TWI244500B - Clean room wipes for neutralizing caustic chemicals - Google Patents

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Description

1244500 五、發明說明-(1) 本發明 法， 化學 之， 金屬 出物 無 之如 是相 即 接這 貨的 經常 大上 的存 問題 因 ，這 且為 ，除 題。 必 工具 半導 以達到 物質的 本發明 電鍍工 和污染 塵室已 半導體 當嚴格 使是由 些線路 主要來 是比在 很多倍 在會在 〇 此，盡 種需求 了達到 了擦拭 須設計 、電子 體製造 般是關於無塵室擦拭物之製備和使用它們的方 減低或消除擦拭物在經過與常在無塵室發現之 接觸之後而造成擦拭物自燃的可能性。特定言 是關於使用於”無塵室”、半導體製造的工廠、 廠和其他應用和環境中的擦拭物以清除驗性溢 物。 經使用於成長中的各種不同工業製程，特定言 製造的製程，在該製程中對於保持無塵的要求 的。 一點點線頭或灰塵所造成的污染物，其可以銜 並且造成該元件變成有缺陷的5並且成為被退 源。粒子和污染物（即使是最小粒子和污染物） 微電子元件之個別電晶體和二極體的特徵大小 。在半導體製程中的任何該粒子和其他污染物 最終製成之元件造成有關機能和可信度的嚴重 可能保持所有表面都沒有污染物是有其需要的 經常可以藉由擦拭這些表面而部分地達成，並 此目的，已經發展出一些專門的擦拭物。然而 清潔以外，該擦拭物本身不應該助長灰塵的問 和製造無塵室擦拭物如擦拭物、手套、長袍、 元件、濾波器和反應物以避免污染，使用於如 之無塵室與製藥機關的敏感區域必須小心地在
第5頁 1244500 五、發明說明-(2) 其 他 因 素 中 選擇 出 具有如粒 子 發射層 級、 離 子 污染 層 級 吸 附 被 水 侵襲 或 剝ϋ的抗 性 或暴露 於無 塵 材 料， 並 且 不 會 被 殺 生 物 劑侵 襲 或剝餘的 特 性。 無 塵 室 的 嚴格 要 求可藉由 特 殊製備 產品 的 準 備而 符 合 要 求 ， 這 些 產 品包 含 藥劑和擦 拭 物。這 些產 品 是 設計 成 可 以 放 出 稀 鬆 的 粒子 或 離子，同 時 在使用 時保 持 結 構的 完 整 性 〇 其 中 的 一 個例 子 是在Pa 1 e y等人在歐洲 專利0 3 3 6 66 1 A2 所 描 述 的 種擦 拭 物，該藥 劑 或擦拭 物的 其 他 例子 和 製 造 它 們 的 方 法 描述 於Paley等人之美國專利 第5, 271， 995 號 專 利 和B h a 11 a char j e e等人之 美國專利 第5, \ ?27 、8 4 4號專利 :中 J 這 些 揭 示 以引 用 的方式併 入 本文中 〇 所 需 控 制 的污 染 物經常稱 作丨 "微污染物” y 因 為它 包 含 有 小 的 物 理 污 染物 如 微粒物質 大 小介於 細菌 和 病 毒之 間 和 非 常 少 量 的 化 學污 染 物，通常 表示成 百萬 分 之 一或 兆 分 之 — 〇 無 塵 室 的層 級 以污染物 的 大小定 義出 可 接 受的 層 級 ， 無 塵 室 的 層 級如 表1所示。 表1 每 平 方 尺 之 氣體 的 最大粒子 數 大於或 等於 在 無 塵室 所 選 出 的 各 種 不 同 大小 0.1 微 米0 . 2微米 0 . 3微米 0.[ 5微米！ 5.( ]微米 層 級1 35 7. 5 3 1 NA 層 級1 0 350 75 30 10 NA 層 級1 0 0 NA 750 300 100 NA 層 級 1 0 0 0 NA NA NA 1000 7
1244500 五、發明說明-(3) 在使用於積體電路製造、藥劑製造和金屬電鍍操作的無 塵室裡，在正常製造和保持操作下，有許多的情況是必須 將結構上的表面用乾的或飽和的擦拭物以清除粒子、離子 或化學污染物。 如同粒子一樣，於無塵室和金屬之化學溢出物亦是一個 主要的考量，這些化學物質將會釋放化學蒸汽、小滴（粒 子），並且會導致設備、個人和積體電路的腐餘損壞。
在半導體元件的製造過程中，必須使用許多腐蝕性和/ 或反應性的化學物質，常常在化學物質轉移至溶液或自動 化設備時會有化學溢出物，該溢出物亦會在不同槽中夾層 容器的轉換過程中發生，很多衣亦有化學物質溢出於容器 的旁邊，這些溢出物必須加以清除。這些化學物質如果沒 有妥善控制的話，對於個人、設備和半導體元件是非常有 害的。 在金屬電鍍操作過程中，會有腐蝕性且強氧化溶液的溢 出物，這些溶液對個人是有害的，而且也是一種明顯的火 災災害。
通常這些化學溢出物包括有礦物酸、芳香族的溶液、顚] 類、酒精、胺類（NMP)和羥胺類（單乙醇胺、乙二醇胺等 等）。金屬電鍍操作可能含有在不同氧化態的金屬之化學 。因此乾的或水飽和或異丙醇的擦拭物可以使用來清除這 些化學溢出物。 近來一種新型的化學物質在製造1C元件上變得非常重要 ，該型的化學物質包含有羥胺與以各種不同胺類和烷醇胺
第7頁 1244500
I五、發明說明' (4) . I |類混合的羥胺化合物。這些溶液的pH值經常是介於9至 丨 i 11. 5之間，因為羥胺化合物的獨特氧化力，這些化學物已 經證實是非常有效的。該化學物的例子見於美國專利第 · 5, 279, 771 、 5, 381， 807 和5,482, 566 。 當擦拭羥胺時，審慎的演練應該包括在清理前先將擦拭 物中止化學反應於水中，然而，無塵室的個人不可以總是 依賴將這些擦拭物中止化學反應。一個潛在的問題是當這 些化學物被溢出時，並且需要以羥胺擦拭時將會與各種不 同離子和氧氣產生反應而進行自我催化的氧化，亦有可能 會造成擦拭材料和污染物之間的放熱反應，並且導致自燃 ，尤其是從鹼性化學物如含羥骇的調配物。這些反應會產| 生熱能，並且在某些條件下會產生足夠的能量以使得擦拭® 物變成煙燻，並且產生煙和蒸汽。 很多次無塵室的個人沒有將擦拭物充分地中止化學反應 ，以致於發生過自燃。 金屬電鍍溶液也將會具有不同氧化態的化學物質，這些 藥品需要被中和以降低自燃問題的可能性。
本發明的一個課題是要來解決或減輕前述的問題。因此 ，本發明的一個課題是生產無塵室的產品，特別是可以中 和化學溢出物的無塵室擦拭物，特別是那些含有羥胺化合 物的溢出物。尤其是本發明的一個課題是提供可以中和胺 類、羥胺和醇胺的無塵室擦拭物，這些擦拭物的使用並不 會減退無塵室產品的品質。本發明的更進一步的課題是提 供酸飽和的該無塵室產品，這些酸可以中和這些胺類、醇
第8頁 1244500 五、發明說明-(5) ； ·
!胺和羥胺，並且這些產品是相當容易使用的。本發明並不 試圖中和含鹼性的氰化物電鍍溶液，因為如果本發明之擦 拭物欲用於該用途的話，有可能會產生致命的氰化氫氣體 。本發明之前述課題、其他課題和優點將會在往後的描述 中更進一步建立或更加明顯。
本發明之擦拭物具有含有至少一種有機酸的吸收基質， 該酸能夠與化學溢出物反應並中和其鹼性。該吸收基質可 以是使用於無塵室有用的技藝上已知之任何一類，換句話 說，基質在灰塵和線頭產生上具有嚴格的限制，並且能夠 維持在液體中其重量的至少約5 0 %，該吸收基質可以是編 織的、紡織或非紡織的織品。_ 該酸是有機酸，無塵室環境中經常不會暴露於如同在礦 物酸中發現的高濃度離子，較佳的是該酸在27 °C下，具有 解離常數（pKa)大於1 . 2，蒸汽壓少於7仟帕。較佳的是該 酸在室溫下是液體。 單基酸的例子包括有曱酸、乙酸、丙酸、正丁酸、異丁 酸和丁酸。雙基酸的例子包括有抗壞血酸、葡糖酸、顏果 酸、丙二酸、草酸、琥珀酸和酒石酸。三基酸的例子包括 有檸檬酸和掊酸。較佳的酸具有1至7個碳原子，並且每分 子中超過一個羧基。
結晶抑制劑的存在是有力於防止酸結晶的生成，該酸結 晶可能是灰塵的來源。結晶抑制劑包括有溶劑，並且可能 包括有共溶劑，譬如說是界面活性劑、醇類、乙二醇或者 是相關的混合物。較佳的共溶劑具有3至6個碳原子，更佳
第9頁 1244500 五、發明說明-(6) 的是具有3至4個碳原子。
該擦拭物最好儲存在一個空氣幾乎完全緊密的袋子裡， 以使得在處理或儲存過程中該擦拭物不會乾掉或吸收灰塵 。該包裝或袋子可以是係自聚乙烯、聚丙烯、聚丁烯、聚 (4-甲基戊烯-1)、丙烯和乙烯的共聚物、乙烯和乙烯基醋 酸酯的共聚物、乙稀和丙稀酸乙自旨的共聚物和乙稀和丙稀 酸或2-曱基丙烯酸的共聚物之群中選出的，該包裝的厚度 從0 . 5至1 0密爾。
本發明亦包括有清除鹼性化學物質的方法，特別是其中 的污染物是胺類、醇胺和羥胺，該方法包含將化學溢出物 和擦拭物接觸，並且吸乾該溢出物，然後丟棄該擦拭物， 無須在水中將擦拭物清洗或中止反應。 本發明亦包括在無塵室清除鹼性化學物質的方法，該方 法包含將化學溢出物和擦拭物接觸，並且吸乾該溢出物， 然後丟棄該擦拭物，無須在水中將擦拭物清洗或中止反應 ，但較佳的是在封閉的容器中。 圖1顯示的一種示範的液體和氣密袋11 ，在一端包含有 本發明之擦拭物3 1並具有一可關閉的液體和氣體的抵抗封 口 2 1 。
發現無塵室在精準產品的製造、檢查和保持有較廣泛的 使用，基本的是在無塵室中各種不同的操作可以在盡可能 沒有非所欲之小粒子的環境下進行。無塵室只有當各方面 的努力維持必要的密切控制以排除在無塵室中控制環境的 污染之下，才能有效地發揮其功能。該污染通常是由工作
第10頁 1244500 五、發明說明-(7) 者在無塵室中 起嚴格的標準 模式以便於從 在無塵室中 ，該紡織品包 、長統勒：、面 進行操作相關 體夾層的製造 是在無塵室之 ，擦拭物也用 ，並且有可以 面。 在無塵室環 等）不僅重要： 低致癌物、低 和其他強氧化 擦拭物清除羥 無塵室的使用 險。 當暴露於空 多種產生熱能 立即自燃。羥 化的氧化反應 物（pH 9 至11 ) 和帶入無塵室中的物件所產生的，已經建立 ，並且繼續發展對於無塵室以該方式之操作 控制環境中排除非所欲的污染物。 粒子污染物的一個潛在來源是製造的紡織品 括有無塵室的保護性外衣如工作服、排煙機 具、手套和類似物、與在無塵室控制環境下 的被廣泛使用的擦拭物。舉例而言，在半導 中，擦拭物是用來清除溢出物，這些溢出物 控制環境下進行的過程中發生的；除此之外 來擦拭無塵室中各種不同設備和物件的表面 用來擦拭無塵室本身的牆壁和其他内層的表 境中，保持π無塵u環境（低粒子、離子污染 同樣地保持”安全π的無塵室環境（低毒品、 刺激物等）也很重要。在無塵室中使用羥胺 和還原劑會導致自燃的災害，尤其是當使用 胺的溢出物時。所產生的煙將會嚴重地減退 性，並且可能會造成個人和設備實質上的危 氣和在擦拭物中，羥胺化合物會進行一種或 的反應，這些反應會導致含羥胺之廢棄物的 胺化合物的酸鹽不會進行這種自發或自我催 。因此，如果在溢出物中的羥胺或羥胺化合 可以被轉換成它們的酸鹽的話，殘留物將可
第11頁 1244500 I五、發明說明-(8) . 丨以安全地被丟棄。 本發明是一種包含有一種有機酸和一種有益共溶劑的擦 拭物，換言之，即是一種吸收基質。
