TWI249654B - Lithographic apparatus and device manufacturing method - Google Patents

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1249654 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種微影裝置及一種器件製造方法。 【先前技術】 微影裝置是一種將一預期圖案套用至一基板之目標部分 上的機曰器:舉例來說，微影裝置可用來製造積體電路（IC) 平面頭不益及其它涉及精細結構的器件。於慣用的微影 裝置中，可利用-圖案化陣列（或稱為光罩或主光罩）來產 生一對應於me(或其它器件）之個別層的電路圖案，而且 此圖案可被成像於具有—層輕射敏感材料（光阻）之基板（例 如石夕晶圓或玻璃板）上的—目標部份（舉例來說，其包括一 、—、Ba粒&彳伤）之上。該圖案化陣列亦可能包括—由 稷數個可個別控制元件所組成的陣列，用以取代光罩來產 生該電路圖案。 、般來况’單基板將會含有一由複數個相鄰目標部分所 構成之網絡，該等目標部分會依序被曝光。已知的微影裝 /置包含所謂的步進機’纟中係藉由-次同時曝光該目標部 2的全部圖案以照射每個目標部分；以及所謂的掃描機， :τ、在既疋的方向中(「掃描」方向)經由該投影光束來掃 亥圖案以照射每個目標部分’同時以與此方向平行或是 反平行的方式來同步掃描該基板。 。。於利用光罩的慣用微影裝置中，光罩的全域平坦性必須 :加規定，以防止於該基板處發生遠心誤差。無光罩微号; 衣置（其為-使用目案化陣列的微影裝置）中所使用的 96080.doc !249654 縮放倍數（demagnification)M(例如縮小200-400倍）則會讓 該問題惡化。全域不平坦性U(也就是，約1 〇以上面鏡週期 的不平坦性）會依照下面公式轉化為晶圓等級處的遠心誤 差丁E : TE=2.M.U ⑴ 所以 圖案化陣列典型的全域不平坦性40 prad便會造 成16-32 mrad的遠心誤差，相較於標準規格，係包含透鏡和 其它機械貢獻在内，全部為1〇 mrad。 再者’隨著無光罩式微影功能的提昇，曝光中的誤差公 差便得縮小。存在於曝光中的誤差為曝光光學元件的中的 光學像差，其通常係由該曝光光學元件的製造與組裝公差 所k成的。除了其它的曝光誤差之外，像差還可能會造成 總聚焦偏是。當曝光光學元件的焦距於該曝光光束全部區 域中亚不相等時便會造成總聚焦偏差。於此情況中，平坦 圖案化陣列裝g己件便不會聚焦於該影像或晶圓平面處的平 土一平面上。當變更該等光學元件以校正該誤差時，便需要 非常精確地移動該等光學組件；否則，便可能會於該系统 中造成額外的誤差。所以吾人需要―種可減少像差且不合 於该無光罩式系統中造成額外誤差㈣統與方法。 【發明内容】 。人希羞提供_種安裝一個以上圖案化陣列的配置，致 使可減少1 亥等圖案化陣列的*平坦性。 根據本發明的一 負硯”、、占，楗供一種微影裝置，其包括： ”月系、、充，用於供應一輻射投影光束； 96080.doc 1249654 、由後數個可個別控制元件所組成的圖案化陣列，用 2 °亥杈影光束的剖面中賦予某種圖案； 衣平板，其上安裝著該圖案化陣列； 阿度5周整結構’用以局部調整該圖案化陣列之主動 表面的高度； _ 一基板工作纟’用於支揮一基板；以及 ~ :投m用於將該已圖案化的光束投影至該基板 的—目標部分之上。 K據本毛明的另一項觀點，提供一種微影裝置，其包括： …、明系統，用於供應一輻射投影光束； 由複數個可個別控制^件所組成的圖案化陣列，用 以於該投影光束的剖面巾賦予某種圖案； --基板工作台，用於支撐一基板；以及 U統’用於將該已圖案化的光束投影至該基板 的一目標部分之上；其中 -該圖案化陣列包括位:一基板之第一表面上的複數個 主動7L件，该基板中與該第一基板相反的第二表面呈 現光學平坦；以及_剛性安裝主體，其具有一光學平 I表面’用和該基板的該第二表面產生黏結。 根據本發明的進一步觀點，提供一種器件製造方法，盆 包括下面步驟·· 提供-至少部份被—層輻射敏感材料所覆蓋的基板； 利用一輻射系統提供一輻射投影光束； 利用圖案化陣列於該第一投影光束的剖面中賦予某種 96080.doc 1249654 圖案； -將忒已圖案化的輻射投影光束投影至該層輻射敏感材 料的一目標部分之上；以及 -將該圖案化陣列安裝至一安裝平板或剛性主體之上， 確保其主動表面維持平坦。 根據本發明另-項觀點，可藉由移動-圖案化陣列裝配 件中個別的圖案化陣列來校正總聚焦偏差。其並不會對齊 所有的圖案化陣列使其界平坦的圖案化陣列裝配件， 取^代之的係，至少有-圖案化陣列具有偏離該平坦平面 的肊力。⑨-具體實施例中，該圖案化陣列裝配件中的每 個圖案化陣列皆會佔據-第-位置。其會在該晶圓平面(本 文中亦稱為衫像平面）處收到資料用以決定所需要的校正 調正里依據此決定結果，該圖案化陣列裝配件中的各個 圖案化陣列便可移出該第一位置進入第二位置。必要時， 每们圖案化陣列皆可分開移動。如此便可讓該圖案化陣列 裝配件偏離一平坦平面。 將一個別的圖案化陣列從該第一位置移至第二位置可能 涉及傾斜、變更高度、甚至彎曲。該些變化係由被連接至 每個圖案化陣列的一調整器或是一組調整器來實行。於一 具體實施例中，該等調整器會改變長度，以便將其個別的 圖案化陣列移至該等第二位置。可以主動或被動的方式來 控制该等調整器。舉例來說，主動受控調整器可能包含活 塞。舉例來說，被動受控調整器可能包含螺絲或螺拴，其 長度皆可手動改變。 96080.doc 1249654 當個別的圖案化陣列已經移至其第二位置之後，源自一 照明系統的光便會照明該圖案化陣列裝配件。該圖案化陣 列裝配件會經由至少一個光學系統來反射光。接著，該光 便會對影像平面處的物體進行曝光。 利用本發明’不必非常精確地調整該光學系統中的透鏡 便可減低像差（例如總聚焦偏差）。另外，利用該等圖案化陣 列來校正像差，便可於建立該系統時放寬該等光學元件的 規格。 此處所用術語「可個別控制元件所組成的圖案化陣列」 應廣義解釋為可用以賦予進入輻射光束一已圖案化剖面的 任何構件，致使可於該基板的一目標部分中製造一預期圖 木，本文中亦使用到術語Γ光閥」以及「空間光調變器 (SLM)」。此等圖案化陣列的範例包含： -可程式面鏡陣列。此陣列包括一具有一伸縮控制層的 可矩陣定址表面以及一反射表面。此種裝置的基本原 理為（例如）该反射表面的已定址區域會將入射光反射 為繞射光，而未定址區域則會將入射光反射為非繞射 光。使用一適當的空間濾光片便可濾掉該被反射光束 中未被繞射的光線，而僅留下繞射光線抵達該基板； 依此方式，δ亥光束便可根據該可矩陣定址表面的定址 圖案來進行圖案化。吾人將會發現，$ —替代例為， 該濾光片亦可濾掉被繞射的光線，而僅留下未被繞射 的光線抵達該基板。亦可以對應的方式使用一由複數 個繞射光學MEMS器件所組成的陣列。各繞射光學 96080.doc -10- 1249654 MEMS器件皆係由複數個反射帶所組成，該等反射帶 可相對於彼此產生變形，以形成一可將入射光反射為 繞射光的光柵。可程式面鏡陣列的另一替代具體實施 例係使用一由複數個小面鏡所組成的矩陣配置，藉由 施加一適當的局部電場或運用壓電啟動構件，便^讓 各個面鏡相對於一軸產生傾斜。同樣地，該等面鏡為 可矩陣定址式，因此該等已定址面鏡會以不同方向將 進入的輻射光束反射至未定址的面鏡；依此方式，該 反射光束便可根據該等可矩陣定址面鏡的定址圖案來 進行圖案化。可使用適當的電子構件來執行必要的矩 陣疋址。在上述的兩種情形下，該由複數個可個別控 制7G件所組成的陣列可能包括一個以上的可程式面鏡 陣列。舉例來說，關於本文所述的面鏡陣列的更多資 料可麥閱美國專利案第5,296,891號及第5,523，193號及 pct專利申請案第wo 98/38597號及第w〇 98/33〇96 號，本文以引用的方式將其併入。 -可程式LCD陣列。此類構造的範例在美國專利案第 5,229,872號中有提及，本文以引用的方式將其併入。 吾人應該發現到，預先偏斜特徵圖形、光學接近校正法 特徵圖形、相位變異技術及多重曝光技術時，顯示在該由 複數個可個別控制之元件所組成的陣列上的圖案實質上可 能不同於最後被轉印到該基板其中一層或其上的圖案。同 樣地’最後在該基板上產生的圖案可能會與於該由複數個 可個別控制之元件所組成的陣列上任何瞬間所形成的圖案 96080.doc 1249654 不相符。以下配置就有可能如此：在該基板各部分上所形 成的最後圖案係在經過特定的時間或特定數量的曝光後所 ’ 冑立的，該由複數個可個別控制之元件所組成的陣列上的 - 圖案及/或該基板之相對位置會在此期間發生變更。 雖然本文中特別麥考製造Ic中所使用的微影裝置，不過 應.亥瞭解的係，本文所述的微影裝置可能具有其它應用， 例士衣仏正口光學系統、磁域記憶體之導引及偵測圖案、 平面顯示器、薄膜磁頭等。熟練的技術人員將會發現，在 此等替代應用内文中所使用的任何術語「晶圓」或「晶粒」 都應該視為分別與更通用的術語「基板」及「目標部分」 同義。本文中的基板可在曝光前或曝光後於一循執工具（該 工具通常會將—層光阻塗敷至―基板上，並且對已曝光之 光阻進订頒影）或一度量或檢查工具中進行處理。只要適 用，本文所揭示的部份亦可應用於此種及其它基板處理工 二：此外，舉例來說，為建立多層ic，可對該基板進行 一次以上的處理’因此本文所用術語「基板」也可以指含 有多個處理層的基板。 本文中所使用的術語「輕射」以及「光束」涵蓋所有種 類的的電磁㈣，其包含紫外線（uvm射⑼如波長408、 355、365、248、193、157 或是 126 nm)以及遠紫外線（EUV) 輻射（例如波長範圍5_20nm)，而且還包含粒子束（例如離子 束或電子束）。 本文所使用的術語「投影'系統」應該廣義地解釋為涵蓋 各種類型的投影系統，針對所使用的曝光轄射或是針對其 96080.doc 1249654 它因素（例如使用浸泡流體或是使用真空），其包含折射式 光學系統、反射式光學系統、反折射式光學系統。本文^ 術語「透鏡」的任何用法都可視為更通用術語「投影系統 的同義詞。 ^」 汶^明系統可能還涵蓋各種類型的光學組件，其包含折 射式光學組件、反射式光學組件、反折射式光學組件，用 以導引、塑造或控制該輻射投影光束，而且此等組件於下 文中亦可以統稱或單獨稱為「透鏡」。 該微影裝置可能係具有兩個以上（雙級）基板工作台的類 型。在此等「多級」機器中，可以平行使用額外工作台， 或在一個以上工作台上進行準備步驟，而同時使用其它一 個以上工作台來進行曝光。 該微影裝置的類型還可能會將該基板浸泡於折射率非常 高的液體（例如水）中，以便填充介於該投影系統之最終元件 和忒基板之間的空間。亦可將浸泡液體塗敷於該微影裝置 中的其它空間，舉例來說，介於該由複數個可個別控制元 件所組成之陣列及該投影系統之第一元件之間的空間。本 技術中已熟知利用浸泡技術來提高投影系統的數值孔徑。 【實施方式】 圖1為根據本發明一特殊具體實施例的微影投影裝置的 概略圖。該裝置包括： -一知明系統（照明器）il，用以提供一輻射投影光束 PB(舉例來說，UV輻射）； -一由複數個可個別控制之元件所組成的陣列 96080.doc -13- 1249654 (可式面鏡陣列），用以賦予圖案給該投影光 束；該由複數個可個別控制元件所組成之陣列相對於 項目二的位置通常係固定的；然而，該陣列也可以連 接至定位構件以便按照項目PL來精確定位該陣列； --基板工作台(例如晶圓工作台)wt，用於支撐一基板 (例如已塗佈光阻的晶圓)w，並且會被連接至第二定位 構件PW肖以按照項目凡來精確地定位該基板；以及 -一投影系統（「透鏡」）PL,肖以將該由複數個可個別 控制τΜ牛所組成之陣列PPM賦予該投影光束叩的圖案 成像至基板W的目標部分c(舉例來說，包含一個以上 的曰曰粒）之上，5亥投影系統可將該由複數個可個別控制 元件所組成之陣列成像至該基板上；或者，該投影系 統可利用該由複數個可個別控制元件所組成之陣列中 的兀件作為遮板來成像辅助來源；該投影系統可能還 包括一聚焦元件陣列（例如微透鏡陣列，又稱MLA ;或 是Fresnel透鏡陣列），用以形成該輔助來源並且將複數 個微點成像至該基板上。 如本文所述’違叙置屬於反射型（即，具有由複數個可個 別控制元件所組成之反射陣列）。然而，一般而言，該裝置 也可能屬於透光型（即，具有由複數個可個別控制元件所組 成之透光陣列）。 照明器IL會從輻射源SO接收一輻射光束。該輻射源及微 影裝置可能是分開的實體，例如，當該輻射源為準分子雷 射時便係如此。於此等情況中，該光源並未被視為構成部 96080.doc -14- 1249654 份的微影裝置’而且該輻射光束會借助於一光束輸送系統 BD從光源SO被傳送至照明器IL，舉例來說，該光束輸送系 統BD包括合宜的複數個導向面鏡及/或一光束放大器。於其 它情況中’該光源可能係該裝置的集成部件，舉例來說， 當該光源係一水銀燈泡時便係這種情況。光源80及照明器 IL(必要時連同光束輸送系統BD)可稱為輻射系統。 照明器IL可能包括調整構件AM，用來調整該光束的角強 度分佈。一般來說，至少可以調整該照明器之光瞳平面中 之強度分佈的的外徑及/或内徑範圍（一般分別稱為〜外及 σ-内）。此外’照明g IL通常包括各種其它組件，例如積分 器IN及聚光器⑶。該照明器會提供—經調整的輻射光束， 稱為投影光束PB ’於其剖面中具有預期的均句度及強度分 佈。 光束PB隨後會攔截該由複數個可個別控制元件所組成之 陣列PPM。被該由複數個可個別控制元件所組成之陣列 ㈣反射之後，該光束叩便會穿過該投影系紐，該系統 會將該光束PB聚焦於該基板w的目標部分C之上。藉助於定 位構件PW(以及干涉測量構侔τ 稱件IF)，便可以精確地移動該基 =工作台WT，以便在該光束PB的路徑上定位不同的目標部 刀C在使—用4，可利用該由複數個可個別控制元件所組成 之陣列之疋位構件於掃描期間 Λ π知知先束PB的路徑精確地校 正該由複數個可個別控制元件所組成之陣列ΡΡΜ的位置。 一般來說，物件工作台WT的 & —/的移動可以藉助於長程模組（粗 略疋位）以及紐程模組（細微 疋位）來達成，圖1中並未清楚圖 96080.doc 1249654 解亦可利用一雷同的系統來定位該由複數個可個別控制 元件所組成之陣列。吾人將會發現，該投影光束可能係可 移動的，而物件工作台及/或該由複數個可個別控制元件所 組成之陣列則可能具有固定位置以提供所需的相對運動。 另一替代例係’基板m投影系統的位置可能係固定 的，而該基板則被配置成可相對於基板工作台來移動，此 替代例特別適用於製造平面顯示器。舉例來說，該基板工 作台可能具有一掃描n用以實f固定的速度來掃描橫 跨其上的基板。 雖然在此處說明根據本發明的微影裝置係用於曝光一基 板上的光阻劑，但是吾人將會發現，本發明並不限於此應 用，且該裝置亦可在無光阻式微影術中用來投影一已圖案 化的投影光束。 上述裝置可在四種較佳模式中使用： 1.步進模式：該由複數個可個別控制元件所組成之陣列 會於該投影光束中賦予一完整圖案化構件案，該圖案 係一次同時被投影於一目標部分C上（也就是，單靜態 曝光）。然後該基板工作台WT可沿著乂及/或γ方向移 動，致使可曝光不同的目標部分C。在步進模式中，曝 光視昜的最大大小會限制在單—靜態曝光中成像的目 標部分C的大小。 2·掃描模式：該由複數個可個別控制元件所組成之陣列 可以在既定的方向中（所謂的「掃描方向」，例如Y方向） 以速度v移動，因此該投影光束pB會在該由複數個可個 96080.doc 1249654 別控制元件所組成之陣列上掃描，同時，該基板工作 台wt會以速度v=Mv在才目同或是相反的方向上移動， 其中Μ係該透鏡孔的放大倍率。在掃描模式中，曝光 ㈣的最大大小會限制目標部分在單—㈣曝光中的 寬度（在非掃描方向中）’而掃描動作的長度則可決定 该目標部分的高度（在掃描方向中）。 3·脈衝模式：該由複數個可個別控制元件所組成之陣列 基本上係維持靜止，並且可利用一脈衝式輻射源將整 個圖案投影於該基板的目標部分c之上。基板工作台 WT可以貝貝不變的速度被移動，致使讓該投影光束 可跨越該基板W來掃描一條直線。必要時，可於該輻 射糸統的脈衝間來更新該由複數個可個別控制元件所 組成之陣列上的圖案，而且該等脈衝的分時方式可使 得於忒基板上預期的位置處來曝光複數個連續的目標 部分C。因此’該投影光束便可橫跨基板▽來進行掃 描，以便對基板之一條紋的完整圖案進行曝光。該程 序可重複進行直到逐列曝光整個基板為止。 4·連續掃描模式：基本上與脈衝模式相同，不過使用的 係一貫吳怪定的輻射源，而且可於該投影光束跨越該 基板進行掃描且對其進行曝光時來更新該由複數個可 個別控制元件所組成之陣列上的圖案。 另外也可以採用上述應用模式之組合及/或變化，或採用 完全不同的應用模式。 如圖2所示，圖案化陣列u係被安裝於一剛性平板12上， 96080.doc -17- 1249654 用以形成一圖案化陣列裝配件10。必要時，可利用一定位 構件（未顯示）將此裝配件安裝於該裝置丨中。可透過剛性部 件或平板12及複數條電線丨4來與該圖案化陣列進行電連 接。介於圖案化陣列丨丨及剛性平板12間的係一壓電元件陣 列13，正確啟動該壓電元件陣列13之後便能夠讓該圖案化 陣列11產生變形，從而可將其不平坦性校正預期的規格 内。亦可將該等壓電元件整合至該圖案化陣列或該安裝平 板之中。若該圖案化陣列係線性的話，那麼該壓電元件陣 列13便可能係丨維的陣列；不過，以2維陣列為佳。該陣列 的間隔通常遠大於圖案化陣列u之像素的間距—其間隔係 根據该圖案化陣列! i之預期不平坦性的空間頻率而選出 ^寺坠黾元件較佳的係被配置成於啟動後可改變其於垂 直該圖案化陣列之主動表面之標稱平面的方向中的長度， 以便直接讓該圖案化陣列產生變形。不過，亦可利用複數 個壓電啟動器於該圖案化陣列的平面中施加作用力，以便 猎由控制其内部的張力及/或壓縮作用力來改變其形狀。 可於該裝置的校準或再校準期間決^來實行該圖案化 2 =平坦性必要校正的適當控制信號，並且於該裝置 運作呀套用該等信號。 圖3所示的係第—具體實施例之圖案化陣列的變化例。於 啟=件係利用一螺絲或螺栓2 1陣列來取代該等壓電 紋狀ί孔：Γ絲或螺栓係位於該剛性平板12的複數個螺 亚且會支撐該圖案化陣列的背面，因而可 96080.doc -18- I249654 '周整該等螺絲或螺拴以

又違圖案化陣列11的形狀。同檨 地，可於該裝置的校準戋A . 及再奴準期間來調整該等螺絲或螺 栓，然後便設置完成而不需H ^ 飞系 卜而要進一步的動作。 圖4為'一弟二變化例，甘+ γ /、中可主動控制該圖案化陣列的形 ^。一高度感測系統包括-光束源3卜該光束源會以銳角 、式f光束”知、在§亥圖案化陣列11上’使其被感测器 反射，而該感測系統便可藉由光束33入射於感测器32上 =置來偵測該圖案化陣列的不平坦性。於該圖案化陣列 士、7t之面鏡Θ件的情況中，因為光束33的覆蓋範圍 敕於該圖案化陣列的像素’所以可债測到該圖案化陣列的 i體平坦性’而非㈣到個別面鏡的角度。當利用此種器 t、同樣以於5亥輪射源LA之脈衝間的週期期間來測量平 坦性為宜’此時該器件的面鏡係處於停用狀態。 可於一回授迴路中使用該圖案化陣列之平坦性測量結果 來控制该寻壓電啟動器，以便讓該圖案化陣列達到預 平坦性。 … 备然’亦可利用其它的被動或主動啟動器來調整該圖案 化陣列的平坦性。舉例來說，可將該圖案化陣列安裝於由 非系咼的熱膨脹係數的材料所製成的複數根桿狀體之上， 於每根杯狀體上纏繞一加熱線圈，並且選擇性地提供能量 給該等線圈，以便選擇性地加熱並且選擇性地膨脹該等桿 狀體。亦可利用被安裝於該安裝平板之中或之上的複數： 熱^件作為可依照氣動原理、磁性原理、或是液壓原理來 運作的啟動器。再者，可將該圖案化陣列安裝於複數根桿 96080.doc -19- 1249654 狀物或針狀物的末端，其另 型的複數個啟動器。藉由控 作用力便可於該圖案化陣列 以改善其平坦性。 一端則可連接屬於上述任何類 制作用於該等桿狀物末端間的 中誘發出局部的彎曲力矩，用 下文所述之本發明的另一具體實施例和上述者相同，不 過痛卻安裝該圖案化陣列丨丨。本 本考X月的此項觀點為可利用 本發明來解決的問題提出一種替 裡曰代的％決方式。該具體實 施例並不提供—高度㈣結構來調㈣圖㈣構件的平括 性；更確切地說，其係藉由將其後表面研磨至呈現出光學 平坦性（例如小於約〇」_，然後將其安裝於一非常堅硬的 主體(該主體同樣會被研磨至相同的平坦程度)上以確保其 平H該剛性主體必須非常地堅硬’以確保可於該裝置 的使用期間維持該平坦性。 可透過-能夠校正該圖案化構件之全域傾斜的固定或活 動式基座來安裝該剛性主體。較佳的係，可沿著該剛性安 裝主體的中線來安裝該剛性安裝主體，那麼，即使該安裂 主體發生熱膨脹或收縮，該圖案化構件亦不會發生變形^ 理想上，該可程式圖案化構件之基板和該固定主=間的 黏結強度越大越好。較佳的黏結技術係直接晶結法 (anSprengen法）’欲達成該目的必須於產生接觸之前確^欲 被黏結的表面完全清潔且平坦，如此便可黏結兩個結晶結 構0 於此具體實施例中，如圖5所示，係藉由於該圖案化陣列 Π的製造期間將該圖案化陣列u的背面研磨至呈現出光學 96080.doc -20 - 1249654 平坦性並且將其黏結至—剛性主體4 i中同樣被研磨過的表 面上’以達到該圖案化陣列的預期平坦性。為於該圖案： 車J及4剛H主體間促成直接晶結（a卿⑽柳）的目的，該 等兩個表面的表面粗糙度應該小於Q1 _。剛性主體^ 能還會攜載該圖案化陣列u的控制或電源供應電子電路 仏。該電路可能係位於該剛性主體“的側邊或底部上。可 藉由複數個啟動器或螺栓43、44(數量以三個為宜）將該剛性 主體安裝至該㈣化陣列裝配件4G的主平板上，該等啟動 器或螺栓可於必要時設置或控制該陣列的全域傾斜。圖6 與7中的流程圖所示的係製造一圖案化陣列的兩種製程範 例，該圖案化陣列具有-經研磨的背面且會被黏結至一經 研磨的剛性主體。 直接晶結法的替代例係藉由所謂的「法」將該 圖案化陣列11黏結至該剛性主體。verennest法包括大量的 小型可橈性元件，該等元件通常係由金屬所製成的相同元 件。那麼不論欲被鉗止之物件的局部不平坦性或厚度變化 為何，只要利用許多元件便可達到均勻分散的作用力。因 此，可於該圖案化陣列邊緣附近使用複數個小型的個別彈 菁部件（每個部件皆具有非常小的彈力），以便將其钳止至該 剛性主體。可提供三個止動件來限制該圖案化陣列的平面 移動情形。 另一替代例係利用一含玻璃球（其直徑已經過謹慎校準） 的黏著劑來黏著該圖案化陣列。較佳的係，可將該黏著劑 塗敷於大置的小點中。如此便可將該黏著層的厚度控制在 96080.doc -21 · 1249654 非常恆定的數值（例如10 μιη±1 μιη)。 圖8為根據本發明具體實施例的無光罩式微影系統} 〇〇的 示意圖。系統100包含一照明系統102，用以透過一分光器 1〇6及圖案化陣列光學元件108將光傳送至一反射式圖案化 陣列1〇4(例如一數位微面鏡器件（DMD)、一反射式液晶顯 示為（LCD)、或是類似的器件）。圖案化陣列} 〇4可取代傳統 微影系統中的主光罩來圖案化該光。被圖案化陣列i 〇4反射 之經圖案化的光會經由分光器1〇6及投影光學元件u〇被傳 送且寫入一物件丨12(例如基板、半導體晶圓、平面顯示器 的玻璃基板）之上。 吾人將會發現，如相關技術中熟知般，可將該等照明光 4*元件女置於知明系統102内。吾人還會發現，如相關技術 中熟知般，圖案化陣列光學元件1〇8及投影光學元件11〇可 旎包含能夠將光照在圖案化陣列1 〇4及/或物件丨丨2之預期 £域上所需要的光學元件的任何組合。 於替代具體實施例中，照明系統i 〇2及圖案化陣列丨〇4中 其中一者或兩者可分別被耦合或是具有複數個整合控制器 1 1 4 /、11 6。控制态11 4可依據源自系統1 〇 〇的回授信號來調 整照明系統102或是實施校準。控制器116亦可用來調整及/ 或校準。或者，控制器116可用來於不同的狀態間（例如介 於灰色狀態及全黑或關閉狀態其中一者間）切換圖案化陣 歹J 104上的切換像素蒼見圖1〇)。此作法可產生一圖宰來 曝光物件112。控制器116可能具有整合儲存器，或是被耦 合至一儲存元件（未顯示），其會利用預設的資訊及/或演算 96080.doc -22- 1249654 法來產生該（等）圖案。 圖9為根據本發明另一具體實施例之無光罩式微影系統 200的不意圖。系統200包含一照明系統202，用以透過一圖 案化陣列204(透射式LCD或類似的器件）來傳送光以圖案化 该光。經圖案化的光可經由投影光學元件2 1 0被傳送且將該 圖案寫入一物件2 1 2的表面上。於此具體實施例中，圖案化 陣列204係一透射式圖案化陣列，例如液晶顯示器或類似的 陣列。和上面雷同的係，照明系統2〇2及圖案化陣列2〇4中 其中一者或兩者可分別被耦合至或是整合複數個控制器 214與216。如該技術中熟知般，控制器214與216可實施的 功能和上述的控制器1丨4與116雷同。 可使用於系統100或200中的圖案化陣列範例係由瑞典的 M1Cr〇nic Laser Systems AB 以及德國的 Fraunh〇fer Institute 。不過，熟習相關 for Circuits and Systems等公司所製造。 為方便起見，下文中將僅參考系統1 〇〇 技術的人士便會明白，下文所討論的所有觀念皆可套用至 系統200。熟習本技術的人士將會明白圖8與9之組件及控制

素的其中一種狀態中看見該等像素。 符破，便可於該等像 可利用依據預期圖案 96080.doc -23- 1249654 立、或*員比輸入信號來切換該等各個像素302的狀態。於 ^份具體實施例中，可制欲被寫人物件ιΐ2中的真實圖 案J並且判斷該圖案是否落在可接受的容限值之外。若是 的活便可利用控制器116即時地產生類比或數位控制信 唬，用以微調（例如校準、調整等）圖案化陣列1〇4欲產生的 圖案。 &圖11為圖案化陣列104的另—細部圖。圖案化陣列刚可 旎包含一非主動封裝400 ’纟會包圍±動區（例如面鏡陣 列）300另外，於替代具體實施例中，可將一主控制器術 柄合至每個圖案化陣列控制器U6，用以監視聽制一由複 數個圖案化陣列所組成的陣列。㈣中所示的虛線代表一 由複數個圖案化陣列所組成的陣列中的第二圖案化陣列。 可配合設計於該陣列中加人一個以上的圖案化陣列。如下 文的討論般，於其它具體實施例中，可並列或交錯排列相 鄰的圖案化陣列。 圖12為一裝配件5〇〇，其包含一支撐器件5〇2，用以支撐 或收容一含有複數個圖案化陣列1〇4的圖案化陣列裝配件 508。於各種具體實施例中，如下文更詳細的說明般，依照 每個脈衝的預期曝光數量或是其它設計準則，圖案化陣列 裝配件5 0 8可能會具有不同的行數、列數、每行中的圖案化 陣列數、每列中的圖案化陣列數等。該等圖案化陣列1〇4 可被耦合至一支撐器件502。支撐器件5〇2可能具有複數個 熱控制區域504(例如水通道或氣通道、結構性散熱片等）。 支撐器件502可能還具有複數個供邏輯與相關電路使用的 96080.doc -24- 1249654 區域（舉例來說，參見圖llt的元件116與元件4〇2,其可能 係ASIC、A/D轉換為、d/A轉換器、供串流資料使用的光纖 等）。此外，如相關技術t熟知般，支撐器件5〇2可能還具 有複數個開口 506(形成於虛線形狀内），用以收容複數個圖 案化陣列104。支撐器件502、圖案化陣列1〇4、以及全部的 周圍冷卻或控制器件電路合稱為一裝配件。 裝配件500允許利用預期的步階尺寸來進行預期的接合 作業（例如連接物件112上相鄰的特徵^件）並且允許領先與 洛後圖案化陣列1〇4發生重疊。領先圖案化陣列係、於掃描期 間在物件U2上的一連串影像中產生第一影像的圖案化陣 列，而落後圖案化陣列則係於掃描期間在物件112上的一連 串心像中產生最後影像的圖案化陣列。於該等領先與落後 圖案化陣列間可能會出現複數個額外的圖案化陣列。不同 掃描中源自該等領先與落後圖案化陣列1〇4的影像發生重 豐有助於消除因相鄰、非重疊掃描所造成的裂缝。利用一 種溫度穩定材料來製造支撐器件5〇2，便可用來進行熱管 il 〇 …、 支撐為件502可作為一機械骨架，用以確保圖案化陣列 1〇4的間隔控制結果以及用以埋植電路控制與熱控制區域 504。可將任何電子元件安裝於支撐器件502之背面或正面 中其中一者或兩者之上。舉例來說，當利用類比型圖案化 陣列或電子元件時，便可能會有複數條電線從控制或耦合 人、t 04被轉合至複數個主動區3 00。相較於該電路遠離兮 支撐器件502的情況，若將其安裝於支撐器件5〇2上，該： 96080.doc •25- 1249654 私線的長度可此非常地短，如此便可減少類比信號的衰減 情形。另外，該電路與主動區3〇〇間的短鏈路亦可提高通信 速度’從而提高即時的圖案調整速度。 於部份具體實施例中，當該電路中的圖案化陣列1〇4或電 器件磨耗之後，則可輕易地置換裝配件5〇〇。雖然置換裝配 件500的成本似乎高於僅置換裝配件5〇〇上的晶片，不過， 見IV、上，置換整個裝配件5⑽卻會比較有效，從而可節省製 造成本。另外，若終端使用者願意使用經還原之裝配件50〇 的話，那麼便可還原裝配件5〇〇,從而能夠減少置換部件。 一旦置換裝配件500之後，那麼於重新進行製造以前便僅需 要進行總對齊作業即可。 於喊影系統中（例如系統1〇〇)，該系統中的任何光學像差 (例如、、息♦焦偏差或聚焦像差）皆可能會於該系統中的光對 物件112進行曝光時造成嚴重的誤差。雖然本文中以聚焦像 差作為範例，不過，熟習本技術的人士將會明白，本發明 亦可;k正其它的光學像差。舉例來說’和像差有關的光學 疋件可此係圖案化陣列光學元件1〇8或投影光學元件。 技正來焦像差的其中一種方法係精確地調整該等光學元件 (例如投影光學元件110或圖案化陣列光學元件1〇8)中透鏡 之間的相對位置。依此方式，便可將平坦的主光罩平面(例 =案化陣列裝配件5〇8所在的平面）投影於一平坦的物件 :焦平面上。不過’透鏡調整的負面效果係可能會造成不 冋的像差’使得必須對該光學元件作進一步調整以便校正 96080.doc 1249654 於本發明的一具體實施例中，並非藉由移動該等光學元 件中的透鏡來校正聚焦像差。取而代之的係，會將個別的 圖案化陣列1〇4與圖案化陣列裝配件5〇8分離，以改變已投 衫衫像的聚焦輪廓。如此便會產生一不平坦的主光罩平 面’用以考量該等光學元件中的誤差，並且投影於一平坦 的物件聚焦平面上。 圖13為根據本發明具體實施例之示範方法6〇〇的流程 圖。步驟602中會照明一圖案化陣列裝配件，例如圖案化陣 列裝配件508。 v ·‘ 604中’會依照物件112之平面處的曝光中的誤差或 像差來調整圖案化陣列裝配件508中的該等圖案化陣列 104 °圖14為進一步詳述步驟604之具體實施例的流程圖。 步驟702中，會於該影像平面處取出曝光資料。於一具體實 ^例中’會利用一連串的感測器來取出曝光資料。於一具 體實施例中，會利用於該曝光光束中移動的一個以上感測 时所進行的一連串測量來取出曝光資料。舉例來說，一感 測為可於該曝光光束的狹縫中上下移動，用以決定該光束 未被聚焦的位置點（若存在的話）。於一具體實施例中，會先 曝光一測試物件丨12，然後再進行檢驗以決定物差或像差資 料。步驟704中，會決定每個圖案化陣列的圖案化陣列調整 值。一或多個圖案化陣列可能會需要該些調整值來校正曝 光中的像差。於步驟7〇4中決定出調整量之後，必要時便可 於步驟706中調整每個圖案化陣列，以便弭平或減少像差。 部份的圖案化陣列可能並不需要任何的調整。每個圖案化 96080.doc -27- 1249654 陣列也可能會需要進行某種形式的調整。實際上，並非每 個圖案化陣列皆必須與其它圖案化陣列進行相同方式的調 整。步驟604以及方法700可在步驟6〇2前面或後面來實施。 方法600的步驟606中，在調整該等圖案化陣列之後，便 會經由該等系統光學元件（例如投影光學元件110或圖案化 陣列光學元件108)來傳送被圖案化陣列裝配件5〇8反射的 光。步驟6 0 8中會曝光物件112。 方法600可能係在該無光罩式微影系統的初始設定時來 實施。或者’必要時可定期地實施方法_，用以維護該益 光罩式微㈣統。Μ，可於該無光罩式微料統每次實 施曝光前便實施方法6〇〇。 為調整個別的圖案化陣列104，可將圖案化陣列裝配件 別中的每個圖案化陣列104安裝於_調整器或複數個調整 器之上。圖15為根據本具體實施例的示範圖案化陣列⑽ 的不意圖。於一具體實施例中，每個圖案化陣列會使用單 一個調整器。於替代例中，如圖 ^ π 所不，會有複數個調整 器802被黏著至圖案化陣列 节化丨早夕j104。凋整器802會延伸以便提升

或降低該圖案化陣列中兑祐對I 干」r，、被黏者的部份。於一具體實施例 中，調整器802係主動式的，因為 口句Γ利用一控制系統所發出 的命令來加以控制。舉例央 ♦例；况，主動調整器可能包含活塞。 可於掃描期間改變主動調整哭 门正的的長度。於一具體實施例 中’調整器802係被動式的，因為係 U馬係利用手動方式來加以控 制。舉例來說，被動調整哭可釣 T月匕包含螺絲或螺栓，其長度 皆可手動改變。 96080.doc -28- 1249654 於本發明的一具體實施例中，係以共平面配置的方式來 女版每個圖案化陣列104，如圖12中所示者。雖然係根據初 始的共平面配置方式來說明本發明，不過，熟習本技術的 人士將會瞭解，亦可以初始非平面配置方式來安裝每個圖 案化陣列1 04。接著，必要時可將個別的圖案化陣列1 〇4移 出該共平面配置，以便校正該影像平面處的光學像差（例如 總聚焦偏差）。藉由改變被黏著於該圖案化陣列1〇4中之複

數個調整器802中個別調整器的長度便可達成移動一個別 圖案化陣列104的目的。 調整器8 0 2所造成的圖案化陣列丄〇 4的移動可能係下面移 動中其中-者：平面移動、傾斜移動、彎曲移動、或是該 等三種移動的任意組合。

圖9A與9B為本發明具體實施例的透視圖。如上面參考| 12所討論者，圖案化陣列裝配件508中每一行及每一列可^ 具有不同數1的圖案化陣列，而且並不特別受限於本文卢 述之具體實施例。圖16A的範例中，圖案化陣列裝配件50 包含被非主動封裝400包圍的16個圖案化陣列ι〇4。於此華 例中，母個圖案化陣列的大小相同，且每列與每行皆且肩 相同數量的圖案化陣列。圖16A為圖案化陣列裝配件爛 正面圖目16B為圖案化陣列裝配件5〇8的剖面側面圖。於 此具體實施财’圖案㈣職配件會偏離平坦平面j 因為圖案化陣列裝配# 〇 β + 衣配件5〇8t的圖案化陣列902並未與圖幸 化陣列裝配件508中的苴它R安儿益η ^ ^ ，、匕圖案化陣列104共平面。取而代 之的係’會有複數個調整器8G2將圖案化陣㈣2升高或降 96080.doc -29· 1249654 低至平行圖案化陣列裝配件5〇8之平面的新平面處。如此一 來，不必改變該等光學元件便可校正曝光之某一特殊區域 中的光學像差。

圖1 Ο A與1 0B為本發明另一具體實施例的透視圖。圖丨7A 為圖案化陣列裝配件508的正面圖。圖丨7B為圖案化陣列裝 配件508的剖面側面圖。於此具體實施例中，圖案化陣列裝 配件508會偏離平坦平面，因為圖案化陣列1〇〇2係傾斜於圖 案化陣列裝配件508中其它圖案化陣列1〇4的平面。於此範 例中，圖案化陣列购係傾斜於y方向巾。熟f本技術的人 士將會瞭解，圖案化陣列1〇〇2亦可傾斜於其它方向中，例 如傾斜於X方向中。為造成傾斜，可制與複數個調整器8〇2 個別位置成比例的方式來增長該等調整器8()2，直到達成預 期的傾斜角度為止。 圖11A與11B為本發明另—具體實施例的透視圖。圖似 為圖案化陣列裝配件5〇8的正面圖。圖⑽為圖案化陣列裝 配件508的剖面側面圖。於此具體實施例中，圖案化陣列穿 配件谓會偏離平坦平面，因為圖案化陣列m2係相對於圖 案化陣列裝配件5〇8中其它圖案化陣列HM的平面呈現彎曲 狀。於圖的範例中’該等複數個調整㈣2中的 整器1104會增長；而該等複數個調整議中的内部調整L 簡的增長程度則會小於外部調整器蘭，甚至騎持^ 外部調整器1104還短。每個調整器皆可能會具有和直它， ㈣'同的長度。嶋技術的人士將會瞭解，圖案化;車 歹’ U02可於各種位置處產生弯曲，以達成預期的結果。舉 96080.doc -30- 1249654 例來說，於一具體實施例中，圖案化陣列丨1〇2可能係呈現 凸狀或凹狀。於一具體實施例中，圖案化陣列丨丨〇2可能係 其中一側主現焉·曲狀而另一側則呈現平坦狀。 7' 熟習本技術的 將s暌％，上述的每種移動方式（上 升、傾斜、以及彎曲）皆可分開或彼此結合來實施。另外， 視不同的圖案化陣列所在處所需要的聚焦校正量而定，圖 案化陣列裝配件5G8中該等不同的圖案化陣列可以不同於 圖案化陣列裝配件508中其它圖案化陣列的方式來移動。

移動該等個別的圖案化陣列1〇4會讓圖案化陣列裝配件 篇受控且可預測的方式表面偏離一平坦平面。此種謹慎 地偏離一平坦平面的作法便可改變聚焦輪廓。 改變該圖案化陣列處的聚焦輪扉具有數項優點。於在系 統光學元件（舉例來說，投影光學元件m及圖案化陣列光 學元件_中已經校正聚焦像差的系統中，該等變化可能 會導致其它的光學㈣。後續的調整則可能會對光路徑再

度造成負面影響。移除投影光學元件m及圖案化陣列光學 凡㈣8至圖案化陣mG4的聚焦校正卫作可以減少必須對 该寻光學元件實施的精確校正數量。 平坦平面且校正圖案化陣列ι〇4處的聚焦 1 =立該I统時放寬該等光學㈣的規格。也就是 度則可降低。舉物母個透鏡的必要精確 話，那麼單僅μ光;的總容限值為侧細的 度且相當繁續、二中進行調整便會具有極高的難 1㈡田系ί貝。不過，甚贫堂止 右4寺先學元件允許土500 nm的容限 96080.doc 31 1249654 值的話，那麼藉由移動該等圖 份，便會比較容易設計該等光/、- 幻來杈正其餘的部 所需要的精確度可以同時：：件。降低該等光學元件 間。因此，藉由利用個別：：= 化與設定階段的時 件"誤差而被設計成規格較 件U2處具有相同誤差容 統便可達到物 求）。 值的目的（該光學系統從前的要 不 本 雖然本發明的特定具體實施例已如上述加以說明 二：明瞭本發明亦可以上述以外的其它方法來完成 舍月並不党本說明的限制。 【圖式簡單說明】 ^面已經利用範例’參考附圖，對本發明的具體實施例 作。兄明’其中對應的A件符號表示對應的部件，而且其中： -圖1為根據本發明一具體實施例的一微影裝置； 圖2為本發明第一具體實施例中的圖案化陣列及安裝裝 配件； 圖3為本發明第一具體實施例變化例中的圖案化陣列及 安裝裝配件； 圖4為本發明第一具體實施例第二變化例中的圖案化陣 列及安裝裝配件； 圖5為本發明第二具體實施例中的圖案化陣列及安裝裝 配件； 圖6為用於製造本發明第二具體實施例之圖案化陣列及 安裝裝配件的製程流程圖； 96080.doc -32- 1249654 圖7為用於製造本發 一 安袭裝配件的•化制广…施例之圖案化陣列及 、 什的交化製裎流程圖； 圖8為根據本發明呈，每 的無光列之具有反射式圖案化陣列 式试影系統的方塊圖； 圖9為根據本發明具體實施例之呈 的無光罩式p ^ 〃有透射式圖案化陣列 飞从如系統的方塊圖； 圖10為根據本發明具體實施例之 圖11為圖1〇中之円宏“ q茶化陣列不意圖； 之圖案化陣列更細部的示意圖； 圖12為根據本發明呈俨垂 八體只轭例之裝配件示意圖； 圖13為根據本發明 月”體貝施例之方法的流程圖； 圖4為根據本發明具體實施例之方法 —據本發明具體實施狀 ^圖同 化陣列示意圖； 口系

圖16A為根據本發明具體實施例之圖案化陣列裝 正面圖； J 圖1 6B為根據本發明具體實 剖面圖； Q案化陣列裝配件的 圖17A為根據本發明具體實施例之圖案化陣列裝配件 正面圖； 、的 圖17B為根據本發明具體實施例之圖案化陣列裝配件的 剖面圖； -圖18A為根據本發明具體實施例之圖案化陣列裝配件的 正面圖； -圖18B為根據本發明具體實施例之圖案化陣列裝配件的 96080.doc -33- 1249654 剖面圖。 【主要元件符號說明】 1 微影投影裝置 10 圖案化陣列裝配件 11 圖案化陣列 12 剛性平板 13 壓電元件陣列 14 電線 20 圖案化陣列裝配件 21 螺絲或螺栓 31 光束源 32 感測器 33 光束 40 圖案化陣列裝配件 41 剛性主體 42 電子電路 43 啟動器或螺栓 44 啟動器或螺栓 100 無光罩式微影系統 102 照明系統 104 反射式圖案化陣列 106 分光器 108 圖案化陣列光學元件 110 投影光學元件 96080.doc -34- 1249654 112 物件 114 控制器 116 控制器 200 無光罩式微影系統 202 照明系統 204 圖案化陣列 210 投影光學元件 212 物件 214 控制器 216 控制器 300 主動區 302 像素 400 封裝 402 主控制器 500 裝配件 502 支撐器件 504 熱控制區域 506 開口 508 圖案化陣列裝配件 802 調整器 902 圖案化陣列 1002 圖案化陣列 1102 圖案化陣列 1104 調整器 96080.doc -35- 1249654 1106 調整器 SO 輻射源 BD 光束輸送系統 PPM 由複數個可個別控制之元件所組成的陣列 PB 輻射投影光束 IL 照明器 AM 調整構件 IN 積分器 CO 聚光器 IF 干涉測量構件 PL 透鏡 WT 基板工作台 W 基板 P 1 基板對齊標記 P2 基板對齊標記 PW 定位構件 96080.doc -36-

Claims (1)

1249654 十、申請專利範園·· 1 · 一種微影裝置，其包括： 、、、月系統，用於供應—輻射投影光束； -由複數個可個別控制元件所組成的圖案化陣列，用 以於该投影光束的剖面中賦予某種圖案； -二，裝平板，其上安裝著該圖案化陣列； 。又凋i結構’用以局部調整該圖案化陣列之主 表面的高度； --基板工作台，用於支撐—基板；以及 --投影系統，用於將該已圖案化的光束投影至 的一目標部分之上。 2· 2請求項1之裝置，其中該高度調整結構包括》高度相 ^用以偵測該可程式圖案化構件中的不平坦度，以及 匕括回杈迴路，用以控制被套用至該圖案化陣列 整值。 例 3 ·如明求項1之裝置，其中該高度調整結構包括一壓電元 陣列。 女明求項1之裝置，其中該高度調整結構包括一螺絲或螺 技陣列，該等螺絲或螺栓會穿過該安裝部件中的複數個 螺、、文狀穿孔，並且會支撐該圖案化陣列。 5 ·如明求項1之裝置，其包括複數個位於一共同安裝部件上 的圖案化陣列以及複數個個別的高度調整結構，藉由該 寺南度調整結構便可以手動方式來等高化該等各個圖案 化陣列。 Μ 96080.doc 1249654 6. 一種微影裝置，其包括·· •:照明系統，用於供應一輻射投影光束； 、複數個可個別控制凡件所組成的圖案化陣列，用 以於该投影光束的剖面中賦予某種圖案； _二卫作台，用於支擇一基板，·以及 "系、々用於將该已圖案化的光束投影至該基板 的一目標部分之上；其中 -該圖案化陣列包括位於—基板之第—表面上的複數個 主動元件，該基板中與該第一基板相反的第二表面呈 現光學平坦；以及一剛性安裝主體，其具有一光學平 :表面’用和該基板的該第二表面產生黏結。 :请未項6之裝置，其中該剛性主體會透過一能夠校正該 等圖案化陣列之全域傾斜的固定或活動式基座來安裝該 安裝主板。 8. ^求項7之裝置，其中可沿著該剛性安裝主體的中線來 女衣X m性女裝主體’致使於該安裝主體發生熱膨脹或 收縮時，該圖案化構件亦不會發生變形。 9·如請求項6之裝置，其中係利用直接晶結法（ansp⑽州法） 將該基板的該第二表面黏結至該剛性安裝主體的該平坦 表面。 1 〇 ·種為件製造方法，其包括下列步驟： k ί、至少部份被一層輻射敏感材料所覆蓋的基板； -利用一輕射系統提供一輻射投影光束·， -利用一圖案化陣列於該第一投影光束的剖面中賦予某 96080.doc 1249654 種圖案； 將垓已圖案化的輻射投影光束投影至該層輻射敏感材 料的一目標部分之上；以及 等/圖案化陣列安裝至一安裝平板或剛性主體之上， 確保其主動表面維持平坦。 種利用恶光罩式微影系統的器件製造方法，該方法包 括： 照明一具有複數個圖案化陣列的圖案化陣列裝配件， 其中該圖案化陣列裝配件會定義一第一平面； 將该圖案化陣列裝配件中的至少一個圖案化陣列的位 置從該第一平面調整至一第二定位；以及 利用源自該圖案化陣列裝配件的光來對一物件進行曝 光0 JL Z ·如請采項 1 〜w 闽示Γ平 配件中至少一個其它圖案化陣列共平面，而且該第二 位並未與該至少一個其它圖案化陣列共平面。 1 3 ·如明求項i 2之方法，其中該第二定位 Μ.如請求们3之方法，其中該第二定位係平行^一面平 15. 如請求項13之方法，其中該第二定位會與該第一平面 斜成某個角度。 其令該第二定位係和該第—平面 其令可調整該至少—個圖案化陣 16. 如請求項12之方法 彎曲狀。 17·如請求項n之方法 土吵土 7 — $ 的位置以便補償該光於該物件處之聚焦偏離 96080.doc J249654 18·如請求項U之方法，其中 化陣列的位置。 動地調整該至少一個圖案 19·如請求項18之方法，其令可 少一個安^ ▲ 用歿數個活塞來調整該至 1口圖案化陣列的位置。 20·如請求項i!之方法，其 陣列的位置。 、中了手動物至少-個圖案化 其中可利用螺絲來調整該至少 個 21.如請求項2〇之方法 圖案化陣列的位置 如請求項丨丨之方法， 、 1至曰％ β揲光罩式微影系統的 初始設定期間才會實施該方法。 A如凊求項U之方法，其中可定期地實施該方法，用以維 護該無光罩式微影系統。 24·種利用無光罩式微影系統的器件製造方法，其包括： 照明一具有複數個圖案化陣列的圖案化陣列裝配件， 其中β亥圖案化陣列裝配件中的每個圖案化陣列皆具有一 第一位置； 將至少一個圖案化陣列從該第一位置調整至一第二位 置； 經由一光學系統從該圖案化陣列裝配件中來傳送光； 以及 利用該被傳送的光來對一物件進行曝光， 其中該第一位置係與該圖案化陣列裝配件中該等複數 個圖案化陣列共平面，而且該第二位置並未與該圖案化 陣列裝配件共平面。 96080.doc 1249654 25 ·如請求項24之方法，其中該第二位置係平行該第一位置。 26·如請求項24之方法，其中該調整步驟包括傾斜該至少一 個圖案化陣列。 27·如請求項24之方法，其中該調整步驟包括彎曲該至少一 個圖案化陣列。 2 8 · —種利用一於一圖案化陣列裝配件中具有複數個圖案化 陣列的無光罩式微影系統的器件製造方法，該圖案化陣 列裝配件具有一反射表面，該方法包括·· -依fl?、5玄像差來调整該等複數個圖案化陣列中至少其中 一者的位置； •照明該圖案化陣列裝配件； -經由一光學系統來傳送被該圖案化陣列裝配件反射的 光；以及 -利用該光來對一物件進行曝光， -其中该调整步驟會讓該圖案化陣列裝配件的反射表面 偏離一平坦平面。 如請求項28之方法，其中該調整步驟包括： -於該物件的平面處接收曝光資料； /夬疋4等複數個圖案化陣列中該至少其中一者所需要 的校正調整值， 其中該調整值係依照該曝光資料；以及

者以減少該像差。

做衫糸統，其沿著一光路徑包括： 其係被配置成用以產生光； 96080.doc 1249654 :具有複數個圖案化陣列的圖案化陣 複數個圖案化陣列令的每個圖案化陣 一個別的調整器； 列裝配件，該等 列皆會被黏著至 予系統，其係被配置成用以調整該光 31. 32. 33. 34. 35. 36. 37. 38. 豆象平面，其係被配置成用以接收該光， 中每個調整器會於必要時移動—個別的圖案化陣 =用以校正被該物件所接收之光中的光學像差，致 /亥圖案化陣列裝配件的表面偏離—平坦平面。 Γ:ΐ項30之系統’其中該像差係'總聚焦偏差。 °二::項30之系統’其中該調整係一組調整器。 之系統，其中该組調整器會傾斜其個別的圖 業化陣列。 如請求項32之系統 案化陣歹lj。 如請求項32之系統 案化陣列的高度。 如請求項32之系統 其中该組调整器會彎曲其個別的圖 其中該組調整器會改變其個別的圖 其進一步包括： 一控制器，其係被配置成用以控制該等調整器 如明求項36之系統，其中該等調整器係活塞。 如明求項32之系統，其中該等調整器係螺絲。 96080.doc