材料層 120d’以在基板11〇上部分次畫素區u〇a内形成紅色濾光 圖案120a，如圖3C所示。其中，若紅色濾光圖案12〇&為 感光材料，則圖案化紅色濾光材料層120d的方法例如是利 用一第一光罩Ml直接對紅色濾光材料層12〇d進行曝光製 程(exposure process)與顯影製程(devd〇p pr〇cess)。若紅色 濾光圖案120a並非感光材料，則必需先在紅色濾光材料層 120d上形成一光阻層（未繪示），並利用一第一光罩mi對 此光阻層進行曝光與顯影製程，以形成一圖案化光阻層（未 繪示）。接著，以圖案化光阻層為料，對紅色濾光材^ 12〇d進行侧製程，並再對_化光阻層進行剝膜製程 (stnp process)，以形成紅色濾光圖案l2〇a。 如圖犯所示，额，在基板11〇上 材料層120e，並利用一篦-亦罢‘九 @ ^ M2圖案化綠色濾光材料 層120e’以在基板110上形成如圖犯所示之 色 濾光圖案120b。由於綠色滹光鉍社氏^ 、、不巴 安作古、,巴&九材枓層UOe的形成以及圖 案化方法與紅色濾光材料層12〇d 口 贅述。 <方法頒似，故在此不再 如圖3F所示，在基板11〇上形 120f，並利用一第三光罩M3圖宰化駐'先材枓層 口木化監色濾光材料層12〇f， 丨 Otwf.doc/g 以在基板110上形成如圖3G所示之至少一藍色濾光圖案 120c。類似地，藍色濾光材料層120f的形成與圖案化方法 與上述相同或相似。 請參照圖3H，接著，在基板110上形成一遮光材料 層130a，以覆蓋基板110以及彩色濾光圖案120。形成此 遮光材料層130a的方法例如為旋塗法或其他適當方法。特 別要注意的是，此遮光材料層130a為感光材料。 請參照圖31至圖3J，然後，圖案化遮光材料層i30a， 以同時定義出一黑矩陣層130、多個間隔物140以及多個 凸出結構150。其中，如圖31所示，圖案化遮光材料層i3〇a 之方法是在遮光材料層130a上設置一光罩M4，此光罩 M4具有一第一區R1、一第二區R2、一第三區r3以及一 第四區R4。其中，第三區R3為非透光區，第二區R2以 及第四區R4為半透光區，第一區R1為透光區與半透光區 結合而成的區域。然後，如圖3J所示，進行一曝光製程以 及一顯影製程，以圖案化遮光材料層13〇a，而形成黑矩陣 層13〇、間隔物140以及凸出結構150。 要注意的是，由於第一區R1、第二區R2、第三區R3 以及第四區R4的光線穿透強度皆不相同，造成遮光材料 層130a的各區域之感光深度不同。在進行顯影製程後，被 畕下的σ卩彳77遮光材料層（未標示）即形成了黑矩陣層130、間 隔物140以及凸出結構15〇。 請參照圖3Κ，之後，在基板110上形成一共用電極 以復蓋彩色滤光圖案120、黑矩陣層130、間隔物140 14 127684^ Otwf.doc/g 以及凸出結構150。形成共用電極16〇的方法例如採用磯 鍍(sputter)或是其他適當方法。 請參照圖3L，然後，在共用電極160上形成一配向膦 層170。形成此配向膜層170的方法例如為平版印刷法 (offset)或是其他適當方法。在完成上述的步驟後，彩色據 光基板100便可被完成。 ~ 值得一提的是，本實施例之彩色濾光基板1〇〇的製造 方法中的黑矩陣、間隔物以及凸出結構是用一道光罩形 成。相較於習知技術中對於黑矩陣、間隔物以及凸出結構 需使用二道光罩來說’本實施例所提出之彩色濾光基板 10 0的製造方法更可以較短的時間與較少的耗材製作彩色 濾光基板1〇〇。換言之，彩色濾光基板100的製作步驟較 少且製作成本較低。 需注意的是，在本實施例之彩色濾光基板1〇〇中，彩 色濾光基板1〇〇雖包括一配向膜層170，但其並不限定要 具有配向膜層170。在其他實施例中，彩色濾光基板(未繪 示）是否包括配向膜層（未繪示）則端視需在彩色濾光基板 的製造方法中是否形成配向膜層。 第二實施例 圖4繪示本發明第二實施例之彩色濾光基板的結構示 意圖。請參照圖4，彩色濾光基板200與第一實施例之彩 色濾光基板1〇〇類似，其不同之處在於：共用電極210覆 蓋彩色濾光圖案120以及基板110。此外，黑矩陣層230 配置於共用電極210上，且位於彩色濾光圖案120之間， 15 1276845 90twf.doc/g 而凸出結構150則配置於彩色濾光圖案120上方之共用電 極210上。其中，黑矩陣層230與共用電極210的材質與 第一實施例中之黑矩陣層130以及共用電極160的材質相 同。 上述彩色濾光基板200的製造方法類似於彩色濾光基 板100的製’造方法。圖5A至圖5D緣示本發明第二實施例 之彩色濾光基板200的製造方法流程圖。 請先參照圖5A，彩色滤光基板200的製造方法是先 提供一基板110。此基板110上具有多個次晝素區11〇a。 然後’利用先前所述之方法在基板110上的這些次晝素區 ll〇a内形成紅色濾光圖案12〇a、綠色濾光圖案120b以及 藍色濾光圖案120c，即構成彩色濾光圖案12〇。由於在基 板110上之次畫素區110a内形成彩色濾光圖案12〇的方法 與第一實施例中所述相同，因此在此不再贅述。 請參照圖5B，之後，在基板110上形成一共用電極 210 ’以覆蓋基板ι10以及彩色濾光圖案12〇。形成共用電 極210的方法例如採用濺鍍(sputter)或是其他適當方法。之 後，在基板11〇上形成一遮光材料層23〇a，以覆蓋共用電 極=ιο。形成此遮光材料層23〇a的方法例如為旋塗或其他 適當方法且，此遮光材料層230a為感光材料。 請參照圖5C，然後，利用光罩M4圖案化遮光材料層 23〇a ’以同時定義出-黑矩陣層23G、多個間隔物140以 及夕，凸出結構15〇。其中，圖案化遮光材料層2遍的方 法與第一實施例所述相同。 16 丨 Otwf.doc/g 請參照圖5D，然後，在共用電極210、黑矩陣層130、 間隔物140以及凸出結構150上形成一配向膜層170。形 成此配向膜層170的方法與第一實施例中所述相同。在完 成上述的步驟後，彩色濾光基板2〇〇便可被完成。 類似於弟一貫施例’本實施例之彩色滤光基板200的 製造方法中的黑矩陣、間隔物以及凸出結構是用一道光罩 形成。因此，本實施例所提出之彩色濾光基板200的製造 方法也可以較短的時間與較少的耗材製作彩色濾光基板 200。換言之，彩色濾光基板2〇〇的製作步驟較少且製作成 本較低。 需注意的是，本實施例之彩色濾光基板2〇〇雖也包括 一配向膜層170，但其並不限定要具有配向膜層17〇。 綜上所述，本發明所提出之彩色濾光基板的製造方法 採用較少道光罩之製程，因此可以較短時間與較少耗材製 作彩色濾光基板。若以上述之彩色濾光基板的製造方法製 作彩色濾光基板，將可大幅降低彩色濾光基板的生產時間 與成本。 雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然其並非用以 限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之 和範圍内，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之^ 範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。 又 【圖式簡單說明】 圖1A至圖1H績示習知一彩色滤光基板的製作流程 17 90twf.doc/g 圖2繪不本發明第一實施例之彩色濾光基板的結構示 意圖。 圖3 A至圖3 L繪示本發明第一實施例之彩色濾光基板 的製造方法流程圖。 圖4綠示本發明第二實施例之彩色濾光基板的結構示 意圖。 圖5A至圖5D繪示本發明第二實施例之彩色濾光基 板的製造方法流程圖。 【主要元件符號說明】 1〇 :彩色濾光基板 11、 110 :基板 12、 130、230 :黑矩陣層 13 :彩色濾光層 13a、120a :紅色濾光圖案 13b、120b ·綠色濾> 光圖案 13c、120c :藍色濾光圖案 14 :保護層 15、 160、210 :共用電極 16、 150 :凸出結構 17、 140 :間隔物 18、 170 ··配向膜層 100 :彩色濾光基板 110a ··次畫素區 120 :彩色濾光圖案 18 丨 Otwf.doc/g 120d ·紅色滤光材料層 120e :綠色濾光材料層 120f:藍色濾光材料層 130a、230a :遮光材料層 丨 Otwf.doc/g
R1 第一區 R2 第二區 R3 第三區 R4 第四區 19
Claims (1)
1276845 Otwf.doc/g 十、申請專利範圍： 1. 一種彩色濾光基板，包括： 一基板； 多個彩色濾光圖案，配置於該基板上； 一黑矩陣層，配置於該基板上且位於該些彩色濾光圖 案之間； 多個間隔物，配置於該黑矩陣層上，並與該黑矩陣層 連接在一起； 多個凸出結構，配置於該些彩色濾光圖案上，其中該 黑矩陣層、該些間隔物以及該些凸出結構的材質相同；以 及 一共用電極，覆蓋該些彩色濾光圖案、該黑矩陣層、 該些凸出結構以及該些間隔物。 2. 如申請專利範圍第1項所述之彩色濾光基板，其中 該基板上具有多數個次畫素區，且每一彩色濾、光圖案是配 置於其中一次晝素區内。 3. 如申請專利範圍第1項所述之彩色濾光基板，更包 括一配向膜層，該配向膜層配置於該共用電極上。 4. 如申請專利範圍第1項所述之彩色濾光基板，其中 該些彩色濾光圖案包括至少一紅色濾光圖案、至少一綠色 濾光圖案以及至少一藍色濾光圖案。 5. —種彩色濾光基板，包括： 一基板； 多個彩色濾光圖案，配置於該基板上； 20 丨 Otwf.doc/g 一共用電極，覆蓋該些彩色濾光圖案以及該基板； 一黑矩陣層，配置於該共用電極上，且位於該些彩色 濾光圖案之間； 多個間隔物，配置於該黑矩陣層上，並與該黑矩陣層 連接在一起；以及 ^多個凸出結構，配置於該彩色濾光圖案上方之該共用 包極上其中5亥黑矩陣層、該些間隔物以及該些凸出結構 的材質相同。
6·如申睛專利範圍第5項所述之彩色濾光基板，其中 ϊίίΐ具有多數個次晝素區，且每—彩色濾光圖案是配 置於其中一次晝素區内。 7.如ΐ請翻翻第5销叙料濾絲板，更包 m膜層’、該配向膜層覆蓋該共用電極、該黑矩陣層、 μ二凸出結構以及該些間隔物。 ⑽=專利範圍第5項所述之彩色編板，其中
二二形色屬光圖案包括至少—紅色濾光圖荦、至少一綠色 濾光圖案以及至少一藍色濾光圖案。 9· 一種彩色濾光基板的製造方法， 提供一基板； 在該基板上形成多數個彩色濾光圖案； 些彩形成一遮光材料層’心蓋該基板以及該 圖案化該遮光材料層，以同時 個凸出結構以及多個間隔物出—黑矩陣層、多 21 丨 Otwf.doc/g 在忒基板上形成一共用電極，以覆蓋些彩色濾光圖 案、該黑矩陣層、該些凸出結構以及該些間隔物。 、10·如專利申請範圍第9項所述之彩色濾光基板的製 造方法’其巾®案化該遮光材料層之方法包括： 在該遮光材料層上設置一光罩，該光罩具有一透光 區、一非透光區以及一半透光區；以及 、，進行，曝光製程以及一顯影製程，以圖案化該遮光材 料層’而喊該黑矩陣層、該些凸出結構以及該些間隔物。 、11·如專利中請範圍第9項所述之彩色濾光基板的製 造方法’其巾形成該些彩色濾光圖案的方法包括： 在該基板上形成一紅色濾光材料層； 圖案化該紅色濾光材料層，以在該基板上形成至少一 紅色濾光圖案； 在該基板上形成一綠色濾光材料層； 圖案化該綠色濾光材料層，以在該基板上形成至少一 綠色濾光圖案； 在該基板上形成一藍色濾光材料層；以及 圖案化該藍色滤光材料層，以在該基板上形成至少一 藍色濾光圖案。 12· —種彩色濾光基板的製造方法，包括： 提供一基板； 在該基板上形成多數個彩色濾光圖案； 在该基板上形成一共用電極，以覆蓋該基板與該些彩 色濾光圖案； 22 1276845 Otwf.doc/g 在該共用電極上形成一遮光材料層；以及 圖案化該遮光材料層，以同時定義一黑矩陣層、多個 凸出結構以及多個間隔物。 13·如專利申請範圍第η項所述之彩色濾光基板的製 造方法’其中圖案化該遮光材料層之方法包括·· 在該遮光材料層上設置一光罩，該光罩具有一透光 區、一非透光區以及一半透光區；以及 · 進行一曝光製程以及一顯影製程，以圖案化該遮光材 料層’而形成該黑矩陣層、該些凸出結構以及該些間隔物。 14·如專利申請範圍第ι2項所述之彩色濾光基板的製 造方法’其中形成該彩色濾光圖案的方法包括： 在該基板上形成一紅色濾光材料層； 圖案化該紅色濾光材料層，以在該基板上形成至少一 紅色濾光圖案； 在該基板上形成一綠色濾光材料層； 圖案化該綠色濾光材料層，以在該基板上形成至少一 綠色濾、光圖案； 在該基板上形成一藍色濾光材料層；以及 一圖案化该監色濾光材料層，以在該基板上形成至少一 藍色濾光圖案。 23
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