TWI243070B - Oxygen enhanced CDA modification to a CDO integrated scrubber - Google Patents

Oxygen enhanced CDA modification to a CDO integrated scrubber Download PDF

Info

Publication number
TWI243070B
TWI243070B TW091105164A TW91105164A TWI243070B TW I243070 B TWI243070 B TW I243070B TW 091105164 A TW091105164 A TW 091105164A TW 91105164 A TW91105164 A TW 91105164A TW I243070 B TWI243070 B TW I243070B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
oxygen
patent application
item
scope
gas
Prior art date
Application number
TW091105164A
Other languages
English (en)
Inventor
Belynda G Flippo
Keith Kaarup
Robbert Vermeulen
Daniel O Clark
Original Assignee
Advanced Tech Materials
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Advanced Tech Materials filed Critical Advanced Tech Materials
Application granted granted Critical
Publication of TWI243070B publication Critical patent/TWI243070B/zh

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/22—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by diffusion
    • B01D53/229—Integrated processes (Diffusion and at least one other process, e.g. adsorption, absorption)
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D50/00—Combinations of methods or devices for separating particles from gases or vapours
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
    • F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
    • F23G7/00—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals
    • F23G7/06—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases
    • F23G7/061—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases with supplementary heating
    • F23G7/065—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases with supplementary heating using gaseous or liquid fuel
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
    • F23L—SUPPLYING AIR OR NON-COMBUSTIBLE LIQUIDS OR GASES TO COMBUSTION APPARATUS IN GENERAL ; VALVES OR DAMPERS SPECIALLY ADAPTED FOR CONTROLLING AIR SUPPLY OR DRAUGHT IN COMBUSTION APPARATUS; INDUCING DRAUGHT IN COMBUSTION APPARATUS; TOPS FOR CHIMNEYS OR VENTILATING SHAFTS; TERMINALS FOR FLUES
    • F23L7/00—Supplying non-combustible liquids or gases, other than air, to the fire, e.g. oxygen, steam
    • F23L7/007—Supplying oxygen or oxygen-enriched air
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
    • F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
    • F23G2209/00—Specific waste
    • F23G2209/14—Gaseous waste or fumes
    • F23G2209/142—Halogen gases, e.g. silane
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E20/00—Combustion technologies with mitigation potential
    • Y02E20/34—Indirect CO2mitigation, i.e. by acting on non CO2directly related matters of the process, e.g. pre-heating or heat recovery

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
  • Air Supply (AREA)
  • Incineration Of Waste (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
  • Separation Of Particles Using Liquids (AREA)

Description

1243070 五、發明說明（2) ^先；IV、杰之熱區段使用較高濃度氧也將 燃：值：混合物，而仍可達成高效能所需溫:有“ 及=、1則用於既有工廠之多種焚化爐或燃燒室依據其年舻 氣體Ϊ:$:未ΐ配備適當管路系統俾提供額外可燃燃料 燃焯—此種情況下，有數種選擇。增加管路改進既有 成、^至疋供經控制的焚化屬於其中一個選項，但此種改進 人：f於另一個選項，可燃氣體預先混合來自 、、曰人:衣王之氣悲流出流。但此種預先混合可能引進可燃 被义化爐火焰所點燃，點燃將火焰回傳入管路，因 =弓丨t爆炸可能之風險。可增加火焰致動器來防止此種回 、、β ^但火焰致動器裝置容易因此種排放氣體/可燃氣體 此口勿中典型存在的氧化物顆粒而被阻塞。 如此，好提供一種改善既有熱反應爐單元用以引進低成 可燋氣體之改良方法及系統，該項改進架設於既有單元 1^本不會高得驚人，該項修改也不會造成改善後熱反應 爐早兀操作時的爆炸可能。 發明概沭 本發明係有關一種提供氣態半導體廢料經控制之燃燒之 方法及系統’藉此方法及系統將廉價燃料導引入其中輔助< 將非可燃混合物轉成可燃混合物，而無需對熱/濕整合型 減除系統作成本高得驚人的改進。 於二=面’本發明係有關一種具較高能力可實質上氧化 全部氣態廢料流之可氧化組成分之燃燒室。 另 方面係有關經由利用既有管路並調整配合管路，供
1243070 五、發明說明（4) 在壓縮機下游而位在熱反應爐上游之氧分離裝置。壓縮機 用以輔助加壓被輸送至氧分離單元之氣流；或於低於大氣 壓之氧豐富系統’壓縮機用來提高氧分離單元下游位置之 富氧流壓力。 本發明之氧分離單元可包含任一種於進氣混合物可選擇 性分離一種主要氣態組成分與其它主要氣態組成分之裝 置。例如可設置單膜裝置或另外設置多膜裝置，操作該等 裝置而達成空：氣中氣態組成分的分離。典型地，將膜裝置 製成模組，各個模組有某個半透膜區用以通透。目前可取 得而可用於本方法之半透膜材料包括：聚砜、乙酸纖維 素、聚酿亞胺、聚酿胺、石夕膠、聚伸笨基氧化物、聚碳酸 酯、四-漠-雙，-A-聚碳酸醋、此等聚合物之齒化類似 物、陶瓷材料等。 本案中，使用由四-溴—雙酚一A—聚碳 維模組用來由壓縮空氣分離氯_ . ^ I成的中二、，戴 四-演-雙齡-六氣-聚：；::!1'，但也可使…材料如 另外，對氧具高度選擇性之陶$ 有效由含氧進氣混合物採吸二氧分離裝置： 產物氣體純度。陶瓷材料可用7矛、氧軋，俾製造極咼 或用作為塗覆基材=】：：：：模組作為填充材料 性陶瓷材料塗覆。 刀膜或纖維表面以氧吸附 ，材料产含下列至少一種材料例如： 式、〇8之氧化物螢石氧離子導體； 式Ο?之燒綠石材料； — 1243070 五、發明說明（5) 式 B i2 〇3 (Α2 0β)材料， d-Bi2 03安定形式；
Bi24Pb5Ca3〇44 ; B丄14 V〗〇ιι， 式A B 03鈣鈦礦材料； 式A2 B2 05氧化物褐針鎳礦電解質； 式ΑΒ03ΑΒ 02 5混合褐針鎳礦電解質； Α4 06 abo2 5 組成物； 混合型超導（ΑΒ03Α0)電解質； 冰晶石（A3 B 03)電解質， 鈮鐵礦（AB2 06 )電解質； 及對應攙雜材料， 其中A及B分別為選自鑭、鋁、锶、鈦、鈣、锆、鐵、 鋇、I因、亂、紀、銅、飾、灶、錢、姑、鎳、鎮、猛、 釩、鉻、鈮、鈕、硼、铪、鈥、铽、镱、铒、鍤、錙、 彭、錯、錫、錄及錯組成的組群之金屬。 本發明之又一方面係有關形成陶瓷塗覆纖維之方法，其 中該陶瓷為金屬氧化物陶瓷，其包括至少一種於升溫具有 「高吸附能力」之金屬，該方法包含下列步驟： (a)硝酸與乙二醇反應獲得乙醇酸； (b )加熱乙醇酸形成草酸根離子； (c )草酸根離子與至少一種金屬反應形成包含對應金屬 草酸鹽的溶膠凝膠； (d )沉積該溶膠凝膠於纖維基材上；以及
C:\2D-CODE\91-06\91105164.ptd 第 10 頁 1243070 五、發明說明（6) (e )鍛燒纖維基材上之溶膠凝膠而形成對應陶 及獲得經陶究塗覆之纖維。 土層 用於此處「高吸附能力」一詞表示當陶究材料接觸溫度 、C之虱乳時，氧儲存至少為40毫莫耳氧/莫耳陶瓷材 料。 用於此處「升高溫度」表示5 0 0 °C至1 0 〇 〇。(：之溫度。 ”當金屬氧化物陶瓷於此處以符號標示形式表示而又人 學計量下標（例如aLaCaCoM0表示），需 == 係ΓΓ:”之化學計量適當比例存在素 進整合型洗梅器空氣用於隨後弓丨< 除來自半導體製程之氣態廢^二、，’匕3 一燃燒室用以減 驟： 枓產物。該方法包括下列步 設置一氧與氮分離系統俾 氮氣組成分及一種氧氣組成分了將二氣分離成為至少一種 導引壓縮空氣進入氧與氮：籬 由氧與氮分離系統撤取氣杈二、、’.、氣口； 由氧與氮分離系統撤取氣緩二： 導引氧組成分進入燃燒室 7 ,以及 料產物混合。 1人其中接受減除之氣態廢 、、本發明之又另一方面係有關_種 尸 減除糸統俾於其中導引入氧化t幽進處理氣態廢料流用 包含：" 乳豆富來源之方法，該方法 直其係連通式連接至
C:\2D-CODE\91-06\91105164.ptd 設置一氧及/或氮豐富裝置 1243070 _-… —_ 五、發明說明（8) 4盾環槽及/或直接排水。 伶：：：4型經由埠口21“皮導引至除霧區段25，於該處水 、、主、切& 4 Α ώ Γ 務填枓26被去除，此除霧區段的 =冰係軋由連繽及/或間歇喷霧器2 7提供的液體達成。空 ;:由ί ζ 2卢8注入而提供直接冷卻，促使原有氣體濕度的 牛低。；:、、' 後處理後的氣體經由煙道2 9送出。 參照圖2，顯'示製程廢氣31被導引入其中之進氣口"。 η=例中有導引氫氣之分開進氣口33以及導引氧 ^二開進虱口 34，二者皆位於氮氣進氣口 35下游。進氣 之芎曲部3 6提供氣體之最理想混合。 ^，:而巧有筆直構型…管繼續:^以有 作非吉5進虱官之延伸部38。⑧合氣體由延伸部38送出， 物=反應器容積，反而送入同心管39。氣體混合 々及=k洫度選定讓同心管39内部完全產生火焰。毗鄰進 虱口及40之第二進氣口 41顯示用以引進空氣及額外 及/或氧氣介於反應室之各進氣管間。進…領外Μ 操作時，本發明包含空氣流，空氣流 二 PSlg，空氣輸送至壓縮機4進氣口，且被壓縮 廢縮態供連續有效操作氧分離單元8。 縮 究二ΐδΛ含之:模組如含陶綱於吸 金屬製成。另Ϊ ^，以可由任何適當材料如耐火 於六。。 令态可内襯絕緣材料，加熱元件可紝入 於各益内側俾維持吸附劑床於適當升高溫度。 了、、、。δ
C:\2D.CODE\91-Q6\91105164. ptd 第13頁 1243070 五、發明說明（9) 本發明使用陶瓷氧化物 曼氧化物材料。陶瓷氧化 缺存在於材料的組成物。 選擇性擴散通過材料。經 度，氧氣可選擇性擴散入 舉例言之，當跨膜設置 置於容納容器，該容器含 件陣列，含有陶瓷吸附粒 交替耦合至電壓源及接地 解除吸附乳氣之壤路配置 氧化物組成物可屬於任 徵為1)南〉辰度氧空缺，2 > 溫度操作，以及3 )熱力學 作。若干此種類型氧化^ 原因在於吸附單元較佳連 氧化物組成物由於其氧才廣 干可有利地用於廣義實施 B a I n0 67 Z r0 33 〇y B a I η。β7 C e0 33 〇y L a〇 5 B a〇 5 C o0 7 C u0 3 La0· 6 Sr0· 4 C〇〇 8 Cii0 2 L a〇 8 S r〇 2 C o 0y (Bi2 02 )(NaNb2 06 5 ) B i2 Sr2 Nb2 GaOn 5 材料’只有 物吸附材料 此等氧空缺 由跨過該膜 且通過該氧 電位差時， 有彼此隔開 子介於接續 ’俾提供可 〇 何適當類型 熱力學安定 女定因而可 具有水份敏 續於高溫操 散性較低故 本發明之範 氧氣可 組成物 輔助氧 設置電化物材陶瓷塗 的絲網一元件由含氧 擴散通過該陶 為有大量氧空 氣以相對高速 位差或壓力梯 料。 覆粒子床可設 或格栅電極元 間，電極元件 氣體吸附然後 。此等氧化物較佳特 因而可於高於6〇〇 t 於高度還原條件下操 感特性但不成問題， 作。具有空缺排序之 較不佳。下表列舉若 例組成： 橹
1243070 五、發明說明（10)
Bi2Sr2Nb2A101L5 Zr〇2-Y2〇3-Ce02 Zr〇2 —Υ2〇3 一Cr2〇3 Zr02-Y2〇3 一Mg〇 Y2〇3 -Ca〇-Ce〇2 Zr02 -Y2〇3 Ce02-Ca0-Y203 此等材料方便於技藝技巧 合成。 靶圍内使用習知陶瓷合成程序 特別本發明於一方面利用陶 動吸附劑（PS A)介質俾捕捉瓦離子輸运材料作為壓力擺 膜分離法其使用電力來輪送氧氣，。替代如習知陶竞 離子輸送陶瓷作為離子巧=虱的輸达，本發明單獨使用 组成物沉積於適當基=二f介質。用於此項目的，陶瓷 本發明之ps“統係基：用上二沉薄膜° 離子氧的原理運作。八工^ ;貝施本务明之陶瓷可輸送 結合入結晶曰曰“各―：：：於氧化物陶究表面解離，然後 通過晶格。離子不=f f例如濃度梯度造成氧移動入且 此方式…輪：：：：：；致橫的電位梯度。藉 件。 “度)用來驅動離子氧進入陶究吸附齊 ，此方式’採用離子輪送材料，其為 擇性之有⑨「吸收劑」。例如經 究吸選 升问，皿度，氣可由流經此種粒子床之氣流= 第15頁 l243〇7〇 五、發明說明（11) 移除。然後經由降低壓力，可移除氧匱乏氣流，氧隨後由 ，究釋放出而獲得純氧來源。藉此種吸附劑配置，氧可由 氣流被選擇性有效移除。 、本發明可基於離子運送進行氧氣的分離及純化，其中吸 維持於高溫，俾暫時儲存氧，接觸陶瓷吸附劑表面之 t =該表面分解且結合入陶瓷材料晶格。雖然此種方法要 二高溫例如約6 0 0 — 9 0 0。(：高溫，但由含氧進氣混合物之其 ^ A ^ ^)氣體中分離氧之效率較高，出乎意外地優於習知 ^當氧氣接觸陶瓷吸附劑時，出現氧氣的吸附及解離， Ϊ:來讓氧物種的穿透通量進入吸附劑材料粒子，因 料+ €位驅動力用來執行氧物種離子輸送至吸附劑材 ，莞氧化物吸附劑粒子可由惰性基質經塗 式結合氧通透性薄而緻密的電解 ^ y、匕 質膜係由快速離子道_於成 貝潯膜忑成。此種電解 成。所得材料提供氧離子及電子的導體構 構。咼兩極傳導性可經由 ：有均質微結 定劑且於晶袼形成電子及離子：：雜；； 子空缺…卜，雜質物種可為1匕=離子而獲得氣離 ::由較高過渡價數陽離子替代，較：ί陽：此主晶格陽 之€子性f ’同時於低氧分麼形成氧改良材料 第〗6頁 C: \2D-OODE\9J -06\91105164.ptci !243070
五、發明說明（12) 此種電解質包括氧化物螢石氧離子導體（%其中A為 、Ce、、Th等）可採用其中陰離子空缺已經使用攙雜 劑物種例如M2〇3陽離子，例如其中Μ為Ca++、Sr++、Mg++、
Ba++、Sc+++、Yb+++、Y+“、Sm+++、La+++ 及Gd糾，而藉 A 1 i o v a 1 e n t攙雜引進。 ，解質另外可為燒綠石（A2B2〇7)材料，其中A為Ni、Gd、 d等+及B為Zr、Π、Ce、Nb等及攙雜劑物種例如γ+++、““ 及Ca“。其它可能有用的電解質物種包括以Bi以（a 的電解質’包括d_Bl2〇3之攙雜劑穩定形式例如 ‘、、、
h-"M’xMy〇3_d 此處x:〇 至〇·6，y = 〇.2 — 〇.4&d=± 〇·3， M’=Er、Y、Tm、Yb、Tb、Lu、NH q d n ·
Lu 、Sm、Pv、Zr、Hf、tu
Ta 、 Nb 、 Pb 、 Sn 、 In 、 Ca 、 ς T Y “ Hi 、 Th 、 y ” n La 、Sr 、Lr 以及M = C〇、Ni 、Cn 、
Mn、Fe。氧離子導體如Bi24p 施本發明。 5 3 44及Bi14 V20u也可用於實 多種鈣鈦礦材料也可用於告 組成物，此處A:La、Sl，、Ca^本發明。例如包括式AB〇3 Β = Α1、Μη、Ti、Zr、Fe、、’ 攙雜劑（施體）為Ba、Sr， 為Fe、Mg、Cu、Co。範例等以及攙雜劑（受體）例如
CaS:i03、LaN1〇3 及 LaA103。其、1鈦礦 ^括（Mg；/e)Si〇3、 礦（A2 B2 05 )電解質例如其中“ 電解貝包括氧化物褐針鎳
Gd、Fe，攙雜劑（受體）為Ti、Γ、Ba、Ca &B = Fe、In、 括AB〇3AB〇2.5電解質例如式La、 r ;混合褐針鎳礦電解質包 y = 〇· 2 至0· 8，A二Ba、Ca、SrKy yB卜xCxM〇3±x，其中x = 〇 至1，
Ni、Cu 及M = B、Cr、Fe、/及^^、Fe、Mn、Co 及C = Fe、 ' Co ’其特例包括
1243070 五、發明說明（13) 乙&〇.56 3〇.5?6〇3-及1^〇.3 381*〇6 7?6〇3-父’其中\=±〇.3，人4〇6八6〇2.5 組成物包括BiMeVO電解質如Bi 2V卜xMx05.5_d，其中X為0至0· 8 及 d 二土 0.3，式（B i 20 2) ( A m_ m0 3Cm+U)歐瑞維留司 (Aurivillius)電解質，此處 m為 0至 1，A = Ca、Sr、Ba、
Pb、K及 B = Fe、Cr、Ti、Nb、Ta;混合超導（AB03A0)電解 質如 K2NiF4， （LabySry) 2Cu04—及 BaY2Cu 30 7_x電解質，其中 x為 0至1及y為0· 2至0. 8 ;冰晶石（A3B〇3)電解質如Sr 2Nb201}^ Ba2Ta20 η電解質；及鈮鐵礦（ΑΒ 20 6)電解質如Ni (Nb hMJ 2〇6-x ，其中x為0至1及y為0. 2至0. 8。 範例之妈鈦礦化合物包括LaA 1 0 3、LaMnO 3、SrT i 0 3、
CaZr 0 3、Sr 2F e 20 5、Ba 2I n 20 5、Sr 2Gd 20 5、Ca 3F e 2T i 0 8、
Basin 2Ζγ〇8λ Y b a u 3〇 7λ L a 2-xS r XC u 0 4' B a C θ 〇. gG d 〇 i〇 2.95'
BaTh 〇. 9Gd 〇.丨0 2· 9幕。 特別實施本發明之特佳陶瓷吸附劑材料包括B i 20 3、
La 卜yCa yCo 卜XFe x0 3-d，其中 d = 0 · 1至 0 · 5，y = 0 . 2至 0 . 6，x = 0至 0. 8(以頭字語稱作為「LCCFO」）及其鎳類似物LCCNO含有 鎳替代鐵。 本發明之經陶瓷吸附劑塗覆物件可具有適合終端應用及 涉及材料之氧吸附使用之特定進氣混合物之適當尺寸、形 狀及構型。例如物件可呈細分形式如珠、球、環、複曲面 形、不規則形、桿、圓柱、薄片、箔、薄膜、立方體、多 角幾何形狀、片板、纖維、線圈、螺旋、網、燒結多孔物 質、顆粒、丸粒、錠、粉末、微粒、擠型、布或料片形式 材料、蜂窩基體單晶、複合形式（陶瓷吸附劑帶有其它組
\\312\2d-code\91-06\91105164.ptd 第18頁 1243070 五、發明說明（14) 成分）或前述構型之研細或軋碎形式。 多種離子輸送電解質材料列舉於下表1，其中陳述表面 交換率、擴散係數及最重要地最大儲存容量。如表所示 La 〇.4Ca 〇.4Co G.8Fe 〇.20 3_5帶有最高表面交換率，具有理論儲存 容量於8 0 0°C為1 5 0毫莫耳氧/莫耳。
\\312\2d-code\91-06\91105164.ptd 第19頁 1243070 五、發明說明（16) 、經由組成物的修改，増加UCaC〇Fe〇化合物之氧空缺無 ^ :功地改進其氧吸收能力。以鎳置換鐵出乎意外地發現 可#縱組成物及儲存容量。
LaCaCoNiO鈣鈦礦氧化物材料的合成可藉經修改之「普 =尼（Pechini)」方法進行，普契尼方法為液體混合技 =，使用乙二醇及硝酸鹽用以合成^以⑺…氧化物粉末。 j ,契尼方法涉及某些弱酸（α㈣酸）可與多種陽離子 形成多元酸螯合物〇藝人％认夕 反應，形成聚合物玻璃：Ϊ;化 /、/、有1¼離子均勻分布於全體材 料。 2陽離子來源如碳酸鹽、氫氧化物及烷氧化 t成：乙二醇反應類似第-級醇反應，但各個礙存在Ξ 二：”二：冷琐酸添加至乙二醇時，冷确酸氧化醇基之 :夂。加熱混合物獲得草酸，草酸為最簡單的-:=!二連接官能酸性敌基。各個幾基喪失-個夂 而形成卓駄根離子。草酸根離子si2與一個金屬原子护 一配位基螯合物’形成一個五員螯合環如下述〆' ^ 心表大部分元素皆可形成草酸鹽錯合物。由 基卓酸根離子的配位性質，大部分金哲:配位 外也形成複雜草酸鹽。於形成混合陽離子凝膠 升高溫度如108(TC鍛燒而形成結晶氧化物。^灸適&於 本發明之陶瓷吸附劑材料可使用 料之金屬組成分之適當前驅物，藉金屬;：Γ學:Γ (_而形成於適當樓體或基材上。使用M0C;D::=
1243070 五、發明說明（19) 有四極矩，故氬氣未由氧氣分離。因陶瓷吸附劑只能吸收 氧氣，惰性組成分如氮氣及氬氣將被留在氣體接觸陶瓷吸 附劑處理，不會污染產物氣體。 替代使用電位來驅動陶瓷材料膜，本發明之陶瓷吸附劑 可利用濃度梯度來儲存氧氣。經由於陶瓷塗層上有壓力或 濃度梯度，於薄膜出現濃度側繪。於高溫空氣存在下，氧 氣擴散入結構内部。然後經由減壓或使用真空，氧由表面 塗層擴散因而可供給純氧。 實施本發明之PSA方法可於各別吸附（陶瓷吸附劑「載 荷」）及脫附（氧由陶瓷吸附劑釋放）之任何適當壓力程度 進行，此種適當壓力可由熟諳技藝人士無需經由不當的實 驗即方便決定。吸附壓力例如約1. 2至約1 0大氣壓，對應 脫附壓力係於約-0. 2大氣壓至約0. 8大氣壓之範圍，使用 適合於製程、進氣混合物及氧氣產物特性之溫度。 於本發明之一較佳方面，PSA製程維持之溫度約為5 0 0 °C 至約9 0 0 °C。吸附劑床可藉任何適當加熱或熱能輸入手段 而維持加熱條件，該等手段例如電阻加熱元件設置於吸附 劑床，PSA系統之吸附劑容器之夾套帶有適當熱交換流體 流經夾套，俾維持容器及容器所含的吸附劑床於選定溫 度。其它加熱手段包括執行輻射加熱、超音波加熱、微波 加熱、對流加熱、傳導加熱（例如透過延伸表面元件如吸 附劑床内容積之散熱片以加熱關係耦合熱能來源）、熱交 換器等元件、總成及次總成。 PS.A製程系統之吸附劑床可對指定含氧進氣混合物（於氧
C:\2D-CODE\91-06\91105164.ptd 第24頁 1243070 五、發明說明（20) ' --- 分$裝置處理）之任何適當氧輸出以及相關週期時間決定 適當尺寸。例如系統尺寸可於2分鐘PSA週期期間，由氧— 氮混合物製造120標準立方呎/分鐘（8(：〇)氧，纯产 9 9.9 5%。 、’又 一本务明之P S A系統較佳用來製造產物氣體如氧氣、脫氧 氣體或氣體混合物（此處進氣混合物非期望地含氧）、氮氣 (作為來自氧-氮混合物之未經吸附氣體）等。一方面，本& 發，之PSA系統可用以形成r脫氧」氣體，其中98%含 ，藉，發明PSA方法處理而獲得含有低於丨〇〇 ppm容積比& 氣之氮產物流。 陶兗吸附劑材料可藉M〇CVD於惰性基材上塗覆一層薄 膜’惰，基材例如為粒狀基材、纖維狀基材、薄片或其它 由1性氧化鋁、r氧化鋁、扁平氧化鋁或融合氧化鋁等材 料製成的基材。另外基材的塗覆可藉喷霧、溶膠凝膠、浸 I包與烤乾、、洛液沉積、浸潰、輥塗或任何其它適當技術進 行此種塗覆後之基材本體可聚集成為床或質塊用於壓力 擺動分離含氧進氣混合物，進氣混合物於較高壓力接觸床 或質塊，隨後於較低壓力釋放出氧。 、圖3為根據本發明之一具體實施例，包括纖維基材52經 以陶竞吸附劑材料54塗覆之經塗覆的纖維物件5〇之透視 ，二此型塗，纖維可用於纖維床用於PSA方法而由含氧進 氣此σ物中卒取出氧。另外，此種纖維可被成形為編織或 非編織纖維網，同樣可用於psA方法而由含氧進氣混合物 攝取氧。
1243070 五、發明說明（23) ---------- 流入空氣流具有下访^ 莫耳％、氬1.0莫耳％及〃耳分量組成：氧20.9莫耳％、氮78
溫度及50 psia壓力。。氧化奴〇. 1 0莫耳％。此流係於25 °C 用約6 0 0 °C至約9 0 0 ^及附劑床溫度為8 〇 〇。〇(另外通常採 床上游之熱交換器力。^圍之數值）。進給空氣流於吸附劑 交換器上游之壓縮機= ^483°C溫度及10〇 Mia壓力。熱 孰旦。 」挺供溫熱進料流及吸附劑膜裝置的 流入空氣送至吸附匈 片 M%杂i ^ y床，氧氣藉床之吸附劑由其中分 算 床藉適S手段力u勒 , 气γ Α ^ ^ ^ 1 …、。农由接觸吸附劑的空氣主動去除 虱虱後，於減壓狀能，s ^ , 心 乳稭设置於吸附劑床下游的幫浦由 床果送’由糸統排放相^语口丨 _ 办b掛欲供導引入圖1所不之熱感應爐。 、田氮氣to係由進給空氣混合物吸附氧氣獲得，於8 0 ο π 二，及U 0 p s 1 a壓力由吸附劑床排放。富氮氣體通過逆流 煞交換器後，富氮氣體於5〇 psia壓力及2〇〇它溫度由處理 系統排放。 產物富氮氣體含有98· 35莫耳％氮、0· 27莫耳％氣、】 氮、0.13莫耳％二氧化碳。富氮氣體經管線9排放， 藉導引入蟑口 2 8用以降低排放氣體的露點。 於PSA方法之低壓步驟期間，由吸附劑床釋 &〆 體處於壓力0.5 psia及溫度8〇〇°c。由下游幫 _田氧氣 的富氧氣體為壓力1 psia。富氧氣體含有9β•苴、冬。排^放 3.63莫耳％氮、〇·〇5莫耳％氬及不含二氧化碳。舍二耳^氧、 由管線7被泵送至熱感應爐。 §氣氣體經
實施例I I
C:\2D-CODE\91-06\91105164.ptd 第28頁 1243070 五、發明說明' -- =用反泡興烤乾或嘴春技術將陶瓷吸附劑溶膠凝膠用於 =化紹纖維。使用固體纖維薦基材提供數種優勢，包 :^低，陶請劑介質利用率增至最高。經由塗覆 十；;吸附劑介質於多孔氧化1呂基材，可於800t達成80微
未的氧擴散距離。 咬取OUU -Ϊί t ^M㈣用作為分離裝i，製造高純度氧用以導入敎 祕、广除系統。此種富氧流係導引入整合型洗滌器之執區、、 ^頂部俾提高燃燒溫度及提升減除效 ”、、區 介ί ΐ日由由四-漠_雙齡+聚碳酸酷製成的中空纖唯之中 工緘維月吴系統用作為分離裳置取、准之中 /濕減除系統。此種富氧衣Ί純度乳用以導入熱 段底部俾於熱區段底部/;IL、 入2合型洗膝器之熱區 何殘餘可氧化氣體。如^ =區，用以氧化氣流中之任 氧氣操作因而維持還月^裱先、區段上部以低於化學計量之 之說明 原虱氛且減少氮氧化物的形成。 7 8 9 10 11 壓縮空氣供應源 Φ 支線 氧分離單元 支線 進氣口 熱/濕整合型洗 滌器
1243070
C:\2D-CODE\91-06\91105164.ptd 第31頁 1243070 圖式簡單說明 圖1為根據本發明之一具體實施例，氣態廢料流之經控 制之分解氧化用之改進減除系統之示意代表圖。 圖2為一具體實施例之說明圖，顯示導引氣態廢料流至 圖1減除系統之進氣導管。 圖3為根據本發明之一具體實施例，包括纖維基材塗覆 以陶瓷吸附材料之經塗覆之纖維物件之透視圖。 圖4為根據本發明之一具體實施例，使用陶瓷吸附件且 用作為氧分離裝置之壓力擺動吸附系統之示意代表圖。 0
C:\2D-CODE\91-06\91105164.ptcl 第32頁

Claims (1)

1243070 ------- 911051R4 六、申請專利範圍 1 · 一種減除氣流之污染物之系統，包八 燒室，且有至少一導管供導引“進 導吕係以連通方式連接壓縮空氣源；以及入％ 二虱分離單元設置於其間俾提供 其中， 平^虱體療至 該氧分離單元包含由半透膜材 之群組中所選出之氧分離材料
捷室内， 橼燒室， 氧吸附陶瓷鉍α ^ t材料組成 ....... 1 » - N 竹組力 2·如巾請專利範圍第i項之系統， I含一膜裝置用以分離壓縮空氣 W乳分離單元 燃燒室。 乳乳一氮氣俾便導引入 其中，該氧吸附陶瓷 其中，該陶瓷材料係 3·如申請專利範圍第1項之系統 材料於升溫時對氧具有親和力。 4·如申請專利範圍第3項之系統 選自下列組成的組群： Bi2—yEry03_d， Bi2_yYy〇3 d， LawBayC〇1_xNix03_d L· a卜y S ry Co卜x N ix 03_d Laj_y Cay C〇j_x N ix03_d % Lai-y BayCoi-xF ex 03_d LawSryC〇i-xFex03_d ;以及 L 8] _y C ay C 〇!_χ F ex 03_d 其中x為0.2至0.8 y為0至1. 0以及 1243070 修正 曰 -i·赛 911〇5164^^ 六、申請專利範圍 ""^-- d 為 0· 1 至0· 9。 5·如申請專利範圍第3項 ，其中，該陶瓷材料係 選自下列組成的組群： 、 式MO8之氧化物螢石氧離子導體； 式Ag Bs Ο?之燒綠石材料. 式 B i2 〇3 (A2 〇6 )材料； d-Bi2 03安定形式； B “4 P b5 C a3 0“ ； Bi14V20n， 式A B 03 #5欽礦材料； 式A2 〇5乳化物褐針鎳礦雷解曾· 式綱风混合褐針錄、礦電電解夂. A4 06 AB02 5 組成物； 、’ 混合型超導（ABOgAO)電解質· 冰晶石（a3bo3 )電解質； 銳鐵擴（A B2 06 )電解質； 及對應攙雜材料， 其中A及B分別為選自鑭、雜、^ 〜、鈦、鈣、錯、鐵、 起 、a丄 銘、鎳、鎂、錳、 釤、錯、錫、錯及镨組成的纟且君 麵、斜、録、镏、 6·如申請專利範圍第1項之备2之金屬。 一步包含導引氣體流之進氣〇，該其^中，該減除系統進 導管部分位於反應爐内，凸起步=進氣〇包含一導管止於 4管狀界定可形成火焰乂 麵 鋇、銦、釓、紀、銅、鈽、赶 飢、鉻、鈮、组、删、鈴 \\八326\總檔\91 \91105164\91105164(替換 W.ptc 1243070 案號 91105164 Λ_ 修正 六、申請專利範圍 一區；以及導管進一步包含至少一個二次進氣口，該二次 進氣口係用以導引至少富氧氣體。 7. 如申請專利範圍第6項之系統，進一步包含一中央燃 燒室容納加熱元件；一液體漩渦其冷卻來自燃燒室通過其 中的氣體；一填塞床用以捕捉及冷凝通過液體漩渦後來自 氣流的粒子；以及一液體洗滌器用以去除化學污染物。 8. 如申請專利範圍第1項之系統，其中，該氧分離單元 包含一種聚合物膜其對氧具有比對氮氣更高的通透性。 9. 一種氧化處理氣體流之氣態污染物質減除系統，該系 統包含： 一熱反應爐及一導引氣體流入熱反應爐之氣體導管，該 氣體導管包含至少一個二次進氣口連通式連接至壓縮乾空 氣源；以及 一氧分離單元設置於其間，其中該氧分離單元包含氧吸 附陶瓷材料。 1 0.如申請專利範圍第9項之系統，其中，該壓縮乾空氣 來源為壓縮機，以及氧分離單元包含一膜裝置用以將壓縮 空氣連續分離成為富氧流及乏氧流；以及該系統進一步包 含熱交換器設置於壓縮機與膜裝置間用以由壓縮機傳熱給 膜裝置。 1 1.如申請專利範圍第9項之系統，其中，該氧吸附劑陶 瓷材料係選自下列組成的組群： 0. 33 Ba I n〇 67Zr B a I n〇. 67 ◦ eo. 33 〇y
\\八326\總檔\91\91105164\91105164(替換)-14匕 第35頁 1243070 案號91105164 年 月 曰 修正 六、申請專利範圍 L a〇 5 B a〇 5 C 〇〇 7 Cu〇 3 〇y L a。6 S r。4 C 〇0 8 Cu0 2 0y La〇8Sr〇2CoOy (Bi2 02 )(NaNb2 06 5 ) B i2 S r2 Nb2 Ga0j j 5 B i2 S r2 Nb2 A 1 0jj 5 Z r 〇2 - Y〗〇3 - C e 〇2 Z r 〇2 _ Y〗O3 - C r2 03 Z r 〇2 - Y〗O3 - M g 0 Y2 03 - CaO - Ce02 Z r 〇2 - Y〗O3 C e 〇2 - C a 0 - Y2 O3 其中y係不大於2。 1 2.如申請專利範圍第11項之系統，其中，該陶瓷材料 係填裝於吸附劑床。 1 3.如申請專利範圍第1 2項之系統，其中，該氧分離單 元包含一種其内襯有絕緣材料以及加熱元件結合於容器俾 維持床溫度於適當升高溫度。 1 4.如申請專利範圍第1 3項之系統，其中，適當升高溫 度包含600至900 °C範圍之溫度。 1 5.如申請專利範圍第11項之系統，其中，該陶瓷材料 係沉積於惰性基材上作為可透氧之薄膜電解質。 1 6. —種改進處理氣體廢料流之減除系統用以將富氧源 導引入其中之方法，該方法包含：
\\八326\總檔\91\91105164\91105164(替換)-14匕 第36頁 1243070 案號91105164 年 月 曰 修正 六、申請專利範圍 設置一富氧裝置其以連通方式連接至減除室，其中，該 富氧裝置包含由半透膜材料與氧吸附陶瓷材料組成之群組 中所選出之氧分離材料； 導引壓縮乾空氣至富氧裝置，其中該壓縮乾空氣被分離 成富氧氣態組成分及富氮氣態組成分；以及 導引富氧氣態組成分至減除室。 1 7.如申請專利範圍第1 6項之方法，其中，該氧分離單 元包含一膜裝置用以分離壓縮空氣之氧氣與氮氣俾便導引 入燃燒室。 1 8.如申請專利範圍第1 6項之方法，其中，該氧分離單 元包含一種氧吸附陶瓷材料，其當陶瓷材料於升溫時對氧 具有親和力。 1 9.如申請專利範圍第1 8項之方法，其中，該陶瓷材料 係選自下列組成的組群： B i2-y E ry 03_d > B i2-y Yy 〇3-d， L a卜y B ay C〇px N ix 03_d， La卜y SryCo卜xN ix03_d， L^i-y CayC〇!_xN ix〇3_d， L a卜y B ay C o卜x F ex 03_d， La卜ySryCc^_xFex〇3_d，以及 L· a卜y C ay C o卜x F ex 03_d， 其中x為0. 2至0. 8， y為0至1. 0以及
\\A326\總檔\91\91105164\91105164(替換)-14^ 第37頁 1243070
d 為 0· 1 至〇. 9。 2 0 ·如申請專利範圍第1 8項之方法，其中，該陶瓷#料 係選自下列組成的組群： 式乂〇8之氧化物螢石氧離子導體； 式A2 Β2 Ο?之燒綠石材料； 式 B i2 03 (A2 〇6 )材料； d-Bi2 03安定形式. Bi24Pb5Ca3〇44 ; Bi14V20n ,
式ABO3鈣鈦礦材料； 式A2 B2 〇5氧化物褐針鎳礦電解質； 式ABOJBO2 5混合褐針鎳礦電解質； A4 06 ΑΒ02 5 組成物； 混合型超導（ΑΒ03Α0)電解質； 冰晶石（A3 B 03)電解質； 鈮鐵礦（ΑΒ2 06 )電解質； 及對應攙雜材料， 其中A及B分別為選自鑭、鋁、勰、鈦、鈣、鍅、鐵、 鋇、銦、IL、紀、銅、飾、|土、絲、結、鎳、鎂、盆、
釩、鉻、鈮、鈕、硼、铪、鈥、铽、镱、餌、铥、镏、 釤、鉛、錫、蟧及镨組成的組群之金屬。 2 1 ·如申請專利範圍第1 6項之方法，其中，該減除系統 進一步包含導引氣體流之進氣口，該進氣口包含一導管止 於導管部分位於反應爐内，凸起形成管狀界定可形成火焰
\\八326\總檔\91\91105]64\91105164(替換)-1.1^ 第38頁 1243070 案號91105164 年 月 曰 修正 六、申請專利範圍 之一區；以及導管進一步包含至少一個二次進氣口，該二 次進氣口係用以導引至少富氧氣體。 2 2.如申請專利範圍第1 8項之方法，其中，該陶瓷材料 係填裝於吸附劑床。 2 3.如申請專利範圍第2 2項之方法，其中，該氧分離單 元包含一種其内襯有絕緣材料以及加熱元件結合於容器俾 維持床溫度於選定升高溫度。 2 4.如申請專利範圍第2 3項之方法，其中，選定升高溫 度包含6 00至900 °C範圍之溫度。 2 5.如申請專利範圍第1 8項之方法，其中，該陶瓷材料 係沉積於惰性基材上作為可透氧之薄膜電解質。 2 6. —種產生富氧空氣用於隨後引進整合型洗滌器系統 之方法，該系統包含一燃燒室用以減除來自半導體製程之 氣態廢料產物，該方法包含： 設置一氧分離系統俾執行將空氣分離成為至少一種氮氣 組成分及一種氧氣組成分，其中，該氧分離系統包含由半 透膜材料與桌吸附陶瓷材料組成之群組中所選出之氧分離 材料， 導引壓縮空氣進入氧分離系統進氣口； 由氧分離系統撤取氮組成分； 由氧分離系統撤取氧組成分；以及 導引氧組成分進入燃燒室用以與其中接受減除之氣態廢 料產物混合。
\\八326\總檔\91\91105164\91105164(替換)-14“ 第39頁
TW091105164A 2001-03-19 2002-03-19 Oxygen enhanced CDA modification to a CDO integrated scrubber TWI243070B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/811,716 US6527828B2 (en) 2001-03-19 2001-03-19 Oxygen enhanced CDA modification to a CDO integrated scrubber

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TWI243070B true TWI243070B (en) 2005-11-11

Family

ID=25207351

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW091105164A TWI243070B (en) 2001-03-19 2002-03-19 Oxygen enhanced CDA modification to a CDO integrated scrubber

Country Status (8)

Country Link
US (1) US6527828B2 (zh)
EP (1) EP1370340A4 (zh)
JP (1) JP2004535544A (zh)
KR (1) KR20030090684A (zh)
CN (1) CN1498128A (zh)
MY (1) MY135379A (zh)
TW (1) TWI243070B (zh)
WO (1) WO2002074420A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI679376B (zh) * 2017-02-14 2019-12-11 鼎堅綠能科技股份有限公司 熱回收裝置及電漿火炬熱回收設備

Families Citing this family (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW526086B (en) * 2001-02-09 2003-04-01 Nanya Technology Corp Device and method for cooling and washing exhaust treatment machine
US8449288B2 (en) * 2003-03-19 2013-05-28 Nalco Mobotec, Inc. Urea-based mixing process for increasing combustion efficiency and reduction of nitrogen oxides (NOx)
US20040187683A1 (en) * 2003-03-28 2004-09-30 Luping Wang Gas recovery system to improve the efficiency of abatementand/or implement reuse/reclamation
US7670569B2 (en) * 2003-06-13 2010-03-02 Mobotec Usa, Inc. Combustion furnace humidification devices, systems & methods
US7654073B2 (en) * 2003-12-11 2010-02-02 Primlani Indru J Power generating systems and methods
US6955052B2 (en) * 2003-12-11 2005-10-18 Primlani Indru J Thermal gas compression engine
US7569193B2 (en) * 2003-12-19 2009-08-04 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for controlled combustion of gaseous pollutants
US7537743B2 (en) * 2004-02-14 2009-05-26 Mobotec Usa, Inc. Method for in-furnace regulation of SO3 in catalytic NOx reducing systems
US8251694B2 (en) * 2004-02-14 2012-08-28 Nalco Mobotec, Inc. Method for in-furnace reduction flue gas acidity
US7736599B2 (en) * 2004-11-12 2010-06-15 Applied Materials, Inc. Reactor design to reduce particle deposition during process abatement
JP4949621B2 (ja) * 2004-12-17 2012-06-13 日本特殊陶業株式会社 酸素製造装置
KR101036734B1 (ko) * 2005-10-31 2011-05-24 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 공정 저감 반응로
US7410356B2 (en) 2005-11-17 2008-08-12 Mobotec Usa, Inc. Circulating fluidized bed boiler having improved reactant utilization
WO2007095132A2 (en) * 2006-02-11 2007-08-23 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for pfc abatement using a cdo chamber
US7628845B2 (en) * 2006-03-10 2009-12-08 Macronix International Co., Ltd. Filtering device and filtering method thereof and semiconductor fabricating method
US7473303B1 (en) 2006-03-27 2009-01-06 Mobotec Usa, Inc. System and method for improved mercury control
US9328003B2 (en) 2006-09-07 2016-05-03 Nalco Company Method of heavy metal removal from water streams
KR100733159B1 (ko) * 2006-12-07 2007-06-28 한국에어로(주) 공기압축장치 겸용 질소발생장치
JP4976207B2 (ja) * 2007-06-15 2012-07-18 三井金属鉱業株式会社 ガス中の酸素除去装置及び高純度窒素ガスの製造装置
US8003067B2 (en) * 2007-09-20 2011-08-23 Applied Materials, Inc. Apparatus and methods for ambient air abatement of electronic manufacturing effluent
US20090148339A1 (en) * 2007-09-20 2009-06-11 Applied Materials, Inc. Apparatus and methods for reducing restrictions to air flow in an abatement system
US8617493B2 (en) 2007-12-07 2013-12-31 Nalco Company Corrosion control in and selenium removal from flue gas wet scrubber systems
US8609050B2 (en) 2007-12-07 2013-12-17 Nalco Company Corrosion control in and selenium removal from flue gas wet scrubber systems
US8632742B2 (en) 2007-12-07 2014-01-21 Nalco Company Methods of controlling mercury emission
US8753599B2 (en) 2007-12-07 2014-06-17 Nalco Company Corrosion control in and selenium removal from flue gas wet scrubber systems
JP5475679B2 (ja) * 2007-12-14 2014-04-16 ダウ テクノロジー インベストメンツ リミティド ライアビリティー カンパニー 酸素供給ラインから微粒子固体を除去する湿式スクラビング
US7892660B2 (en) * 2007-12-18 2011-02-22 General Electric Company Wetting resistant materials and articles made therewith
WO2009090605A1 (en) 2008-01-16 2009-07-23 International Business Machines Corporation Memory cell, and memory device
US8069824B2 (en) * 2008-06-19 2011-12-06 Nalco Mobotec, Inc. Circulating fluidized bed boiler and method of operation
CN102089857A (zh) * 2008-07-11 2011-06-08 应用材料公司 用于减弱电子装置制造过程排出物的方法和设备
JP2010158661A (ja) * 2009-01-12 2010-07-22 Ind Technol Res Inst 低エネルギー消費の脱着装置とその除湿装置
KR101146173B1 (ko) * 2009-11-19 2012-05-24 한국에너지기술연구원 높은 열적 안정성과 산소 흡착능을 가지는 산소 선택성 흡착제 및 이의 제조 방법
US8927637B2 (en) 2010-04-06 2015-01-06 Nalco Company Metal scavenging polymers and uses thereof
US8747789B2 (en) 2010-04-06 2014-06-10 Nalco Company Metal scavenging polymers
KR101809028B1 (ko) * 2010-06-08 2017-12-14 더 셰퍼드 컬러 컴퍼니 치환된 주석 니오븀 옥사이드 안료
DE102012017107A1 (de) * 2012-08-28 2014-03-06 Linde Aktiengesellschaft Erwärmung eines Prozessabgases
WO2014038186A1 (ja) * 2012-09-05 2014-03-13 日本特殊陶業株式会社 酸素透過膜
CN104415745A (zh) * 2013-08-22 2015-03-18 上海郎特汽车净化器有限公司 一种钙钛矿结构物质及其制备方法
CN104324744B (zh) * 2014-09-29 2017-02-01 顺德职业技术学院 一种触媒及其滤网
CN109375067A (zh) * 2018-09-20 2019-02-22 沈阳华德海泰电器有限公司 一种干燥空气绝缘开关设备绝缘故障的定位方法
CN112161270B (zh) * 2020-07-09 2024-09-13 河北和和能源科技有限公司 一种蓄热式低氮烧嘴
GB2608821A (en) * 2021-07-13 2023-01-18 Edwards Ltd Inlet assembly

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5123836A (en) * 1988-07-29 1992-06-23 Chiyoda Corporation Method for the combustion treatment of toxic gas-containing waste gas
EP0382984A1 (en) * 1989-02-13 1990-08-22 L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Thermal decomposition trap
US5840897A (en) 1990-07-06 1998-11-24 Advanced Technology Materials, Inc. Metal complex source reagents for chemical vapor deposition
US6110529A (en) 1990-07-06 2000-08-29 Advanced Tech Materials Method of forming metal films on a substrate by chemical vapor deposition
US5453494A (en) 1990-07-06 1995-09-26 Advanced Technology Materials, Inc. Metal complex source reagents for MOCVD
US5280664A (en) 1992-03-20 1994-01-25 Lin Mary D Disposable household cleaning devices
AU706663B2 (en) * 1994-09-23 1999-06-17 Standard Oil Company, The Oxygen permeable mixed conductor membranes
JP3280173B2 (ja) * 1994-11-29 2002-04-30 日本エア・リキード株式会社 排ガス処理装置
JP3486022B2 (ja) * 1995-10-16 2004-01-13 ジャパン・エア・ガシズ株式会社 排ガス処理装置
US5759498A (en) 1996-12-12 1998-06-02 United Microelectronics Corp. Gas exhaust apparatus
US5855648A (en) * 1997-06-05 1999-01-05 Praxair Technology, Inc. Solid electrolyte system for use with furnaces
US5972078A (en) * 1997-07-31 1999-10-26 Fsi International, Inc. Exhaust rinse manifold for use with a coating apparatus
US5855822A (en) * 1997-08-22 1999-01-05 Chen; Tsong-Maw Water discharge module for semi-conductor exhaust treatment apparatus
US6059858A (en) * 1997-10-30 2000-05-09 The Boc Group, Inc. High temperature adsorption process
US6261524B1 (en) * 1999-01-12 2001-07-17 Advanced Technology Materials, Inc. Advanced apparatus for abatement of gaseous pollutants
US6153150A (en) * 1998-01-12 2000-11-28 Advanced Technology Materials, Inc. Apparatus and method for controlled decomposition oxidation of gaseous pollutants
JPH11218318A (ja) 1998-02-03 1999-08-10 Air Liquide Japan Ltd 排ガス処理設備
US6217640B1 (en) * 1999-08-09 2001-04-17 United Microelectronics Corp. Exhaust gas treatment apparatus
US6187080B1 (en) * 1999-08-09 2001-02-13 United Microelectronics Inc. Exhaust gas treatment apparatus including a water vortex means and a discharge pipe
US6361584B1 (en) * 1999-11-02 2002-03-26 Advanced Technology Materials, Inc. High temperature pressure swing adsorption system for separation of oxygen-containing gas mixtures
GB0005231D0 (en) * 2000-03-03 2000-04-26 Boc Group Plc Abatement of semiconductor processing gases
US6261525B1 (en) 2000-05-17 2001-07-17 Bruce Minaee Process gas decomposition reactor

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI679376B (zh) * 2017-02-14 2019-12-11 鼎堅綠能科技股份有限公司 熱回收裝置及電漿火炬熱回收設備

Also Published As

Publication number Publication date
EP1370340A1 (en) 2003-12-17
JP2004535544A (ja) 2004-11-25
CN1498128A (zh) 2004-05-19
US6527828B2 (en) 2003-03-04
MY135379A (en) 2008-04-30
US20020170429A1 (en) 2002-11-21
KR20030090684A (ko) 2003-11-28
WO2002074420A1 (en) 2002-09-26
EP1370340A4 (en) 2005-06-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI243070B (en) Oxygen enhanced CDA modification to a CDO integrated scrubber
AU771160B2 (en) Hydrocarbon partial oxidation process
Zeng et al. Re-evaluation of Ba0. 5Sr0. 5Co0. 8Fe0. 2O3− δ perovskite as oxygen semi-permeable membrane
EP0705790B1 (en) Oxygen permeable mixed conductor membranes
EP0882486B1 (en) Process for enriched combustion using solid electrolyte ionic conductor systems
CN100548443C (zh) 离子迁移膜系统中原料气污染物的去除
US5723035A (en) Coated membranes
TWI229615B (en) Method for carbon monoxide reduction during thermal/wet abatement of organic compounds
Zhang et al. Understanding the doping effect toward the design of CO2-tolerant perovskite membranes with enhanced oxygen permeability
CN1840226A (zh) 固态膜组件
JP2022093419A (ja) 酸素過剰型金属酸化物の製造方法
US6488739B1 (en) Oxygen production process
Yang et al. Kinetics of carbon dioxide sorption on perovskite-type metal oxides
US6551381B2 (en) Method for carbon monoxide reduction during thermal/wet abatement of organic compounds
KR100953155B1 (ko) 페롭스카이트형 이온전도성 산소 분리막의 제조방법 및 그산소분리막을 이용한 산소분리공정
US6544404B1 (en) Oxygen separation process
US7338549B2 (en) Oxygen sorbent compositions and methods of using same
Li et al. Simultaneously enhancing the oxygen flux and operational stability of Ba0. 5Sr0. 5Co0. 8Fe0. 2O3–δ membrane via an Ag doping method
Riaz et al. Oxygen transport membranes and their role in CO2 capture and syngas production
JPH09235121A (ja) 固相酸素製造装置に用いられる高酸素分圧下で作用する新組成物
JP3855799B2 (ja) 膜表面に触媒層を有する混合伝導性酸素分離膜およびそれを用いた酸素製造方法
JPH1192961A (ja) 被覆膜
Shao et al. Perovskite-type B-site Bi-doped ceramic membranes for oxygen separation
JP2886496B2 (ja) 固相酸素製造装置に用いられる高二酸化炭素分圧下で作用する新組成物
CA2215672C (en) Coated membranes

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees