TWI245778B - Photobase generating agent, and curable composition comprising the same - Google Patents

Photobase generating agent, and curable composition comprising the same Download PDF

Info

Publication number
TWI245778B
TWI245778B TW090132488A TW90132488A TWI245778B TW I245778 B TWI245778 B TW I245778B TW 090132488 A TW090132488 A TW 090132488A TW 90132488 A TW90132488 A TW 90132488A TW I245778 B TWI245778 B TW I245778B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
group
carbon atoms
compound
atom
electron
Prior art date
Application number
TW090132488A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeki Katogi
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Application granted granted Critical
Publication of TWI245778B publication Critical patent/TWI245778B/zh

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C243/00Compounds containing chains of nitrogen atoms singly-bound to each other, e.g. hydrazines, triazanes
    • C07C243/40Hydrazines having nitrogen atoms of hydrazine groups being quaternised

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)

Description

1245778 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明為有關藉由150至750nm之光照射而產生鹼之 光引發驗產生劑以及使用該光引發驗產生劑之硬化性也成 物及硬化方法。[光引發驗產生劑一詞,以下有簡稱為光驗 產生劑之情形。] 【先前技術】 現今之光硬化技術之傾向有謀求一種發展,盥以往之 熱=化技術比較’具有較能發揮低溫硬化、製程之縮短化、 紐時間硬化、微細加工等特徵,並能期待在塗佈、光阻方 面之用途。在光硬化方面所採用之主要硬化系統,可大致 分別為自由基硬化及陽離子硬化。在自由基硬化之情形, $以光引發自由基產生劑及(甲基)丙烯酸醋樹脂為主成 伤:而在光照射之際由光引發自由基產生劑將經過解裂或 應等過程而產生自由基’以進行(甲基)丙烯酸酷樹 曰更=之錢’而其频為能達成迅速硬化。在陽離子硬_ "之情形’係由光引發酸產生劑及具有陽離子聚合性之璟 乳樹脂、氧雜環丁烷樹脂、乙_樹脂等而成,而在光昭 引=生劑產生酸以進行陽離子聚合嶋 μ /克’而其4寸徵為硬化時之硬化收縮較低。又,此 寺之先硬化系之特徵為因遮光而可改善貯存穩定期_ 吟然而’自由基硬化系之情形,有低黏接力之問題, :陽離子硬化系之情形,則有因強酸留存於系内之故,如 吏用金屬或無機材質之被黏附體時會引起腐蝕之問題。 313306(修正版) 6 1245778 以往作為轉_用途,係採用如_ (dlcyandiamide)等具有三級胺基之熱潛在性納: 脂、或去細人义、七上 〖生觸媒與裱氧樹 或者、,且&則述熱潛在性觸媒與環氧樹脂 脂具有反應性之祕、職、胺基、 統。由於該系統對無機材質、金屬材質、有 黏附體具有較強的黏接性,且亦且有件里材貝寺之被 半導體材蓋建築材料至電氣•電子材料、 劑時,-般需要i 7 〇 t以上之硬化 …曰在!·生硬化 ,皿度硬化_於㈣兼備有料敎期之優點。 pi刹Ϊί來’為能達成貯存穩定期及低溫硬化性,盛行有 :。* 、’照射以產生鹼性化合物之光引發鹼產生劑之研 九。如此之光引發鹼產生劑一般已知有例如,「涂声、 之紫外線與電子束公式化之化學與技;;一;、水 來田約翰威利及子有限公司出版(1998年),第479至 寻化合物之產生效率偏低,又由於因光照射所 ,性化合物為一級或二級胺之故,鹼性較低以致有 不/、使%氧樹脂充份硬化用之觸媒活性之問題。 曾經有數種有關能因光照射而產生三級胺之化合物之 、:導,可綠日本專利特開昭55·22669號公報所記載之 -酸錢鹽或特開平η_71450號公報所記載之 酮衍生物。 而 在幾酸敍鹽之情形,由於羧酸與三級胺之間之 3]3306(修正版) 7 1245778 結合係離子結合之故,如溶解於環氧硬化性組成物中,則 將進行離解而有貯存穩定期會惡化之問題。又,在i胺基 本乙酮何生物之情形,一般已知雖然因分子内之空間位阻 現象(st⑽hindrance)而使觸媒純化,惟由於在溶解於環 氧硬化性組成物中之情开彡 处、仓—八 乂 W 月形,月匕進仃分子内之自由轉動(he r〇tatlon)之故,有貯存穩定期會惡化之問題。 本毛月係提i、種旎在低溫下之硬化時顯示優異的觸 媒活H I貝丁藏•疋性優異的光引發驗產生劑以及使用該 光鹼產生劑之硬化性組成物及硬化方法者。 【發明内容】 本發明人等為改善上述問題而精心研究之結果,發現 胺基酸亞胺化合物之貯藏穩定性優異,且因光照射而產生 三級胺,結果可在17(TC以下之低溫使硬化性組織物硬化 之事實。胺基醯亞胺化合物能因加熱而產生三級胺之事 貫,冒於特開平10-139748號公報中有記錄,惟因光照射 而產生低溫硬化性及貯藏安定性優異之三級胺之事實,則 並無記载。 、 、 (!)本發明係一種藉由150至75〇nm之光照射而產生鹼 之光引發鹼產生劑,而其特徵為:包含下列一般式⑴或一 般式(Π)所表示之胺基醯亞胺化合物而成之光鹼產生劑。 333306(修正版) (I)1245778 0 R1 II - u
Ar1—C—N—N—R2 CHp—CH—R3
I R4 R1 Ο 〇 R1 R2—N—N—C—Ar2—C—N—N^—R2 (II) CH2——CH——R3 R4 R3——(pH—CH: R4 _ 式中,R1、R2以及R3表示各自獨立之氫原子、碳原 子數1至8之烷基、碳原子數1至8之烷氧基、碳原子數 1至8之亞烷基、碳原子數4至8之環烷基、碳原子數4 至8之環烯基、;ε厌原子數1至6之苯氧燒基、苯基、經給 電子基(electron donative group)及/或吸電子基(e][ectr〇n attractive group)所取代之苯基、苄基、或經給電子基及/ 或吸電子基所取代之〒基⑴表示獨立之碳原子數土】至5 之烧Hi基、碳原子數4至8之環燒基、碳原子數 5之烧氧基或苯基;Arl為以下式(丨) ' 之芳香族基, 式⑴至⑽之任-者所表示 3】3306(修正版) 9 1245778
R19 R20 R25
R21
R16
R18 {7) R22
R24O0r ⑼ R28CX^R27-〇^ (12) % no R29 R32
R33 R26
X7 (14)
R31 X8 ^5) 式中’ R5至R33為各自獨立之氫原子、碳原子數i 至8之烷基、碳原子數1至8之烷氧基、碳原子數〗至^ 之烷硫基、碳原子數1至8之亞烷基、碳原子數4至8 4 環烷基、碳原子數4至8之環烯基、胺基、碳原子數^ 6之烷胺基、碳原子數丨至3之二烷胺基、嗎啉基、巯基 經基、碳原子數1至6之經烧基、鹵原子、石炭原子數1 3 6之醋基、碳原子數1至6之烧幾基、搭基、氛基、三氯 曱基、氰基、硝基、笨基、苯甲醯基、苄基、經給電子| 及/或及包子基所取代之苯基、或經給電子基及/或吸電子 3】3306(修正 版) 10 1245778 基所取代之苄基;X1至X9為久 rn m . Q自獨立之石反原子、氮片子、 所本一— 芍以下式(17至(26)之任一去 所表不之芳香族基, )<仕者
乳原子、硫原子或羰基;Ar2 虱京子 式中’ R34至R45為各自獨立之氫原子、碳原子數! 至8之烧基、碳原子數!至8之垸氧基、碳原子數】至8 之烧硫基、碳原子數1至8之亞燒基、碳原子數4至8之 環烧基、碳原子數4至8之環稀基、月安基、碳原子數!至 6之烷胺基、碳原子數I至3之二烷胺基、嗎啉基、巯基、 羥基、碳原子數1 S 6之㈣基、鹵原子、碳原子數j至 6之S旨基、碳原子數1至6之烷羰基、醛基、氰基、三氟 3] 3306(修正版) 1245778 I:取:基1硝基、苯基、苄基、經給電子基及/或吸電子 L 、她電子基及/或吸電子基所取代之, 代之礼科^原子、碳原子數1至6之烧基所取 代之虱原子、虱原子、硫 獨立為之碳原子 '氮原子二=基二川至/14各自 (2) 本發明亦為含有 内 ^子或叛基。 化合物、及上述⑴所記载之胺 產生劑為必要成分之硬化性組成物。化。物之先引發驗 (3) 再者’本發明亦為含有: 二基之化合物、上述⑴所記載之胺_亞::= 發:產生劑二,及分子内具有2個以上二 α以上之%乳基之化合物持有反應性之官能基之化 為必要成分之硬化性組成物。 土 ° (4) 而,能與分子内具有2個 有4反應性之官能基較佳騎基、魏基上之=化一合= ==胺t之上述_記載μ—_ 氕an 纟务明亦為含有:分子内具有2個以上之里 二:ίΓ ==:有载:胺基酿亞胺― 物為必要成分之硬化性組成物:、2個以上之羥基之化合 ⑹又,本發明係於上述(2)至上述 之硬化性組成物之硬化時,同時進行光/者所记載 射後進行加熱藉以製得硬化物之硬化方法/、口先照 f實施方式】 313306(修正版) 12 !245778 人本卷月中所用之屬於光引發鹼產生劑之胺基醯亞胺化 & ’係以上述一般式(I)或(II)所表示,式中IU、R2以及 可例舉各自獨立之氫原子、碳原子數U 8之㈣、碳 j數1 S 8之絲基、碳原子數】至8之亞统基、碳原 支4至8之環烷基、碳原子數4至8之環烯基、碳原子 文1至6之苯氧烧基、苯基、經給電子基及/或吸電子基所 ^代之苯基' |基、經給電子基及/或吸電子基所取代之节 基等。其中之碳原子數i至8之絲除了直鏈上之院基之 外’尚包含,丙基、異丁基、第三丁基等。此等取代基中, 由合成之簡便性、胺基醮亞胺之溶解性等觀點來看,較佳 =碳原子數! i 8之烧基、碳原子數6至8之環烧基以及 =原子數1至6之苯氧烧基。又,為提高光照射之感度, 較佳為導入苯基、苄基、碳原子數1至3之苯氧烷基。再 方:此等芳香環中,如導入胺基、碳原子數】至6之烷胺基、 碳原子數1至3之二烷胺基、碳原子數!至3之硫代烷基、 =原子數1至6之烷氧基、羥基、碳原子數…之烷基 等給電子基或鹵原子、酸基、碳原子數!至6之烧幾基、 魏基、碳原子數1至6之醋基、氰基、三氣甲基、确基等 吸電子基,即能更高感度化。R4獨立表示碳原子數丨至5 之烷基、羥基、碳原子數4至8之環烷基、碳原子數〗至 5之烷氧基、苯基。 上述一般式(I)中之Arl為一般式(1)至(16)之任一者所 表示之芳香族基, 3] 3306(修正版) 13 1245778
R25
R29
(131 R32
116)
R30
式中’ R5至R33為各自獨立之氫原子、碳原子數1 至8之烷基、碳原子數1至8之烷氧基、碳原子數1至8 之烷硫基、碳原子數1至8之亞烷基、碳原子數4至8之 環烷基、碳原子數4至8之環烯基、胺基、碳原子數}至 6之烷胺基、碳原子數1至3之二烷胺基、嗎啉基、巯基、 羥基、碳原子數1至6之羥烷基、齒原子、碳原子數丨至 6之酯基、碳原子數1至6之烷羰基、醛基、氰基、三氟 甲基、石肖基、笨醯基、苯基、苄基、前述給電子:及/或前 逑吸電子基:取代之苯基、前述給電子基及/或前述吸電子 基所取代之1、基。又,式φ 々上 卜 ^ Λ中X1至λ9為各自獨立之碳原 子、氮原子、氧原子、硫原子或羰基。 313306(修正版) ]4 1245778 為次式(17)至(26)之任一 又,前述一般式(II)中之Ar2 者所表示之芳香族基,
式中,R34至R45為各自獨立之氫原子、碳原子數ι 至8之烷基、碳原子數1至8之烷氧基、碳原子數丨至8 之烷硫基、碳原子數1至8之亞烷基、碳原子數4至8之 環烷基、碳原子數4至8之環烯基、胺基、碳原子數丨至 6之烷胺基、碳原子數1至3之二烷胺基、嗎啉基、巯基、 羥基、碳原子數1至6之羥烷基、鹵原子、碳原子數!至 6之酯基、碳原子數1至6之烷羰基、醛基、氰基、三氟 曱基、氰基、石肖基、苯基、节基、前述給電子基及/或前述 吸電子基所取代之苯基、前述給電子基及/或前述吸電子基 所取代之苄基。又,式中,Xl〇為碳原子、氮原子、碳原 子數1至6之烷基所取代之氮原子、氧原子、硫原子、或 3】3306(修正版) 15 1245778 羰基、而xn至X14為各自獨立之碳原子、氮原子、氧原 子、硫原子或羰基。 胺基醯亞胺化合物之合成,可採用已知之方法。例如, 聚合物科學與工程百科全書、約翰威利及子有限公司出版 0985年,第740頁所記載,可由所對應之竣酸 酉曰和鹵化肼及烷氧化鈉之間之反應或羧酸酯和肼及環氧化 合物之間之反應製得。如考慮合成之簡便性、安全性時, 則特佳為從所對應之羧酸酯和肼及環氧化合物之合成法。 關於合成溫度、合成時間而言,如無所使用之起始物質之 分解等,則並不予限定,惟一般可於〇至1〇(rC2溫度下 授掉30分鐘至7天,即可製得目的之胺基酿亞胺。 本發明所用之分子内具有2個以上之環氧基之化合 物(環氧樹脂)而言,祗要是分子内具有2個以上之環氧基 者貝j並無知別限定’而可使用已知者。 又,本發明所使用之具有環氧基之化合物中,丨分子 中具有2個裱氧基之化合物可例舉一般式(27)中所示之化 合物。在此式中,折線表示亞曱基。 3】3306(修正版) 1245778 p^〇/RV^<l (27) 在此R46為以下所示之2價有機基
H3CAch3 a為2至20之整數 b為0至20之整數
R5I、R52為獨立之氫原子或碳原子數1至12之烷基 h、i為獨立之1至20之整數
17 3] 3306(修正版) 1245778
j為Ο至20之整數 R53為碳原子數1至12之烷基
m、η為獨立之0至5之整數 R54、R55為獨立之烷基、 烷氧基、經取代或未取代 之苯基 〇為1至20之整數
Ο
又,本發明所使用之具有環氧基之化合物中,1分子 中具有3個環氧基之化合物可例舉以下所示之化合物。在 此式中,折線表示亞曱基。 18 313306(修正版) 1245778
R56為氫原子、曱基或乙基 p為0至20之整數
R56為與前述之R56相同 q為0至20之整數
再者,本發明所使用之具有環氧基之化合物之中,1 分子中具有4個環氧基之化合物可例舉以下所示之化合 物。 _ 19 3] 3306(修正版) 1245778
作為本發明所用之具有環氧基之化合物,亦可才采 般式(2 8)所表示之化合物。 …
R59 R60 (28) 一般式(28)中,R57至R60為各自獨立之氫原子之外, =可,舉_原子或一價之基。一價之基可例舉胺基、曱夕氧 羰基等酯基、胺曱醯胺曱基等醯胺基、胺基 :酿基、、甲基、乙基、丙基、丁基、己基、庚基;= ^ 代或未取代之苯基、乙稀基、1-丙稀基、1-丁稀基等 烯基、矽烷基等。 本ϋ明所使用之具有環氧基之化合物之中,分子内包 20 3】3306(修正版) 1245778 ΐ!:至1個環氧基者因聚合物具有適當的交聯密度之故 難“氧基超過5個時’因聚合物之交聯密度過高而 處理,且亦有併發分子内反應之傾向。 木旦料本發明之具有魏基之化合物,可使用具有環氧 :里攸43至1(),_程度之環氧基之化合物。如環氧當量 ,们以下,則不能形成具有環氧基之化合物,又,如較 〇,〇〇〇 士大時,則有反應速度會降低之傾向。又,此時, 之笑取^1刀+巾使用在反覆單位數(S至X),具有分佈 之泰承物(〇hg〇mer) ’貝,J組成物之結晶性降低,而在貯穩定 =:。因而較佳為。<(s至χ) ’更佳為〇 %(s , 取佳為1 $ (s至X)。
3] 3306(修正版) 21 1245778
V V為0至50之整數
w為0至15之整數
如此之分子内具有2個以上之環氧基之化合物有環氧 樹脂,可例舉雙酚Α型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、雙 酚S型環氧樹脂、酚醛清漆型環氧樹脂、曱酚清漆型環氧 22 3] 3306(修正版) 1245778 ㈣曰、雙酚A清漆型環氧樹脂 脂環族環氧樹脂、縮水甘油酸嶋:„脂、 胺型環氧樹脂、乙内酿脲型環氧樹脂甘油基 樹脂、脂肪族鏈狀環 ” η水S文i日型環氧 者或經加氫者。此環氧樹脂可為經齒化 …、他各種核乳化合物比 手甲 等級,而從可任咅嗖宏办拉”之取仔刀子1不同的 .^ 心點接性或反應性等觀點來著„ 為雙齡型環氧樹月旨。 予1·,、占;看’較佳 前述胺基醯亞胺,一妒 上之環氧美之化人%, 為分子内具有2個以 佳為對樹脂)之硬化觸媒’其使用量較 之⑽重量份作成/:上之^基之化合物後氧樹脂) 里切作成為〇.〇1至50重量 重量份。如此量在 更佺為0.1至30 會不足之傾Θ 重里份以下時’則有硬化促進效果 傾向。 重里伤,則有相溶性會降低之 本發明除前述分子内且古 ,i+Htw 内/、有2個以上之環氧基之化合物 基酿亞胺以外’尚可併用… 二::處特有反應性之官能基之化合物。在此盘 反應性之官能基,可採用已知之與環氧樹脂 胺A = 絲、紛式«、—級或二級芳香族 月古女基。考慮三維硬化性時,此等官能基必須在!分子中具 有2個以上。又,可採用曰 "" 取人^ … 抹用趴重!平均分子量1〇,〇〇〇以上之 I3物侧鏈導入有官能基者。 分子内具有2個以上之與分子内具有2個以上之環氧 3] 3306(修正版) 23 1245778 二=化(每氧樹脂)持有反應性之官能基之化合物之使 旦量,對前述環氧樹脂,按官能基之總量/環氧基之細量 〇>5/L5 ^ 1.5/0.5 ? -月匕成為0.8/1.2至ι·2/〇·8之比例之方式。如此比例為 ^1·5以下之情形以及超過1·5/()·5之情形,則未反應之 衣氧基或g絲將多量殘留於硬化物中,而有降低硬化物 之機械特性之傾向。 1本發明中所採用之具有異氰酸酯基之化合物(以後稱 為異亂酸酉旨樹脂」❿纟,祗要是在分子内具有2個以上 之異氰酸酯基則並無特別限定,可使用已知者。如此之化 口物除了對·伸笨基二異氰酸g|、2,4甲笨基二異氰酸醋、 曱本基一異氰酉欠S曰、1,5_萘基二異氰酸g旨、六亞曱基二 ”氰@欠1曰荨所代表之低分子量化合物之外,尚可採用於重 量平均分子量3,000以上之聚合物之側鏈或末端存在有異 氰酸酯基者。 具有4述異氰酸酯基之化合物,通常可與分子内具有 羥基之化合物組合使用之。如此之異氰酸酯樹脂而言,祗 要是在分子内具有2個以上之羥基者則並無特別限定,而 可使用周知者。如此之化合物而言,除乙二醇、丙二醇、 甘油、雙甘油、異戊四醇等低分子量化合物之外,尚可採 用於重量平均分子量3,000以上之聚合物之側鏈或末端存 在有羥基者。 分子内具有2個以上之羥基之化合物之使用量,對前 述異氰酸酯樹脂,按羥基之總量/異氰酸酯基之總量(當量 24 313306(修正版) 1245778 比)較佳為能成為〇·5/1·5至ΐ 5/〇·5之比例之方式,更佳為 月匕成為0.8/1.2至1 ·2/〇·8之比例之方式。如此比例為〇·5/1·5 以下之情形以及超過丨.5/0.5之情形,則未反應之環氧基或 Β月匕基將多量殘留於硬化物中,而有降低硬化物之機械特 性之傾向。 ' 異氰酸酯樹脂和作為具有羥基之化合物之硬化觸媒使 用之胺基酿亞胺化合物之使用量,較佳為對具有異氰酸醋 基之化合物和具有羥基之化合物之總量100重量份作成 5 0重塁伤’更佳為作成〇 1至3 〇重量份。如此量 在0.01重量份以下,則有硬化促進效果不足之傾向,而如 超過50重量份時,則有相溶性降低之傾向。 _本發明之硬化性組成物,可以照射光之高吸收化,高 ,度化為目的,併用增感劑。所使用之增感劑而言,祗: 疋不致對硬化性組成物有壞影響,可採用單一態增感劑、 三態增感劑。例如可適用_、M、料芳香族化合物衍生 ,、咔唑衍生物、二苯曱嗣衍生物、硫雜蒽酮衍生物、薰 草素(C〇umarin)衍生物等。增感劑之使用量,必須參考增、 感d之吸收波長及莫耳吸光係數,惟一般對胺基醯亞胺化 合物1重量份為〇·〇〗至5重量份,特佳為〇〗至2重量份。 如增感劑成為〇·01重量份以下,則光吸收之效率降低,而 士赵過5重1伤,則可能光線不會到達硬化性組成物全體。 —本發明之硬化性組成物,視需要可適當添加偶合劑等 控貼改善劑、調平劑 '有機或無機填充材料等添加劑。 本發明之硬化性組成物可以黏度之增高或薄膜形成性 3] 3306(修正版) 25 1245778 之改善為目的,而、由也 並益4± 、㊄添加各種聚合物。所使用之聚合物 之聚合物例如可用』不/對硬化性有壞影響者。如此 ^ ^ ^ T -m亞胺柄脂、聚醯胺樹脂、雙酚A型 本乳祕脂或雙酚F型笨 主 苯氧樹脂等泛用MI 雙盼A·雙盼?共聚合型 橱月曰類、聚曱基丙烯酸酯樹脂類、聚 丙稀S义樹脂類、平疏 ^ ^ ^ ^ ^树脂類、聚胺基曱酸乙酯樹脂類、 ♦酉日樹脂類、聲7 , '从烯醇縮丁醛樹脂、SBS(苯乙烯-丁二烯· “心日及其壤氧樹脂改性體、SEBS(苯乙稀-乙稀-丁 本乙烯m脂及其改性體等。此等可以單獨或混合2 if吏用之。再者,此等聚合物中可包含樣鍵結 /代基。此等如在所混合之樹脂互相完全相溶,或產 /相分㈣白濁之狀態即很好用。分子量並無特別限 疋准瓜重量平均分子量較佳為5,0〇〇至15〇,〇〇〇 ’特佳 ^ 1^,_至8G,GGG。如此值在5,_以下,則有薄膜形成 '較差之傾向’又如超過15G,_則有與其他成份之相溶 性巧之傾向。使用量較佳為對分子内至少具有2個以上 裒氧基之化合物(環氧樹脂)或異氰酸酯樹脂^⑼重量份 作成20至320重量份。 本發明之硬化性組成物,如在常溫下為液狀時,可以 漿糊狀使用之。室溫(25。〇下為固體時,加熱後使用之外, 亦可使用溶劑使之漿糊化。可使用之溶劑,如對硬化性無 么〜冬且此頒示足夠之溶解性,則並無特別限定,惟較佳 為苇壓下之沸點在50至150°C者。沸點在5〇。(:以下者,室 溫下放置時可能會揮發之故,開放系統下之使用即受限 313306(修正版) 26 1245778 制。又,如沸點在15〇°c以上者,則可能難於去除溶劑。 本發明之硬化性組成物,可作成為薄膜狀使用之。視 需要,亦可將硬化性組成物中添加溶劑等所作成之溶液, ==薄膜、聚對苯二甲酸乙二醇醋薄膜、脫模紙 寺亲U隹性基材上,或使不織布等基材含浸前述溶液並載置 ϋ剝離性基材上’於去除溶劑等後作為薄膜使用之。如以 薄膜之形狀使用時操作處理上更為方便。 本發明之硬化性組成物’可同時進行光照射及加敎, 或先照f後加熱,使之硬化。光照射較佳為15〇至750nm =長範圍之照射光’可使用低麗水銀燈、帽水銀燈、 ===、超高塵水銀燈、氣(Xen°n)燈' 金屬鹵化物燈 使用之八早㈤之照射量硬化之。加熱溫度祇要在所 樹脂)以及與分子内至少具有2二=:= 乳樹脂)持有反應性之官能基之化合物之分解點以下, ==定又惟較佳為3。至2,c之溫度,更佳為5。彳 至士^又’、加熱時間,為充分進行硬化,為】秒鐘 日t,較佳為3 0秒鐘至1小時。 本發明之硬化性組成物,可應用於塗料 =、光阻、塗佈材、各種汽車零件、電氣、電子材;;、: ¥版材料、光學材料、光纖、光纖維用黏接劑、光波導 (_cal WaregUi叫材等,各種各樣之用途。 、 ::是,關於黏接劍而言,除木材、建材、塑 革寻則妾之外,尚可作為各向異性導電黏接劑、銀膏、銀 3306(修正版) 27 1245778 ㈣寺所代表之電路連接 體元件與印刷電路板之連接之=一1吻)等半導 導體元相接_使用之 各向異性導電材等半 性之情形,在太:黏附體本身不具有光穿透 献而能進行j 硬化性組成物,亦在光照射後因加 …此進仃貼合之故,很好用。 [實施例] 惟本發明不侷限
以下,根據實施例具體說明本發明 於實施例。 (實施例1) <胺基醯亞胺之合成1> 將對硝基安息香酸曱醋(2.00g、u毫莫耳)、NN_二甲 基肼(0.66g、U毫莫耳)、苯基縮水甘油驗(1物』毫莫 耳)添加於第三丁醇(15.〇幻中,於抓下攪掉1〇小時後’、 再於室溫(25°C)下㈣48小時結果,生成白色沈殿。_ =殿後’以醋酸乙醋洗淨2次,並使用真空乾燥機乾燥製鲁 得之胺基醯亞胺化合物。收量為3.67g,收率為85%。 將此化合物之1H-NMR(核磁共振)及13C-NMr分別表 不於第1圖(a)及(b),並將FT-IR(傅立葉轉換紅外線光譜 儀)表示於第2圖。又,依TG-DTA(熱重量分析術-差示熱 分析法)測定氧氣氛下之融點及熱分解開始溫度之結果,融 點為147°C、分解開始溫度為20TC。 (實施例2) <胺基醯亞胺之合成2> 313306(修正版) 28 1245778 私對—曱基胺基安息香酸乙酯(2 〇 · %,1⑻毫莫耳)、 N,W曱基肼(6.2g,1⑼毫莫耳)、苯基縮水甘油_(、15.5g、 100毫莫耳)添加於第三丁醇(15〇幻中,於5(rc下攪拌48 小時後,再於室溫下攪拌48小時。使用旋轉蒸發器去 得反應溶液中之第三丁醇後,添加醋酸乙酯⑺“進行再結 晶,製得白色之胺基醯亞胺化合物。收量為5〇g,收率為 12〇/〇。 卞’ 將此化合物之!H-NMR& 13C-NMR分別表示於第3 圖(a)及(b),並將ft_ir表示於第4圖。又,依tg_dta測 疋氧乳氛下之融點及熱分解開始溫度之結果,融點為16〇 °C,分解開始溫度為i71°c。 (實施例3) 將作為分子内至少具有2個以上之環氧基之化合物 (環氧樹脂)之環氧樹脂(DER 736 ;道爾,化學(股)公司製 商品名,環氧當量172)1 .OOg,作為分子内至少具有2個以 上之與分子内至少具有2個以上之環氧基之化合物(環氧 樹月日)持有反應性之官能基之化合物之季戊四醇四(魏基醋 酸酉旨)(東京化成工業(股)公司製,SH(毓基)基當量1〇8,持 有反應性之官能基為蔬基)〇·614g,以及實施例1之胺基酿 亞胺化合物0.016g於室溫下混合,作成為均勻之溶液。將 此溶液按能成為3mg之方式取樣於DSC(差示掃描式熱量 計)之試樣盤上並施行光照射後,測定DSC(升溫速度l〇°c /分鐘)。
光照射係使用飛瓊公司製紫外線照射裝置AEL 1B/M 29 3 ] 3306(修正版) 1245778 (365nm 照度·· 21.5mW/cm2)照射 3J/cm2。 (實施例4) 將胺基醯亞胺化合物換成實施例2之化合物,並將光 照射作成6J/cm2以外,其餘則與實施例3同樣進行Dsc 測定。 (比較例1) 未實施光照射以外,其餘則與實施例3同樣進行DSC 測定。 (比較例2) 未實施光照射以外,其餘則與實施例4同樣進行Dsc 測定。 1表。 將實施例3、4以及比較例丨、2之測定結果列示於第 $ 1表
DSC測定結果
實施例3及4之硬化性組成物,與比 由弟1表可知, 及2相比較下, 且較胺基醯亞 熱峰值溫度。 較下,硬化反應低於20至60°C之溫度進行, 胺化合物之分解溫度為低之溫度顯示最高發 本結果表示,因光照射而胺基醯亞胺化合物 313306(修正版) 30 1245778 產生鹼性化合物,結果能實現低溫硬化之事實。 (實施例5) 將實施例3及4所調配之溶液裝入遮光瓶中,於室溫 下放置3天結果,未觀察到膠質(gel)化等,並經確認貯存 穩定性優異之事實。 (實施例6) 作為具有環氧基之化合物(環氧樹脂),將雙酚A型罈 氧樹脂(愛比哥德EPICOAT 828):(油化謝爾環氧(股)公^ 製商品名)、環氧當量184)50g溶解於甲基乙基曱_"内",作 成固體份40重量%之溶液以使用之。作為聚硫醇,採用季 戊=醇(SH當量50)13.5g。光引發鹼產生劑,採用實施例j 之胺基醯亞胺化合物2.0g。又,作為有機矽烷偶合劑,採 用環氧矽烷化合物(A 8 7 ;(日本優你卡(股)公司製商品 名))1 · 5 g。作為苯氧樹脂,依一般性方法,從雙酚a、^酚 ^1)以及表氣醇製作雙酉分A、F共聚型苯氧樹脂(平均又分 =t〇,000)5〇g,將此樹脂溶解於曱基乙基曱_内,作成刀固 體,40重量%之溶液以使用之。作為導電性粒子,於聚苯 烯為核之粒子表面’設置厚度〇 2 " m之鎳 錄層外側設置厚度0御m之金屬,作成平均粒徑1〇 m、比重2.0之粒子以使用之。 认 :經調配除導電性粒子之外之上述成份之溶液(固體 ::為環氧樹脂,、聚硫醇13.5g、胺基驢亞胺化合物 子二有機料偶合劑^、苯氧樹脂5°g)中’將導電性粒 ° -己分散3體積%,使用塗佈裝置塗佈於厚度以出之氣 313306(修正版) 31 1245778 ㈣曰薄版上’依70 C、10分鐘之熱風乾燥於氟樹脂薄膜上 ^成由厚度25# m之電路用連接用組成物*成之薄膜。 使用由上述製法所得之薄膜狀黏接劑,將具有線寬5〇 _、間距100//m、厚度]8/^之銅電路支之軟性恭 路板(flexible eilxultp】ate; Fpc)、及形成有之氧电 化銦(m>)之薄膜之破璃(厚度】」細,表面電阻则幻), f、15〇C下,以4MPa加熱加麼6〇秒鐘並涵蓋寬2mm進 行連接。此時,預先於IT〇玻璃上在7代下,以〇 5咖 加熱加㈣膜狀電路連接材料之黏接面5秒鐘以進行假· ,後’剝離氟樹脂薄膜’並對由電路連接用組成物而成之 薄膜面’使用具有高麗水銀燈之紫外線照射裝置(牛尾電機 (股)公司製),照射3. 〇J/cm2之紫外線。隨後,盘另一方 之被黏附體之FPC連接,製得連接體。 測定該連接體之鄰接電路間之電阻值之結果’鄰接電 路間之150處電阻值平均為2川,而顯示良好之連接特^ 又’,準照JIS-Z〇237依9〇度剝離法測定該連接體之黏參 接強度並評價之。在此’黏接強度之測定裝置則使用東洋 寶得吾映(股)製添士隆UTM-4(剝離速度50mm/分鐘' 25 C)。如上方式所進行之連接體之黏接強度為,顯 不充伤之夺S接強度)。 (實施例7) 調製由作為異氰酸酿樹脂之六亞甲基二異說酸醋⑽ 東化學公司製)0.672g ’作為具有經基之聚四氫D夫喃(b嫌 日本公司t ’商品名聚四氫咲喃25〇)1〇〇g,作為光引發鹼 3】3306(修正版) 32 1245778 產生劑之實施例1之胺基醯亞胺化合物〇〇16g而成之均勻 之清漆(varmsh)。將此清漆按能成為1〇mg之方式取樣於 DSC之試樣盤上,並使用飛瓊公司製紫外線照射裝置 1B/M(365nm 照度:21.5mW/cni2),施行 3 j/cm2 之光照射。 隨後,使用熱板(11〇^]_)在10(rc下進行1〇分間加熱, 並使之冷卻至室溫之結果,製得低彈性之固形物,並經確 認進行異氰酸酯基與羥基之間之硬化之事實。 [產業上之利用可能性] 本發明由於施行光照射而能在低溫進行分子内至」、且 有2個以上之環氧基之化合物(環氧·)單獨、分=、 少具有2個以上之環氧基之化合物(環氧樹脂)與硬化咧, 以及異氰酸㈣脂與醇之低溫硬化,並可提 ^ 優異之硬化性組成物。 廿疋r生 【圖式簡單說明】 所传之化合物之 所得之化合物之 2所得之化合物之 2所得之化合物之 第1圖:表示由胺基醯亞胺之合成 (a)lH-NMR 及(b)13C-NMR 之光譜圖。 第2圖··表示由胺基酿亞胺之合成 FT-IR之光譜圖。
第3圖··表示由胺基酿亞胺之合成 (a)lH-NMR 及(b)13C-NMR 之光譜圖 Q 弟4圖·表示由胺基酿亞胺之合成 FT-IR之光譜圖。 33

Claims (1)

1245778 十、申請專利範圍: 1. 一種光引發鹼產生劑’係藉由15〇至750龍之光照射 而產生鹼之光引發鹼產生劑,其特徵為··包含下述一 般式(I)或一般式(II)所表示之胺基醯亞胺化合物而 成者: 〇 II R1 AM C—N—N—R2 0H2"—CH—R3 R4 I) 〇 〇 +丨- II II R2—N—N—C—Ar2-C-R3——CH - CH2 R4 R1 - U N—N—R2 I CH2—CH—R3 R4 (Π) 式中,、R2以及R3表示各自獨立之氫原子、 ^子數1至8之烧基、碳原子數1 S 8之烧氧基、 ,原子數1至8之亞烷基、碳原子數4至8之環烷基、 :原ΐ數4i8之環烯基、碳原子數1至6之苯氧: —笨土卞基、經給電子基及/或吸電子基所取代 之苯基或經給電子基及/或吸電子基所取代之苄 =R4各自表示碳原子數1至5之烷基、羥基、碳原 子數4至8 > 了坚丨乂 u A 展少元基、碳原子數1至5之烷氧基或苯 基;Ar 1為以下—M, 式(1)至(16)之任一者所表示之芳香族 3】3306(修正版) 34 1245778
(12) 1至8之烷基、碳原子數1至8之烷氧基、碳原子_ 1至8之烷硫基、碳原子數丨至8之亞烷基、碳原二 數4至8之環烷基、碳原子數4至8之環烯基、碳j 子數1至3之二烧胺基、嗎啉基、魏基、_原子、$ 原子數1至6之酯基、碳原子數1至6之烷羰基、酉: 基、氛基、三氟曱基、硝基、苯基、笨曱醯基、苄基 經給電子基及/或吸電子基所取代之笨基、或經給寫 子基及/或吸電子基所取代之苄基;XI至X9各自獨j 為碳原子、氮原子、氧原子、硫原子或羰基; 35 3] 3306(修正版) 1245778 示之芳香 Ar2為以下式(17)至(26)之任一者所表 族基; 1
式中’ R34至R45各自獨立為氫原子、碳原子數 1至8之烷基、碳原子數1至8之烷氧基、碳原子數 1至8之烷硫基、碳原子數丨至8之亞烷基、碳原子 數4至8之環烷基、碳原子數4至8之環烯基、胺基、 碳原子數1至6之烷胺基、碳原子數丨至3之二烷胺 基、嗎啉基、魏基、經基、碳原子數1至6之羥烧基、 鹵原子、碳原子數1至6之酯基、碳原子數1至6之 烧魏基、醛基、氰基、三氟曱基、硝基、苯基、苄基、 3] 3306(修正版) 36 1245778 經給電子基及/或吸電子基所取代之苯基、或經給電 子基及/或吸電子基所取代之〒基;X10為碳原子、氮 原子、碳原子數1至6之烷基所取代之氮原子、氧原 子、硫原子或羰基;而X11至χ14各自獨立為碳原子、 氮原子、氧原子、硫原子或羰基。 2· —種硬化性組成物,係含有分子内具有2個以上環氧 基之化合物及申請專利範圍第1項之胺基醯亞胺化合 物物之光引發鹼產生劑作為必須成份者,且對於前述 分子内具有2個以上環氧基之化合物丨〇〇重量份而 吕’前述胺基醯亞胺化合物為〇· 〇1至5〇重量份。 3· —種硬化性組成物,係含有分子内具有2個以上環氧 基之化合物及申請專利範圍第1項之胺基醯亞胺化合 物光引發鹼產生劑作為必須成分者,且對於前述分子 内具有2個以上環氧基之化合物丨〇〇重量份而言,前 述胺基醯亞胺化合物為〇·〇1至50重量份,再含有分 子内具有2個以上能對分子内至少具有2個以上環氧 基之化合物持有反應性之官能基之化合物作為必須 成分者,且對於前述分子内具有2個以上環氧基之化 合物而έ ,官能基總量/環氧基總量(當量比)為 〇· 5/1· 5 至 1· 5/0· 5。 4·如申叫專利範圍第3項之硬化性組成物,其中對分子 内具有2個以上之環氧基之化合物持有反應性之功能 基為羧基、巯基、酚式羥基、一級或二級芳香族胺基。 5.種硬化性組成物,係含有分子内具冑2個以上異氮 酸醋基之化合物、申請專利範圍第i項之胺基酿亞胺 313306(修正版) 1245778 化合物光引發鹼產生劑,以及分子内具有2個以上羥 基之=σ物作為必須成份者,且對於前述異氣酸酿樹 月曰而D以^基總I /異氰酸酯基總量(當量比)為 0·5/1·5 至 1.5/0.5 之比例。 6 ·如申請專利範圍第2項 成物,係於同時進行光=任一項之硬化性組 熱以製得硬化物。 熱或光照射後進行加 3]3306(修正版) 38
TW090132488A 2000-12-27 2001-12-27 Photobase generating agent, and curable composition comprising the same TWI245778B (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000398467 2000-12-27
JP2001129582 2001-04-26

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TWI245778B true TWI245778B (en) 2005-12-21

Family

ID=26606884

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW090132488A TWI245778B (en) 2000-12-27 2001-12-27 Photobase generating agent, and curable composition comprising the same

Country Status (6)

Country Link
JP (2) JP3912287B2 (zh)
KR (1) KR100566792B1 (zh)
CN (1) CN1326904C (zh)
AU (1) AU2002225369A1 (zh)
TW (1) TWI245778B (zh)
WO (1) WO2002051905A1 (zh)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6835513B2 (en) 2002-03-28 2004-12-28 Samsung Electronic Co., Ltd. Carbazole based charge transport compounds
KR100641358B1 (ko) 2004-09-23 2006-11-01 삼성전자주식회사 광경화성 수지 조성물을 사용한 잉크젯 프린트 헤드의제조방법
EP2000299A4 (en) 2006-03-24 2009-08-05 Konica Minolta Med & Graphic TRANSPARENT BARRIER SHEET AND METHOD OF PRODUCING SAME
JP5057016B2 (ja) * 2006-06-26 2012-10-24 株式会社スリーボンド 活性エネルギー線の照射により活性化するアミンイミド化合物、それを用いた組成物およびその硬化方法
CN101553549B (zh) * 2006-12-14 2013-02-20 旭化成电子材料株式会社 光产碱剂和光固化性树脂组合物
EP2199313A1 (en) * 2007-12-28 2010-06-23 Mitsui Chemicals, Inc. Latent curing agents, epoxy resin compositions conating the same, sealing materials, and organic el displays
JP5682311B2 (ja) * 2008-12-02 2015-03-11 和光純薬工業株式会社 光塩基発生剤
US8686059B2 (en) 2009-06-17 2014-04-01 Three Bond Co., Ltd. Base and radical generator, composition using same and method for curing same
JP6036703B2 (ja) 2011-12-16 2016-11-30 株式会社スリーボンド 硬化性樹脂組成物
KR102305831B1 (ko) 2013-07-18 2021-09-27 세메다인 가부시키 가이샤 광경화성 조성물, 경화물 및 그의 제조 방법, 그리고 관련 제품 및 그의 제조 방법
KR102330121B1 (ko) 2013-12-13 2021-11-23 세메다인 가부시키 가이샤 접착성을 갖는 광경화성 조성물
JP6811949B2 (ja) * 2016-03-04 2021-01-13 学校法人東京理科大学 光硬化性組成物
CN110382597A (zh) * 2017-05-10 2019-10-25 学校法人东京理科大学 活性能量线硬化型组合物、硬化膜的制造方法及硬化物
KR20200091883A (ko) * 2017-12-12 2020-07-31 갓코호우징 도쿄리카다이가쿠 활성 에너지선 경화형 조성물
WO2020004487A1 (ja) * 2018-06-26 2020-01-02 日東電工株式会社 シーラントシート
JP7440033B2 (ja) 2020-01-10 2024-02-28 株式会社レゾナック 光硬化性樹脂組成物及び接着剤
JP6877791B2 (ja) * 2020-03-09 2021-05-26 学校法人東京理科大学 塩基変換増殖剤
KR20240044519A (ko) * 2021-12-28 2024-04-04 아사히 가세이 가부시키가이샤 에폭시 수지 조성물, 경화물, 밀봉재 및 접착제

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2830953A1 (de) * 1978-07-14 1980-01-24 Bayer Ag Ammoniumsalze von alpha -ketocarbonsaeuren
DE3365773D1 (en) * 1982-02-26 1986-10-09 Ciba Geigy Ag Coloured photo-hardenable composition
DE3577859D1 (de) * 1985-02-14 1990-06-28 Mitsubishi Electric Corp Epoxyharzzusammensetzung.
DE69324942T2 (de) * 1992-02-14 1999-10-07 Shipley Co., Inc. Strahlungsempfindliche Zusammensetzungen und Verfahren
GB9420107D0 (en) * 1994-10-05 1994-11-16 Kemira Coatings Limted Polyurethane composition
JPH10139748A (ja) * 1996-11-08 1998-05-26 Chugoku Marine Paints Ltd 新規なアミンイミド化合物
EP0898202B1 (en) * 1997-08-22 2000-07-19 Ciba SC Holding AG Photogeneration of amines from alpha-aminoacetophenones

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006328427A (ja) 2006-12-07
WO2002051905A8 (fr) 2004-05-13
JPWO2002051905A1 (ja) 2004-04-22
CN1326904C (zh) 2007-07-18
KR100566792B1 (ko) 2006-04-03
JP4555995B2 (ja) 2010-10-06
KR20030077553A (ko) 2003-10-01
CN1531562A (zh) 2004-09-22
JP3912287B2 (ja) 2007-05-09
WO2002051905A1 (fr) 2002-07-04
AU2002225369A1 (en) 2002-07-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI245778B (en) Photobase generating agent, and curable composition comprising the same
KR101552464B1 (ko) 염기 발생제, 감광성 수지 조성물, 당해 감광성 수지 조성물을 포함하는 패턴 형성용 재료, 당해 감광성 수지 조성물을 사용한 패턴 형성 방법 및 물품
KR101114694B1 (ko) 광염기 발생제 및 광경화성 수지조성물
TW201041853A (en) Base generator, photosensitive resin composition, pattern-forming material made of the photosensitive resin composition, method of forming pattern using the photosensitive resin composition, and article
Sangermano et al. Phenolic hyperbranched polymers as additives in cationic photopolymerization of epoxy systems
JP4756350B2 (ja) 感光性樹脂組成物、物品、及びネガ型パターン形成方法
TW200819916A (en) Negative photosensitive polyimide polymer and uses thereof
TW201140242A (en) Negative photosensitive resin composition, method for manufacturing cured relief pattern, and semiconductor device
TWI272265B (en) Amino group containing phenol derivative, polyimide precursor, polyimide polymer, photosensitive polyimide precursor, photosensitive polyimide polymer, and composite material
TW200804450A (en) Epoxy resin curable composition
TW200815325A (en) Amine imide compound to be activated by irradiation of active energy ray, composition using the same, and method for curing the same
JP7224054B2 (ja) 光反応性組成物、反応生成物及び反応生成物の製造方法
TW201031686A (en) Polyamide resin and composition thereof
TWI306867B (en) Flame-retardant epoxy resin and its cured product
WO2014155960A1 (ja) 光塩基発生剤
JP2003212856A (ja) 光塩基発生剤、硬化性組成物及び硬化方法
JP4816176B2 (ja) 感光性樹脂組成物、物品、及びネガ型パターン形成方法
JPWO2018199247A1 (ja) 感光性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法
JP5768348B2 (ja) 熱塩基発生剤、高分子前駆体組成物、当該組成物を用いた物品
TW202415729A (zh) 樹脂組成物、樹脂片材、多層印刷配線板、及半導體裝置
JP2017155113A (ja) 硬化性組成物
WO2021049563A1 (ja) 光塩基発生剤、化合物、光反応性組成物及び反応生成物
Wei et al. UV‐curable powder coatings based on dendritic poly (ether‐amide)
WO2023054288A1 (ja) 光塩基発生剤、化合物、光反応性組成物及び反応生成物
Tasdelen et al. Light-induced reactions of benzoxazines and derivatives

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees