TWI245778B - Photobase generating agent, and curable composition comprising the same - Google Patents
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- TWI245778B TWI245778B TW090132488A TW90132488A TWI245778B TW I245778 B TWI245778 B TW I245778B TW 090132488 A TW090132488 A TW 090132488A TW 90132488 A TW90132488 A TW 90132488A TW I245778 B TWI245778 B TW I245778B
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Description
1245778 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明為有關藉由150至750nm之光照射而產生鹼之 光引發驗產生劑以及使用該光引發驗產生劑之硬化性也成 物及硬化方法。[光引發驗產生劑一詞,以下有簡稱為光驗 產生劑之情形。] 【先前技術】 現今之光硬化技術之傾向有謀求一種發展,盥以往之 熱=化技術比較’具有較能發揮低溫硬化、製程之縮短化、 紐時間硬化、微細加工等特徵,並能期待在塗佈、光阻方 面之用途。在光硬化方面所採用之主要硬化系統,可大致 分別為自由基硬化及陽離子硬化。在自由基硬化之情形, $以光引發自由基產生劑及(甲基)丙烯酸醋樹脂為主成 伤:而在光照射之際由光引發自由基產生劑將經過解裂或 應等過程而產生自由基’以進行(甲基)丙烯酸酷樹 曰更=之錢’而其频為能達成迅速硬化。在陽離子硬_ "之情形’係由光引發酸產生劑及具有陽離子聚合性之璟 乳樹脂、氧雜環丁烷樹脂、乙_樹脂等而成,而在光昭 引=生劑產生酸以進行陽離子聚合嶋 μ /克’而其4寸徵為硬化時之硬化收縮較低。又,此 寺之先硬化系之特徵為因遮光而可改善貯存穩定期_ 吟然而’自由基硬化系之情形,有低黏接力之問題, :陽離子硬化系之情形,則有因強酸留存於系内之故,如 吏用金屬或無機材質之被黏附體時會引起腐蝕之問題。 313306(修正版) 6 1245778 以往作為轉_用途,係採用如_ (dlcyandiamide)等具有三級胺基之熱潛在性納: 脂、或去細人义、七上 〖生觸媒與裱氧樹 或者、,且&則述熱潛在性觸媒與環氧樹脂 脂具有反應性之祕、職、胺基、 統。由於該系統對無機材質、金屬材質、有 黏附體具有較強的黏接性,且亦且有件里材貝寺之被 半導體材蓋建築材料至電氣•電子材料、 劑時,-般需要i 7 〇 t以上之硬化 …曰在!·生硬化 ,皿度硬化_於㈣兼備有料敎期之優點。 pi刹Ϊί來’為能達成貯存穩定期及低溫硬化性,盛行有 :。* 、’照射以產生鹼性化合物之光引發鹼產生劑之研 九。如此之光引發鹼產生劑一般已知有例如,「涂声、 之紫外線與電子束公式化之化學與技;;一;、水 來田約翰威利及子有限公司出版(1998年),第479至 寻化合物之產生效率偏低,又由於因光照射所 ,性化合物為一級或二級胺之故,鹼性較低以致有 不/、使%氧樹脂充份硬化用之觸媒活性之問題。 曾經有數種有關能因光照射而產生三級胺之化合物之 、:導,可綠日本專利特開昭55·22669號公報所記載之 -酸錢鹽或特開平η_71450號公報所記載之 酮衍生物。 而 在幾酸敍鹽之情形,由於羧酸與三級胺之間之 3]3306(修正版) 7 1245778 結合係離子結合之故,如溶解於環氧硬化性組成物中,則 將進行離解而有貯存穩定期會惡化之問題。又,在i胺基 本乙酮何生物之情形,一般已知雖然因分子内之空間位阻 現象(st⑽hindrance)而使觸媒純化,惟由於在溶解於環 氧硬化性組成物中之情开彡 处、仓—八 乂 W 月形,月匕進仃分子内之自由轉動(he r〇tatlon)之故,有貯存穩定期會惡化之問題。 本毛月係提i、種旎在低溫下之硬化時顯示優異的觸 媒活H I貝丁藏•疋性優異的光引發驗產生劑以及使用該 光鹼產生劑之硬化性組成物及硬化方法者。 【發明内容】 本發明人等為改善上述問題而精心研究之結果,發現 胺基酸亞胺化合物之貯藏穩定性優異,且因光照射而產生 三級胺,結果可在17(TC以下之低溫使硬化性組織物硬化 之事實。胺基醯亞胺化合物能因加熱而產生三級胺之事 貫,冒於特開平10-139748號公報中有記錄,惟因光照射 而產生低溫硬化性及貯藏安定性優異之三級胺之事實,則 並無記载。 、 、 (!)本發明係一種藉由150至75〇nm之光照射而產生鹼 之光引發鹼產生劑,而其特徵為:包含下列一般式⑴或一 般式(Π)所表示之胺基醯亞胺化合物而成之光鹼產生劑。 333306(修正版) (I)1245778 0 R1 II - u
Ar1—C—N—N—R2 CHp—CH—R3
I R4 R1 Ο 〇 R1 R2—N—N—C—Ar2—C—N—N^—R2 (II) CH2——CH——R3 R4 R3——(pH—CH: R4 _ 式中,R1、R2以及R3表示各自獨立之氫原子、碳原 子數1至8之烷基、碳原子數1至8之烷氧基、碳原子數 1至8之亞烷基、碳原子數4至8之環烷基、碳原子數4 至8之環烯基、;ε厌原子數1至6之苯氧燒基、苯基、經給 電子基(electron donative group)及/或吸電子基(e][ectr〇n attractive group)所取代之苯基、苄基、或經給電子基及/ 或吸電子基所取代之〒基⑴表示獨立之碳原子數土】至5 之烧Hi基、碳原子數4至8之環燒基、碳原子數 5之烧氧基或苯基;Arl為以下式(丨) ' 之芳香族基, 式⑴至⑽之任-者所表示 3】3306(修正版) 9 1245778
R19 R20 R25
R21
R16
R18 {7) R22
R24O0r ⑼ R28CX^R27-〇^ (12) % no R29 R32
R33 R26
X7 (14)
R31 X8 ^5) 式中’ R5至R33為各自獨立之氫原子、碳原子數i 至8之烷基、碳原子數1至8之烷氧基、碳原子數〗至^ 之烷硫基、碳原子數1至8之亞烷基、碳原子數4至8 4 環烷基、碳原子數4至8之環烯基、胺基、碳原子數^ 6之烷胺基、碳原子數丨至3之二烷胺基、嗎啉基、巯基 經基、碳原子數1至6之經烧基、鹵原子、石炭原子數1 3 6之醋基、碳原子數1至6之烧幾基、搭基、氛基、三氯 曱基、氰基、硝基、笨基、苯甲醯基、苄基、經給電子| 及/或及包子基所取代之苯基、或經給電子基及/或吸電子 3】3306(修正 版) 10 1245778 基所取代之苄基;X1至X9為久 rn m . Q自獨立之石反原子、氮片子、 所本一— 芍以下式(17至(26)之任一去 所表不之芳香族基, )<仕者
乳原子、硫原子或羰基;Ar2 虱京子 式中’ R34至R45為各自獨立之氫原子、碳原子數! 至8之烧基、碳原子數!至8之垸氧基、碳原子數】至8 之烧硫基、碳原子數1至8之亞燒基、碳原子數4至8之 環烧基、碳原子數4至8之環稀基、月安基、碳原子數!至 6之烷胺基、碳原子數I至3之二烷胺基、嗎啉基、巯基、 羥基、碳原子數1 S 6之㈣基、鹵原子、碳原子數j至 6之S旨基、碳原子數1至6之烷羰基、醛基、氰基、三氟 3] 3306(修正版) 1245778 I:取:基1硝基、苯基、苄基、經給電子基及/或吸電子 L 、她電子基及/或吸電子基所取代之, 代之礼科^原子、碳原子數1至6之烧基所取 代之虱原子、虱原子、硫 獨立為之碳原子 '氮原子二=基二川至/14各自 (2) 本發明亦為含有 内 ^子或叛基。 化合物、及上述⑴所記载之胺 產生劑為必要成分之硬化性組成物。化。物之先引發驗 (3) 再者’本發明亦為含有: 二基之化合物、上述⑴所記載之胺_亞::= 發:產生劑二,及分子内具有2個以上二 α以上之%乳基之化合物持有反應性之官能基之化 為必要成分之硬化性組成物。 土 ° (4) 而,能與分子内具有2個 有4反應性之官能基較佳騎基、魏基上之=化一合= ==胺t之上述_記載μ—_ 氕an 纟务明亦為含有:分子内具有2個以上之里 二:ίΓ ==:有载:胺基酿亞胺― 物為必要成分之硬化性組成物:、2個以上之羥基之化合 ⑹又,本發明係於上述(2)至上述 之硬化性組成物之硬化時,同時進行光/者所记載 射後進行加熱藉以製得硬化物之硬化方法/、口先照 f實施方式】 313306(修正版) 12 !245778 人本卷月中所用之屬於光引發鹼產生劑之胺基醯亞胺化 & ’係以上述一般式(I)或(II)所表示,式中IU、R2以及 可例舉各自獨立之氫原子、碳原子數U 8之㈣、碳 j數1 S 8之絲基、碳原子數】至8之亞统基、碳原 支4至8之環烷基、碳原子數4至8之環烯基、碳原子 文1至6之苯氧烧基、苯基、經給電子基及/或吸電子基所 ^代之苯基' |基、經給電子基及/或吸電子基所取代之节 基等。其中之碳原子數i至8之絲除了直鏈上之院基之 外’尚包含,丙基、異丁基、第三丁基等。此等取代基中, 由合成之簡便性、胺基醮亞胺之溶解性等觀點來看,較佳 =碳原子數! i 8之烧基、碳原子數6至8之環烧基以及 =原子數1至6之苯氧烧基。又,為提高光照射之感度, 較佳為導入苯基、苄基、碳原子數1至3之苯氧烷基。再 方:此等芳香環中,如導入胺基、碳原子數】至6之烷胺基、 碳原子數1至3之二烷胺基、碳原子數!至3之硫代烷基、 =原子數1至6之烷氧基、羥基、碳原子數…之烷基 等給電子基或鹵原子、酸基、碳原子數!至6之烧幾基、 魏基、碳原子數1至6之醋基、氰基、三氣甲基、确基等 吸電子基,即能更高感度化。R4獨立表示碳原子數丨至5 之烷基、羥基、碳原子數4至8之環烷基、碳原子數〗至 5之烷氧基、苯基。 上述一般式(I)中之Arl為一般式(1)至(16)之任一者所 表示之芳香族基, 3] 3306(修正版) 13 1245778
R25
R29
(131 R32
116)
R30
式中’ R5至R33為各自獨立之氫原子、碳原子數1 至8之烷基、碳原子數1至8之烷氧基、碳原子數1至8 之烷硫基、碳原子數1至8之亞烷基、碳原子數4至8之 環烷基、碳原子數4至8之環烯基、胺基、碳原子數}至 6之烷胺基、碳原子數1至3之二烷胺基、嗎啉基、巯基、 羥基、碳原子數1至6之羥烷基、齒原子、碳原子數丨至 6之酯基、碳原子數1至6之烷羰基、醛基、氰基、三氟 甲基、石肖基、笨醯基、苯基、苄基、前述給電子:及/或前 逑吸電子基:取代之苯基、前述給電子基及/或前述吸電子 基所取代之1、基。又,式φ 々上 卜 ^ Λ中X1至λ9為各自獨立之碳原 子、氮原子、氧原子、硫原子或羰基。 313306(修正版) ]4 1245778 為次式(17)至(26)之任一 又,前述一般式(II)中之Ar2 者所表示之芳香族基,
式中,R34至R45為各自獨立之氫原子、碳原子數ι 至8之烷基、碳原子數1至8之烷氧基、碳原子數丨至8 之烷硫基、碳原子數1至8之亞烷基、碳原子數4至8之 環烷基、碳原子數4至8之環烯基、胺基、碳原子數丨至 6之烷胺基、碳原子數1至3之二烷胺基、嗎啉基、巯基、 羥基、碳原子數1至6之羥烷基、鹵原子、碳原子數!至 6之酯基、碳原子數1至6之烷羰基、醛基、氰基、三氟 曱基、氰基、石肖基、苯基、节基、前述給電子基及/或前述 吸電子基所取代之苯基、前述給電子基及/或前述吸電子基 所取代之苄基。又,式中,Xl〇為碳原子、氮原子、碳原 子數1至6之烷基所取代之氮原子、氧原子、硫原子、或 3】3306(修正版) 15 1245778 羰基、而xn至X14為各自獨立之碳原子、氮原子、氧原 子、硫原子或羰基。 胺基醯亞胺化合物之合成,可採用已知之方法。例如, 聚合物科學與工程百科全書、約翰威利及子有限公司出版 0985年,第740頁所記載,可由所對應之竣酸 酉曰和鹵化肼及烷氧化鈉之間之反應或羧酸酯和肼及環氧化 合物之間之反應製得。如考慮合成之簡便性、安全性時, 則特佳為從所對應之羧酸酯和肼及環氧化合物之合成法。 關於合成溫度、合成時間而言,如無所使用之起始物質之 分解等,則並不予限定,惟一般可於〇至1〇(rC2溫度下 授掉30分鐘至7天,即可製得目的之胺基酿亞胺。 本發明所用之分子内具有2個以上之環氧基之化合 物(環氧樹脂)而言,祗要是分子内具有2個以上之環氧基 者貝j並無知別限定’而可使用已知者。 又,本發明所使用之具有環氧基之化合物中,丨分子 中具有2個裱氧基之化合物可例舉一般式(27)中所示之化 合物。在此式中,折線表示亞曱基。 3】3306(修正版) 1245778 p^〇/RV^<l (27) 在此R46為以下所示之2價有機基
H3CAch3 a為2至20之整數 b為0至20之整數
R5I、R52為獨立之氫原子或碳原子數1至12之烷基 h、i為獨立之1至20之整數
17 3] 3306(修正版) 1245778
j為Ο至20之整數 R53為碳原子數1至12之烷基
〇
m、η為獨立之0至5之整數 R54、R55為獨立之烷基、 烷氧基、經取代或未取代 之苯基 〇為1至20之整數
Ο
又,本發明所使用之具有環氧基之化合物中,1分子 中具有3個環氧基之化合物可例舉以下所示之化合物。在 此式中,折線表示亞曱基。 18 313306(修正版) 1245778
R56為氫原子、曱基或乙基 p為0至20之整數
R56為與前述之R56相同 q為0至20之整數
再者,本發明所使用之具有環氧基之化合物之中,1 分子中具有4個環氧基之化合物可例舉以下所示之化合 物。 _ 19 3] 3306(修正版) 1245778
作為本發明所用之具有環氧基之化合物,亦可才采 般式(2 8)所表示之化合物。 …
R59 R60 (28) 一般式(28)中,R57至R60為各自獨立之氫原子之外, =可,舉_原子或一價之基。一價之基可例舉胺基、曱夕氧 羰基等酯基、胺曱醯胺曱基等醯胺基、胺基 :酿基、、甲基、乙基、丙基、丁基、己基、庚基;= ^ 代或未取代之苯基、乙稀基、1-丙稀基、1-丁稀基等 烯基、矽烷基等。 本ϋ明所使用之具有環氧基之化合物之中,分子内包 20 3】3306(修正版) 1245778 ΐ!:至1個環氧基者因聚合物具有適當的交聯密度之故 難“氧基超過5個時’因聚合物之交聯密度過高而 處理,且亦有併發分子内反應之傾向。 木旦料本發明之具有魏基之化合物,可使用具有環氧 :里攸43至1(),_程度之環氧基之化合物。如環氧當量 ,们以下,則不能形成具有環氧基之化合物,又,如較 〇,〇〇〇 士大時,則有反應速度會降低之傾向。又,此時, 之笑取^1刀+巾使用在反覆單位數(S至X),具有分佈 之泰承物(〇hg〇mer) ’貝,J組成物之結晶性降低,而在貯穩定 =:。因而較佳為。<(s至χ) ’更佳為〇 %(s , 取佳為1 $ (s至X)。
3] 3306(修正版) 21 1245778
V V為0至50之整數
w為0至15之整數
如此之分子内具有2個以上之環氧基之化合物有環氧 樹脂,可例舉雙酚Α型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、雙 酚S型環氧樹脂、酚醛清漆型環氧樹脂、曱酚清漆型環氧 22 3] 3306(修正版) 1245778 ㈣曰、雙酚A清漆型環氧樹脂 脂環族環氧樹脂、縮水甘油酸嶋:„脂、 胺型環氧樹脂、乙内酿脲型環氧樹脂甘油基 樹脂、脂肪族鏈狀環 ” η水S文i日型環氧 者或經加氫者。此環氧樹脂可為經齒化 …、他各種核乳化合物比 手甲 等級,而從可任咅嗖宏办拉”之取仔刀子1不同的 .^ 心點接性或反應性等觀點來著„ 為雙齡型環氧樹月旨。 予1·,、占;看’較佳 前述胺基醯亞胺,一妒 上之環氧美之化人%, 為分子内具有2個以 佳為對樹脂)之硬化觸媒’其使用量較 之⑽重量份作成/:上之^基之化合物後氧樹脂) 里切作成為〇.〇1至50重量 重量份。如此量在 更佺為0.1至30 會不足之傾Θ 重里份以下時’則有硬化促進效果 傾向。 重里伤,則有相溶性會降低之 本發明除前述分子内且古 ,i+Htw 内/、有2個以上之環氧基之化合物 基酿亞胺以外’尚可併用… 二::處特有反應性之官能基之化合物。在此盘 反應性之官能基,可採用已知之與環氧樹脂 胺A = 絲、紛式«、—級或二級芳香族 月古女基。考慮三維硬化性時,此等官能基必須在!分子中具 有2個以上。又,可採用曰 "" 取人^ … 抹用趴重!平均分子量1〇,〇〇〇以上之 I3物侧鏈導入有官能基者。 分子内具有2個以上之與分子内具有2個以上之環氧 3] 3306(修正版) 23 1245778 二=化(每氧樹脂)持有反應性之官能基之化合物之使 旦量,對前述環氧樹脂,按官能基之總量/環氧基之細量 〇>5/L5 ^ 1.5/0.5 ? -月匕成為0.8/1.2至ι·2/〇·8之比例之方式。如此比例為 ^1·5以下之情形以及超過1·5/()·5之情形,則未反應之 衣氧基或g絲將多量殘留於硬化物中,而有降低硬化物 之機械特性之傾向。 1本發明中所採用之具有異氰酸酯基之化合物(以後稱 為異亂酸酉旨樹脂」❿纟,祗要是在分子内具有2個以上 之異氰酸酯基則並無特別限定,可使用已知者。如此之化 口物除了對·伸笨基二異氰酸g|、2,4甲笨基二異氰酸醋、 曱本基一異氰酉欠S曰、1,5_萘基二異氰酸g旨、六亞曱基二 ”氰@欠1曰荨所代表之低分子量化合物之外,尚可採用於重 量平均分子量3,000以上之聚合物之側鏈或末端存在有異 氰酸酯基者。 具有4述異氰酸酯基之化合物,通常可與分子内具有 羥基之化合物組合使用之。如此之異氰酸酯樹脂而言,祗 要是在分子内具有2個以上之羥基者則並無特別限定,而 可使用周知者。如此之化合物而言,除乙二醇、丙二醇、 甘油、雙甘油、異戊四醇等低分子量化合物之外,尚可採 用於重量平均分子量3,000以上之聚合物之側鏈或末端存 在有羥基者。 分子内具有2個以上之羥基之化合物之使用量,對前 述異氰酸酯樹脂,按羥基之總量/異氰酸酯基之總量(當量 24 313306(修正版) 1245778 比)較佳為能成為〇·5/1·5至ΐ 5/〇·5之比例之方式,更佳為 月匕成為0.8/1.2至1 ·2/〇·8之比例之方式。如此比例為〇·5/1·5 以下之情形以及超過丨.5/0.5之情形,則未反應之環氧基或 Β月匕基將多量殘留於硬化物中,而有降低硬化物之機械特 性之傾向。 ' 異氰酸酯樹脂和作為具有羥基之化合物之硬化觸媒使 用之胺基酿亞胺化合物之使用量,較佳為對具有異氰酸醋 基之化合物和具有羥基之化合物之總量100重量份作成 5 0重塁伤’更佳為作成〇 1至3 〇重量份。如此量 在0.01重量份以下,則有硬化促進效果不足之傾向,而如 超過50重量份時,則有相溶性降低之傾向。 _本發明之硬化性組成物,可以照射光之高吸收化,高 ,度化為目的,併用增感劑。所使用之增感劑而言,祗: 疋不致對硬化性組成物有壞影響,可採用單一態增感劑、 三態增感劑。例如可適用_、M、料芳香族化合物衍生 ,、咔唑衍生物、二苯曱嗣衍生物、硫雜蒽酮衍生物、薰 草素(C〇umarin)衍生物等。增感劑之使用量,必須參考增、 感d之吸收波長及莫耳吸光係數,惟一般對胺基醯亞胺化 合物1重量份為〇·〇〗至5重量份,特佳為〇〗至2重量份。 如增感劑成為〇·01重量份以下,則光吸收之效率降低,而 士赵過5重1伤,則可能光線不會到達硬化性組成物全體。 —本發明之硬化性組成物,視需要可適當添加偶合劑等 控貼改善劑、調平劑 '有機或無機填充材料等添加劑。 本發明之硬化性組成物可以黏度之增高或薄膜形成性 3] 3306(修正版) 25 1245778 之改善為目的,而、由也 並益4± 、㊄添加各種聚合物。所使用之聚合物 之聚合物例如可用』不/對硬化性有壞影響者。如此 ^ ^ ^ T -m亞胺柄脂、聚醯胺樹脂、雙酚A型 本乳祕脂或雙酚F型笨 主 苯氧樹脂等泛用MI 雙盼A·雙盼?共聚合型 橱月曰類、聚曱基丙烯酸酯樹脂類、聚 丙稀S义樹脂類、平疏 ^ ^ ^ ^ ^树脂類、聚胺基曱酸乙酯樹脂類、 ♦酉日樹脂類、聲7 , '从烯醇縮丁醛樹脂、SBS(苯乙烯-丁二烯· “心日及其壤氧樹脂改性體、SEBS(苯乙稀-乙稀-丁 本乙烯m脂及其改性體等。此等可以單獨或混合2 if吏用之。再者,此等聚合物中可包含樣鍵結 /代基。此等如在所混合之樹脂互相完全相溶,或產 /相分㈣白濁之狀態即很好用。分子量並無特別限 疋准瓜重量平均分子量較佳為5,0〇〇至15〇,〇〇〇 ’特佳 ^ 1^,_至8G,GGG。如此值在5,_以下,則有薄膜形成 '較差之傾向’又如超過15G,_則有與其他成份之相溶 性巧之傾向。使用量較佳為對分子内至少具有2個以上 裒氧基之化合物(環氧樹脂)或異氰酸酯樹脂^⑼重量份 作成20至320重量份。 本發明之硬化性組成物,如在常溫下為液狀時,可以 漿糊狀使用之。室溫(25。〇下為固體時,加熱後使用之外, 亦可使用溶劑使之漿糊化。可使用之溶劑,如對硬化性無 么〜冬且此頒示足夠之溶解性,則並無特別限定,惟較佳 為苇壓下之沸點在50至150°C者。沸點在5〇。(:以下者,室 溫下放置時可能會揮發之故,開放系統下之使用即受限 313306(修正版) 26 1245778 制。又,如沸點在15〇°c以上者,則可能難於去除溶劑。 本發明之硬化性組成物,可作成為薄膜狀使用之。視 需要,亦可將硬化性組成物中添加溶劑等所作成之溶液, ==薄膜、聚對苯二甲酸乙二醇醋薄膜、脫模紙 寺亲U隹性基材上,或使不織布等基材含浸前述溶液並載置 ϋ剝離性基材上’於去除溶劑等後作為薄膜使用之。如以 薄膜之形狀使用時操作處理上更為方便。 本發明之硬化性組成物’可同時進行光照射及加敎, 或先照f後加熱,使之硬化。光照射較佳為15〇至750nm =長範圍之照射光’可使用低麗水銀燈、帽水銀燈、 ===、超高塵水銀燈、氣(Xen°n)燈' 金屬鹵化物燈 使用之八早㈤之照射量硬化之。加熱溫度祇要在所 樹脂)以及與分子内至少具有2二=:= 乳樹脂)持有反應性之官能基之化合物之分解點以下, ==定又惟較佳為3。至2,c之溫度,更佳為5。彳 至士^又’、加熱時間,為充分進行硬化,為】秒鐘 日t,較佳為3 0秒鐘至1小時。 本發明之硬化性組成物,可應用於塗料 =、光阻、塗佈材、各種汽車零件、電氣、電子材;;、: ¥版材料、光學材料、光纖、光纖維用黏接劑、光波導 (_cal WaregUi叫材等,各種各樣之用途。 、 ::是,關於黏接劍而言,除木材、建材、塑 革寻則妾之外,尚可作為各向異性導電黏接劑、銀膏、銀 3306(修正版) 27 1245778 ㈣寺所代表之電路連接 體元件與印刷電路板之連接之=一1吻)等半導 導體元相接_使用之 各向異性導電材等半 性之情形,在太:黏附體本身不具有光穿透 献而能進行j 硬化性組成物,亦在光照射後因加 …此進仃貼合之故,很好用。 [實施例] 惟本發明不侷限
以下,根據實施例具體說明本發明 於實施例。 (實施例1) <胺基醯亞胺之合成1> 將對硝基安息香酸曱醋(2.00g、u毫莫耳)、NN_二甲 基肼(0.66g、U毫莫耳)、苯基縮水甘油驗(1物』毫莫 耳)添加於第三丁醇(15.〇幻中,於抓下攪掉1〇小時後’、 再於室溫(25°C)下㈣48小時結果,生成白色沈殿。_ =殿後’以醋酸乙醋洗淨2次,並使用真空乾燥機乾燥製鲁 得之胺基醯亞胺化合物。收量為3.67g,收率為85%。 將此化合物之1H-NMR(核磁共振)及13C-NMr分別表 不於第1圖(a)及(b),並將FT-IR(傅立葉轉換紅外線光譜 儀)表示於第2圖。又,依TG-DTA(熱重量分析術-差示熱 分析法)測定氧氣氛下之融點及熱分解開始溫度之結果,融 點為147°C、分解開始溫度為20TC。 (實施例2) <胺基醯亞胺之合成2> 313306(修正版) 28 1245778 私對—曱基胺基安息香酸乙酯(2 〇 · %,1⑻毫莫耳)、 N,W曱基肼(6.2g,1⑼毫莫耳)、苯基縮水甘油_(、15.5g、 100毫莫耳)添加於第三丁醇(15〇幻中,於5(rc下攪拌48 小時後,再於室溫下攪拌48小時。使用旋轉蒸發器去 得反應溶液中之第三丁醇後,添加醋酸乙酯⑺“進行再結 晶,製得白色之胺基醯亞胺化合物。收量為5〇g,收率為 12〇/〇。 卞’ 將此化合物之!H-NMR& 13C-NMR分別表示於第3 圖(a)及(b),並將ft_ir表示於第4圖。又,依tg_dta測 疋氧乳氛下之融點及熱分解開始溫度之結果,融點為16〇 °C,分解開始溫度為i71°c。 (實施例3) 將作為分子内至少具有2個以上之環氧基之化合物 (環氧樹脂)之環氧樹脂(DER 736 ;道爾,化學(股)公司製 商品名,環氧當量172)1 .OOg,作為分子内至少具有2個以 上之與分子内至少具有2個以上之環氧基之化合物(環氧 樹月日)持有反應性之官能基之化合物之季戊四醇四(魏基醋 酸酉旨)(東京化成工業(股)公司製,SH(毓基)基當量1〇8,持 有反應性之官能基為蔬基)〇·614g,以及實施例1之胺基酿 亞胺化合物0.016g於室溫下混合,作成為均勻之溶液。將 此溶液按能成為3mg之方式取樣於DSC(差示掃描式熱量 計)之試樣盤上並施行光照射後,測定DSC(升溫速度l〇°c /分鐘)。
光照射係使用飛瓊公司製紫外線照射裝置AEL 1B/M 29 3 ] 3306(修正版) 1245778 (365nm 照度·· 21.5mW/cm2)照射 3J/cm2。 (實施例4) 將胺基醯亞胺化合物換成實施例2之化合物,並將光 照射作成6J/cm2以外,其餘則與實施例3同樣進行Dsc 測定。 (比較例1) 未實施光照射以外,其餘則與實施例3同樣進行DSC 測定。 (比較例2) 未實施光照射以外,其餘則與實施例4同樣進行Dsc 測定。 1表。 將實施例3、4以及比較例丨、2之測定結果列示於第 $ 1表
DSC測定結果
實施例3及4之硬化性組成物,與比 由弟1表可知, 及2相比較下, 且較胺基醯亞 熱峰值溫度。 較下,硬化反應低於20至60°C之溫度進行, 胺化合物之分解溫度為低之溫度顯示最高發 本結果表示,因光照射而胺基醯亞胺化合物 313306(修正版) 30 1245778 產生鹼性化合物,結果能實現低溫硬化之事實。 (實施例5) 將實施例3及4所調配之溶液裝入遮光瓶中,於室溫 下放置3天結果,未觀察到膠質(gel)化等,並經確認貯存 穩定性優異之事實。 (實施例6) 作為具有環氧基之化合物(環氧樹脂),將雙酚A型罈 氧樹脂(愛比哥德EPICOAT 828):(油化謝爾環氧(股)公^ 製商品名)、環氧當量184)50g溶解於甲基乙基曱_"内",作 成固體份40重量%之溶液以使用之。作為聚硫醇,採用季 戊=醇(SH當量50)13.5g。光引發鹼產生劑,採用實施例j 之胺基醯亞胺化合物2.0g。又,作為有機矽烷偶合劑,採 用環氧矽烷化合物(A 8 7 ;(日本優你卡(股)公司製商品 名))1 · 5 g。作為苯氧樹脂,依一般性方法,從雙酚a、^酚 ^1)以及表氣醇製作雙酉分A、F共聚型苯氧樹脂(平均又分 =t〇,000)5〇g,將此樹脂溶解於曱基乙基曱_内,作成刀固 體,40重量%之溶液以使用之。作為導電性粒子,於聚苯 烯為核之粒子表面’設置厚度〇 2 " m之鎳 錄層外側設置厚度0御m之金屬,作成平均粒徑1〇 m、比重2.0之粒子以使用之。 认 :經調配除導電性粒子之外之上述成份之溶液(固體 ::為環氧樹脂,、聚硫醇13.5g、胺基驢亞胺化合物 子二有機料偶合劑^、苯氧樹脂5°g)中’將導電性粒 ° -己分散3體積%,使用塗佈裝置塗佈於厚度以出之氣 313306(修正版) 31 1245778 ㈣曰薄版上’依70 C、10分鐘之熱風乾燥於氟樹脂薄膜上 ^成由厚度25# m之電路用連接用組成物*成之薄膜。 使用由上述製法所得之薄膜狀黏接劑,將具有線寬5〇 _、間距100//m、厚度]8/^之銅電路支之軟性恭 路板(flexible eilxultp】ate; Fpc)、及形成有之氧电 化銦(m>)之薄膜之破璃(厚度】」細,表面電阻则幻), f、15〇C下,以4MPa加熱加麼6〇秒鐘並涵蓋寬2mm進 行連接。此時,預先於IT〇玻璃上在7代下,以〇 5咖 加熱加㈣膜狀電路連接材料之黏接面5秒鐘以進行假· ,後’剝離氟樹脂薄膜’並對由電路連接用組成物而成之 薄膜面’使用具有高麗水銀燈之紫外線照射裝置(牛尾電機 (股)公司製),照射3. 〇J/cm2之紫外線。隨後,盘另一方 之被黏附體之FPC連接,製得連接體。 測定該連接體之鄰接電路間之電阻值之結果’鄰接電 路間之150處電阻值平均為2川,而顯示良好之連接特^ 又’,準照JIS-Z〇237依9〇度剝離法測定該連接體之黏參 接強度並評價之。在此’黏接強度之測定裝置則使用東洋 寶得吾映(股)製添士隆UTM-4(剝離速度50mm/分鐘' 25 C)。如上方式所進行之連接體之黏接強度為,顯 不充伤之夺S接強度)。 (實施例7) 調製由作為異氰酸酿樹脂之六亞甲基二異說酸醋⑽ 東化學公司製)0.672g ’作為具有經基之聚四氫D夫喃(b嫌 日本公司t ’商品名聚四氫咲喃25〇)1〇〇g,作為光引發鹼 3】3306(修正版) 32 1245778 產生劑之實施例1之胺基醯亞胺化合物〇〇16g而成之均勻 之清漆(varmsh)。將此清漆按能成為1〇mg之方式取樣於 DSC之試樣盤上,並使用飛瓊公司製紫外線照射裝置 1B/M(365nm 照度:21.5mW/cni2),施行 3 j/cm2 之光照射。 隨後,使用熱板(11〇^]_)在10(rc下進行1〇分間加熱, 並使之冷卻至室溫之結果,製得低彈性之固形物,並經確 認進行異氰酸酯基與羥基之間之硬化之事實。 [產業上之利用可能性] 本發明由於施行光照射而能在低溫進行分子内至」、且 有2個以上之環氧基之化合物(環氧·)單獨、分=、 少具有2個以上之環氧基之化合物(環氧樹脂)與硬化咧, 以及異氰酸㈣脂與醇之低溫硬化,並可提 ^ 優異之硬化性組成物。 廿疋r生 【圖式簡單說明】 所传之化合物之 所得之化合物之 2所得之化合物之 2所得之化合物之 第1圖:表示由胺基醯亞胺之合成 (a)lH-NMR 及(b)13C-NMR 之光譜圖。 第2圖··表示由胺基酿亞胺之合成 FT-IR之光譜圖。
第3圖··表示由胺基酿亞胺之合成 (a)lH-NMR 及(b)13C-NMR 之光譜圖 Q 弟4圖·表示由胺基酿亞胺之合成 FT-IR之光譜圖。 33
Claims (1)
1245778 十、申請專利範圍: 1. 一種光引發鹼產生劑’係藉由15〇至750龍之光照射 而產生鹼之光引發鹼產生劑,其特徵為··包含下述一 般式(I)或一般式(II)所表示之胺基醯亞胺化合物而 成者: 〇 II R1 AM C—N—N—R2 0H2"—CH—R3 R4 I) 〇 〇 +丨- II II R2—N—N—C—Ar2-C-R3——CH - CH2 R4 R1 - U N—N—R2 I CH2—CH—R3 R4 (Π) 式中,、R2以及R3表示各自獨立之氫原子、 ^子數1至8之烧基、碳原子數1 S 8之烧氧基、 ,原子數1至8之亞烷基、碳原子數4至8之環烷基、 :原ΐ數4i8之環烯基、碳原子數1至6之苯氧: —笨土卞基、經給電子基及/或吸電子基所取代 之苯基或經給電子基及/或吸電子基所取代之苄 =R4各自表示碳原子數1至5之烷基、羥基、碳原 子數4至8 > 了坚丨乂 u A 展少元基、碳原子數1至5之烷氧基或苯 基;Ar 1為以下—M, 式(1)至(16)之任一者所表示之芳香族 3】3306(修正版) 34 1245778
(12) 1至8之烷基、碳原子數1至8之烷氧基、碳原子_ 1至8之烷硫基、碳原子數丨至8之亞烷基、碳原二 數4至8之環烷基、碳原子數4至8之環烯基、碳j 子數1至3之二烧胺基、嗎啉基、魏基、_原子、$ 原子數1至6之酯基、碳原子數1至6之烷羰基、酉: 基、氛基、三氟曱基、硝基、苯基、笨曱醯基、苄基 經給電子基及/或吸電子基所取代之笨基、或經給寫 子基及/或吸電子基所取代之苄基;XI至X9各自獨j 為碳原子、氮原子、氧原子、硫原子或羰基; 35 3] 3306(修正版) 1245778 示之芳香 Ar2為以下式(17)至(26)之任一者所表 族基; 1
式中’ R34至R45各自獨立為氫原子、碳原子數 1至8之烷基、碳原子數1至8之烷氧基、碳原子數 1至8之烷硫基、碳原子數丨至8之亞烷基、碳原子 數4至8之環烷基、碳原子數4至8之環烯基、胺基、 碳原子數1至6之烷胺基、碳原子數丨至3之二烷胺 基、嗎啉基、魏基、經基、碳原子數1至6之羥烧基、 鹵原子、碳原子數1至6之酯基、碳原子數1至6之 烧魏基、醛基、氰基、三氟曱基、硝基、苯基、苄基、 3] 3306(修正版) 36 1245778 經給電子基及/或吸電子基所取代之苯基、或經給電 子基及/或吸電子基所取代之〒基;X10為碳原子、氮 原子、碳原子數1至6之烷基所取代之氮原子、氧原 子、硫原子或羰基;而X11至χ14各自獨立為碳原子、 氮原子、氧原子、硫原子或羰基。 2· —種硬化性組成物,係含有分子内具有2個以上環氧 基之化合物及申請專利範圍第1項之胺基醯亞胺化合 物物之光引發鹼產生劑作為必須成份者,且對於前述 分子内具有2個以上環氧基之化合物丨〇〇重量份而 吕’前述胺基醯亞胺化合物為〇· 〇1至5〇重量份。 3· —種硬化性組成物,係含有分子内具有2個以上環氧 基之化合物及申請專利範圍第1項之胺基醯亞胺化合 物光引發鹼產生劑作為必須成分者,且對於前述分子 内具有2個以上環氧基之化合物丨〇〇重量份而言,前 述胺基醯亞胺化合物為〇·〇1至50重量份,再含有分 子内具有2個以上能對分子内至少具有2個以上環氧 基之化合物持有反應性之官能基之化合物作為必須 成分者,且對於前述分子内具有2個以上環氧基之化 合物而έ ,官能基總量/環氧基總量(當量比)為 〇· 5/1· 5 至 1· 5/0· 5。 4·如申叫專利範圍第3項之硬化性組成物,其中對分子 内具有2個以上之環氧基之化合物持有反應性之功能 基為羧基、巯基、酚式羥基、一級或二級芳香族胺基。 5.種硬化性組成物,係含有分子内具冑2個以上異氮 酸醋基之化合物、申請專利範圍第i項之胺基酿亞胺 313306(修正版) 1245778 化合物光引發鹼產生劑,以及分子内具有2個以上羥 基之=σ物作為必須成份者,且對於前述異氣酸酿樹 月曰而D以^基總I /異氰酸酯基總量(當量比)為 0·5/1·5 至 1.5/0.5 之比例。 6 ·如申請專利範圍第2項 成物,係於同時進行光=任一項之硬化性組 熱以製得硬化物。 熱或光照射後進行加 3]3306(修正版) 38
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