TWI275121B - Substrate baking device - Google Patents

Description

1275121 九、發明說明： 【發明所屬之被翁領域】 本發明涉及對基板實施燒成處理的基板燒成裝置。 【先前技術】 、匕去已知如日本專利公開公報第2003-31 7627號所t =的那樣的基板的熱處理裝置(基板燒成裝置）。該熱處理 +置α有·對基板貫施熱處理（燒成處理）的加熱爐；以 、卜g的方式π又置在該加熱爐内，對加熱爐按照每一層運 入運出基板的運送架；使加熱爐升降的料裝置。在加熱 '盧勺上谷側和下游側的規定高度位置上，配置有上游側運 送路徑和下游側運送路徑。 Μ…處理衣置通過升降裝置使加熱爐升降，反復進行 通過使S著的運送架與上游側運送路徑相對向而將基板接 受到加熱爐内㈣作，從而在所有的運送架上都容納基 板。而且，由於是在升降加熱爐的同時，在各層的運送架 上保持基板的過程中在加熱爐中從最先接受的基板開始按 ㈣完成燒成處理，所以利料降裝置使保持有燒成處理 完成後的基板的運送架與下游侧運送架相對向而依次運 出。 然而，在上述專利文獻中記载的基板的熱處理裝置 中必/頁使加熱爐升降，因此在加熱爐中需要設置每一層 的基板運入運出用的開口和閘門，並且，升降裝置成為大 規模的結構’所以高昂的設備成本無法避免，而且由於升 2014-7202-PF;Ahddub 6 1275121 降動作而消耗了非常大的能量，還存在著運行成本高的問 〇 【發明内容】 本發明是鑒於該情況而提出的，其目的在於提供一種 基板燒成裝置，能夠在實現基板的燒成處理的高效率化的 基礎上，實現設備成本和運行成本的降低。 本發明所述的一種基板燒成裝置，包括：燒成爐，其 内邛具有空間，在側壁上形成有基板運入運出部；上游側 運运路徑，其與上述基板運入運出部連接，將基板運送到 上述燒成爐中；及下游侧運送路徑，其與上述基板運入運 出部連接，將燒成後的基板向下游運送，其特徵在於··上 述燒成爐包括：架部，其由在内部保持基板的複數層構成; 及升降結構，其按每一層升降上述架部。 、根據該結構，將通過從上游侧運送裝置運入到設置在 k成爐内的各層的架部而依次被保持的基板，通過曝露在

燒成爐内的燒成環培+， A 、 依—人貫施燒成處理。保持有燒 成处里70成後的基板的架部，通過升降裝置的驅動進行升 降’與下為側運送裝 卜 衣置相對向，在該狀態下將保持在該架 口P上的基板轉移到下 一 運k衣置。通過改變變空了的架 4的尚度位置而使並盥 將從上游側運送來㈣板運運送裝置相吻合’從而能夠 基板從上游㈣送人。如此，通過架部的升降將 過燒成爐向下游側運送裝置按照 逋吊的運迗速度進行 ^ 連k，並且可以同時對多片實施燒成 2014-7202-PF;Ahddub 7 1275121 爐中的燒成處理，實現了基板的燒成處理效率的提高和 時的縮短。 而且，由於升降裝置僅使架部升降，與過去那樣的使 燒成爐本身升降的裝置相比，具有簡單的結構，由此而降 低了設備成本，同時，與使燒成爐本身升降的情況相比， 還降低了能量成本。 最好上述基板運入運出部具有運入基板的基板運入部 及運出基板的基板運出部，上述基板運入部和基板運出部 設有：具有基板可通過的尺寸的開口及進行該開口的開閉 的開閉部。 根據該結構’由於在通過開閉部關閉開口的情況下燒 成爐=被密封，所以可對基板高效率地實施燒成處理。凡 最好上述架部的各層部包括：在上述上游側運送路徑 和上述下游侧運送路徑的基板運送方向上並排設置的複數 们運k輕及使3彡運$報的至少—個旋轉的驅動源。 、# 乂據…構，仗上游侧運送裝置向著架部的基板’通 過設在架部上的•驅動 ^ & 原的驅動導致的運送輥的旋轉而被運 入到架部上的同時，. 、 士 在將基板從架部朝向下游侧運送裝置 =:上==動源的驅動導致的運__ 攸门下耜側運送裝置運出。 這樣’通過在举立 /、4上設置在基板運送方向並置 的承載基板的複數枳、… Π上JL排.又置 ^ , βρ/{Φ ^ Χ廷輥、以及驅動該運送輥的驅動 /原、，即使不特別設/ 乍業機為人等的基板運出運人pg， 也可以相肖架部運+ '富 ^連入哀置 印運入基板，降低了設備成本。 2014-7202-PF/Ahddub 1275121 更加取好上述基板運入 個铡壁鈞上τ^ 这基板運出部在上述- 送路徑上下配置上述上游侧運送路徑和上述下游側運 置以上構一’通過將上游側運送裝置和下游侧運送褒 互相對向的方式設置 板燒成裝置的安裝面積。 心、了用於設置基 最好具有交接基板的基板交接 送路护釦卜、+、Α ^ 接衣置，在上述上游側運 和上述基板運 送路#和上… 運出#之間，亚且在上述下游側運 k略仏和上述基板運入 置，名P+、…、 置有上述基板交接裝 A 迂路仫和上述架部之間，以及上述下 表側運迗路徑和上述竿韶 4木#之間進行基板的交接。

根據該結構，由米V你k、A m 於仗上鮮侧運送裝置運送來的基板， 通過基板交接裝置的規定動 3 > 動作而被轉移到架部的同時，衮 、，、内在架部的基板通過基板 n…, 又接衣置的規定動作而被轉移到 下如侧運送裝置，所以能夠 详牡番卢。丁釦側運达裝置和下游側運 k衣置在同一平面上相對向 對向配置荨的設計上的制約成為必 要的乘小限度，提高了裝晉讯 门〗衣置，又汁中的佈局上的自由度。 更加最好上述上游侧運读々 T側連运路杈和上述下游側運送 配置成大致直線狀。 根據該結構’由於上游側運送裝置和下游側運送裝置 配置成…線狀，所以可縮小基板交接裝置的動作範 圍，在簡化了基板交接裝置的播 直的構造的基礎上，可以相對於 燒成爐可靠地進行基板的運入運出。 如上所述，本發明中由於斗 、升降袭置僅使燒成爐的基板 2014-7202-PF; Aliddub 9 1275121 燒成室内的架部升降，與過去的使燒成爐本身升降的裝置 相比能夠簡化結構，能狗由此而降低設備成本，同時，與 使燒成爐本身升降的情況相比，能夠實現能量成本的降低。 ^由於設有以密閉狀態關閉設在燒戍爐上的開口的開閉 部，所以可以利用該開閉部的關閉來實現對燒成爐内的密 封，可以實現高效率的燒成處理。 通過在架部上設置在基板運送方向上並排設置的承載 基板的複數根運送報、以及驅動該運送輥的驅動源，即使 不特別設置作業機器人等的基板運出運人裝置，也可以相 對木部運出運入基板，降低了設備成本。 由於能夠將上游側運送裝置和下游側運送裝置以上下 向的方式設置，所以減少了甩於設置基板燒成裝 0、女裝面積，由此可以實現安裝占地的有效利用。 定動H基板對架部的運人運出是通過基板交接裝置的規 、、，壯 4仃的，所以能夠使上游側運送裝置和下游側運 =裝置在同-平面上相對向配置等的料上的制= :的最小限度，由此提高了裝置設計中的佈局上的:由 可以對應於現場情況適當配置基板燒成裝置。 由於上游側運送裝置和下游側運送裝置配置成大致直 U技所以可縮小基板交接裳置的動作範圍，在簡化了基 板又接裝置的構造的美雄 ^ 行基板的運入運出。土 ，可以相對於燒成爐可靠地進 【實施方式] 2〇14-72〇2-pp;Ahddub 10 1275121

圖1是表示本發明第_每A 具施形式的基板燒成裝置1 0的 局部劍.開.的立，體圖，圖2是FI !私- ^ # 疋圖1所不的基板燒成裝置10的 A-A剖視圖。而且，在這此圓由

一圖中，x—X方向是寬度方向，Y-Y 方向是前後方向，尤盆一X古A3 凡八人方向是左方向、+x方向是右方 向’-Y方向是前方，+γ方向是後方向。 如圖1和圖2所示，第_本A r# 弟 貝知形式的基板燒成裝置1〇 具有這樣的基本結構，立里供· m 、 再，、具備·用於對基板B實施規定的 燒成處理的、在上下方向μ σ曰/ 壬長條狀的箱形的燒成爐2 〇 ; 内裝於該燒成M 2G中的可升降的基板容納裝置（竿 部使該基板容納裝置3G升降的升降裝Η;向燒成 爐20内供給高溫的非氧化性氣體（本實施形式中是氮氣） ^氣體供給部50;在燒成爐2Q内的燒成處理之前對基板B 霄施規定的前處理的前處理裝置6〇 ;對燒成爐2〇内的燒 成處理完畢後的基板B f絲枴宁& μ + w ^ 土 I D貝她規疋的後處理的後理 70。 ·=述燒成爐20 ’包括：從平面看呈長方形形狀的底板 21 ’從該底板21的寬度方向的各個邊緣部豎立設置的、在 寬度方向上的一對的側板22 ;從底板21的前邊緣部豎立 設置的前板23;從底板21的後邊緣部豎立設置的後板^4; 在每些側板22、前板23和後板24的上邊緣部之間架設的 頂板25，其在上下方向上形成為長條狀的箱开》，在内部設 有用於燒成基板B的燒成室（空間）v。通過將來自氣體供給 部50的高溫的非氧化性氣體G導入到該燒成室v，從而' = 基板容納裝置30所保持的基板B實施燒成處理。 2014-7202-PF;Ahddub 11 1275121 在忒燒成爐2〇的前板23的底部上，設置有用於導入 非氧化性氣體』的氨體導入孔231，而且同樣在頂板25上， ^又有用於導出非氧化性氣體G的導出孔251，從氣體供給 ，5〇共給的非氧化性氣體G，通過這些氣體導入孔231和 氣體導出孔251進行迴圈。 此外，在燒成室V的四個角部，分別設有由角型材料 構成的在上下方向上延伸的導軌26，基板容納裝置3〇的 各角部由廷些導轨26引導並實現升降。

此外在燒成爐2 0後板（一個側壁）2 4的上下方向上 的中央位置猶微上方的位置上，設有用於將來自前處理裝 置60的基板β運入到燒成室ν内的基板容納裝置3〇中的 運入口（開口、基板運入部）27,同樣在稍微下方的位置上， 設有用於將來自基板容納裝置3〇的燒成處理完成後的基 板Β向後處理裝置70運出的運出口（開口、基板運出部）28。 上述基板容納裝置30包括：比底板21稍微小一些的 長方形形狀的底板31 ;與該底板31相同尺寸的頂板32 ; 設置於這些底板31以及頂板32的各角部之間的由方型材 料構成的4根支柱33 ;以被各支柱33支承的狀態形成的 複數層的基板容納架層（層部）34。各支柱33分別與上述各 導軌26的内侧抵接，如此，基板容納裝置3〇可以在與導 軌2 6滑動的同時進行升降。 該基板容納裝置30被設定為，上下尺寸比燒成爐 的底板21和頂板25之間的内尺寸的1/2稍微短一些，這 樣在位於最下位置的狀態下，最上層的基板容納架層34 = 2014-7202-PF/Ahddub 12 1275121 運出口 28相對向，同時在被設定在最上位置的狀態下，最 下層的基扳容納架層3 4與運入口 2 7對應。通過如此調節 基板谷納I置3 0的高度位置，可以實現所有層的基板容納 架層34與運入口 27以及運出口 28相對向。 圖3疋表不基板容納架層34的一個實施形式的立體 圖。如圖所不，基板容納架層34包括··架設在前後相互相 對向的支柱33之間的寬度方向上的一對的橫樑材341，·架 設在寬度方向上相互相對向的支柱33之間的與橫樑材341 相同间度級別的、在前後方向上一對的縱樑材丨在橫 樑材341之間以等間距架設的複數根（本實施形式中是5根） 架部運送親35;安裝在一個橫樑材341上的驅動上述架部 運送輥35的驅動馬達（驅動源）36。 上述木部運送輥35被軸支承於架設在一對橫樑材34 i 之間的輥軸351的周圍，並與輥軸351同心並可一體旋轉。 此外，上述驅動馬達36，在本實施形式中，以與最前列的 架部運送輥35對應的狀態固定在左方的橫標材341上，該 驅動馬達36的圖中省略的驅動軸以與最前列的架部運送 輥35的輥軸351同心、並可一體旋轉的形式連接於輥軸 351。因此，驅動馬達36的驅動旋轉，通過驅動軸以及輥 軸351傳達到最前列的架部運送輥35，由此實現了最前列 的架部運送輥35圍繞著輥軸351並一起旋轉。 而且，—個橫樑材341(本實施形式中為左方的橫樑材 341)和架部運送輥35的端面之間設有齒輪結構π，驅動 馬達3 6的驅動旋轉，通過該齒輪結構3 7向除了最前列之 2014-7202-PF；Ahddub 13 1275121 外的各架部運送輥35傳達（最前列的架部運送輥35，不通 過齒輪結構37，而直接傳達架部運送輥35的驅動力）。 齒輪結構37包括：以與最前列的輥軸351同心且可一 體碇轉的方式外嵌於該最前列的輥軸351的驅動齒輪 371;以與最前列以外的輥軸35ι分別同心並可一體旋轉的 方式刀別外嵌於最前列以外的輥軸351的從動齒輪372 ; 在驅動齒輪371和與該驅動齒輪371相鄰的從動齒輪372 之間以及在各從動齒輪372之間設置的空轉齒輪373。因 此，驅動馬達36的驅動旋轉，通過驅動齒輪371以及空轉 齒輪373而傳遞到各從動齒輪372,由此，所有的架部運 送輥35朝向相同方向一起旋轉。 而且’在通過運人π 27(圖2)將基板B接收到基板容 :架層34上時’驅動馬達36向圖3的順時針方向驅動旋 轉’由此基板B被各架部運送親35的向著順時針方向的旋 轉所引導，被運入到基板容納架層34 、 力一方面，在將 承載在基板容納架層34上的基板山 、重^^士 溉β通過運出口 28(圖2) 連出％，驅動馬達36向圖3中的逆時斜古a 疋吋計方向驅動旋韓，由 此基板容納架層34上的基板B，被 荽、& n士力丄 欲口木#運送輥35的向 者逻恰針方向的旋轉所引導，通過運 裝置7。運出。 出口以而向著後處理 上述升降裝置40，如圖1和圖2所示，包括 爐20所安裝的地板的下方位置以縱 70 弁卩μ k Π女置的方式配置的 升降電機41 ;與該升降電機41的驅動細」^ 碰# & 切罕由411以同心並可 一體疑轉的方式連接的花鍵軸4 2 ;以盥 Α ，、邊化鍵軸42同心 2014-7202~PF；Ahddub 14 1275121 並一體旋轉、且可升降的 f的方式外肷於該花鍵軸42的螺旋混 4 3 ,以與該螺旋捍螺 -、 接的方式固定在燒成爐2G的底板 d的下表面側的螺母構件 4，固疋在基板容納裝置30的 氏板3 1的下表面中麥^ 、皇拉 W置處的、螺旋桿43的頂部以滑動 連接的狀態嵌入的圓筒體45。 上述升降電機41安梦力圓#蝴 女衷在0同體45的正下方位置，同 寸’螺旋桿4 3以I螺番接从λ /、母構件44螺旋連接的狀態貫穿底板 21而知入到燒成室ν 能 在狀下頂部以與圓筒體45 了相對旋轉的方式嵌入 〜 J ®同體45内。上述螺旋桿43設 疋為與基板容納裝詈q η 具痒 内衷置3〇的上下方向的外尺寸大致相同的 、又’ _上述花鍵軸42設定為㈣旋桿Μ稍微長一些。 根據所述料裝置4〇，升降電機41的驅動使花 鍵軸42目繞軸心進行旋轉，從而將該旋轉傳達到螺旋桿 43 ’螺旋桿43也圍繞轴心旋轉。而由於螺旋桿43與螺母 構2 44螺旋連接，所以通過該旋轉進行升降，該升降通過 固筒體45傳達到基板容納裝置30,使得基板容納裝置3〇 進行升降。 上述氣體供給部50包括：儲存非氧化性氣體G的氣體 罐等的^體源51;燒成氣體供給部52，其將來自該氣體源 51的非氧化性氣體G加熱，並將該加熱了的非氧化性氣體 ^給到燒成室V 對基板B實施燒成處理；週遭氣體 供給部 5 3，jSl r^n L. 'J.' t 述則處理裝置6 〇以及後處理裝置了 〇供 給來自氣體源51的非氧化性氣體G，使前處理裝置60以、 及後處理裝置70内成為非氧化性氣體環境。 2014-7202-PF;Ahddub 15 1275121 上述燒成氣體供給部52包括··第-送氣鼓風機522, 51 2〇 231 而配f的加減體供給請上；溫調裝置523,其設置 在Π玄弟达乳鼓風機522的下游側；設置在該溫調裝置523 的下游側㈣—控制閥524 ;從燒成爐20的了頁板25的導 出孔251向第迗氣鼓風機522和溫調裝置523之間的加 熱氣體供給官5 21配置的氣體回收管5 2 5。

述周衣置5 2 3是將非氧化性氣體G的温度調節到 適於基板B的燒成處理的溫度的裝置，在本實施形式中， 通過第-送氣鼓風機522的驅動，將從氣體源_過加熱 氣體供給f 521而導出的非氧化性氣體α熱到適於基板 Β的燒成處理的溫度的25(rc〜35(rc。該加熱處理後的非氧 化f生氣版/通過第一控制閥524被導入到燒成爐20的燒成 至V内該氣/;,L通過與承載在基板容納裝置3 〇的各層的基 板奋、内木層34上的基板B接觸來對該基板β實施燒成處 理。 此外，在本實施形式中，通過對第一控制閥524的開 度進行控制來調節非氧化性氣體G向燒成室y内的導入 里，從而將燒成室V内的壓力設定為常壓，但是本發明不 限於燒成室V内為常壓的情況，根據情況還可以設定為比 常壓壓力高的正壓，或者比常壓壓力低的負壓。 在燒成室V内供基板β的燒成處理之後的非氧化性氣 體G，通過氣體回收管525返回到第一送氣鼓風機522和 ▲调裝置523之間的加熱氣體供給管521進行迴圈使用、 2014-7202-PF；Ahddub 16 1275121 上述週遭氣體供給部53包括：上述氣體源51(氣體源 51在燒成氣體供給部52和週遭氣體供給部53中共用）； 在該氣體源51和上述前處理裝置60以及後處理裴置7〇之 1配置的週化氣體供給f 531 ;設置在該週遭氣體供給管 531的適當處的第二送氣鼓風機532。供給到前處理裝置 6〇和後處理裝£ 7〇的非氧化性氣體G，在使前處理裝置 6〇和後處理裝f 7G成為非氧化性氣體環境的基礎之上向 外部排出。

/上述前處理裝置6G包括：固定在後板24上的、在前 後方向上成長條狀的上部殼體61，其下游端(前端)與燒成 爐20的運入口 27相對向；在該上部殼體^内從上游（前 方）侧依次形成的上游側置換室62、第一肝室Μ以及第 一 UV室64。在這此久玄a〇 a a ju 、， 隹、二各至62、63、64中，沿著基板運送方 向亚排a又置有上部殼體内運送輥65。各上部殼體内運送輥 65通過圖中4略的運送電機的驅動而同步旋轉。而通過這 一上U内運达輥65和並排設置在上部殼體以的後方 的上游側運迗輥11形成將基板β向燒成爐20運送的上游 側運送路徑12。 / "上述上游側置換室62用於將從外部侵入的含有氧的 氣體置換為來自氣體源51的非氧化性氣體G而使前處理裳 置6(^内成為非氧化性氣體環境。在所述上游側置換室μ 的上游壁上設置有可開閉的間門（開閉部）66，其用於開閉 基板運人σ，轉时r时職.㈣定雜麵支承 者，同時，上游侧置換室62和第_肝室63之間的隔斷壁 2014-7202-PF;Ahddub 17 1275121 上設置有通過上下動作開閉基板通過口的、比閘門66密閉 度高的' 閘啊閥（開縣奉 通過在下游端的閘門閥67打開、且上游端的閘門66 打開的上游侧置換室62内運入了基板B的狀態下打開設置 在週遭氣體供給管531的下游端的第二控制閥533，從而 上耔側置換室62内的氣體被置換為非氧化性氣體G。 上述第一 UV室63以及第二uv室64是用於對基板b 實施第一次和第二次紫外線照射處理的裝置，分別在内部 設置有紫外線燈68。在所述第一肝室63和第二肝室64 之間的隔斷壁、以及第二uv室64的下游端的後板24上， 分別没置有用於開閉基板通過口和運入口 2 7的閘門6 6。 廷些第一以及第二UV室63、64中也通過從週遭氣體供給 管531分支了的支管而供給來自氣體源51的非氧化性氣體 G，由此第一以及第二uv室63、64内總是保持非氧化性氣 體環境。 而在第二UV室64内實施了第二次紫外線照射的基板 B，在下游端的閘門66處於打開的狀態下，被上部殼體内 運送輥65的驅動旋轉以及架部運送輥35的驅動旋轉所引 導’運入到基板容納裝置30的基板容納架層中。 上述後處理裝置70是用於對在燒成爐2〇的燒成室v 内以承載在基板容納架層34上的狀態實施了燒成處理的 基板B，實施規定的後處理的裝置，其包括：在上部殼體 61的稍下方位置處固定在後板24上的前後方向呈長條狀 的下部设體71，其上游端（前端）與燒成爐2 〇的運出口 2 8 2〇14-7202~PF;Ahddub 18 1275121 相對向，在該下部殼轉 ―、入… 内從上游(前方)側依次形她 〜卻室72、第二冷卻室^ 勺弟 此女+ 以及下游側置換室74。右π 士各室72、73、74中沿著 向 置在乂 體内運魏75。各上部扭〜排5又置有下部殼 、s、、， ^又體内運送輥75通過圖中省 運迗電機的驅動而同步旋糙 〜 疋轉。從而利用這些上部殼體内運 迗輥75和在下部苟髀71 ΑΑ μ ^ . 、後方並排設置的下游側運送輥 形成將基板Β向下—個工序運出的下游侧運送路徑“。 ^上述第一冷卻室72以及第二冷卻室73是用於對從基 板容納裝置30的基板容納架層34導出的燒成處理完成的 基板B實施冷卻處理的裝置。該各冷卻室72、73的頂面上 分別固定有涼片（cool plate)76，同時還設置有將下部殼 如·内運送輥75所支承的基板b抬起而使其與涼片76抵接 的基板抬起機構7 7。 上述基板抬起機構7 7具有在複數個下部殼體内運送 輕75之間設置的、用於支承基板β的複數根基板支承銷 φ 7 71。而且，通過基板抬起機構7 7的驅動使基板支承銷7 71 上升，從而基板Β被基板支承銷7 71抬起而與涼片76面接 觸，由此來實施冷卻處理，另一方面，通過基板抬起機構 77的反向驅動而使基板支承銷771下降，從而基板Β被支 承在下部殼體内運送輥75上，通過下部殼體内運送輥75 的驅動來實現運送。 上述各涼片76中供給有來自圖中省略的冷熱源的冷 媒，由此保持用於冷卻基板Β的低溫。而且’弟二冷卻室 7 3側的涼片7 6比第一冷卻室7 2侧的涼片7 6的溫度低。 2014-7202-PF;Ahddub 19 1275121 因此，從燒成爐運出的基板B，在第一冷卻室72中實 施了第〜次冷卻處。理之後，在第二冷卻室73中實施比此溫 度更低的第二次冷卻處理，通過該兩階段的冷卻處理能夠 防止由於急劇的溫度變化導致的基板B的熱破損。 而且，在第一冷卻室72的上游端相對向的燒成爐2〇 的後板24以及第一和第二冷卻室72、73之間的隔斷壁上， 分別設置有用於將基板B從燒成爐20運出的運出口 28以 及開閉用於通過基板的通過開口的閘門（開閉部）78。該閘 門78是與設置在前處理裝置60上的閘門66具有同樣結構 的裝置。 相對與此，在第二冷卻室73和下游侧置換室74之間 進行隔斷的隔斷壁上，設置有用於開閉設在該隔斷壁上的 基板通過開口的閘門閥（開閉部）79。該閘門閥79是與設置 在前處理裝置60上的間門閥67具有同樣結構的裝置，其 具備高度的氣密性。因此，通過關閉各閘門閥67，79，可 籲以在第一 UV室63、第二uv室64、燒成室V、第一冷卻室 72以及第=冷卻t 73中形成包括前處理和後處理的基板 燒成處理用的高度的密閉空間。 置。在该下游側置換室7 4的下游端壁上 形成在該下游端壁上的基板運出口的閘 上述下游侧置換空間7 4是在將基板B運出到系統外時 將從外部侵人的包括氧的環境置換為非氧化性氣體G的裝 ’設置有用於開閉 門7 8。而通過打開 閘門閥79將基板B運入下游側置換室74中之後關閉閘門 閥79，在該狀態下打開閘門78，將基板B運出到系統外， 2014-7202-PF/Ahddub 20 1275121 仁此％含有氧的外部氣體侵入到下游侧置換室μ中，下游 侧置換’室〃 74夜戒為〜包含氧的氣 74内的環境，利用在閘門78關閉之後的與非氧化性氣體G 的置換，而被置換成為非氧化性氣體環境。 圖4是用於說明第一實施形式的基板燒成裝置丨〇的燒 成爐20的作用的說明圖，圖仏示出最初的基板Β正被= 入到最上面的基板容納架層34的狀態，圖4b示出所有的 基板容納架層34都運入了基板β的狀態，圖4c示出最初 運入的基板Β正被從最上面的基板容納架層34運出的狀 悲，圖4d示出為了將基板β運入變空的基板容納架層以 上而基板容納裝置30上升的狀態。 首先，在基板燒成裝置丨0操作的最初，通過升降電機 41的驅動，設定基板容納裝置3〇的高度水平，使得最上 層的基板容納架層34與前處理裝置60的第二UV室64相 對向。在該狀態下，打開第二υν室64下游端的閘門66， • 同時驅動上部殼體内運送輥65，並驅動最上面的基板容納 架層34的驅動馬達36，使架部運送輥35旋轉。這樣，第 二UV室64内的基板β，如圖4a所示，通過運入口 27運 入到基板谷納架層3 4上。而當基板B向基板容納架層3 4 的運送結束時，驅動馬遠3 β停止，由此，成為基板β保持 在最上面的基板容納架層34上的狀態。 接著，利用升降電機41的驅動，通過花鍵軸42而螺 旋桿43圍繞軸心旋轉，基板容納裝置3〇僅上升1個螺距， 對從上開始的第二個基板容納架層34裝填下一個基板β， 2〇l4~7202-PF；Ahddub 21 1275121

支X 成為在所有的基板容 ^反復進行該操作，如圖4b所示 "曰3 4上都'裝填有基板b的狀態

〜而在本實施形式中，由於升降電機41被在時間上驅動 使得在所有的基板容納架層34上都裝填有基板B的 ::(即’經過1個迴圈週期的時刻），最勒裝填的基板B 細::成處理結束，所以在基板B被運入到最下層的基板容 木層34上的時刻，最上層的基板B的燒成處理結束。 欠該狀態下基板容納裝置30利用升降電機41的驅動而 下1V，如圖4c所示，最上層的基板容納架層34與運出口 28^目對向，該狀態下基板B通過打開的閑門78向第一冷 郃室72運出。這樣使得最上層的基板容納架層％變空。 接著，為了向變空的最上層的基板容納架層34運入基 板B，基板容納裝置30利用升降電機41的驅動而上升， 由此，如圖4d所示，最上層的基板容納架層34與運入口 27相對向，該狀態下將第二訂室64内的基板6運入最上 層的基板容納架層34,這樣的基板B相對於基板容納架層 34的運入運出操作從最上面開始到第二個基板容納架層 34、第三個基板容納架層34而依次反復進行，這樣從前處 理裝置60依次向燒成爐20供給的基板B，在燒成爐2〇内 依次連續地實施燒成處理，將完成的基板依次向後處理裝 置70運出。 如上詳述，第一實施形式的基板燒成裝置丨〇包括：内 部形成有燒成室V的燒成爐20;向該燒成爐20運送基板E 的上游侧運送路徑1 2 ;接受並運送從燒成爐2〇導出的燒 2014-7202-PF/Ahddub 22 1275121 成處理完成後的基板B的丁、脖/ 1 攸β的下游側運达路徑14，在燒成爐2〇 中内置有：具備依次接受並保持利用上游側運送路徑i 2運 迗來的基板B的稷數層的基板容納架層34的基板容納裝置 3〇 ;使該基板容納裝置3〇升降的升降裝置4〇，升降裝置 4 0為了使谷納有燒成處理— X处理兀成後的基板B的基板容納架層 3 4朝向與下游側運送路和] k 14相對向的位置而使基板容納 t置30依次升降。 因此’通過從上游侧運择敗^ U連达路I 12運入到設在燒成爐 20内的基板容納裝置3〇的久装 ^ 不1川的各基板容納架層34上而依次保 持的基板B，通過暴露為、j；圭# @ π Λ +路在燒成爐20内的燒成環境中來依次 實施燒成處理。保持有煻忐_ w + >功，^ 寸，乂成處理完成後的基板β的基板容 納架層34，通過利用升ρ备駐嬰」η α … 、置4 0的驅動導致的燒成爐2 〇 内的基板容納裝置30的升降，豆古洚仏罢a A 一 ▼異网度位置與下游側運送路 1 4對應’在该狀態下將/〇 -A- -fcf- 1 〜、卜將保持在基板容納架層34上的基 板B依次轉移到下游側運送路徑14上。如果將通過上游側 運送路徑12運送來的基板B基於利用升降裝置Μ進行的 基板容納裝置3Q的升降動作依次運人β的基板容納架 g 3 4貞丨可以邊將基板β從上游側運送路徑1 2通過燒 成爐2 0向下游側運送路經1 4 、峪位14以通常的運送速度來運送， 一邊在燒成爐2 0實施燒成虛w 70料理，由此可以提高基板B的燒 成處理效率。 而且由於升降裝置4〇僅能使燒_ % v 内的基板容納裝置3G升降，與過去的使燒成爐2q本身升 降的技術方案相比能夠簡化結構，由此而實現設備成本的 2 014-72 02-PF/Ahddub 1275121 降低，同犄’與使燒成爐20本身升降的情況相比，能夠實 .現能量戒本韵释低。 、 此外，由於在基板容納架層34中設置有在基板運送方 向上並排設置的承載基板B的複數根架部運送親％和驅動 該架部運送輕35的驅動馬達36，所以從上游側運送路徑 12運向基板容納裝置3〇的基板容納架層^的基板b，通 過設在基板容納架層34上的驅動馬達36的驅動導致的架 部運送輥35的旋轉，而運入到基板容納架層以上，同時7 f將基板B從基板容納架層34向下游側運送路徑丨4運出 日守’也能夠利用驅動馬達36 #驅動導致#架部運送輥Μ 的旋轉而將基板容納架層34上的基W向下游側運送 14運出。 工 、，這樣，通過在基板容納架層34上而在基板運送方向上 f排設置的承载基板B的複數根架部運送輥35和驅動該架 々P運达輥35的驅動馬達36，即使不特別設置作業機器人 等的基板運出運入裝置，也能將基板β相對於基板容納架 層34進仃運出運入，能夠實現設備成本的降低。 日進一步，由於上游側運送路徑12和下游側運送路徑 是上下相互相對向的方式安裝的，可以減少用於設置 基板燒成裝置1G的安裝面積’能夠實現安裝面積的有效利 用0 圖5是表示本發明第二實施形式的基板燒成裝置1〇， 的局部剖開的立體圖’圖6是圖5所示的基板燒成裝置1〇， 的β-Β剖視圖。而且，這些圖令，χ_χ方向是寬度方向， 2014-7202-PF/Ahddub 1275121 γ—γ方向是前後方向，尤其方向是左方，+χ方向是右方， —Y方向是前，方，+Y方向是後方。 如圖5和圖6所示，第二實施形式的基板燒成裝置1 〇 ’ 具有這樣的基本結構，其包括··用於對基板B實施規定的 燒成處理的上下方向上呈長條狀的箱形的燒成爐2 〇 ;内置 在該燒成爐2 0内的可以升降的基板容納裝置3 〇，（圖6); 使該基板容納裝置30’升降的升降裝置40 ;向燒成爐2〇

内供給高溫的非氧化性氣體（本實施形式中是氮氣）的 供給部50 ;在燒成爐20内的燒成處理之前對基板B實施 規定的前處理的前處理裝置60 ;對在燒成爐2〇内的燒成 處理結束後的基板B實施規定的後處理的後處理裝置7〇 ; 將基板B從前處理裝置60向基板容納裝置3〇，以及從基 板容納裝S 30’向後處理裝置7〇運入運出的基板運入運 出裝置（基板交接裝置）8〇。 構成基板燒成裝置10’的這些構成要件中，對於燒成 爐20、升降裝置40、氣體供給部5〇、前處理裝置⑽:及 後處理裝S 70’採用與第—實施形式相同的裝置，相對與 此’基板容納裝置30’ ％與第一實施形式在結構上稍有些 差異。此外，在設計上，箓—與 弟貝施幵乂式中疋前處理裝置6〇 和後處理裝置70上下柏對人α σ成碰a 下相對向的2層構造的方式，相對於 此，第二實施形式中前處 ⑴ < 理裝置6〇和後處 著基板運入運出部15而巷π μ +展置70疋k 班… 而在同-平面上’在前後方向上串聯 配置的，這一點是與第一實 只％形式不同的。因此，在 爐20的後板24上，代妹楚 ^ ^ 代曰弟一實施形式的運入口 27和運出 2014-7202-PF;Ahddub 25 1275121 口 28,僅設置了一個運入運出基板B的運入運出口 2卜 上述祕隸I置30’，如圖6巧示，包括：底板31 ; 頂板3 2 ;設置在這些各個板3 j 根支柱33;在這些支柱33上 32之間的四個角部上的4 在上下方向上以等間距支 承的複數個基板容納架層34,在這些方面是與第一實施形 式的基板容納裝置30共通的，但是與第一實施形式的基板 容納裝置30不同點在於，在各基板容納架層34上代替架 部運送輥35而設置4根基板支承銷38。

上述基板支承銷38,豎立設置在基板容納架層34上， 使得將它們連接的線形成為四邊形。該基板支承銷38，其 長度尺寸設定為比上下方向上相鄰設置的基板容納架層34 之間的間隙尺寸短很多，這樣基板B能夠在各基板容納架 層34中不與上方的基板容納架層34發生干涉而具有一定 餘量地被支承在基板支承銷38上。 上述基板運入運出部15(圖7)是用於確保上述基板運 入運、出裝置80能夠動作的空間的裝置，設置在前處理裝置 60的下游端（前端）和後處理裝置的上游端（後端）之間，並 且，向在其右方設置的燒成爐2 〇延伸。該基板運入運出部 15具備：與前處理裝置60和後處理裝置70的底部具有相 同高度水平的底板1 51 ;與前處理裝置60和後處理裝置7〇 的左面共面的左面板1 52 ;在前處理裝置60和後處理裝置 70的各個右面與向燒成爐2〇各側板22的左方突出的部分 之間架設的前後方向上的一對架設板1 53 ;從這些一對架 設板153的上邊緣部之間向左面板152延伸，並進—步通 2014-7202-PF；Ahddub 26 1275121 過向側板22的左邊突出的部分的上邊緣部延伸到後板24 的頂板154。 由这些底板15卜左面板152、一對架設板153以及頂 板154所圍繞的空間形成用於中轉基板B的中繼室yi。中 繼室vi被區分為：内裝有用於提升從前處理裝置6〇運入 的基板B的後述的提升機構81的基板提升室vu、安裝有 在該基板提升室VI1和燒成爐2〇之間交接基板β的後述的 機為人85的機器人室vi2。在基板提升室vu和機器人室 _ V12之間設置有隔斷板155。在該隔斷板155和頂板154之 間形成有用於通過基板B的間隙。 圖7是詳細示出基板運入運出裝置8〇的立體圖。而 且，圖7中X以及Y所表示的方向與圖5的情況相同。如 圖7所示，基板運入運出裝置80包括：在基板運入運出部 1 5的底板1 51的兌度方向的中央部左側設置的、舉起基板 B的提升機構81 ;進行將通過該提升機構81被升起的基板 參B容納在燒成爐20内的基板容納裝置3〇，中，或者將基板 Β從基板容納裝置30，中取出並轉移到提升機構81的動作 的機器人（基板交接裝置）8 5。 上述提升機構81包括··提升從前處理裝置6〇運入中 繼室VI内的基板Β的提升板82 ;使該提升板82提升的偏 心凸輪機構83 ;驅動該偏心凸輪機構83的驅動機構84。 上述提升板82呈大致正方形形狀，在四個角部分別豐立設 置有提升基板Β的提升銷821。另一方面，在基板運入運 出部1 5的左面板1 5 2和隔斷板1 5 5之間，架設有規定根數 2014-7202-PF/Ahddub 27 1275121 的提升室内運运輥16。這些提升室内運送輥16，通過圖中 省略τ的驅動馬達的驅動進行旋轉。 而且彳火如處理裝置6 0運入的基板b，在提升板8 2 被位置设疋在下方位置上的狀態下通過提升室内運送輥工6 的驅動旋轉’不與提升銷821發生干涉，而被運入到基板 提升室vii的中央部，同時，在提升板82被位置設定在上 方位置上的狀態下，4根提升銷82丨將基板B升降。 上述偏心凸輪機構83，包括··在提升板82的下部而 架設在左面板152和隔斷板155之間的前後方向上的一對 的凸輪軸831 ;以及一體外嵌在各凸輪軸831上的每一根 凸輪軸8 31有2個的偏心凸輪8 3 2。偏心凸輪8 3 2形成為 圓形’並設定其偏心位置分別成同-相位。而上述提升板 2被該4個偏心凸輪8 3 2在前後左右方向上定位的狀態 下以可上下動作的方式支承著。因此，通過各凸輪轴gw 圍繞軸心旋轉，4個偏心凸輪832的偏心狀態同步進行， _亚圍繞凸輪軸83丨旋轉，由此實現提升板82在下方位置和 上方位置之間升降。 上述驅動機構84包括：在從基板運入運出部15的底 板1 51的前後方向中央部向左方突出設置的架台1 7上安裝 的提升馬達841 ;以與該提升馬達841的驅動軸842同心 亚一體的方式外嵌於驅動轴842的驅動齒輪843;以與上 述各凸輪軸831分別同心並一體的方式外嵌於各凸輪軸 831的從動齒輪844;分別設置在各從動齒輪844和上述驅 動齒輪843之間的空轉齒輪845。因此，當驅動提升馬達 2014-7202一pp;Ahddub 28 1275121 841時，該驅動力通過驅動軸842、驅動齒輪843、空轉齒 輪845以及從動齒.輪844被傳達到凸輪軸83丨，通過凸輪 轴831圍繞軸心的旋轉，偏心凸輪832圍繞凸輪軸831偏 心旋轉，由此，被支承在偏心凸輪832上的提升板82就實 現了在下方位置和上方位置之間的升降。 上述機為人包括··在機器人室V12的底板151的中 央位置從下方貫穿固定的傳動裝置851;從該傳動裝置851 向上方犬出设置的旋轉桿852;安裝在該旋轉桿852的頂 部的在水平方向上延伸的基端側臂部853;在該基端側臂 部853的前端部上以圍繞連接軸855可旋轉的方式連接著 的前端侧臂部854。 上述傳動裝置851具備使旋轉桿852圍繞軸心旋轉的 功能。此外，上述基端側臂冑853以及前端侧臂部854相 互連接’使得通過在它們内部形成的圖中省略了的連桿機 ，而聯動的同時進行屈伸。旋轉桿852的旋轉動作以及各 臂4 853、854的屈伸動作，可以相應于向燒成室v内運入 的基板B的情況（是將基板提升室V11内的基板㈣送到燒_ 成爐2〇 ’還是將燒成爐2〇内的基板B從燒成室V取出）預 先設定。 ，圖圖10疋用於說明第二實施形式的基板燒成裝置 10中的基板運入運出裝置80的作用的說明圖，其中圖 88圖8b表不各臂部853、854位於起始位置的狀態，圖 8e'圖8d表示前端側臂部⑽載有基板β的狀態，圖 圖讥表示前端侧臂部854將基板B運到機器人室V12的狀 2014-7202-pp;Ahddub 29 1275121 恶’圖9c、圖^表示前端側臂部似將基板心入到燒 成爐2〇件你 表不刚端侧臂部854所支承的基板β向基板容納架層34轉 私的狀悲’目1 〇c、圖1 0d表示前端側臂部854正在從燒 成爐20中抽出的狀態。而且，這些圖中，各&、c圖表: 平面視圖’各b、d圖表示侧面咅彳視圖。 首先，在圖8a、圖8b所示的狀態下，通過提升室内 運送輥16的驅動而從前處理裝置6〇被運入到基板提升室 VII内的基板b通過由提升馬達841的驅動導致的提升銷 821的上升而成為被舉起的狀態。該狀態下通過驅動傳動 I置851，旋轉桿852圍繞軸心按順時針方向旋轉，從而 各臂部853、854如圖8c、圖8d所示，向左方伸直地延伸， 由此，前端侧臂部854潛入到基板B的下方，接著反向驅 動提升馬達841，由於由此而提升銷821下降，成為基板β 由前端側臂部854支承的狀態。 _ 接著，傳動叙置8 51被反向驅動，通過由此而旋轉桿 852向著逆時針方向的旋轉，前端侧臂部854所支承的基 板B，如圖9a、圖9b所示，從基板提升室vu暫時轉移到 機器人室V12,並且通過旋轉桿852的繼續旋轉，如圖9c、 圖9d所示，插入燒成爐20的基板容納裝置3〇，的基板容 納架層34的上方位置。 接著’利用升降電機41 (圖6 )的驅動，基板容納裝置 3 0’被稍微向上方抬起，由此基板β如圖10a、圖1〇b所 示，成為被基板支承銷38支承的狀態。該狀態下，通過傳 2014-7202-PF;Ahddub 30 1275121 動裝置851的正驅動，各臂部853、854如圖i〇c、圖1⑽ 所示.從燒成〜爐』0 t 3 0 ’的運入結束。 而當各臂部853、854從燒成爐20中抽出時，升降芙 板容納裝置30,，支承著燒成處理結束的基板β的基板^ 納架層34與燒成爐20的運入運出口別相對向，該燒成處 理結束的基板Β，有前端側臂部854承載而取出，接著通 過旋轉捍852的驅動而被送到基板提升室vu，移到該基 _板提升t VII的基板B，在由架部運送輥35接受後，通過 采邓運送輥3 5的驅動旋轉而向後處理裝置7 〇運出。 通過反復進行這樣一連串的動作，從前處理裝置“依 次運入到中繼室V1的基板B，在通過機器人85而被逐一 插入到燒成爐20内的同時’在燒成爐20中燒成處理完成 了的基板B，也通過機器人85而經由中繼室n被逐一運 出到後處理裝置70,由此與過去的完全批次處理那樣’在 參燒成爐20内完成！片基板B的燒成處理後，將下_片基板 B裝填到燒成爐2G的方式相比，大幅度縮短了燒成處理時( 間，並在各層提高了燒成處理的效率。 ，如上詳述那樣，根據第二實施形式的基板燒成裝置 1 〇 ’由於在别處理裝置6Q和後處理裝置之間設置有 基板運入運出裝置卩4c <直忒基板運入運出裝置在將從前 處理裝置6〇運送來的基板β運入到内裝在燒成爐20中的 基板奋、，、内4置3G㈣基板容納架層34上的同時，將燒成 處理、、、。束了的基板Β從基板容納架層％向後處理裝置7〇 2014-7202-PF/Ahddub 1275121 運出，所以從前處理裝置60送入的基板B，通過基板運入 運出裝置制的機器人85的規定動作而轉移到基板容納架 層34,同時容納在基板容納架層34上的燒成處理結束了 的基板B通過機裔人8 5的規定動作而轉移到後處理裝置 。因此可以使將前處理裝置60和後處理裝置7〇在同_ 個平面上相對向配置等的設計上的限制控制在必要的最小 限度，可以提高裝置設計中的佈局上的自由度。 此外，由於前處理裝置60和後處理裝置7〇在同一平 •面上成大致直線狀，而且，隔著規定的空間(中繼室η的 基板提升室Hi)配置在相對向位置上，燒成爐2〇設置在 從中繼室VI偏離的位置，基板運入運出裝置8〇設置在機 态人室V12，所以不僅基板運入運出裝置8〇的結構簡單化 了，而且可以相對燒成爐2〇可靠的進行基板Β的運入運出。 而且，由於在燒成爐20中設有運入運出基板Β的運入 運出口 29，在該運入運出口 29設有使燒成爐2〇内成為密 %封狀態的可開閉的閘門66，所以通過關閉該閘門66，可使 燒成爐20内密封，由此可以實現高效率的燒成處理。 本1¾明並不限於上述的實施形式，還可以包括下面的 内容。 (1) 在上述的實施形式中，作為升降裝置採用了具 備化鍵軸4 2和螺旋桿4 3的結構，但是本發明的升降裝置 不限於具有螺旋桿4 3的結構，例如也可以通過基於油壓的 A缸裝置的驅動來使基板容納裝置3 〇、3 〇，升降。 (2) 在上述實施形式中，在前處理裝置6〇設置有上游 2014-7202-PF/Ahddub 32 1275121 側置換室62、第一 _63以及第二卯室&4的同時，在 72： 73^τ 心側置換冑74 ’但是本發明的前處理裝置6q和後處理裝 置70不限於該設計，還可以根據具體情況增減⑽室和冷 部室的數量。

、（3)在上述實施形式中，基板Β的燒成處理是通過在燒 成爐20内導入加熱了的非氧化性氣體6來進行的，但是將 其代替，也可以在燒成爐20内配置例如通電發熱體等的加 熱源，通過該加熱源對基板Β實施燒成處理，也可以一併 使用加熱源和加熱了的非氧化性氣體G。 (4)在上述的實施形式中，是在加熱氣體供給管52丨和 週遭氣體供給管531上分別設置第一送氣鼓風機522和第 一运氣鼓風機532，來壓送來自氣體源51的非氧化性氣體 的但是在氣體源51例如是高壓的儲氣瓶的情況下，由 於可以用自身的氣壓從氣體源51中導出，所以無需特別設 置送氣鼓風機522、523。 (5 )在上述的第一實施形式中，基板容納架層34為7 層’在第二實施形式中基板容納架層34為17層，但是本 备明中’基板容納架層34的層數不限於7層或者I?層， 可以根據情況選擇各種層數。 【圖式簡單說明】 圖1是表示本發明第一實施形式的基板燒成裝置的局 部剖開的立體圖。 2014-7202-PF；Ahddub 33 1275121 圖2是圖i所示的基板燒成裝置的a_a剖視圖。 圖念是表示適用於第一實施形式的基板燒成裝置的基 板容納架層的一個實施形式的立體圖。 圖4是用於說明第—實施形式的基板燒成裝置的燒成 爐的作用的說明圖，其中圖4a表示最開始的基板正在運入 最上面的基板容納架層的狀態’圖4b表示向所有的基板容 、-内木層運入了基板的狀態，圖4c表示最開始運入的基板正 在從最上面的基板容納架層運出的狀態，圖4d表示為了將 •基板運入到變空的基板容納架層令而基板容納裝置正在上 升的狀態。 圖是表示本發明第二實施形式的基板燒成裝置的局 部剖開的立體圖。 圖6疋圖5所示的基板燒成裝置的Β_β剖視圖。 圖7是詳細表示基板運入運出裝置的立體圖。 ,圖8疋用於說明第二實施形式的基板燒成裝置的基板 • , Γ運出袭置的作用的說明圖，其中圖8a、圖8b表示各 、 ；起始位置的狀態，圖8c、圖8d為前端側臂部承 載了基板的狀態。 、圖9疋用於說明第二實施形式的基板燒成裝置的基板 運運出表置的作用的說明圖，其中圖、圖gb表示前 二：“將基板運到機器人室的狀態，目9c、圖gd表示 &而侧#部將基板插人到燒成爐内的基板容納裝置的狀 態。 圖1〇疋用於說明第二實施形式的基板燒成裝置的基 2014-72〇2^pP;Ahddub 1275121 _ v % %圃，其中圖10a、圖10b 爾端側臂都上& t > n m b轉移到基板容納架層 l〇C、圖 lQd 主-二 表示前端側臂部正在從燒成爐 板運入運出裝置 示被支承，，在 的狀態，圖 抽出的狀態 【主要元件符號說明】 11〜上游侧運送輥； Γ2〜上游側運送路徑； 14〜下游側運送路徑； 16〜提升室内運送輥； 2 〇〜燒成爐； 2 2〜側板； 231〜氣體導入孔； 2 5〜頂板； 2 6〜導執； 3 2〜頂板； 3 41〜橫襟材，· 3 4 2〜縱標材； 3 51〜報軸； 37〜齒輪結構； 372〜從動齒輪； 40〜升降裝置； 42〜花鍵軸； 44〜螺母構件； 10、10’〜基板燒成裝置； 13〜下游侧運送輥； 1 5〜基板運入運出部； 17〜架台； 21〜底板； 2 3〜前板； 2 4〜後板（一個側壁）； 2δ1〜導出孔； 31〜底板； 33〜支柱； 34〜基板容納架層（層部）· 35〜架部運送輥； 3 6〜驅動馬達（,驅動源）· 371〜驅動齒輪； 373〜空轉齒輪； 41〜升降馬達； 43〜螺旋桿； 45〜圓筒體； 2014-7202-PP；Ahddub 35 1275121

5 0 ~氣體供給部； 5 2〜燒成·氣、體供給部， 5 2 2〜第一送氣鼓風機； 524〜第一控制閥； 53〜週遭氣體供給部； 532〜第二送氣鼓風機； 60〜前處理裝置； 6 2〜上游側置換室； 64〜第二UV室； 66〜閘門（開閉部）； 70〜後處理裝置； 72〜第一冷卻室； 74〜下游側置換室； 76〜涼片； 7 71〜基板支承銷； 79〜閘門閥（開閉部）； 8 2〜提升板； 83〜偏心凸輪機構； 8 3 2〜偏心凸輪； 8 41〜提升馬達； 843〜驅動齒輪； 845〜空轉齒輪； 85：1〜傳動裝置； 853〜基端側臂部； 51〜氣體源； 521〜加熱氣體供給管； 523〜溫調裝置； 525〜氣體回收管； 531〜週遭氣體供給管； 533〜第二控制閥； 61〜上部殼體； 63〜第一 UV室； 65〜上部殼體内運送輥 67〜閘門閥（開閉部）； 71〜下部殼體； 73〜第二冷卻室； 75〜下部殼體内運送輥 77〜基板抬起機構； 78〜閘門（開閉部）； 81〜提升機構； 8 21〜提升鎖； 831〜凸輪軸； 8 4〜驅動機構； 842〜驅動軸； 844〜從動齒輪； 85〜機器人； 8 5 2〜旋轉桿； 854〜前端側臂部； 2014-7202-PF；Ahddub 36 1275121 855〜連接軸； B〜基板； V〜燒成室； VI〜中繼室； VII〜基板提升室； V12〜機器人室； 27〜運入口（開口、基板運入部）； 28〜運出口（開口、基板運出部）； 30、30’〜基板容納裝置（架部）； 8 0〜基板運入運出裝置（基板交接裝置）； 29〜運入運出口（開口、基板運入部、基板運出部）。

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Claims (1)

1. 十、申請專利範圍： 1· 一翁基板视成裝置，包栝： 燒成爐，其内部具有空間，在側壁上形成有基板運入 運出部； ! 上游側運送路徑，其與上述基板運入運出部連接，將 基板運送到上述燒成爐中；及 下游側運送路徑，其與上述基板運入運出部連接，將 燒成後的基板向下游運送， 其特徵在於： 上述燒成爐包括：， 架部’其由在内部保持基板的複數層構成；及 φ 升降結構，其按每一層升降上述架部。 2 ·如申請專利範圍第1項所述的基板燒成裝置，其中 上述基板運入運出部具有··運入基板的基板運入部及運出 基板的基板運出部，上述基板運入部和基板運出部設有： 具有基板可通過的尺寸的開口及進行該開口的開閉的開閉 部、 3·如申請專利範圍第1或2項所述的基板燒成裝置， 其中上述架部的各層部包括··在上述上游側運送路徑和上 述下游侧運送路徑的基板運送方向上並排設置的複數個運 送辕及使該運送輥的至少一個旋轉的驅動源。 4·如申請專利範圍第3項所述的基板燒成裝置，其中 上述基板運入部和基板運出部在上述一個側壁的上下形 成’上述上游側運送路徑和上述下游側運送路徑上下配置。 38 2〇l4-7202-pF；Ahddub 1275121 •如申請專利範圍第1或2項所述的基板燒成裝置， /、’、有父接基板的基，板交接裝置，在上述上游側運适略 ^和上述基板運入運出部之間，並且在上述下游侧運送路 k和上述基板運入運出部之間配置有上述基板交接裝置， 在上述上游側運送路徑和上述架部之間，以及上述下游侧 運达路徑和上述架部之間進行基板的交接。 申3專範圍第5項所述的基板燒成裝置，其中 述上I側運廷路徑和上述下游側運送路徑配置成大致直 線狀。

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