TWI254568B - Pixel position specifying method, correction method of image deflection, and image formation device - Google Patents

Description

1254568 九、發明說明： w (一）發明所屬之技術領域 本發明爲有關一種像素位置特定方法、影像偏差的補 正方法及影像形成裝置。尤指關於在具多數曝光頭的影像 形成裝置中’其曝光頭間的相對位置有所變化時，也可高 精度特定曝光頭中之連接像素的位置之像素位置特定方法 、和可形成接縫處不顯著的高品質影像之影像偏差補正方 法’以及利用影像偏差補正方法以補正曝光頭間的影像偏 差之影像形成裝置者。 (二）先前技術 已住被所fen案的影像記錄裝置之一'例係有如利用數位 微鏡裝置（DMD)等的空間光調變元件（SLM)，而以對應於影 像資料所調變的光束，實行影像曝光之各種各樣的曝光裝 置者（例如參照郝貝克氏（Larry J. Hornbeck)於國際光電工 程學會發表之「數位光學處理及微電子機械系統（MEM S) :反映網路化社會所需求的數位顯示器」，刊載於1 996年 8月出版之攝影儀器工程師學會（S PIE)會刊第2783期第2 〜1 3頁，及尼爾森氏（W.E· Nelson)與哈伯氏（Robit Bhuva) 於國際光電工程學會發表之「可讀副本所用之數位微鏡裝 置成像輥」，刊載於1 995年4月出版之攝影儀器工程師學 會（SPIE)會刊第2416期第58〜65頁。該DMD是例如在 SRAM (靜態隨機存取記憶體）的各儲存單元上，使微鏡的反 射面之角度變化者。於實際上繪畫時’在將影像資料寫入 於各SRAM的狀態下，使各微鏡復位’作爲所定角度，而 1254568

其光的反射方向作爲所欲的方向者。 曝光裝置的應用領域之一是例如液晶顯示器等的面板 之製造。 面板製造用曝光裝置中，有一種是爲了擴大其曝光範 圍，而將具DMD的曝光頭，順著與基板等的底光材料之輸 送方向交叉的方向，以多數的排列所構成之多曝光頭曝光 裝置者。

在多曝光頭曝光裝置中，各曝光頭間的相對位置是被 調整到其接縫在實用上不成問題的程度之高精度者。 然而，近年來，隨著基板的積體度之提高，而被要求 有更高解析度者，因而，對應於各曝光頭的影像相對位置 之偏差容許値也隨著降低。

又，在曝光頭中，從光源到成像面之間會用到許多光 學構件或機構構件等，也會由於溫度變化所引起的熱膨脹 或熱收縮，及由於長時間使用所引起的經久變化之累積， 以致於上述影像在各曝光頭的接縫部分產生不可忽視程度 的偏差或重疊，而有降低其影像品質之問題。 在其使用目的是和上述多曝光頭曝光裝置同樣的多光 束曝光裝置中，已被提案的是有如由PSD (位置檢測器）或4 分割檢測器等的位置檢測元件檢測各光束的位置，以補正 由各光束所形成的影像間偏差之方法者（例如參照特開平 10-31170 號公報）。 然而，在多曝光頭曝光裝置中，曝光頭的間隔是比鄰 接光束的間隔大的多多，因而，要將上述方法應用在多曝 1254568 先頭曝光裝置上是有所困難。 - (三）發明內容 本發明乃爲了解決上述問題，目的是在上述多曝光頭 曝光裝置等的影像形成裝置中，提供一種可由各曝光頭的 曝光光束位置以特定對應於上述曝光光束的像素位置之像 素位置特定方法，可使於各曝光頭的接縫部分之影像的偏 差或重疊爲極小之影像偏差補正方法及影像偏差補正裝置 者。 本發明的第1觀點係提供如申請專利範圍第1項所記 載者。 其中，上述光束檢測機構的受光面上之X軸及Y軸係 分別平行於基準面的X軸及Y軸者。 從上述曝光頭所照射的曝光光束係互爲平行，並垂直 於上述基準面，因而，在上述曝光頭中，由上述第1曝光 光束位置檢測步驟及上述第2曝光光束位置檢測步驟所檢 測的曝光光束位置係分別相當於第1連接像素及第2連接 像素的位置。 而在上述像素位置特定方法中，係在上述要檢測第1 曝光位置的步驟中檢測第1曝光頭的曝光光束。而於要檢 測第2曝光位置的步驟中使上述光束檢測機構順著Y軸方 向移動，以檢測第2曝光頭的曝光光束者。 因而，在上述第1曝光光束位置檢測步驟與第2曝光 光束位置檢測步驟時的曝光光束在X軸方向的位置之差係 相當於第1連接像素與第2連接像素在X軸方向的相對位 1254568 \ 一 9 ' - 8 \ —.. ' 置之差者。 ^ 而，第1連接像素與第2連接像素在Y軸方向的相對 位置之差’係等於上述要檢測第2曝光光束位置的步驟及 要檢測第2曝光光束位置的步驟時的曝光光束在γ軸方向 的位置之差和要檢測第2曝光光束位置的步驟時的上述光 束檢測機構的移動量之和者。

因而’只要測定第1曝光頭和第2曝光頭的曝光光束 之照射位置’就可特定上述第1連接像素與第2連接像素 的相對位置之差。 在此’只要知道上述弟1連接像素與第2連接像素的 相對位置之差，已足夠於對上述第1曝光頭與第2曝光頭 之間的偏差或重疊實行補正。

因此，由第1觀點的像素位置特定方法，以特定上述 第1連接像素與第2連接像素的相對位置之差，並根據所 特定的相對位置之差，以補正輸入於第1曝光頭和第2曝 光頭的影像資料時，如上述第1曝光頭和第2曝光頭偏離 於其最初的位置之場合中，也可防止由於上述的偏差所引 起的在接縫部分產生圖像的偏差或重疊之事。 本發明的第2觀點係提供如申請專利範圍第4項所記 載者。 依第2觀點的像素位置特定方法時，係於上述要檢測 第1光束位置的步驟中，檢測第1光束位置之後，使上述 光束位置檢測機構向Y軸方向移動，以檢測第2光束位置 者。因而第1光束位置和第2光束位置是在同一 X座標上 正替換頁!

I25456S 。在此’第1光束位置和第2光束位置是分別對應於第1 連接像素和第2連接像素的曝光光束之照射位置者。因此 ’所k疋的第1連接像素和第2連接像素也都在同一 X座 標上。而’上述第1連接像素和第2連接像素係如上述， 分別存在於第1曝光頭和第2曝光頭的接縫部分。因此， 用所特定的第1連接像素和第2連接像素將影像連接時， 可於X軸方向形成無斷絕的影像。又，根據第i光束位置 與第2光束位置之間的距離，也即第1連接像素與第2連 接像素在Y軸方向的距離，和曝光頭的掃瞄方向，以調節 各曝光頭間的曝光時序’就可於γ軸方向形成沒有偏差或 重疊之影像。 本發明的第3觀點係提供如申請專利範圍第7項所記 載者。 從曝光頭所照射的曝光光束是互爲平行，且垂直於上 述基準面者。因而，上述第1光束位置和上述第2光束位 置係分別相當於上述第1連接像素和第2連接像素在基準 面上的位置。 在上述像素位置特定方法中，要檢測第1連接像素及 第2連接像素時，係使用可在X軸及γ軸方向移動之光束 位置撿測機構者。而，以第1連接像素所出射的曝光光束 照射到上述光束位置檢測機構的原點時之上述光束位置檢 測機構在XY座標上的位置作爲第1光束位置，並以第2 連接像素所出射的曝光光束照射到上述光束位置檢測機構 的原點時之上述光束位置檢測機構在X Y座標上的位置作 1254568 \ π .， ' 爲第2光束位置者。 、 又，在小範圍內就可特定曝光光束的位置，因而，光 束位置檢測機構是可使用小型的檢測元件者。 光束位置檢測機構係可使用二維PSD (位置檢測器）、4 分割光檢測器、二維CCD(電荷耦合元件）、及二維CMOS (互補金氧半導體）中的任一種。 二維PSD、4分割光檢測器、二維CCd、及二維CMOS ，都可在平面上特定有如上述曝光頭所on (點燈）、off(熄燈） 的像素之光點的位置。因而，在光束位置檢測機構中，要 於平面上特定第1及第2連接像素的位置時，只要用到單 一的元件。 又’也可如申請專利範圍第9項所記載者。 其係在於其動作形態爲由其可對應於所輸入的影像資 料，以對光源來的光加以調變之空間光調變元件使多數的 像素以選擇性的ο η、〇 f f之曝光頭中，就可高精度的特定 連接像素之位置者。因而，如有某些理由，致使曝光頭偏 離於其當初的位置時，也可防止曝光頭間的偏差或重疊之 發生。 又’本發明係包括申請專利範圍第1 〇項所記載者。 在上述影像偏差補正方法中的特定像素位置之步驟中 ，只要測定第1曝光頭和第2曝光頭的曝光光束之位置， 就可特定上述第1連接像素與第2連接像素的相對位置之 差。 而在女補正影像資料的步驟中，係根據上述像素位置 -10- 1254568 [ 94, I免.U.—… ~ 特定步驟所特定的上述第1連接像素與第2連接像素的相 、 對位置之差，以補正要輸入於上述第1曝光頭及第2曝光 頭的影像資料，以使影像可在上述第1連接像素與第2連 接像素上連接者。 因而’如有某些理由致使第1曝光頭和第2曝光頭偏 離於當初的位置時，也可防止由上述偏離所引起而在曝光 頭的接縫部分發生圖像的偏差或重疊。 又，本發明係包括申請專利範圍第1 1項所記載者。 其係使已測出第1連接像素的光束檢測機構在γ軸方 向移動’以檢測第2像素者。因而，上述第1連接像素與 上述第2連接像素在Y座標上的位置雖有所相異，但在X 座標上的位置是大致相同。 因而’以使影像資料可於上述第1連接像素與第2連 接像素上重疊的方式將影像資料輸入於上述第1曝光頭和 上述第2曝光頭。同時，以使其在γ軸方向不產生偏差的 方式來設定第1曝光頭與上述第2曝光頭之曝光時序時， 可消除上述第1連接像素與上述第2連接像素的影像之偏 差或重疊。 又’本發明係包括申請專利範圍第1 2項所記載者。 其係於具多數曝光頭的影像形成裝置中，藉由在一曝 光頭與其影像是連接於該一曝光頭的另一曝光頭之間進行 影像的偏差或重疊之補正，而可在曝光頭間形成無偏差或 重疊的良質影像。 本發明的第4觀點係提供如申請專利範圍第丨3項所記 Ικϋ::..替換頁丨 1254568 載者 在上述影像形成裝置中，係由本發明的像素位置特定 方法，以特定第1連接像素與第2連接像素的相對位置關 係，並根據該相對位置關係以補正要輸入於上述第1曝光 頭及第2曝光頭之影像資料，以使影像在上述第1連接像 素與上述第2連接像素上連接者。 因而，如有某些理由致使曝光頭的位置有偏差時，也 會自動的補正曝光頭間的影像之偏差或重疊。因此，不會 產生上述影像的偏差或重疊。 Φ 又，第4觀點係包括申請專利範圍第1 4項所記載者。 二維PSD、4分割光檢測器、二維CCD、及二維CMOS ，都可在平面上特定有如上述曝光頭所on、off的像素之 光點的位置。因而，在於光束位置檢測機構中，要在平面 上特定第1及第2連接像素的位置時，只要用到單一的元 件。

又，這些像素位置檢測元件的靈敏度都很高。因而， 在實施將第1連接像素與第2連接像素之間的相對位置關 特定以補正曝光頭間的影像之偏差或重疊時，可使上述曝 光頭的光量減少，而要形成影像時，可使上述曝光頭的光 量加大。 又，其係包括如申請專利範圍第1 5項所記載者。 又，其係更包括如申請專利範圍第1 6項所記載者。 依上述影像形成裝置，則可容易形成曝光頭間不產生 間隙之影像。又，其係特別適合於應用本發明的像素位置 -12-

1254568 ~ 特定方法。 、 又’其係更包括如申請專利範圍第1 7項所記載者。 使用其像素是以二維配置的空間光調變元件之多數曝 光頭而來實施曝光的影像形成裝置係已被廣泛的使用在液 晶顯不器等之製造上，而在上述影像形成裝置中是依本發 明影像偏差補正方法，以補正曝光頭間的影像之偏差者。 因此，即使是在使用多數的曝光頭以形成大面積的影像之 場合中，也不會在曝光頭間產生偏差或重疊之事。 本發明的第5觀點係提供如申請專利範圍第1 8項所記 載者。 在上述像素位置特定方法中，係使光束位置檢測機構 在Y軸方向移動，以檢測第1連接像素及第2連接像素者 ，該光束位置檢測機構具有相對於上述曝光頭的像素排列 方向成斜向配置並互爲交叉的至少一對縫隙部。 例如上述光束位置檢測機構通過第1連接像素的下方 時，經由上述一對縫隙部的一方所透射的曝光光束之光量 到達峰値之後，經由上述一對縫隙的另一方所透射的曝光 光束之光量才會到達峰値。 因而，可依據在上述一方的縫隙部中，曝光光束的透 射光量達到峰値時的上述光束位置檢測機構之位置’和上 述另一方的縫隙部中，曝光光束的透射光量達到峰値時的 上述光束位置檢測機構之位置，以及上述一方與另一方的 縫隙部間之角度，就可特定上述第1連接像素的位置。又 ，對於第2連接像素也可同樣的實施。在上述光束位置檢 -13- 1254568 -.； ； ~ 測機構的位置是可採用上述光束位置檢測機構上的某一特 ' 定點之位置，但通常是以上述縫隙部的交點位置爲基準。 又，通常，曝光頭係對上述基準面以垂直的照射曝光 光束，因而，將曝光頭的某一像素點亮時，曝光光束在上 述基準面上的照射位置係％於上述像素的位置。因此，在 於要特定上述第1像素位置的步驟及要特定第2像素位置 的步驟中，可將上述光束位置檢測機構所檢測的曝光光束 之位置作爲第1或第2連接像素之位置。 如此，可高精度的特定第1連接像素及第2連接像素 之實際位置。因而，如有某些理由，致使在第1曝光頭與 第2曝光頭之間產生位置的偏差時，只要根據所特定的第 1連接像素及第2連接像素之位置，以控制曝光頭的曝光 時序，就可除去曝光頭間的影像之偏差或重疊。 又’上述光束檢測機構係只要可測定經由上述縫隙部 所透射的曝光光束之光量者即可。而用通常的光感元件就 足夠對應。因而，要檢測上述曝光光束的位置時，不必用 到二維P S D或4分割檢測器等的高價之位置檢測元件。因 此’可廉價的構成光束位置檢測機構。 又，在背景技術欄所述的多曝光頭曝光裝置中，通常 係具有承載想要曝光的基板後而將其朝一定方向移送之曝 光載物台，而該曝光載物台係利用線性編碼器等而高精度 地檢測其移送方向亦即Y軸方向的位置者。 因而’將上述光束位置檢測機構固定在上述曝光載物 -14- I254568 94. 台的非曝光面上，一面使上述曝光載物台向上述移送方向 移動，一面用上述線性編碼器檢測其位置時，也可高精度 的檢測上述光束位置檢測機構之位置。由此，也可高精度 的特定上述第1連接像素及第2連接像素之位置。 又，可將以往的多曝光頭曝光裝置之大部分照原樣利 用’以高精度的特定上述第1連接像素及第2連接像素之 位置。 又，其係使光束位置檢測機構在Y軸方向亦即掃瞄方 向移動而選擇第1連接像素及第2連接像素以特定其位置 者。依此，可選擇與第1連接像素間的X座標之差少的像 素作爲第2連接像素。 因而，只要控制上述第1連接像素和第2連接像素的 曝光時序來除去Y軸方向的偏差，就可消除第1曝光頭與 第2曝光頭之間的影像之偏差。 又’上述縫隙部除縫隙外，也可使用繞射格子。 又’在上述光束位置檢測機構上，也可將上述縫隙部 設置成爲X軸方向開口的V字型、X字型或T字型者。 本發明的第6觀點係提供如申請專利範圍第1 9項所記 載者。 在上述像素位置特定方法中，光束位置檢測機構的縫 隙部之一方係順著γ軸方向，另一方係順著X軸方向配置 ’且對於曝光頭的像素排列方向成斜向狀態者。 其係使第1曝光頭的接縫附近之像素，順著行方向循 序點燈’並檢測經由順著γ軸方向的縫隙部所透射的曝光 -15- 一一一功、，· ..0 .… 125<5够η η修(冬)正替換頁 *»*·**«州.针几心仙训.....1" 1 、光束之光量，而選擇上述光量到達峰値時的點燈中之像素 ，以作爲第1連接像素。然後使上述第i連接像素近的像 素順者列方向循序點燈，並檢測經由順著χ軸方向的縫隙 部所透射的曝光光束之光量，而選擇上述光量到達峰値時 的點燈中之像素，以作爲要特定第i連接像素在γ軸方向 的位置之用的補助像素。

於選定第1連接像素和補助像素後，由該補助像素的 Y座標和該補助像素與第1連接像素間的Y座標之差，以 特定第1連接像素的Y座標。 因應需要而使上述光束位置檢測機構在γ軸方向移動 ’並使第2曝光頭的接縫近旁之像素順著行方向循序點燈 ，而和上述第1連接像素的情形同樣的步驟，以選定要特 定第2連接像素和第1連接像素在γ軸方向的位置之用的 補助像素，而由該補助像素的γ座標和該補助像素與第1 連接像素間的γ座標之差，以特定第2連接像素的γ座標

本像素位置特定方法係在上述要特定第1像素位置的 步驟及要特定第2像素位置的步驟中，可在不移動上述光 束位置檢測機構下，特定其曝光光束的位置。 又’上述光束位置檢測機構係只順著Y軸方向移動者 。因而，第1連接像素與第2連接像素是在同一 X座標上 。因此，只要根據第1連接像素與第2連接像素間的在γ 軸方向的距離和掃瞄速度，以控制第1及第2曝光頭之曝 光時序，就可消除第1曝光頭與第2曝光頭之間的影像之 -16- 1254568 / ：：：./ 4 τ !：'^ ：ν, ^ 94· …f .’…人 ' 偏差或重疊。 、 本發明的第7觀點係提供如申請專利範圍第20項所言己 載者。 上述像素位置特定方法係在要特定上述第1及第2 f象 素位置的步驟中，使上述光束位置檢測機構在X軸方向移 動’以在上述第1縫隙部檢測曝光光束。而由此求出上述 第1連接像素及上述第2連接像素的X軸方向之位置後， 使光束位置檢測機構在γ軸方向移動，以在上述第2縫隙 部檢測曝光光束，以求出上述第i連接像素及上述第2連 接像素的Y軸方向之位置者。 又，上述第1連接像素與上述第2連接像素在X軸方 向及Y軸方向都有相距時，也可正確的特定兩者的實際位 置。因此，控制第1及第2曝光頭，以使可由上述第丨連 接像素和上述第2連接像素將影像連接，就可除去影像的 偏差。 光束位置檢測機構係可例舉如光束檢測裝置等，該光 束檢測裝置係具有在多曝光頭的曝光載物台之非曝光面上 ’可於X軸方向以高精度的移動之基台，而利用線性編碼 器等來檢測基台的位置，並在上述基台上設置上述第1縫 隙部和第2縫隙部。 又’本發明係包括如申請專利範圍第2 1項所記載者。 上述影像偏差補正方法中，係在要特定像素位置的步驟 中’特定第1連接像素和第2連接像素的實際位置者。 而在要補正影像資料的步驟中，係根據所特定的上述 -17-

1254568 第1連接像素與第2連接像素之間的位置之差，補正要輸 入於上述第1曝光頭及第2曝光頭之影像資料，以使影像 可於上述第1連接像素與第2連接像素上連接者。 因而，如有某些理由致使第1曝光頭和第2曝光頭偏 離於當初的位置時，也可有效的除去上述偏離所引起之在 曝光頭的接縫部分的影像之偏差或重疊。 又，其係包括如申請專利範圍第22項所記載者。

其係使已檢測出第1連接像素的光束位置檢測機構在 Y軸方向移動以檢測第2像素者。因此，上述第1連接像 素與上述第2連接像素在Y座標上的位置雖有不同，但在 X座標上的位置是大致相同者。

因而，如以可使影像資料在上述第1連接像素與上述 2連接像素上重疊的方式，將影像資料輸入於上述第1曝 光頭和上述第2曝光頭，同時以使在Y軸方向不致於產生 偏差的方式來設定上述第1曝光頭和上述第2曝光頭之曝 光時序的話，就可消除上述第1連接像素與上述第2連接 像素之間的影像之偏差或重疊。 又，其係包括如申請專利範圍第23項所記載者。 在具有多數曝光頭的影像形成裝置中，也是在一曝光 頭與其影像是連接於該一曝光頭的另一曝光頭之間，利用 上述影像偏差補正方法補正影像的偏差或重疊者，依此， 可形成在於曝光頭間無偏差或重疊之良質影像。 本發明的第8觀點係提供如申請專利範圍第24項所記 載者。 -18- 1254568 在上述影像形成裝置中，係由本發明的像素位置特定 方法特定第1連接像素和第2連接像素的位置，並根據該 位置以補正要輸入於上述第1曝光頭及第2曝光頭之影像 資料，以使影像在於上述第1連接像素與第2連接像素上 連接者。 因而，如有某些理由致使曝光頭的位置有所偏差時， 也可自動的補正曝光頭間的影像之偏差或重疊。因此不會 產生上述的影像之偏差或重疊。 本發明的第9觀點係如申請專利範圍第2 5項所記載 者。 在上述影像形成裝置中，係由本發明的像素位置特定 方法，以特定第1連接像素和第2連接像素的實際位置者 〇 因而，在特定第1連接像素和第2連接像素的位置之 期間，不必移動光束位置檢測機構。因此，可使像素位置 特定操作更簡化。 本發明的第1 〇觀點係如申請專利範圍第2 6項所記載 者。 在上述影像形成裝置中，係由本發明的像素位置特定 方法，以特定第1連接像素和第2連接像素的實際位置者 〇 因而，如第1連接像素與第2連接像素不僅是在Y 軸方向而也在X軸方向相距時，經特定第1連接像素和第 -19- 1254568 2連接像素的實際位置後，根據該位置以控制第1曝光頭 和第2曝光頭的曝光，就可除去影像的偏差或重疊。 又’如申請專利範圍第27項所記載者。 更如申請專利範圍第28項所記載者。 (四）實施方式 實施形態1 第1圖是本發明影像形成裝置所包含的曝光裝置一例 之整體構成圖。 實施形態1的曝光裝置爲一種所謂平台型者，而如第 1圖所示，其係具可將薄片狀感光材料i 50吸附，並保持 在其表面的平板狀載物台1 5 2。載物台1 5 2的要吸附並保 持感光材料150的一面，及感光材料150的曝光面係相當 於本發明影像形成裝置上的影像形成面。 上述曝光裝置係具由4支腳1 5 4所支撐的厚板狀設置 台1 5 6，和在設置台1 5 6上面的2條導軌1 5 8。導軌1 5 8是 順著第1圖中的箭頭所示之載物台移動方向所設置者。載 物台152的長度方向是朝向於載物台移動方向的配置。又 ，載物台1 5 2是被導軌1 5 8所支承，而可往復移動，並由 驅動裝置（圖未示）使其沿著導軌1 5 8移動。 在設置台1 5 6的中央部位上，係設有跨過載物台1 5 2 的移動路徑之门字型門框1 6 0。门字型門框1 6 0的兩底端 是固定在設置台1 5 6的兩側面。門框1 60的一側面係設置 掃瞄器1 62。又，其另一側面係設置可檢測感光材料1 50 的前端及尾端的多數之檢測器1 64(例如在本實施形態中是 -20- 1254568 2個）。掃瞄器1 6 2及檢測器1 6 4係分別被用於門框1 6 0上 ’並設置在載物台1 5 2的移動路徑之上方。又，掃瞄器1 6 2 及檢測器1 6 4係連接於可控制該兩者的控制器1 〇 〇，而如 後述’要由曝光頭1 66曝光時，被控制以所定時序實施曝 光者。

在載物台1 5 2的載物台移動方向下游側之邊緣部位上 ’設置可順著與輸送裝置1 8 2所驅動的載物台之移動方向 成直角的方向，即後述的X軸方向移動之面檢測器1 8 0。 面檢測器1 8 0係可使用以二維特定曝光光束的照射位置之 檢測器，而相當於本發明的像素位置特定方法、影像偏差 補正方法、及影像形成裝置中的光束位置檢測機構者。又 ’載物台1 5 2的表面係相當於上述像素位置特定方法及影 像偏差補正方法中的基準面者。在具體上，面檢測器1 8 0 係可使用PSD或4分割光檢測器等。又，輸送裝置1 82係 可使用滾珠螺桿或具線性導軌的皮帶驅動機構等，只要是 線性輸送裝置者，不管是那一種都可。 掃猫器1 6 2係相當於本發明的影像形成裝置中的曝光 機構，如第2圖及第3 B圖所示，具以η行以m列（例如在 本實施形態中爲2行5列）的排列成大致矩陣狀之多數曝光 頭 1 6 6。 如第2圖所示，可受曝光頭1 6 6所曝光的領域之曝光 領域1 6 8係其短邊是順著掃瞄方向的矩形狀，且對於掃瞄 方向以所定的傾斜角0傾斜者。而隨著載物台1 5 2的移動 ，在感光材料1 5 0上會形成相對於每一曝光頭1 6 6的帶狀 -21- 歎月：《修參)正替換頁 . ----------一》—·，_ ·,，.『 -ι,,,,,-Γΐ-- -J ^|- trmTmmm wiwm—j— ·ΜΡ— 上曝光完了領域1 7 0。又，如第1圖及第2圖所示，掃瞄 - 方向是與載物台移動方向相反。 如第3 Α圖及第3 Β圖所示，曝光頭1 6 6係排列成直線 ，且，在排列方向錯開所定間隔（曝光領域的長邊之自然數 倍，本實施形態是1倍）的配置，以使各個帶狀曝光完了領 域1 7 0可和其鄰接的曝光完了領域1 7 0有一步驟重疊者。 曝光頭1 6 6係相當於本發明的影像形成裝置中之s LM曝光 頭。

如第1圖所示，實施形態1的曝光裝置更連接於可控 制載物台152的移動及各曝光頭166的曝光等之控制器100 。控制器1 〇〇係相當於本發明的影像形成裝置所具備之曝 光控制機構。

各個曝光頭166A〜166J係如第4圖、第5圖及第5B 圖所示，具備可根據影像資料對各個像素各別調變其所入 射的光束的作爲SLM之DMD(數位微鏡裝置）50。此DMD50 係連接於具備資料處理部和鏡片驅動控制部的控制器（未 圖示）。在該控制器的資料處理部中，會根據所輸入的影像 資料，對各個曝光頭1 66分別作成要驅動和控制其DMD應 控制的領域內之各微鏡的控制信號。 又，在鏡片驅動控制部中，根據在影像資料部所作成 的控制信號，對各個曝光頭1 6 6分別控制其D M D 5 0的各微 鏡反射面之角度。又，有關反射面的角度控制當於後述之 在DMD的光入射側係依序配置著具其光纖的光出射 -22- 1254568 ι 94. 〜B ' " 端（發光點）是順著對應於曝光領域1 6 8的長邊方向排成一 - 列的雷射出射部之光纖陣列光源6 6，將光纖陣列光源66 所出射的雷射光補正後使其聚光於D M D 5 0上之透鏡系統 6 7，及將經由透鏡系統6 7所透射的雷射光反射到D M D 5 0 之反射鏡6 9。

透鏡系統6 7係由將光纖陣列光源6 6所出射的雷射光 予以平行光化之一對組合透鏡7 1，將被平行光化的雷射光 補正，以使其光量分佈均勻化之一對組合透鏡7 3，及，將 已被補正光量分佈的雷射光，聚光於DMD50上之聚光透鏡 75所構成。組合透鏡73的功能係可使在於其雷射出射端 排列方向的光之中的，靠近於透鏡光軸部分的光束擴大， 並使離開光軸部分的光束縮小，且，與該排列方向成正交 方向的光是使其照原樣通過，以使光量分佈均勻化的，對 雷射光實施補正者。

又，在DMD50的光反射側係配置著可使在DMD50所 反射的雷射光成像於感光材料1 5 0的掃瞄面（被曝光面）5 6 上之透鏡系統5 4、5 8。透鏡系統5 4及5 8係配置成爲使 DMD50與被曝光面56構成爲共軛的關係者。 在本實施形態中，係設定爲使從光纖陣列光源6 6所出 射的光，先經過整形’使其可均勻的照射於DMD50上的像 素’並由上述透鏡系統5 4、5 8將各像素放大約5倍者。 DMD50係如第6圖所示，在SRam(靜態隨機存取記憶 體）元件（記憶元件）60上配置由支柱所支撐的微小鏡片（微 鏡）62者，而，是將構成像素的多數（例如爲節距13.6 8μηι -23- 1254568 、1024個χ4 6 8個）微小鏡片排列成格子狀所構成的鏡片構 件者。在各像素上設置著其最上部是由支柱所支撐之微鏡 62 ’而在微鏡62的表面上蒸鍍著鋁等的高反射率材料。又 ’微鏡62的反射率爲90%以上。又，在微鏡62的正下方 ’經介以包括絞鏈及軛的支柱，配置著通常在半導體記憶 體的製造線上所製造的，矽柵極的C Μ 0 S (互補金氧半導體） 之SRAM元件60，而全體係構成爲單片型（整體型）者。

在DMD5 0的SRAM元件60中，會被寫入表示微鏡62 的傾斜狀態（調變狀態）之數位信號。而當S R A Μ元件6 0將 數位信號輸出於微鏡62時，受支柱所支撐的微鏡62會以 對角線爲中心，對於D M D 5 0所配置的基板側，在± α度 (例如爲± 1 0度）範圍傾斜。在第7 Α圖中係表示微鏡6 2爲 on狀態的傾斜+ α度之狀態，在第7B圖中係表示微鏡62 爲off狀態的傾斜-α度之狀態。因而，對應於圖像信號， 將DMD50的各像素上之微鏡62之傾斜度，以如第6圖、 第7 Α圖及第7 Β圖所示的控制時，入射於D M D 5 0的光會 被反射到微鏡6 2的傾斜方向。 又’對各個微鏡6 2的ο η、〇 ff控制係由連接在D M D 5 0 的未圖示之控制器所執行。在經由0 ff狀態的微鏡6 2所反 射光束之出射方向上，配置著光吸收體（圖未示）。 如同上述，在掃瞄器162上，如第3A圖及第3B圖所 示’其曝光頭166A〜166J的第2行是相對於第1行在列方 向以所定間隔向右錯開的配置者。 因而’例如位於最左側的第1行之曝光領域1 6 8 A右鄰 -24- 1254568

的曝光領域1 6 8 C之間的未被曝光部分，會由位於曝光領域 1 6 8 A右下方的曝光領域1 6 8 A所曝光。同樣地，曝光領域 1 6 8 B與鄰接於曝光領域1 6 8 B的曝光領域1 6 8 D之間的未被 曝光部分，會由位於曝光領域1 6 8 B右上方的曝光領域1 6 8 C 所曝光，以下如此類推。如此的要由曝光頭1 6 6 A〜1 6 6 J 在感光材料1 5 0表面形成1幅連續的影像時，必須在各個 露光領域與位於其右側的曝光領域之間將影像連接。以下 以要在曝光領域1 6 8 A與曝光領域1 6 8 B之間，將影像連接 的情形爲例，參照第8圖說明之。以下，設感光材料1 5 0 的運送方向爲Y軸方向，而與該運送方向成正交的爲X軸 方向。 首先’使載物台1 5 2移動，以使檢測器1 8 〇位於曝光 領域1 6 8 A上，並由輸送裝置1 8 2使檢測器1 8 0移動。

接著，選擇其係可由曝光頭1 6 6 A所出射的曝光光束在 於曝光領域1 6 8 A形成影像之像素，且可連接於在曝光領域 1 6 8 B所形成的影像之連接像素P 1，並使其點燈。連接像素 P1的個數可只要1個，也可兩個以上。連接像素P1係相 當於本發明的第1連接像素。 接著，由檢測器1 8 0檢測連接像素P 1 (檢測第1曝光光 束位置）。而設由檢測器1 8 0測出連接像素p 1當時的連接 像素P 1的在檢測器1 8 0上的位置爲（X 1、Y 1 )。 接著，在曝光頭1 6 6 B中，選擇具有被連接於曝光領域 1 6 8 A的可能性之像素P，並使其點燈，接著使載物台1 5 2 移動，直到可測出上述像素P的任一爲止。換言之是使檢 -25-

1254568 測器1 8 〇順著γ軸方向移動（檢測第2曝光光束位置）。而 設從曝光領域1 68B上測出上述像素p ][時的載物台丨52的 移動里，即檢測益1 8 0的移動量爲γ 〇。 從檢測器1 8 0所測出的曝光頭1 6 6 B的像素P之中，選 擇其與連接像素P 1之間在X軸方向的距離爲最短的作爲連 接像素P 2，而設連接像素p 2在檢測器1 8 〇上的座標爲（χ 2， y2)。

如上述的測出連接像素P 1 ( X 1，y 1 )後是被檢測器1 8 〇 在Y軸方向移動，以測出連接像素P 2 (X 2，y 2 )者。即，測 出連接像素P 1 (χ 1，y 1 )時與測出連接像素p 2 ( χ 2，y 2 )時，檢 測器1 8 0是在同一 χ座標上。又，檢測器丨8 〇上的χ軸及 Y軸係如弟8圖所不’各自平丫了於χ軸及γ軸。因而，連 接像素P 1與連接像素P 2在X軸方向的距離係可由X座標 上的位置之差χ 2 - χ 1所表示。一方面，γ軸方向的距離是 可由Y座標上的位置之差y2-yl加上檢測器180在Y軸方 向的移動距離Y0，即y2-yl+Y〇所表示。

於是，控制器1 0 0係依據連接像素P 1與連接像素P 2 之間的距離（χ 2 - χ 1，y 2 - y 1 + Y 〇 )，和感光材料1 5 〇的運送速 度，即載物台1 5 2的移動速度V，以可使連接像素p 1與連 接像素P 2之間的影像偏差成爲最小的條件，設定曝光頭 1 6 6 A和曝光頭1 6 6 B的曝光時序。又，以可使影像在連接 像素P 1與連接像素P 2上重疊的，將影像資料輸入於曝光 頭166A和曝光頭166B。又，視其所需，對於要輸入的影 像資料貫施影像貪料移位、影像旋轉、倍率變換等的補正 -26- 1254568

將曝光頭166A和曝光頭166B的曝光時序如以上述的 設時，在感光材料1 5 0上所形成的影像係如第9圖所示。 在第9圖中，影像169A是由曝光頭166A在感光材料150 上所形成的影像，而影像169B是由曝光頭166B在感光材 料1 5 0上所形成的影像。

由第9圖可知，連接影像169A和影像169B的連接像 素P 1和連接像素P2在X軸方向的位置係幾乎相等。又， 經對於曝光頭166A及曝光頭166B的曝光時序之補正等後 ，連接像素P 1與連接像素P 2之間，也不會產生在Y軸方 向的偏差或重疊之事。因而，影像169A和影像169B在其 接縫處，幾乎不會產生偏差或重疊之事。

接著，由輸送裝置1 8 2驅動檢測器1 8 0，使其移動到 曝光頭166B與曝光頭166C的接縫處。而和曝光頭166A 及曝光頭166B同樣的步驟，以特定曝光頭166B及曝光頭 166C所分別形成的影像169B與影像169C之連接像素。反 複這種步驟，以特定曝光裝置的全部曝光頭1 6 6間的連接 像素，並對要輸入於各曝光頭1 6 6的影像資料實行影像資 料移位、影像旋轉及倍率變更等的補正，以使影像可在於 接縫處重疊。由此，可在遍及於全部曝光領域上，形成在 其接縫處的偏差或重疊爲很少之影像。 如上述的，在實施形態1的曝光裝置中，如有由於溫 度變化而引起各構件的熱膨脹或熱收縮，及，由長期間使 用所產生的經久變化之累積，致使在曝光頭1 6 6 A〜曝光頭 -27- l254568 . I、 相互間的位置有所變化時，也可將由曝光頭166A〜曝 光頭1 6 6 ]所形成的影像1 6 9 A〜影像1 6 9 J的接縫處之影像 的偏差或重疊抑制在最低限度。因此，在要作成大面積影 像的場合中，也可獲得其接縫和偏差不明顯的良質影像。

因此，在於感光材料1 5 〇爲大面積的場合中，也可形 成局品質的影像，而’將上述曝光裝置應用到大面積的印 刷電線基板、TFT(薄膜電晶體）、液晶顯示裝置的濾色片、 及電漿顯示板的製造時，也可有效的防止由於曝光頭166 間的影像偏差而產生不良品。 寶施形態2 第10圖是本發明影像形成裝置所包含的曝光裝置另 〜例之整體構成圖。又，其與實施形態1相同的構成，在 此從略其說明。又，其與實施形態丨相同的符號在原則上 裹意味著相同的構成要素者。

實施形態2的曝光裝置係和實施形態1同樣，是一種 所謂平台型者’而如第10圖所示，其係具有可將薄片感光 材料1 5 0吸附並保持在其表面的平板狀載物台；[5 2。 但是，在其載物台1 5 2的順著載物台移動方向的下游 側邊緣部位上，係配置著具6個順著X軸方向，即，在與 載物台移動方向正交方向所固定的面檢測器184a〜184f之 面檢測器1 8 4，以替代第丨實施形態的曝光裝置所具備之 面檢測器1 8 0。面檢測器1 8 4也相當於本發明的光束位置 檢測機構。面檢測器1 8 4是和實施形態1的面檢測器i 8 〇 -28-

1254568 同樣的檢測器者。又，面檢測器1 8 4的檢測面上之χ軸及 y軸分別平行於曝光裝置的X軸及γ軸。因而，曝光頭1 6 6 的像素是相對於面檢測器1 8 4的X軸及y軸成爲斜向的排 列者。 以下說明要在曝光領域1 6 8 A和曝光領域i 6 8 B中選擇 連接像素P 1及連接像素P 2的步驟。 首先，使載物台1 5 2移動，以使面檢測器1 84位於曝 光領域1 6 8的下方。

接著，在曝光領域168A中，使曝光頭166A的像素循 序點燈，而如第1 1 A圖所示的面檢測器1 84a〜1 84f中的任 一檢測上述像素。以下，爲了簡化，以在面檢測器1 8 4 a測 出上述像素的情形爲例說明之。 在面檢測器1 8 4 a測出上述像素時，以上述像素中的最 罪近於面檢測器1 8 4 a的X = 0位置之像素作爲連接像素p 1 (a b)。又，U，b)是連接像素P1在xy平面上的位置。

接著’使載物台1 5 2移動，也即，使面檢測器1 8 4在 Y軸方向移動，以使連接像素P1位於面檢測器184a的y = 〇 線上’此時，檢測載物台丨5 2的移動量γ 1。該γ 1係相當 於尙未移動面檢測器1 8 4時的連接像素p 1之y座標b。因 而’連接像素P1的xy座標是特定爲（a，Y1)。 經設定連接像素Ρ丨的x y座標後，和ρ 1時同樣，使曝 光頭166B的像素循序點燈，而以曝光領域168B中的最靠 近面檢測器1 8 4 a的X = 0位置之像素作爲連接像素p 2 ( c，d ) 。又’（c，d)是連接像素P2在xy平面上的位置。 -29-

1254568 接著，使載物台1 5 2移動，以使連接像素P 2位於面檢 測器1 8 4 a的原點（〇，〇 )上，並檢測此時的載物台1 5 2之移 動量Y2。該Y2係相當於尙未移動面檢測器184a時的連接 像素P2之y座標d。因而，連接像素P2的xy座標是特定 爲（c，Y2)。 在此，連接像素P 1和連接像素P2是最靠近於同一個 面檢測器1 84a的x = 〇之像素，因而，在X方向的距離，即 ，X軸方向的距離是幾乎等於0。

因此，經選定連接像素Ρ 1和連接像素Ρ2，並特定其 xy座標後，控制器100會根據連接像素Ρ1與連接像素Ρ2 之間的在Y軸方向之距離（Y2-Y1)和感光材料150的運送速 度，即，載物台1 5 2的移動速度V，而以在連接像素Ρ 1與 連接像素P 2上，影像可在γ軸方向重疊的條件下，設定曝 光頭166A和曝光頭166B的曝光時序。同時，將影像資料 輸入於曝光頭166A和曝光頭166B，以使其可由連接像素 P 1和連接像素P 2形成爲同一個影像。

由此，如第9圖所示，可防止在影像169A與影像169B 之間產生偏差或重疊。 在實施形態2的曝光裝置中，係選擇其在γ軸方向的 位置爲實質上相等的連接像素Ρ 1及P 2作爲連接像素，並 以可使其在於連接像素P i與連接像素P2上重疊影像之條 件下’實施圖像的變換者。因而，其與實施形態1的曝光 裝置相比’可形成在其影像的接縫處的偏差或重疊爲更少 之影像。 -30- 125456! R修(4)正替 接著以同樣的步驟，由面檢測器184b來特定曝光頭 1 6 6 B和曝光頭1 6 6 C所形成的影像1 6 9 B與影像1 6 9 C的連 接像素。而反複這種步驟，以特定曝光裝置的全部曝光頭 間的連接像素，並以可使其在連接像素上重疊影像的條件 下’對要輸入於各曝光頭〗6 6的影像資料實施影像資料移 位、影像旋轉及倍率變換等的補正。由此，可在遍及於全 部曝光領域上’形成在其接縫處的偏差或重疊爲很少之影 像。

因此’將上述曝光裝置應用在大面積印刷電線基扳、 T F T、液晶顯示裝置的濾色片、及電漿顯示板的製造時，可 更有效的防止因曝光頭1 6 6間的影像偏差而產生不良品。 實施形態3

第12圖是本發明影像形成裝置所包含的曝光裝置再 一例之整體構成圖。又，其與實施形態1相同的構成，在 此從略其說明。又，其與實施形態1相同的符號在原則上 是意味著相同的構成要素者。 實施形態3的曝光裝置係和實施形態1同樣，是一種 所謂平台型者，而如第12圖所示，其係具可將薄片感光材 料1 5 0吸附並保持在其表面的平板狀載物台1 5 2。 但是，在其載物台1 5 2的順著載物台移動方向的下游 側邊緣部位上，係配置著可由高精度的輸送裝置1 8 7使其 在X軸方向移動之面檢測器1 8 6。如第1 3圖所示，在載物 台1 5 2的下游側邊緣部位設置在X軸方向遍及全寬度的槽 1254568 ；i ；'： -s / 、 1 8 5。面檢測器1 8 6是可在槽1 8 5的內側滑動。在槽1 8 5中

' 並設置要檢測面檢測器1 8 6在X軸方向的位置之線性編碼 器1 8 8 ’而，線性編碼器1 8 8係被兩條可使面檢測器1 8 6 移動的輸送裝置1 8 7夾在中間者。輸送裝置1 8 7是可使用 滾珠螺桿或線性馬達等。又，輸送裝置1 8 7如要用滾珠螺 桿時，如用脈衝馬達來驅滾珠螺桿，則，可由輸入於脈衝 馬達的脈衝數和相對於每一脈衝的面檢測器1 8 6的移動距 離，以特定面檢測器1 8 6的位置。依此就不必設置線性編 碼器1 8 8。 參照第1 4圖說明在本實施形態3的曝光裝置中特定連 接像素的位置之步驟。 首先’從曝光頭1 66 A的像素中，選擇想要連接於曝光 領域1 6 8 B的像素，以指定爲連接像素p 1，並使其點燈。 連接像素P1可爲1個，也可爲兩個以上。

接著，由輸送裝置1 8 7使面檢測器1 8 6在X軸方向移 動，同時，使載物台1 5 2移動，以使面檢測器1 8 6在Y軸 方向移動，直到從連接像素P 1所出射的曝光光束入射於面 檢測器1 86的原點（0, 0)時，使面檢測器186停止。而從線 性編碼器1 8 8在此刻所檢測面檢測器1 8 8的位置，及載物 台1 5 2的移動量所求出之載物台1 5 2的位置，就可求出連 接像素P1在XY面上的位置（XI，Y1)。 接著，從曝光頭1 6 6 B的像素中，選擇想要連接於曝光 領域1 6 8 A的像素，並使這些像素全部點燈。而以和在連接 像素P 1中所述的同樣步驟，求出上述像素的X Y座標。然 -32- 1254568 / 後’將上述像素中的其X座標是最靠近於連接像素Ρ 1的X - 座標X1者，作爲連接像素Ρ2(Χ2，Υ2)。

經求出曝光領域1 6 8 Α的連接像素Ρ 1 (X 1，Υ 1 )和曝光 領域168B的連接像素P2(X2，Y2)後，控制器1〇〇會以可使 連接像素Ρ 1與連接像素P2之間的影像偏差爲最小的條件 下’根據連接像素Ρ 1與連接像素P2間的Y軸方向的距離 (Y2-Y1)，和感光材料15〇的運送速度，即載物台152的移 動速度V’以設定曝光頭166A和曝光頭166B之曝光時序 。又，在於曝光頭1 6 6 A和曝光頭1 6 6 B中，視其所需，實 施影像資料移位、影像旋轉、倍率變換等之補正。由此， 可獲得如第9圖所示之影像1 6 9 A及影像1 6 9 B。 在實施形態3的曝光頭中，不僅使面檢測器1 8 6在γ 軸方向移動，也使其在X軸方向移動，以求出連接像素P i 及連接像素P2之位置者。

因而，連接像素Ρ 1與連接像素P 2之間，在於X軸方 向的距離較大時，也可特定連接像素Ρ 1和連接像素P2在 XY面上柯實際位置。而根據上述實際位置以控制曝光頭 1 6 6 A和曝光頭1 6 6 B的影像輸入信號時，就可防止在於曝 光頭166A與曝光頭166B之間形成影像的偏差或重疊之事 接著’由輸送裝置1 8 7將面檢測器1 8 0移動到曝光頭 1 6 8 B與曝光頭1 6 8 C的接縫處，而用同樣的步驟，以特定 由曝光頭166B和曝光頭166C所分別形成的影像169B與 影像1 6 9 C的連接像素，反複此步驟，以特定全部的曝光頭 -33- 125456:8

1 6 6間之連接像素，而以可使影像在連接像素重疊的條件 下，對於要輸入於曝光頭1 6 6的影像資料實施影像資料移 位、影像旋轉、倍率變換等的補正，就可在遍及於全部曝 光領域上，形成在其接縫處的偏差或重疊爲很少之影像。 如此的，使用實施形態3的曝光裝置時，在使用多數 曝光頭1 6 6以對大面積的感光材料1 5 0進行曝光的場合中 ，也可在感光材料1 5 0上形成在其曝光領域1 6 8之間並無 偏差、間隙或重疊的連續之大幅影像。

因此，將上述曝光裝置應用在大面積印刷電線基板、 T F T、液晶顯示裝置的濾色片、及電漿顯示板的製造時，可 最有效的防止由於曝光頭1 6 6間的影像之偏差而產生不良 品。 如上所說明，依本發明時，可提供一種影像形成裝置 及影像偏差補正方法，其係在上述多曝光頭曝光裝置中， 可形成在其各曝光頭所曝光的曝光領域間之偏差是非常小 ，且爲連續的大幅之影像者。

實施形態4 第1 5圖是本發明影像形成裝置所包含的曝光裝置又 一例之整體構成圖。又，其與實施形態1相同的構成，在 此從略其說明。又，其與實施形態1相同的符號，在原則 上是意味著相同的構成要素者。 實施形態4的曝光裝置係和實施形態〗同樣，胃_ f重 所謂平台型者，而如第1 5圖所示，其係具可將薄片感光材 料1 5 0吸附並保持在其表面的平板狀載物台i 5 2。又，可 -34- 1254568 移動掃瞄器1 6 2及檢測器1 6 4的控制器在圖中從略。 本實施形態4中，在載物台1 5 2的順著載物台移動方 (掃瞄方向）的上游側（以下有時只稱上游側）邊緣部位，係形 成X軸方向開口的多數之箭頭狀縫隙1 2 0。 縫隙1 2 0是由位於上游側的縫隙1 2 0 a和位於下游側的 縫隙120b所構成。縫隙120a與縫隙120b是互爲交叉者。 縫隙1 2 0 a的對Y軸之角度爲1 3 5度，縫隙1 2 0 b的對Y軸 之角度爲45度。

在縫隙1 2 0下方係形成可檢測曝光頭1 6 6所照射的光 之檢測器（圖未示）。 縫隙1 2 0和上述檢測器係和曝光載物台1 5 2 —起順著 Y軸方向移動。又，縫隙1 2 0和上述檢測器是相當於本發 明的光束位置檢測機構。

本實施形態中，縫隙120a及縫隙120b是形成爲對掃 瞄方向成45度的角度。而，縫隙120a及縫隙120b只要是 對曝光頭1 6 6的排列方向成傾斜狀態的同時，也對掃瞄方 向，即載物台移動方向成傾斜狀態者，其對掃瞄方向的角 度並不限定於上述角度，又，也可用繞射格子以取代於縫 隙 120。 和實施形態1同樣，在掃瞄器1 6 2中，位於第1行最 左側的影像領域1 6 8 A與位於影像領域1 6 8 A右鄰的影像領 域1 6 8 C之間的不能曝光部分，係會由於第2行最左側的影 像領域1 6 8 B所曝光。由此，可連接於影像領域i 6 8 a的影 像領域爲影像領域1 6 8 B。第1 6圖是表示影像領域1 6 8 A與 -35-

1254568 I 影像領域1 6 8 B的位置關係。在第1 6圖以後的圖示中，設 ' 掃猫方向爲X軸，曝光頭1 66的排列方向爲γ軸。 如第1 6圖所示，影像領域1 6 8 A與影像領域1 6 8 B是 可在於曝光頭i 6 6 A的像素之連接像素p 1與曝光頭！ 6 6 B 的像素之連接像素P2上所連接。連接像素p 1及連接像素 p 2係分別爲本發明4的第1連接像素及第2連接像素的例 子。

以下說明選擇連接像素P 1及連接像素P 2，並特定其 實際位置之步驟。 首先，使曝光載物台1 5 2移動，以使縫隙丨2 0位於掃 瞄器162的下方，並從曝光頭166A的像素中，選擇應重疊 於曝光頭1 6 6 B的像素之像素作爲連接像素P 1，並使其點 燈。

接著，如第1 7圖及第1 8圖所示，使曝光載物台1 5 2 慢慢移動，以使縫隙1 2 0順著Y軸方向移動，使其位於曝 光領域168A。設此時的縫隙120a與縫隙120b的交點爲（X0, Υ〇)。在此，如上述的縫隙120a對Y宙的角度爲135°，縫 隙120b對Y軸的角度爲45度。又，在第1 8圖以後的圖示 中，設從Y軸方向反時針方向旋轉的方向爲正角。 接著，如第1 8圖所示，使曝光載物台1 5 2移動，以使 縫隙1 2 0順著Y軸向第1 8圖中的右方移動。然後，如第 1 8圖上的兩點鏈線所示，當連接像素P 1所出射的光經由 左側縫隙1 20a透射而被檢測器所測出之時刻’使曝光載物 台1 52停止。設此時的縫隙120a與縫隙120b的交點爲（X0, -36- 1254568

接著，使曝光載物台1 5 2移動，以使縫隙1 2 Ο順著Υ 軸向第1 8圖中的左方移動。然後，如第1 8圖中的兩點鏈 線所示，當連接像素Ρ 1所出射的光經由右側的縫隙1 20b 透射而被檢測器所測出的時刻，使曝光載物台1 5 2停止。 設此時的縫隙120a與縫隙120b的交點爲（χ〇5 γ 12)。 在此設連接像素P 1的座標爲（X 1，Y 1 )時，則X 1 = X 〇 + (Υ11-Υ12)/2，Υ1=(Υ11+Υ12)/2 所表示。

經求出連接像素Ρ 1後，將連接像素Ρ 1熄燈，並從曝 光頭1 6 6的像素中，選擇應連接於影像領域1 6 8 a的最靠近 於連接像素Ρ 1的位置之像素，以作爲連接像素P2，並使 其點燈。 接著，使曝光載物台1 5 2只移動Y値，以使縫隙1 2 0 位於影像領域1 6 8 B。此時，縫隙1 2 0 a與縫隙1 2 0 b的交點 之座標爲（XO, YO + Y)。

接著，如第1 9圖所示，使曝光載物台1 5 2移動，以使 縫隙1 2 0順著Y軸方向向第1 9圖中的右方移動。如第1 9 圖中的兩點鏈線所示，當連接像素P 2所出射的光經由左側 縫隙1 2 0 a透射而被檢測器所測出的時刻，使曝光載物台1 5 2 停止。設此時的縫隙120a與縫隙120b的交點爲（XO, Y21) 接著，使曝光載物台1 5 2移動，以使縫隙1 2 0順著Y 軸向第1 9圖中的左方移動。然後，如第1 9圖上的兩點鏈 線所示，當連接像素P2所出射的光經由右側的縫隙丨2〇b -37- 1254568 I ， · 一….…〜一 透射而被檢測器所測出的時刻，使曝光載物台1 5 2停止。 設此時的縫隙1 2 0 a與縫隙1 2 0 b的交點爲（X 0，Y 2 2 )。 在此，設連接像素p 2的座標爲（X 2，y 2 )時，X 2 = X 0 + (Y21-Y22)/2、y2 = (Y21+Y22)/2 所表示。 對於以如此求出的像素P2(x2, y2)，以如第20圖所示 的求出其與連接像素P1在X座標上的差ΔΧ = χ2-χ1。然後 ，從上述像素Ρ2中選擇X座標的差△ X爲最小的作爲連接 像素 Ρ2(Χ2，Υ2)。 連接像素Ρ 1與連接像素Ρ2在X軸方向的偏差是很小 。因而，補正曝光時序，以除去Υ軸方向的偏差，並以可 使影像在X軸方向會重疊的條件下，控制要輸入於曝光頭 1 6 6Α和曝光頭166Β的影像資料，就可如第21圖所示的除 去連接像素Ρ 1與連接像素Ρ2之間的影像之偏差或重疊。 又，在曝光頭1 66 Α中，如指定多數的連接像素Ρ 1， 並對這些多數的各個連接像素P 1分別依照上述步驟特定 其各個的實際XY座標（XI，Y1)，且，從曝光頭166B的像 素中，指定對應於上述各個連接像素P 1的連接像素P 2， 並特定其實際XY座標（X2, Y2)，則可更加縮小曝光頭166 A 與曝光頭166B之間的影像之偏差或重疊。 在實施形態4的曝光裝置中，係使曝光載物台1 5 2移 動，並由檢測器檢測經由縫隙120a及縫隙120b所透射的 曝光光束之光量者。由此，可從曝光頭166A及曝光頭166B 的像素中選擇連接像素P 1及連接像素P2，並特定其實際 位置。 -38- 5 〜. ，才，他咏、丨.〜-一一一、 :::.r h 5 替換 1 ^μμ»*»· < ·net^έΛtmtm mm/*·—Mptmrjvr^Mtft^owMac 一-m~ nw iiiii1 1 -丄 因而’要選擇連接像素p 1及連接像素p 2， ' 位置時’並不需要高價而大型的附加設備。 又’如有某些理由致使曝光頭1 6 6 A與曝光§ 間的位置關係有所偏差時，也可根據有關連接像， 接像素P 2的實際位置之位置資訊，以控制要輸入 166A和曝光頭166B之影像資料，就可以高精度 光頭166A與曝光頭166B之間的影像之間的偏差 以上’已對於使用縫隙1 2 0 a及縫隙1 2 0 b， 光頭166A及曝光頭166B的連接像素，以形成沒 重疊的影像之方法加以說明，而，循序反複同樣 就可特定曝光裝置的全部曝光頭166間之連接像 可使圖像在上述連接像素上重疊的條件下，對要 述曝光頭1 6 6的影像資料實施影像資料移位、影 倍率變換等的補正。由此’可在遍及於全部曝光 形成在其接縫處的偏差爲很少之影像。 實施形態5 第2 2圖是本發明影像形成裝置所包含的曝 另一例之整體構成圖。又，其與實施形態1相同 在此從略其說明。又，其與實施例1相同的符號 上是意味著相同的構成要素。又，可控制掃瞄器 測器1 64的控制器在圖中從略。 如第2 2圖所不，貫施形態5的曝光裝置中， 物台1 5 2的上游側之邊緣部位，係形成由平行於 隙1 3 0 a和平行於X軸的縫隙1 3 0 b所構成之縫隙 並特定其 霞1 6 6 B之 I P1及連 於曝光頭 的補正曝 或重疊。 以特定曝 有偏差或 的步驟， 素，並以 輸入於上 像旋轉、 領域上， 光裝置又 的構成， ，在原則 162及檢 在曝光載 Y軸的縫 13 0° 縫 -39· 1254568 / y4, / ., 隙1 3 0 a與縫隙1 3 0 b是設置成爲T字形狀者。在縫隙1 3 〇 a ' 和縫隙1 3 0 b的下方係設置可檢測經由縫隙1 3 0 a和縫隙1 3 0 b 所透射的曝光光束之檢測器。 以下，說明在實施形態5的曝光裝置中，要從曝光頭 1 6 6 A的像素中選定連接像素P 1，並特定其位置之步驟。 首先’使曝光載物台移動，以使縫隙1 3 0來到影像領 域1 6 8 A與影像領域1 6 8 B的接縫處附近之位置。 當縫隙1 3 0來到曝光頭1 6 6 A和曝光頭1 6 6 B的下方位 置時，使曝光載物台1 5 2停止在該位置。接著，如第2 3圖 所示，使曝光頭1 66A的順著某行方向（橫向）之像素循序點 燈。同樣的，使曝光頭1 66A的順著某列方向（縱向）之像素 ，從下方向上方循序點燈。 如第23圖所示，在於使像素Pi(a，n)點燈當中，如由 縫隙130a的檢測器測出光量的峰値，及，在於使P’l(m，b) 點燈當中，如由縫隙1 3 Ob的檢測器出光量的峰値，則，選 擇曝光頭166A的像素P1作爲連接像素，並選擇6PM作爲 補助像素。又連接像素Pl(a，η)及補助像素P’l(m, b)的（a，n 及（m，b)是分別表示連接像素pi及連接像素P’l的X座標 及Y座標。 在此，如第2 4圖所示，連接像素P 1 ( a，η)與補助像素 PU(m，b)在Υ軸方向的位置差ΑΥ1可由下式所表示。 Δ Y 1 = b - η 接著使曝光載物台1 5 2只移動距離 Y s ’並使曝光頭 1 6 6B的某行像素從左方向右方循序點燈，同樣的’使其某 -40-

1254568 列像素順著γ軸方向從下方向上方循序點燈。 此時，在於使像素P2(c，η，）點燈當中，如由縫隙13〇a 的檢測器測出光量的峰値，及，在於使像素p，2 ( ni，，b )點燈 虽中’如由縫隙1 3 0 b的檢測器測出光量的峰値，則，選擇 上述像素P 2 ( c，η，）作爲連接像素，並選擇上述像素p，2作 爲補助像素。 連接像素Ρ 2 (c，η ’）與補助像素p ’ 2 (m ’，d)在Υ軸方向的 位置差ΔΥ2可由下式所表示。

△ Y2 = (d-n 丨） 在於測出連接像素Pl(a，η)時，和測出連接像素P2(c， 時，縫隙130在X軸方向是完全沒有移動。因此，連接 像素Pl(a，η)與連接像素P2(c，n，）的X座標爲一致。一方 面’在Υ軸方向的距離是可由下式所表示。

Ys + Δ Υ2-Δ Yl=Ys + d- nf-(b-n)

因而’在於連接像素Pl(a，η)與連接像素P2(c，η，）之間 ，實施對應於上述Υ軸方向距離的點燈時序補正，就可除 去曝光頭166Α與曝光頭166Β之間的偏差或重疊。 上述的例子是利用縫隙1 3 0 a及縫隙1 3 0 b各一個，以 選定連接像素Pl(a, η)和連接像素P2(c，nf)，並特定其位置 者。而，如第25圖所示的配合於曝光頭166A及曝光頭166 B 的像素在X軸方向及Y軸方向的間距，設置多數的縫隙 13 0a及縫隙130b時，可提升其透射光量。由此可提高像 素的檢測精度，而可獲得更高精度之影像連接。 在實施形態5的曝光裝置中，連接像素P2是和連接像 -41- 1254568 丨 ::_正.讎 ij 一 ·' m^·>-與** ' 素p l在同一 X座標上。因此，如控制影像資料的輸入，以 ’ 使在X軸方向爲同一影像的影像資料輸入於曝光頭！ 66A 和曝光頭166B時，可完全的除去曝光頭166A與曝光5胃 1 6 6 B之間的影像之偏差。又，Y軸方向的影像都可由f周整 連接像素P 1與連接像素P 2之間的點燈時序，以除去_ _ 差。 因而，可比實施形態4的曝光裝置更高精度的連接影 像。 又，在於選擇連接像素P 1及連接像素P2的期間是使 曝光載物台1 5 2停止者。因而，其與實施形態4相較，可 更減少要選定連接像素及特定位置時的使曝光載物台i 5 2 移動之頻度。 上面已對於利用縫隙130a及縫隙130b以特定曝光頭 166A及曝光頭166B的連接像素，以形成沒有偏差或重疊 的影像之方法加以說明，而，循序反複同樣的步驟，/就可 特定曝光裝置的全部曝光頭1 6 6間之連接像素，並對於要 輸入於上述曝光頭1 6 6的影像資料實施影像資料移位、影 像旋轉、倍率變換等的補正，就可在遍及於全部曝光領域 上，形成在其接縫處的偏差爲很少的影像。 實施形態6 第26圖是本發明影像形成裝置所包含的曝光裝置又 再一例之整體構成圖。又，其與實施形態1相同的構成， 在此從略其說明。又，其與實施例1相同的符號，在原則 上是意味著相同的構成要素。又，可控制掃瞄器1 62及檢 -42-

1254568 測器1 6 4的控制器在圖中從略。 如第2 6圖所示，實施形態6的曝光裝置中，在曝光載 物台1 5 2的上游側之邊緣部位，係設置相當於本發明光束 位置檢測機構之光束位置檢測裝置1 4 0。 光束位置檢測裝置1 40的詳細構造係如第27圖所示。

如第2 6圖及第2 7圖所示，光束位置檢測裝置係具可 在於順著X軸方向設置在曝光載物台1 5 2上游側邊緣部位 的槽148之內部滑動之基台142 ;順著基台142的移動方 向設置在槽1 4 8的中央部位，而可檢測基台1 4 2在X軸方 向的位置之線性編碼器1 4 4 ;和設置在槽1 4 8的內側，而 可使基台142移動之一對滾珠螺桿146。又，在基台142上 δ又有兩條互爲平f了的直線導向設施（圖未不）。又，滾珠螺 桿164是由馬達（圖未示）驅動其旋轉以使基台142移動。

基台142的頂面是和曝光載物台152的曝光面在同一 平面上。在基台142上面形成順著X軸方向的縫隙14〇a 和順著Y軸方向的縫隙1 4 0 b。縫隙1 4 0 a與縫隙1 4 0 b是互 成正交者。在縫隙1 4 0 a和縫隙1 4 0 b的下方，設置可檢測 經由縫隙140a和縫隙140b所透射的曝光光束的光之檢測 益（圖未不）。 以下說明在上述曝光裝置中，從曝光頭166A及曝光頭 166B的像素中，選擇特定像素P1及特定像素p2，並特定 其實際位置之步驟。 首先，使曝光載物台1 5 2移動，以使光束位置檢測裝 置1 4 0順著X軸方向移動。又，使光束位置檢測裝置1 4 〇 -43- 1254568 j 丨:)4,, 丄 3 ( ' 的基台1 42順著槽1 48移動，以使基台1 42位於影像領域 ' 1 6 8 A與影像領域1 6 8 B的接縫部分。 接著，從曝光頭1 6 6 A的像素中，選擇想要連接於影像 領域1 6 8 B的像素，以作爲連接像素P 1。

接著，如第2 8圖所示，使曝光載物台1 5 2微細的移動 ，以使基台1 42順著Y軸方向移動。當從連接像素P 1所出 射而經由縫隙1 4 0 a透射的曝光光束之光量到達峰値時，使 曝光載物台1 5 2停止，並由設置在曝光載物台丨5 2的線性 編碼器1 44檢測曝光載物台1 5 2在Y軸方向的位置。而以 該Y軸方向的位置作爲連接像素P 1的Y座標Y 1。 接著，由滾珠螺桿146使基台142在X軸方向移動。 當經由縫隙1 40b透射的曝光光束之光量到達峰値時，由線 性編碼器1 4 4檢測此時的基台1 4 2在X軸方向的位置。而 以該X軸方向的位置作爲連接像素P 1的X座標X 1。

經特定連接像素P 1的位置後，使連接像素P 1熄燈， 改爲使曝光頭1 6 6 B的像素中，想要連接於影像領域1 6 8 A 的像素p2點燈，並由光束位置檢測裝置丨40用同樣的步驟 求出像素p2的XY座標（χ2, y2)。 將求出其座標的像素p2之XY座標（X2，y2)與連接像 素P1的XY座標（XI，Y1)加以比較，選擇最靠近於連接像 素P1的像素p2作爲連接像素P2(X2，Y2)。 如此特定連接像素P 1和連接像素P 2的位置後，根據 該位置，以控制要輸入於曝光頭1 6 6 A曝光頭1 6 6 B的影像 資料’以使影像可在於連接像素P 1和連接像素P 2上連接。 -44- 1254568 依實施形態6的曝光裝置時，可由光束位置檢測裝置 1 4 〇在短時間內求出連接像素p 1和連接像素p 2的正確X Y 座標。由此’如經選擇未必在同一 X座標上的連接像素p } 及連接像素P2時，也可正確的將影像連接。 上面已對於利用光束位置1 4 0以特定曝光頭} 6 6 A及曝 光頭1 6 6 B的連接像素’以形成沒有偏差或重疊的影像之方 法加以說明。而，循序反複同樣的步驟，就可特定曝光裝 置的全部曝光頭1 6 6間的連接像素，並對於要輸入於上述 曝光頭1 66的影像資料實施影像資料移位、影像旋轉、倍 率變換寺的補正’以使影像在上述連接像素上重疊，就可 在遍及於全部曝光領域上形成在其接縫處的偏差爲很少之 影像。 如上述，依本發明時’在於上述多曝光頭曝光裝置中 ’可提供一種由其各曝光頭所形成的影像間之偏差爲很少 的曝光裝置，及可由該曝光裝置所實施的影像偏差補正方 法者。

(五）圖式簡單說明 第1圖爲本發明實施形態的曝光裝置斜視圖。 第2圖爲本發明實施形態的曝光裝置所具備之掃瞄器 構成斜視圖。 第3圖爲形成在感光材料的曝光完了領域之平面圖， 及由各曝光頭所曝光的領域之排列槪略圖。 第4圖爲本發明實施形態的曝光裝置所具備之曝光頭 槪略構成斜視圖。 -45- 1254568 j ] * - 丨替換页j ' 第5圖爲第4圖中的順著光軸的掃瞄方向之曝光頭構 ^ 成斷面圖。 第6圖爲第4圖的曝光頭所具備之DMD構成局部放大 圖。 第7圖爲第6圖的D M D之動作說明圖。 第8圖爲要從本發明實施形態的曝光裝置所具備的曝 光頭之像素中選擇連接像素，以將影像連接之步驟平面圖 〇 第9圖爲由第8圖的步驟所連接之影像一例平面圖。 第1 0圖爲本發明另一實施形態的曝光裝置之構成斜視 圖。 第11圖爲要從第10圖的曝光裝置所具備的曝光頭之 像素中選擇連接像素’以將影像連接之步驟平面圖。 第1 2圖爲本發明再一實施形態的曝光裝置之構成斜視 圖。 第1 3圖爲第1 2圖的曝光裝置所具備的面檢測器及其 周邊構成之詳細放大平面圖。 第1 4圖爲由第1 3圖的面檢測器以特定連接像素ρ 1及 Ρ 2的位置之步驟槪略平面圖。 第1 5圖爲本發明的又一實施形態之曝光裝置構成斜視 圖。 第1 6圖爲在第1 5圖的曝光裝置中，由一曝光頭所照 射的一影像領域’與由另一曝光頭所照射並想要連接於上 述一影像領域的另一'影像TlS域之位置關係平面圖。 -46- 1254568 / ： / ^ 第17圖爲上述一影像區域及另一影像領域與設置在上 - 述曝光裝置的曝光載物台上的縫隙之位置關係平面圖。 第1 8圖爲由上述縫隙以特定作爲上述一曝光頭的連接 像素之連接像素的位置之步驟說明圖。 第1 9圖爲由上述縫隙以特定上述另一曝光頭的像素中 之想要連接於上述一影像領域的像素的位置之步驟說明圖 〇 第20圖爲要從上述另一曝光頭的像素中，由第19圖的 步驟特定位置的像素中，選擇另一連接像素之步驟說明圖 〇 第21圖爲由上述一連接像素和上述另一連接像素使 上述一影像領域與另一影像領域形成被連接狀態之平面圖 〇 第2 2圖爲本發明的又另一實施形態之曝光裝置構成斜 視圖。 第23圖爲第22圖的曝光裝置中，由設置在曝光載物台 的縫隙以特定一曝光頭的一連接像素之步驟說明圖。 第24圖爲連接像素P1與補助像素Pfl在Y軸方向的 位置差之說明圖。 第25圖爲第22圖的曝光裝置中，利用互爲平行的多 數縫隙以特定像素位置之步驟說明圖。 第26圖爲本發明的又再一實施形態之曝光裝置構成斜 視圖。 第2 7圖爲第2 6圖的曝光裝置所具備的光束檢測裝置 -47- 1254568 / 如：:丨，邛/.. ,,..,卜一 ..L ^ - - 之構成詳細放大圖。 、 第2 8圖爲第2 6圖的曝光裝置中，由光束位置檢測裝 置以特定連接像素的XY座標之步驟說明圖。 主要元件符號說明 5 0 DMD(數位微鏡裝置） 54 透 鏡 系 統 5 6 掃 猫 面 (被曝光面） 5 8 透 鏡 系 統 60 SRAM( 靜態隨機存取記憶體）元件 62 微 鏡 66 光 纖 陣 列光源 67 透 鏡 系 統 68 光 出 射 端（發光點） 69 反 射 鏡 7 1 組 合 透 鏡 73 組 合 透 鏡 75 聚 光 透 鏡 1 00 控 制 器 1 20 縫 隙 120a 、b 縫 隙 13 0 縫 隙 13 0a 、b 縫 隙 1 40 光 束 位 置檢測裝置 140a 、b 縫 隙

-48- i —，τ Ι2545·&卜;]〔:，φ正替換i( % 142 基台 、 144 線性編碼器 14 6 滾珠螺桿 148 槽 150 感光材料 152 載物台、曝光載物台 154 腳 156 設置台

158 導軌 160 門框 162 掃瞄器 164 檢測器 166 曝光頭 1 6 6 A〜J曝光頭 168 曝光領域

1 6 8 A〜J曝光領域、影像領域 1 6 9 A、B影像 170 曝光完了領域 180 面檢測器 182 輸送裝置 184 面檢測器 1 8 4 a〜f 槽 186 面檢測器 187 輸送裝置 188 線性編碼器 -49-

Claims (2)

1254568 第 93 1 1 65 3 3 號 及影像形成裝置 λ 19 「像素位置特定方法、影像偏差的補正方法 」專利案 ( 2005年10月19日修正） 十、申請專利範圍： 1 · 一種像素位置特定方法，其係於使多數像素可選擇性的 on/off(點燈/熄燈）之多數曝光頭朝向一定方向掃瞄而形 成影像之影像形成裝置中，測定各曝光頭的曝光光束位 置，以特定上述曝光頭之接縫處的像素位置，該像素位 置特定方法之特徵爲： 上述曝光光束的位置之測定係使用可在基準面上順 著平行於上述掃瞄方向的Y軸方向移動之光束位置檢測 機構，且 使弟1曝光頭的接縫處附近之第1連接像素〇 η， 以檢測上述光束位置檢測機構所具備的光接收面上的Xy 座標上之第1曝光光束位置； 使第2曝光頭的接縫處附近之第2連接像素on， 並使上述位置檢測機構在Y軸方向移動，以檢測上述光 接收面上的xy座標上之第2曝光光束位置；而 根據上述光束位置檢測機構在Y軸方向的移動量， 和第1曝光頭及第2曝光頭在上述光接收面上的曝光光 束之位置，以特定上述第1連接像素及第2連接像素在 上述基準面上的位置者。 2 ·如申請專利範圍第1項之像素位置特定方法，其中 上述光束位置檢測機構是二維PSD(位置檢測器）、 1254568 4分割光檢測器、二維CCD (電荷耦合元件）及二維CM〇s (互補金氧半導體）中任一的像素位置檢測元件者。 3 ·如申請專利範圍第1項之像素位置特定方法，其中 上述曝光頭係依對應於所輸入的影像資料而將來自 光源的光作調變之空間光調變元件而使多數的像素選擇 性的on/off者。 4 · 一種像素位置特疋方法’其係於使多數像素形成可選擇 性的〇 n / 〇 f f，並使對掃猫方向成斜向配置的多數曝光頭 朝向一定方向掃瞄以形成影像之影像形成裝置中，測定 φ 各曝光頭的曝光光束位置，以特定上述曝光頭的接縫處 之像素位置，該像素位置特定方法之特徵爲： 上述曝光光束的位置之測定係使用可在基準面上順 著平行於上述掃瞄方向的Y軸方向移動之光束位置檢測 機構；且 使位於第1曝光頭的接縫處附近之像素循序on， 而將入射於上述之光束位置檢測機構的光接收面上的最 靠近於xy座標上的χ = 〇位置之曝光光束所對應的像素 ® ，特定爲第1連接像素； 使上述被特定爲第1連接像素的第1連接像素on ，並使上述光束位置檢測機構順著Y軸方向移動，以檢 測在上述第1曝光頭的曝光光束照射到上述光接收面上 的xy座標之原點時之位於上述光束位置檢測機構的基 準面上的第1光束位置； 使位於第2曝光頭的接縫處附近之像素循序on ’ -2- 1254568 而將入射於上述光束位置檢測機構的光接收面上的最靠 近於xy座標上的x = 0位置之曝光光束所對應的像素， 特定爲第2連接像素； 使上述被特定爲第2連接像素的第2連接像素on ，並使上述光束位置檢測機構順著Y軸方向移動，以檢 測在上述第2曝光頭的曝光光束照射到上述光接收面上 的xy座標之原點時之位於上述光束位置檢測機構的基 準面上的第2光束位置；而 依據上述第1光束位置和上述第2光束位置，以特 φ 定上述第1連接像素及第2連接像素在上述基準面上的 位置者。 5 ·如申請專利範圍第4項之像素位置特定方法，其中 上述光束位置檢測機構是二維P S D、4分割光檢測 器、二維CCD、及二維CMOS中任一的像素位置檢測元 件者。 6 ·如申請專利範圍第4項之像素位置特定方法，其中 上述曝光頭係依對應於所輸入的影像資料將來自光 φ 源的光作調變之空間光調變元件而使多數像素選擇性的 ο η/〇 f f 者。 7 . —種像素位置特定方法，其係於使多數的像素可選擇性 的on/off之曝光頭在一定方向掃瞄而形成影像之影像形 成裝置中，測定其各曝光頭的曝光光束位置，以特定上 述曝光頭的接縫處的像素位置，該像素位置特定方法之 特徵爲： 12545^8 年月

上述曝光光束的位置之測定係使用可在基準面上順 著平行於上述掃瞄方向的Y軸方向及該Y軸方向成正 交的X軸方向移動之光束位置檢測機構；且 使位於第1曝光頭的接縫處附近之第1連接像素on ，並使上述光束位置檢測機構順著X軸及Y軸方向移 動，以檢測在曝光光束照射到上述光束位置檢測機構的 光接收面上之原點U = 0，y = 0)時之位於上述光束位置檢 測機構的上述基準面上之第1光束位置（X 1，Y 1 );

使第2曝光頭的接縫處附近之第2連接像素on， 並使上述光束位置檢測機構順著X軸及Y軸方向移動 ，以檢測在曝光光束照射到上述光束位置檢測機構的光 接收面上之上述原點時之位於上述光束位置檢測機構的 上述基準面上的第2光束位置（X 2, Y2);而 依據上述第1光束位置及上述第2光束位置，以特 定上述第1連接像素及第2連接像素在上述基準面上的 位置者。

8 ·如申請專利範圍第7項之像素位置特定方法，其中 上述位置檢測機構是二維P S D、4分割光檢測器、 一·維C C D、或一^維C Μ O S中任 的像素檢測元件者。 9 ·如申請專利範圍第7項之像素位置特定方法，其中 上述曝光頭係依對應於所輸入的影像資料將來自光 源的光作調變之空間光調變元件而使多數的像素選擇性 的 on/off 者。 1 〇 · —種影像偏差補正方法，其係於使多數的像素可選擇性 -4- 1254568， i ί:}:1

的on/off之曝光頭在一定方向掃瞄而形成影像之影像形 成裝置中’補正各曝光頭間的影像之偏差及重疊之影像 偏差補正方法，其特徵爲： 利用申請專利範圍第1項所記載的像素位置特定方 法’以特定在第1曝光頭的接縫處附近之第1連接像素 及第2曝光頭的接縫處附近之第2連接像素在基準面上 之位置；而 依據上述被特定位置的上述第1連接像素及第2連 接像素之位置，補正要輸入於上述第1曝光頭及第2曝 φ 光頭的影像資料，以使其影像可在上述第1連接像素與 上述第2連接像素上連接者。 1 1 ·如申請專利範圍第1 0項之影像偏差補正方法，其中 利用申請專利範圍第1項所記載的像素位置特定方 法，以特定第1曝光頭的接縫處附近之第1連接像素， 及第2曝光頭的接縫處附近之第2連接像素在上述基準 面上之像素位置；並 依據上述被特定像素位置的上述第1連接像素及上 述第2連接像素之位置，補正要輸入於上述第1曝光頭 及第2曝光頭之影像資料，以使其影像可在上述第丨連 接像素與上述第2連接像素上連接， 上述影像資料之補正爲包含； 針對上述第1連接像素與上述第2連接像素之間的 Y軸方向的偏差，係因應上述第1連接像素與上述第2 連接像素之間的Y軸方向的距離和上述曝光頭的掃瞄速 1254568 度’以設定上述第1曝光頭和上述第2曝光頭的曝光時 序而加以去除；又 針對上述第1連接像素與上述第2連接像素之間的 X軸方向的偏差，係以可使影像資料在上述第1連接像 素與上述第2連接像素上重疊的方式，藉由將影像資料 輸入於上述第1曝光頭和上述第2曝光頭而加以去除者 〇 1 2 ·如申請專利範圍第！ 〇項之影像偏差補正方法，其中 針對3個以上的曝光頭時，也是利用 φ 上述像素位置特定方法以特定各個曝光頭中的連接 像素在上述基準面上的位置； 根據由上述像素位置特定方法所特定的連接像素之 位置，以補正輸入於上述各個曝光頭的影像資料，以使 影像可在上述連接像素上連接著。 1 3 · —種影像形成裝置，包含： 曝光機構，具有可使多數的像素選擇性的on/off之 多數曝光頭，且依該曝光頭在影像形成面上的一定方向 Φ 邊掃瞄邊曝光以形成影像； 像素位置特定機構，藉由可在基準面上順著平行於 上述掃瞄方向的Y軸方向移動且可測定曝光光束位置之 光束位置檢測機構，測定上述曝光機構所具備的各曝光 頭之曝光光束位置，以特定上述曝光頭的像素位置；及 曝光控制機構，係根據上述光束位置檢測機構的像 素位置檢測結果，以控制上述曝光頭；而 -6- 1254568 ΐ if-^ ο,ί .·· ϊ.. -一>«丨丨，—》_4丨丨_1霹1丨_1 -^amcw-·· ：19 :正替換

上述光束位置檢測機構係按照申請專利範圍第1項 所記載的像素位置特定方法，以特定第1曝光頭的接縫 處附近之第1連接像素及第2曝光頭的接縫處附近之第 2連接像素在上述基準面上的位置；且 上述曝光控制機構係根據上述像素位置特定機構所 特定的第1連接像素及上述第2連接像素的位置，以補 正要輸入於上述第1曝光頭及第2曝光頭的影像資料， 以使影像可在上述第1連接像素與上述第2連接像素上

1 4 ·如申請專利範圍第1 3項之影像形成裝置，其中 上述像素位置特定機構係具有作爲上述光束位置檢 測機構之選擇自二維P S D、4分割光檢測器、二維C C D 、及二維CMOS中任一的像素位置檢測元件者。 1 5 ·如申請專利範圍第ϊ 3項之影像形成裝置，其中 上述曝光頭係具有空間光調變元件，其可按照所輸 入的影像資料而調變來自光源的光，且依該空間光調變 元件而使多數的像素選擇性的〇n/〇ff。 1 6 .如申請專利範圍第ϊ 5項之影像形成裝置，其中 上述空間光調變元件係具有對上述掃瞄方向成傾斜 配置之多數像素者。 1 7 ·如申請專利範圔第1 6項之影像形成裝置，其中 上述空間光調變元件的像素係以二維作配置者。 18.種像素位置特定方法，其係於使多數的像素可選擇性 1254568 的on/off之多數曝光頭在一定方向掃瞄而形成影像之影 像形成裝置中，測定各曝光頭的曝光光束之位置，以特 定上述曝光頭的接縫處之像素位置，該像素位置特定方 法之特徵爲： 使用光束位置檢測機構，以測定上述曝光光束的位 置，該光束位置檢測機構係形成可順著平行於前述曝光 裝置的掃瞄方向之Y軸方向在基準面上移動，並具有相 對於上述曝光頭的像素排列方向成斜向配置，且互爲交 叉的至少1對縫隙部，和用以測定透射該縫隙部的上述 曝光光束的光量之光量測定機構；且 使第1曝光頭中的影像接縫處附近之第1連接像素 on，並使上述光束位置檢測機構順著Y軸方向移動，而 根據透射上述縫隙部的一方及另一方的曝光光束之光量 到達峰値時之上述光束位置檢測機構的位置和上述縫隙 部的位置及上述縫隙部相互間的形成角度，以特定上述 第1連接像素的位置；及 使第2曝光頭中的影像接縫處附近之第2連接像素 ，並使上述光束位置檢測機構順著Y軸方向移動，而 根據透射上述縫隙部的一方及另一方的曝光光束之光量 到達峰値時之上述光束位置檢測機構的位置和上述縫隙 部相互間的形成角度，以特定上述第2連接像素之位置 者。 1 9 · 一種像素位置特定方法，其係於使多數的像素可選擇性 的on/off之多數曝光頭在一定方向掃瞄而形成影像之影 、替換i 1254568 像形成裝置中，測定各曝光頭的曝光光束之位置，以特 定上述曝光頭的接縫處之像素位置，該像素位置特定方 法之特徵爲： 使用光束位置檢測機構，以測定上述曝光光束的位 置’該光束位置檢測機構具有相對於上述曝光頭的像素 排列方向成斜向配置，且一方係順著平行於上述曝光頭 的掃瞄方向之Y軸方向而另一方係順著與Y軸方向成 正交的X軸方向的至少一對縫隙部，和用以測定透射該 縫隙部的上述曝光光束的光量之光量測定機構；且 使第1曝光頭中的影像接縫處附近之像素循序on ，而根據在上述光束位置檢測機構中透射上述縫隙部的 一方的曝光光束之光量到達峰値時的像素位置，和在上 述光束位置檢測機構中透射上述縫隙部的另一方的曝光 光束之光量到達峰値時的像素位置，以及上述兩像素的 Y座標上之差，以特定第1連接像素位置；及 使第2曝光頭中的影像接縫處附近之像素循序on ，而根據在上述光束位置檢測機構中透射上述縫隙部的 一方的曝光光束之光量到達峰値時的像素位置，和在上 述光束位置檢測機構中透射上述縫隙部的另一方的曝光 光束之光量到達峰値時的像素位置，以及上述兩像素的 Y座標上之差，以特定第2連接像素位置者。 2〇·—種像素位置特定方法，其係於使多數的像素可選擇性 的on/off之曝光頭在一定方向掃瞄而形成影像之影像形 成裝置中，測定各曝光頭的曝光光束之位置，以特定上 -9- 1254568 述曝光頭的接縫處之像素位置，該像素位置特定方法之 特徵爲： 使用光束位置檢測機構，以測定上述曝光光束的位 置，該光束位置檢測機構可在基準面上順著Y軸方向及 X軸方向移動且具有順著Y軸方向的第1縫隙部和順著 X軸方向的第2縫隙部，及用以測定透射上述第1縫隙 部及第2縫隙部的上述曝光光束之光量的光量測定機構 :且 使第1曝光頭中的影像接縫處附近之像素on，並 使上述光束位置檢測機構在X軸方向及Y軸方向移動 ’而根據透射上述第1縫隙部及上述第2縫隙部的曝光 光束的光量到達峰値時之上述光束位置檢測機構之位置 ，以特定第1連接像素的位置；及 使第2曝光頭中的影像接縫處附近之像素on，並 使上述光束位置檢測機構在X軸方向及Y軸方向移動 ’而根據透射上述第1縫隙部及上述第2縫隙部之曝光 光束的光量到達峰値時之上述光束檢測機構之位置，以 特定第2連接像素的位置者。 2 1 · —種影像偏差補正方法，其係於使多數的像素可選擇性 的on/off之多數曝光頭在一定方向掃瞄而形成影像之影 像形成裝置中，補正各曝光頭間的影像之偏差或重疊之 影像偏差補正方法，其特徵爲： 利用申請專利範圍第1項所記載的像素位置特定方 法，以特定第1曝光頭中的影像接縫處附近之第1連接 -10-

1254568 胃素及第2曝光頭中的影像接縫處附近之第2連接像素 的位置；並 根據上述已被特定其像素位置的上述第i連接像素 及上述第2連接像素的位置，以使影像在上述第1連接 像素與上述第2連接像素上連接的方式，補正要輸入於 上述第1曝光頭及第2曝光頭的影像資料者。 2 2 ·如申請專利範圍第2 1項之影像偏差補正方法，其中 上述影像偏差之補正包含； 針對上述第1連接像素與上述第2連接像素之間在 Y軸方向的影像偏差，係根據上述第1連接像素與上述 第2連接像素之間在γ軸方向的距離，和上述曝光頭的 掃猫速度’以設定上述第1曝光頭和上述第2曝光頭的 曝光時序而加以去除；又 針對上述第1連接像素與上述第2連接像素之間的 X軸方向的影像偏差，係以可使影像資料在上述第1連 接像素與上述第2連接像素中重疊的方式，將影像資料 輸入於上述第1曝光頭和上述第2曝光頭而可加以去除 者。 2 3·如申請專利範圍第21項之影像偏差補正方法，其中 針對3個以上的曝光頭時，也是 利用上述像素位置特定方法以特定各個曝光頭中的 連接像素在上述基準面上的位置，並 根據上述像素位置特定方法所特定的連接像素之位 -11- 12545· 置’以補正要分別輸入於上述各個曝光頭的影像資料， 以使影像可在上述連接像素上連接者。 24.—種影像形成裝置，包含： 曝光機構，其具有可使多數的像素選擇性的on/off 之機構，並具有可使影像形成面在一定方向邊掃瞄邊曝 光以形成影像的多數曝光頭；

光束位置檢測機構，係可檢測各曝光頭的曝光光束 位置之光束位置檢測機構，其係可順著平行於掃瞄方向 的Y軸方向而在基準面上移動，並具有相對於上述曝光 頭的像素排列方向成斜向配置，且互爲交叉的至少1對 縫隙部，和可測定透射該縫隙部的上述曝光光束的光量 之光量測定機構； 像素位置特定機構，其根據上述光束位置檢測機構 所檢測的曝光光束位置，以特定上述曝光頭的像素位置 •，及

曝光控制機構，根據上述像素位置特定機構所特定 的像素位置，以控制上述曝光頭；而 上述像素位置特定機構係： 使上述曝光機構中，第1曝光頭中的影像接縫處附 近之第1連接像素〇n，並使上述光束位置檢測機構順 著Y軸方向移動，而根據透射上述光束位置檢測機構所 具備的上述縫隙部之一方及另一方的曝光光束之光量到 達峰値時之上述光束位置檢測機構的位置和上述縫隙部 的形成角度，以特定上述第1連接像素的位置；及 -12- 1254568 ί

使上述曝光機構中，上述第2曝光頭中的影像接縫 處附近之第2連接像素on，並使上述光束位置檢測機 構順著Y軸方向移動，而根據透射上述縫隙部之一方及 另一方的曝光光束之光量到達峰値時之上述光束位置檢 測機構的位置和上述縫隙部的形成角度，以特定上述第 2連接像素的位置；而

上述曝光控制機構係根據上述光束位置檢測機構所 特定的上述第1連接像素及上述第2連接像素的位置， 以補正要輸入於上述第1曝光頭及第2曝光頭的影像資 料’以使影像可在上述第1連接像素與上述第2連接像 素上連接者。 2 5 · —種影像形成裝置，包含： 曝光機構，具有可使多數的像素選擇性的on/off之 機構，並具有可使影像形成面在一定方向邊掃瞄邊曝光 以形成影像的多數曝光頭之曝光機構，且上述曝光頭的 像素是相對於上述掃猫方向成斜向排列；

光束位置檢測機構，係可檢測各曝光頭的曝光光束 位置之光束位置檢測機構，其係具有相對於上述曝光頭 的像素排列方向成斜向配置且一方是順著平行於上述曝 光機構的掃瞄方向的Y.軸方向設置而另一方是順著與Y 軸方向成正交的X方向設置之至少1對縫隙部，及用以 測定透射該縫隙部的上述曝光光束的光量之光量測定機 構； 像素位置特定機構，根據上述光束位置檢測機構所 -13- 1254568 丨 檢測的曝光光束位置，以特定上述曝光頭的像素位置； 及 曝光控制機構，根據上述像素位置特定機構所特定 的像素位置，以控制上述曝光頭；而 上述像素位置特定機構係：

使上述第1曝光頭中的影像接縫處附近之像素循序 on，而根據在上述光束位置檢測機構中透射上述縫隙部 的一方的曝光光束之光量到達峰値時的像素位置，和在 上述光束位置檢測機構中透射上述縫隙部的另一方的曝 光光束之光量到達峰値時的像素位置，以及上述兩個像 素的Y座標之差，以特定第1連接像素的位置；並

使第 2曝光頭的像素循序on，而根據在上述光束 位置檢測機構中透射上述縫隙部的一方的曝光光束之光 量到達峰値時之像素位置和在上述光束位置檢測機構中 透射上述縫隙部的另一方的曝光光束之光量到達峰値時 的像素位置，以及上述兩個像素的Y座標之差，以特定 第2連接像素的位置·，又 上述曝光控制機構係根據上述像素位置特定機構所 特定的第1連接像素及上述第2連接像素的位置，以補 正要輸入於第1曝光頭及第2曝光頭的影像資料，以使 影像可在上述第1連接像素與上述第2連接像素上連接 者。 2 6 · —種影像形成裝置，包含： 具有可使多數的像素選擇性的on/off之機構，並具 -14- 禮)正替換 I254568 9‘i 有可使影像形成面在一定方向邊掃瞄邊曝光以形成影像 的多數曝光頭之曝光機構； 光束位置檢測機構，形成可在基準面上順著Y軸方 向及X軸方向移動，且具有順著Y軸方向的第1縫隙 部和順著X軸方向的第2縫隙部，及用以測定透射上述 第1縫隙部及上述第2縫隙部的曝光光束的光量之光量 測定機構； 像素位置特定機構，根據上述光束位置檢測機構所 檢測的曝光光束位置，以特定上述曝光頭的像素位置； 及 曝光控制機構，根據上述像素位置特定機構所特定 的像素位置，以控制上述曝光頭；而 上述像素位置特定機構係： 使上述曝光機構中，第1曝光頭中的影像接縫處附 近之第1連接像素on，並使上述光束位置檢測機構順著 X軸方向及Y軸方向移動，而根據透射上述第1縫隙部 及上述第2縫隙部的曝光光束之光量到達峰値時之上述 光束位置檢測機構之位置，以特定上述第1連接像素的 位置；及 使上述曝光機構中，第2曝光頭中的影像接縫處附 近之第2連接像素〇 n，並使上述光束位置檢測機構順著 X軸方向及Υ軸方向移動，而根據透射上述第1縫隙部 及第2縫隙部的曝光光束之光量到達峰値時的上述光束 位置檢測機構之位置，以特定上述第2連接像素的位置 -15- ,a- ^ -. I ·*Ι»»Ιιι' ΊΜ· ' 11 12$4备6§ ^ p g便)正替換m ，s Λ f^wwi _ι__ I _ _ι· _ I ii -rwwn广-**’ *m* u<j»«b..u- ΆΛί- * * i«r»j-jTfterr· *ηββ «ηϋβ --*1·^»·*·^^··· ;又 上述曝光控制機構係根據上述光束位置檢測機構所 特定的上述第1連接像素及上述第2連接像素的位置， 以補正要輸入於上述第1曝光頭及第2曝光頭的影像資 料’以使影像可在上述第1連接像素與上述第2連接像 素上連接者。 27.如申請專利範圍第24項之影像形成裝置，其中 在上述曝光頭中使多數像素選擇性的οη/off的機構 ，係爲空間光調變元件，其可對應所輸入的影像資料而 Φ 將光源來的光實施調變，以形成影像。 2 8·如申請專利範圍第27項之影像形成裝置，其中 上述空間光調變元件係爲DMD(數位微鏡裝置）， 其具有可反射光源來的光且可在兩位置中任選其一的多 數微小反射鏡，且對應影像資料而將上述反射鏡的位置 轉換到上述兩位置中之一，以轉換上述光源來的光之反 射路徑，依此以形成影像。

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94. VL -S \ 七、指定代表圖： (一） 本案指定代表圖為：第（1 )圖。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明： 八、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式： 100 控制器 150 感光材料 152 載物台、曝光載物台 154 腳 156 設置台 15 8 導軌 160 門框 162 掃瞄器 164 檢測器 180 面檢測器 182 輸送裝置