該吸收基質可以是使用於無塵室有用的技藝上已知之任 何一類，換句話說，基質在灰塵和線頭產生上具有嚴格的 I限制。在無塵室控制環境下所使用的紡織品，特別是擦拭 物不可避免地將會導致引入一些粒子於無塵室環境内。本 發明確保這些粒子的存在量減少並且是相當溫和的。因此 ，由於在無塵室中使用擦拭物所產生的粒子將比較不可能 對於在控制環境中進行的過程造成有害的效應。舉例而言 ，在製造半導體夾層中，如同是製程中的一部份，半導體 夾層是暴露於高溫下，已經知道各種不同之非所欲的粒子 ，特別是那些含有金屬的，會造成有害於半導體電路組態 和操作上的改變，在某些情況下這些污染粒子會造成短路 ，或者是它們可以當作虛假的摻雜物造成有害於半導體功 能的改變。 一般而言，僅含有有機物質的粒子比較不可能造成傷害 ，因為基本上該粒子的有機物質會在該半導體夾層製程中 的高溫燒掉，然而，含有無機物質的粒子如金屬和金屬鹽 ，經常會殘留在夾層中，並且導致有害的效應。
作為與無塵室操作相關連的基質，其較佳材料是合成的 聚合材料與特別是低金屬含量的聚合材料。一種成功使用 於無塵室應用上，並且可能是濕的或與有機酸飽和的基質 ，其包括有編織的、紡織的和非紡織的聚酯類或尼龍，較 1244500 五、發明說明_ (9) . 佳的是從連續的細絲編織而成的。在紐澤西州U p p e r Saddle River 的Texwipe 公司是以ALPHAWIPE 、ALPHAS0RB 、ALPHAL 〇和MIRACLEWIPE的商品名市售此類的擦拭物。 紡織的聚酯類或尼龍紡織品亦可以使用。 另一種的吸收基質材料是旋轉鍵結的聚丙烯，這些紡織 品的纖維隨意地排列，並且藉由熱或化學作用鍵結在一起 。T e X w i p e公司是以P 〇 L Y S A T的商品名市售此類的擦拭物。 另外一種的吸收基質材料是以5 5 %纖維素和4 5 %聚酯類纖維 或1 0 0 %聚酯類以水合糾纏的方式鍵結在一起。一種特別產 品是可以從Texwipe公司買到的TECHNICLOTH。聚胺基甲酸 酯泡沫擦拭物和由瑞龍、a c r y 1 i c、呂宋大麻（如τ e X w i P e 公司賣的M - W I P E )、麻纖維和棉花等等也可以製成可接受 的吸收基質材料。海綿（特別是合成的海綿）可以作為高容 量的擦拭基質。 本發明之擦拭物具有含有至少一種有機酸的吸收基質， 該酸能夠與在化學溢出物中的驗性反應並中和驗性。/般 的無機酸如硝酸、硫酸和鹽酸，其p K值介於】？ ？ 間。 該強酸具有高的中和容量，但是容易導V清於二 衣物和個人的腐蝕。無塵室環境也經常不會暴露於如同在 市售礦物酸發現的高濃度離子。 較佳的酸是有機酸，該酸可以具有化學式R _ ( γ ，其中 a的數目至3 ’Y係由下列含有—c〇〇h、—chcoqh和 -CH0H-C00H的各物組成之群中選出，只有&等於丨時，R可 以是-Η，或者如果a是等於！至3，然後R可以係由下列含有 1244500
丨五、發明說晛（10) . I |脂肪族碳氫化合物或芳香族碳氫化合物的各物組成之群中| !選出。該酸亦可具有化學式 ! 〇 -| ·' II | R-CR-G—OH 卜 , · . ! ； '· Γ
| X
| 其中X 是一0H 、一NHR 、一Η 、- i 素、一C〇2H 、-CH2-C02H 或 -CH0H-C02H，R是係由下列含有-Η、脂肪族碳氫化合物和 |芳香族碳氫化合物的各物組成之群中選出。 I
! 單基酸的例子包括有甲酸、乙酸、丙酸、正丁酸、異丁丨 酸和丁酸。雙基酸的例子包括有抗壞血酸、葡糖酸、蘋果j 酸、丙二酸、草酸、琥珀酸和酒石酸。三基酸的例子包括_ 有檸檬酸和掊酸。 I 較佳的酸在27°C下，具有解離常數（pKa)大於1.2，更佳i ί的是大於3。代表性酸的pKa如表2所顯示的。具有較高pKa丨 ! 的有機酸較不具有腐蝕性，並且在很多情況下，這些有機 > 酸是使用於食品應用上。因此，在它們使用上具有較佳的 . 安全界線。酸溶液的酸性有助於維持包裝擦拭物的有機穩I |定性，因為pH會抑制一些有機體的生長。因為非常低的pH ΐ值會導致人類皮膚的刺激，較佳的濕潤液體的pH值約大於丨 I 2.0。該酸性的層級在消費產品中是經常有的。舉例而言 丨 ，軟性飲料的p Η值約介於2和4之間。 ·
第14頁 1244500 五、發明說明-(11) 表2 用作無塵室擦拭物的酸 pKal pKa2 pKa3 曱酸 乙酸 丙酸 正丁酸 異丁酸 苯甲酸 抗壞血酸 葡糖酸 蘋果酸 丙二酸 草酸 琥珀酸 酒石酸 檸檬酸 掊酸 3 8 11 7 6.8. 較佳的酸具有1至7個碳原子，並且每分子超過一個羧基 ，換言之，每分子有兩個或三個羧基。 高揮發性有機酸的問題是它們會造成無塵室環境的污染 ，較不佳的酸是高濃度的曱酸和乙酸。有機酸的蒸汽壓在 2 7 °C下應該低於7仟帕，較佳的是在2 7 °C下低於1仟帕。 較佳的酸在室溫是在液態的，"在液態π這項目包括在室 溫下為固體的酸，但是在本發明所關心的範圍是液態的酸
第15頁 1244500 五、發明說明-(12) . ，只要該酸能溶於一種溶劑或多種溶劑並使得在室溫下該 溶液是穩定的。然而許多這類的酸在室溫下是固體，較佳 的是該酸能溶成溶液，並且在室溫下是液體。該酸也可以 溶於水中。有機酸在水中或其他溶劑的濃度的變化範圍可 以從約1至約2 5的重量比例。重要的因素是該酸和鹼產物 與任何額外試劑在水溶液中的溶解度。相關的考量是於儲 存時該酸在擦拭物内不會形成結晶，因為當含有擦拭物的 封閉袋子打開時將導致粒子的釋放，該粒子可能污染無塵 室的環境。如檸檬酸、掊酸、丙二酸、酒石酸、草酸等等 的酸如果只有使用水的話，可能會形成結晶。 當水是一較佳的溶劑時，除；Γ水以外的其他溶劑可以作 成有機酸的溶液。或者，水可以和一種共溶劑一起結合使 用，一種結晶抑制劑的存在是有利於抑制酸結晶的生成， 該結晶可能是灰塵的來源。結晶抑制劑可以是一種共溶劑 ，譬如說醇類、乙二醇或其混合物。結晶抑制劑可以是一 種共溶劑係由具有3至6個碳原子的乙二醇或醇類之群中選 出的，更佳的是具有3至4個碳原子。結晶抑制劑也可以包 含界面活性劑，譬如說是非離子、陽離子或陰離子的界面 活性劑。較佳的界面活性劑具有3至6個碳原子。其他溶劑 的例子包括有丙二醇、乙二醇或醇類，較佳的是每分子含 有大約3至6個碳原子。這些共溶劑與水比較，具有非常低 的蒸發速率，譬如在25 °C下，丙二醇的蒸汽壓是0.02仟帕 ，水的蒸汽壓是3. 2仟帕。在該流體中，由於溶劑的蒸發 ，有機酸比較不可能形成結晶。
第16頁 1244500 五、發明說明-(13) -- 當然’該，應該是=學穩定@ ’並且可以溶在酸性溶液 a酸性洛液包含=劑和一種或多種的共溶劑。示範性 的界面活性係由乙二醇和醇類之群中· 必須在很長的儲存期間能與吸收基質材料共存。，〇文 當然沈浸之有機物的量與在溶劑中的酸&共溶劑與加於 性溶液的總量有關，該酸性溶液的量輪流地 决2基：的吸收容量。通常沈浸有機 t*m〇%^8〇〇/o , m一般的胃有^酸溶液佔有基質吸收容量的約10%至約 7。: ϊί:?有機酸溶液佔有基質吸收容量的約2〇%至約 約6° 〇 % :、疋，有機酸溶液佔有基質吸收容量的約3 0 %至 在一些具體實施例中，吸收基質是與酸性溶液大約飽和 你如此可以提供最大的稀釋與中和效果，但是大量地減 舻、f拭物吸收溢出物的容量。在另一具體實施例中，加入 洛液於，收基質的量少於吸收基質的吸收容量。
有利的，’控制在酸溶液中酸的濃度以使得如果擦拭物 後與如經胺飽和，則在擦拭物中的酸的量將足夠與在擦 ^，中至少7 0 %的羥胺結合，並且製成中性的鹽。更有利 $是’控制在酸溶液中酸的濃度以使得如果擦拭物之後 =胺飽和’則在擦拭物中的酸的量將足夠與在擦拭物中 ^ 1 y0% =羥胺結合。在一些具體實施例中，控制在酸溶狀 k的/辰度以使得如果擦拭物之後與羥胺飽和，則在擦拭
第17頁 1244500 五、發明說明*(14) . 物中的酸的量將足夠與在擦拭物中至少120%的羥胺結合。 如此將使得過量的酸會在清潔操作過程中從擦拭物中消失 。決定擦拭物的吸收容量與中和擦拭物後來可能含有所欲 、 部份之羥胺的最終的量及濃度是在一般技藝的能力範圍之 内，也是本揭示的有利之處。 在本發明的另一具體實施例中，控制溶劑和/或共溶劑 、沈浸在擦拭物上的酸溶液的量與在酸溶液中酸的濃度以 使得一旦羥胺或羥胺化合物的酸鹽與擦拭物中的酸溶液結 合時不會形成結晶。 在製造過程中，飽和擦拭物的時間長久可以是任何時間 ，譬如是從約0 . 1小時至約0 . 5小時，較佳的是從約0 . 1小 ^ 時至0. 1 5小時。處理的時間譬如可以藉由在沈浸酸溶液的 酸溶度、加於溶液中擦拭物的量、沈浸步驟的溫度與攪拌 的程度的改變而增長至更久。舉例而言，可能希望以比擦 拭物厚度的外圍更酸的酸溶液沈浸擦拭物厚度的中心，雙 方面都是將個人和/或表面與由於溶劑的蒸發而形成酸結 · 晶的可能性降至最低。 . 界面活性劑（非離子、陰離子和陽離子的）可以包含於這 些調配物中，雖然有機酸溶液的表面張力通常是介於60 -70達因/厘米，但是在特殊的情況下，表面張力需要降 低。 在本發明的另一具體實施例中，加入濃度介於0 . 0 0 1 %至| 0. 1 %的一適當ρ Η指示劑於；酸溶液中，較佳的ρ Η指示劑的顏 色變色範圍是介於pH值5至8。適當的指示劑包括有溴曱酚
第18頁 1244500 五、發明說明-〇5) · 紫、氯酚紅、茜素和酚紅。含有pH指示刻的擦拭物於吸乾 驗性時將會改變顏色，並且如果於擦拭物中的酸量不足以 中和鹼性時’變化的顏色將會保持。 、 該擦拭物最好儲存在一個空氣幾乎完全緊密的袋子裡’ 以使得在處理或儲存過程中該擦拭物不會乾掉或吸收灰^ 。該包裝或袋子可以是係自聚乙烯、聚丙烯、聚丁稀、聚 (4-甲基戊烯-1)、丙烯和乙烯的共聚物、乙烯和乙烯基醋 酸酯的共聚物、乙烯和丙烯酸乙酯的共聚物和乙烯和丙稀 酸或2-曱基丙烯酸的共聚物之群中選出的，該包裝的厚度 從0. 5至1 0密爾。 含酸的擦拭物較佳的是包裝幹液體和氣體緊閉的塑膠袋 或袋子，示範性的液體和氣體緊閉的塑膠袋譬如說是所製 成的透明的聚烯類塑膠袋係自聚乙烯、聚丙烯、聚丁烯、 聚（4-曱基戊稀-1)、丙烯和乙烯的共聚物、乙烯和乙烯基 醋酸酯的共聚物、乙烯和丙烯酸乙酯的共聚物和乙烯和丙 烯酸或2-甲基丙烯酸的共聚物之群中選出的，一般聚乙烯 的厚度從約〇 · 5至約1 0密爾，較佳的是從約1至約5密爾。
可能使用由聚乙烯製成，厚度從約0.5至約10密爾的食 品儲存袋，並且較佳的是從約1至約5密爾，此外其特徵為 在袋子的一端或邊緣有一封閉、鎖住或關閉的結構。圖i 顯示一個示範性的液體和氣密袋1 1，其具有一個含有擦拭 物3 1的可關閉的液體和空氣阻性膠2 1，根據本發明，^得 的包裝包含有擦拭物31。換言之’擦拭物31具有一個吸 基質該基質包含有（i)有機酸和（ii)為了有機酸而加入的
第19頁 1244500 五、發明說畈（16) · 結晶抑制劑。該酸是之前所述之有機酸。用作抑制酸結晶 形成之結晶抑制劑可以是一種界面活性劑和擦拭物3 1的吸 收基質，該吸收基質係從編織的、紡織的與非紡織的紡織 品之群中選出者。 一般而言，本發明包括一種藉由污染物與吸收擦拭物的 接觸而能從環境中去污染的方法，其中擦拭物是一種包含 能夠與污染物反應的吸收基質形式。 更特別的是，本發明亦包含一種清除驗性材料的方法。 可被中和的鹼性材料可以是pH值大於約8的任何材料，並 且包括有特定的胺類、醇胺和羥胺化合物，對於羥胺化合 物形成酸鹽，這是尤其重要的_。這是因為羥胺化合物的酸 鹽不會進行自發或自我催化的氧化反應。被轉換成酸鹽的 羥胺或羥胺化合物pH 9至11可以被安全地丟棄。該方法包 括將溢出之鹼性材料（即是羥胺或羥胺化合物）與擦拭物接 觸而吸乾溢出物，然後將擦拭物丟棄，毋需在水中將擦拭 物洗滌或中止化學反應。 尤其特別的是，本發明包含一種在無塵室中清除鹼性或 腐#性的化學物質。無塵室環境通常指的是一種具有在每 立方尺空氣中少於100個大於0.5微米粒子與少於300個大 於0 . 3微米粒子之特徵的環境。本發明之擦拭物具有含一 種有機酸的吸收基質，該方法包括將化學溢出物與擦拭物 接觸而吸乾溢出物，然後將該擦拭物丟棄，毋需在水中將 擦拭物洗滌或中止化學反應。 另一方面，本發明是藉由以一種適當酸沈浸一種適當基
第20頁 1244500 丨五、發明說明_ (17) . 丨質材料而製備擦拭物的一種方法，本發明之擦拭物是含有 | 一種有機酸的吸收基質。具有足夠吸收能力之無塵室擦拭 丨物可以用有機酸加以沈浸，吸收基質係從編織的、紡織的 I和非纺織的纺織品之群中選出者，車父佳的有機酸在正常室 ;溫條件下是液態，在27°C下其蒸汽壓少於7仟帕。π在液 I態”這項目包括在室溫下為固體的酸，但是在本發明所關 I心的範圍是液態的酸，只要該酸能溶於一種溶劑或多種溶 I劑。
| 本揭示之中和無塵室擦拭物產品提供在無塵室驗性化學 溢出物的中和，驗性化學物可以是pH值大於8的任何化學 物質，本發明更特定的是胺類_、醇胺類和羥胺化合物。 較佳的有機酸可以是（單、雙或三官能基的）碳原子總數 介於1至7，最常的有機酸是單基酸，係從曱酸、乙酸、丙 酸、正丁酸、異丁酸和丁酸。 | 另一方面，本發明是提供從描述於表1的每一個無塵室 環境移除污染物的方法，該環境的特徵是在每立方尺空氣 中少於1 00個大於0. 5微米粒子與少於3 0 0個大於0. 3微米粒 |子。根據本發明之去污染方法，污染物是與吸收擦拭物接 i觸，其中擦拭物是一種包含能夠與污染物反應的吸收基質 丨形式。
! 另一方面，本發明是提供清除從化學機械磨亮工具的硝 !酸鐵污點，這些污點是當氧化物、硝酸鐵使用於半導體工 業的鎢磨亮中而形成的。這些氧化物的一部份會濺灑在磨 亮的設備上，並且將會乾燥而成硝酸鐵、三氧化二鐵和氫
第21頁 1244500 五、發明說明_ (18) 氧化鐵的化合物，並且將會包含泥漿粒子。在某些期間是 有必要將這些污點移除以使得這些污染物不會導致後來其 他磨亮炎層得損壞而干擾磨亮過程。 另一方面，本發明是包含擦拭物的裝備，該擦拭物包含 一種有機酸與一個裝填一額外有機酸的喷霧瓶，在噴霧瓶 的有機酸不需要和擦拭物内的酸溶液一樣。該酸溶液從喷 霧瓶分散出來，對於清除化學機械磨光工具、滾筒與其他 大的或複雜的表面結構是特別有用的。
當羥胺類化合物之溢出物發生時，如上所述之酸沈浸擦 拭物從封閉的袋子移除，並且從溢出物擦過直至擦拭物變 成飽和。額外的擦拭物可以用來移除鹼性的羥胺化學物， 該擦拭物必須丟棄於適當的廢液容器中，中和過後的殘留 物將不易進行自燃。 下列的實例是用來闡述說明本發明範疇内對於製備具有 有機酸之擦拭物的一些方法。當然，它們不會以任何方式 而成為本發明的限制，相對於本發明可以作許多的改變和 修飾，這些改變和修飾包括有酸、溶劑與可能之界面活性 劑的選擇、比例的範圍、時間和操作溫度和其相關物。
實例1 一用含有2 5部份的丙酸和7 5部份的水之溶液以部 份飽和一個無塵室標準的吸收擦拭物，讓該擦拭物浸溼1 0 分鐘後，然後從溶液中移徐，並且讓其排水，但是不可以 變乾，然後封閉於袋子儲存起來。 實例2 —用含有2 0部份的檸檬酸、1 0部份的丙二醇和7 0 部份的水之溶液以飽和一個無塵室標準的吸收擦拭物，讓
第22頁 1244500 丨五、發明說明（19) . |該擦拭物浸溼10至15分鐘後，然後從溶液中移除，並且讓 |其排水，然後封閉於袋子儲存起來，如圖1所示。 | ! 實例3 —用含有2部份的乙酸、1 8部份的檸檬酸、5部份 l·· I ! 的丙二酸、5部份的丙二醇和7 0部份的水之溶液以飽和一 I . 1 I個無塵室標準的吸收擦拭物，該擦拭物如之前的處理方式 | 處理。 實例4 —用含有9 0部份的大約9 2 %乳酸水溶液和1 0部份的 丙二醇以飽和一個無塵室擦拭物，該擦拭物如之前的處理 丨方式處理。 實例5 —用檸檬酸將衛生紙弄溼，然後將溼的衛生紙擦 拭含有羥胺、醇胺和苯二酚的清潔液E K C 2 6 5，該清潔液 t EKC 265 可以在力口州 Heyward 的 EKC Technology Inc·買到 。經過中和熱消散之後，沒有偵測到二級的自我氧化熱。 !因為具有活性的成份是在酸性形式下，因此溶液的深紅色 大大地減低。 這些擦拭物的每一個都是用來吸乾羥胺化合物的溢出物 。沒有觀察到自我氧化的證據。 然而本發明已經描述相關特定的較佳具體實施例與實例 | ，這些具體實施例與實例並不會限制本發明之範疇，如所 附之定義的專利申請範圍。
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Claims (1)

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號 90116873 β彡年ί。月 餐正 一六、纩讀 1 . 一種酸沈 一種吸收 品所組成之群 性污染物；其 有至少 劑； 其 且其中 2 ·如 含溶劑 3 ·如 水〇 浸之擦 基質， 中選出 中該吸 種有機酸溶液 一種有機酸及 中有機酸及有 該有機酸溶液 申請專利範圍 拭物，其包含有： 係從編織的、紡織的和非紡織的紡織 者，且係用於從無塵室環境中移除鹼 收基質具有吸收容量；和 ，其係沈浸在吸收基質上，該溶液含 含有至少一種溶劑之有機酸結晶抑制 機酸結晶抑制劑在室溫下形成液體， 擁有較吸收基質為低之吸收容量。 第1項之擦拭物，其中結晶抑制劑包 申請專利範圍第2項之擦拭物，其中該溶劑包括 Η 容 4 ·如 至少一 5 .如 有檸檬 6 .如 抗壞血 石酸所 7 .如 包括水 8 ·如 二醇具 其中該有機酸包括 其中該有機酸包含 申請專利範圍第2項之擦拭物 種雙基酸或三基酸。 申請專利範圍第4項之擦拭物 酸、掊酸或其混合物。 申請專利範圍第4項之擦拭物，其中該有機酸係自 酸、葡糖酸、蘋果酸、丙二酸、草酸、琥珀酸和酒 組成之群中選出者。 申請專利範圍第1項之擦拭物’其中該結晶抑制劑 和醇類、水和乙二醇或其混合物。 申請專利範圍第7項之擦拭物，其中該醇類和/或乙 有3至6個碳原子。
O:\72\72463-931021.ptc 第25頁 1244500 _案號90116873 7汐年月 日 修正_^ 六、申請專利範圍 9 .如申請專利範圍第8項之擦拭物，其中該醇類和/或乙 二醇具有3至4個碳原子。 1 0 .如申請專利範圍第1項之擦拭物，其中該有機酸在 2 7 °C下具有大於1 . 2之解離常數，及低於7仟帕之蒸汽壓。 1 1 .如申請專利範圍第1項之擦拭物，其中至少有一種有 機酸在2 7 °C下具有大於3之解離常數，及低於1仟帕之蒸汽 壓。 1 2 .如申請專利範圍第1項之擦拭物，其中有機酸和結晶 抑制劑的體積是吸收基質之吸收容量的1 0 %至7 0 %。 1 3 .如申請專利範圍第1項之擦拭物，其中有機酸和結晶 抑制劑的重量是基質重量的1 0 %至8 0 %。 1 4.如申請專利範圍第1項之擦拭物，其中有機酸和結晶 抑制劑的重量是基質重量的5 0 %至7 0 %。 1 5 .如申請專利範圍第1項之擦拭物，其中有機酸的量是 足夠中和羥胺量的至少7 0 %，該羥胺的體積等於酸沈浸之 吸收基質的吸收容量。 1 6 .如申請專利範圍第1項之擦拭物，其中有機酸的量是 足夠中和羥胺量的至少1 0 0 %，該羥胺的體積等於酸沈浸之 吸收基質的吸收容量。 1 7.如申請專利範圍第1項之擦拭物，其中有機酸的量是 足夠中和羥胺量的至少1 2 0 %，羥胺的體積等於酸沈浸之吸 收基質的吸收容量。 1 8 .如申請專利範圍第1項之擦拭物，其中有機酸是在結 晶抑制劑的溶液中，並且在溶液中之有機酸濃度是1重量％
O:\72\72463-931021.ptc 第26頁 1244500 _案號90116873 年月Ύ'日 修正_ 六、申請專利範圍 至2 5重量％。 1 9 .如申請專利範圍第1項之擦拭物，其中有機酸與有機 酸結晶抑制劑溶液的存在量是基質的吸收容量的1 0 %至 8 0% ° 2 0 .如申請專利範圍第1項之擦拭物，其中有機酸與有機 酸結晶抑制劑溶液的存在量是基質的吸收容量的2 0 %至 70%。 2 1 .如申請專利範圍第1項之擦拭物，其中有機酸與有機 酸結晶抑制劑的存在量是基質的吸收容量的3 0 %至6 0 % ，並且有機酸的量是足夠中和羥胺量的至少1 0 0 %，該羥胺 的體積等於酸沈浸之吸收基質的吸收容量。 2 2 .如申請專利範圍第1項之擦拭物，尚包括pH指示劑。 2 3 .如申請專利範圍第1項之擦拭物，尚包括一可封閉的 氣密塑膠袋，其中在封閉之袋中裝有使用前的酸沈浸擦拭 物。 2 4.如申請專利範圍第23項之擦拭物，其中該氣密袋包含 自聚乙烯、聚丙烯、聚丁烯、聚（4-曱基戊烯-1)、丙烯和 乙稀的共聚物、乙稀和乙稀基醋酸酯的共聚物、乙稀和丙 烯酸乙酯的共聚物和乙烯和丙烯酸或2 -甲基丙烯酸的共聚 物所組成之群中選出的聚烯類，並且其中該聚烯類的厚度 是0. 5至1 0密爾。 2 5 . —種清除無塵室中鹼性溢出物的方法，包括： 將溢出之鹼性材料與如申請專利範圍第1項之酸沈浸 之擦拭物接觸，該擦拭物的特徵是由編織的、紡織的和非
O:\72\72463-931021.ptc 第27頁 1244500 _案號90116873 ^々年㈨月 日 修正_^ 六、申請專利範圍 紡織的紡織品組成的吸收基質，其中該吸收基質具有吸收 容量，並且有機酸溶液的量少於該吸收基質的吸收容量； 將該擦拭物擦過鹼性材料以使得擦拭物吸乾至少一部 份的驗性材料，和 丟棄該擦拭物。 2 6 .如申請專利範圍第2 5項之方法，其中該鹼性材料係自 胺類、醇胺、羥胺與其混合物所組成之群中選出者。 2 7 . —種製造酸沈浸擦拭產品的方法，其包括下列步驟： 提供一可以在無塵室使用的擦拭物； 將該擦拭物與含有有機酸與有機酸結晶抑制劑之液體 接觸一段事先選定的時間；和 將該擦拭物封閉於氣密袋中。 2 8.如申請專利範圍第2 7項之方法，其中該有機酸在2 7 t 下具有大於3之解離常數，及低於1仟帕之蒸汽壓。 2 9 .如申請專利範圍第2 7項之方法，其中該結晶抑制劑包 括水和醇類、水和乙二醇，或其混合物。 3 0 . —種由化學機械磨亮工具清除确酸鐵污點的方法，包 括： 將污點以有機酸之液體溶液浸溼； 將浸溼過的污點與如申請專利範圍第1項之酸沈浸之 擦拭物接觸，該擦拭物包含吸收基質，該吸收基質係自編 織的、紡織的和非紡織的紡織品所組成之群中選出者，其 中譎吸收基質具有吸收容量，並且有機酸溶液的量少於吸 收基質的吸收容量；和
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WO (1) WO2002004590A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10060059B2 (en) 2012-01-19 2018-08-28 Illinois Tool Works, Inc. Cross-contamination prevention wipe

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6627587B2 (en) * 2001-04-19 2003-09-30 Esc Inc. Cleaning compositions
EP1546444A4 (en) * 2002-09-06 2007-04-18 Polymer Group Inc NON-WOVEN FABRIC WITH ACID WASH
US7282349B2 (en) * 2003-12-16 2007-10-16 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Solvatochromatic bacterial detection
GB0416257D0 (en) * 2004-07-21 2004-08-25 Fenland Laundries Ltd Cleaning system
US20060293205A1 (en) * 2005-06-27 2006-12-28 Jessica Chung Cleaning substrate with a visual cue
US20070010153A1 (en) * 2005-07-11 2007-01-11 Shaffer Lori A Cleanroom wiper
US20070010148A1 (en) * 2005-07-11 2007-01-11 Shaffer Lori A Cleanroom wiper
WO2007050500A2 (en) * 2005-10-24 2007-05-03 Aculon, Inc. Chemical wipes
US8388992B2 (en) 2006-03-28 2013-03-05 Georgia-Pacific Consumer Products Lp Anti-microbial hand towel with time-delay chromatic transfer indicator and absorbency rate delay
US7763442B2 (en) * 2006-08-31 2010-07-27 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for detecting candida on skin
US7531319B2 (en) * 2006-08-31 2009-05-12 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Array for rapid detection of a microorganism
US8133403B2 (en) * 2007-07-31 2012-03-13 Behr Process Corporation System and method for controlling the application of acid etchers or cleaners by means of color-changing dye
US7780795B1 (en) 2009-12-08 2010-08-24 Universal Beauty, Inc. Adhesive removal indicator system and method of use
ITMO20110163A1 (it) * 2011-06-28 2012-12-29 Edk S R L Materiale impregnato per decapaggio o de-ossidazione dei metalli e relativo metodo
GB201116305D0 (en) 2011-09-21 2011-11-02 Df & G Ltd Composition
JP2013099417A (ja) * 2011-11-08 2013-05-23 Eiichi Kosugi 床面清掃用の防護体及びその製造方法
GB201305217D0 (en) * 2013-03-21 2013-05-01 For Your Diamonds Only Ltd Cleaning method
CN110093781B (zh) * 2019-05-22 2022-02-22 无锡风鹏新材料科技有限公司 一种环保除尘粘性擦布及其制备方法
GR1010145B (el) * 2020-10-23 2022-01-11 Anel E.E. Παντελακης & Σια Ε.Ε., Ταινιες καθαρισμου επιφανειων με οξαλικο οξυ και γλυκερινη

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4105576A (en) * 1977-02-04 1978-08-08 J. T. Baker Chemical Company Spill control composition and use thereof
NO811717L (no) * 1980-05-22 1981-11-23 Gubela Hans Erich Syntetisk kjemikalieabsorbsjonsmiddel.
US4975217A (en) * 1981-07-20 1990-12-04 Kimberly-Clark Corporation Virucidal composition, the method of use and the product therefor
CA1274771A (en) * 1986-04-23 1990-10-02 Michael P. Bouchette Antimicrobially active wet wiper
US4781974A (en) * 1986-04-23 1988-11-01 James River Corporation Antimicrobially active wet wiper
US4732797A (en) * 1987-02-27 1988-03-22 James River Corporation Wet wiper natural acid preservation system
FR2623993B1 (fr) * 1987-12-04 1991-06-07 Reckitt Colman Sa Serviette impregnee jetable pour le nettoyage ou l'entretien de toute surface
CA1328961C (en) 1988-04-08 1994-05-03 Steven J. Paley Wipers for cleanroom use and method
US5141803A (en) * 1988-06-29 1992-08-25 Sterling Drug, Inc. Nonwoven wipe impregnating composition
US5271995A (en) 1990-02-23 1993-12-21 The Texwipe Company Particulate contamination control in cleanrooms
US5279771A (en) 1990-11-05 1994-01-18 Ekc Technology, Inc. Stripping compositions comprising hydroxylamine and alkanolamine
US5342543A (en) * 1991-05-28 1994-08-30 Data Medical Associates, Inc. Neutralizing absorbent for acids and bases
NZ240355A (en) * 1991-06-04 1994-09-27 Ecolab Inc Sanitising composition comprising sorbic and benzoic acids
US5227844A (en) 1991-10-03 1993-07-13 The Texwipe Company Cleaning sheet and method for cleaning paper path feed roller surfaces
JPH05154077A (ja) * 1991-12-02 1993-06-22 Asahi Chem Ind Co Ltd ｐＨ指示薬付きワイパー
US5562963A (en) * 1994-08-31 1996-10-08 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Absorbent pads for containment, neutralization, and clean-up of environmental spills containing chemically-reactive agents
US6197315B1 (en) * 1997-06-04 2001-03-06 Procter & Gamble Company Antimicrobial wipes which provide improved residual benefit versus gram negative bacteria
AU7604498A (en) * 1997-06-04 1998-12-21 Procter & Gamble Company, The Mild, antimicrobial wipes
EP0966883A1 (en) * 1998-06-26 1999-12-29 The Procter & Gamble Company The use of an anti-microbial compound for disinfection

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10060059B2 (en) 2012-01-19 2018-08-28 Illinois Tool Works, Inc. Cross-contamination prevention wipe
TWI650242B (zh) * 2012-01-19 2019-02-11 伊利諾工具工程公司 防止交叉污染的擦拭件

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