TWI242910B - Apparatus and method to introduce signals into a shielded RF circuit - Google Patents

Description

1242910 玖、發明說明： 【屬^明戶斤治^勒穿々貝滅^】 本發明係有關用於將信號導入一受屏蔽之射頻電路之 裝置與方法。 5 I[失u爾Γ治 微波為具有很短波長、通常1公厘到3〇公分峰值至峰值 距離之磁能波。在高速通訊系統中，使用微波作為將資訊 從點A傳送到點B之載體訊號。微波承載的資訊係由微波電 路加以發送、接收及處理。 10 射頻(RF)及微波微電路的封裝在傳統上非常昂貴。封 裝的要求極度嚴苛，亦即需要很高的電性隔離及經過兆赫 (gigahertz)頻率之優良的信號完整性。此外，IC功率密度會 很南。微波電路在電路組件之間及電路本身與外部“世界，， 之間需要高頻電性隔離。傳統上，利用將電路建造在一基 15材上、將電路放在一金屬腔穴内、然後以一金屬板覆蓋住 金屬腔穴，藉以提供此隔離。通常利用將金屬板機械加工 並以銲料或傳導性環氧樹脂將多個板連接在一起藉以形成 金屬腔穴。板亦可鑄造而成，這是比起機械加工的板材更 便宜之替代方式。然而，鑄造方式將會犧牲精確度。 2〇 伴隨著較傳統之建造微波電路的方法之一項問題在 於·將金屬覆蓋件密封至腔穴之方法係使用傳導性環氧樹 脂。雖然環氧樹脂提供良好的密封，卻具有代價昂貴的阻 抗(resistance)，而增加了共振腔穴的損失及受屏蔽腔穴中的 /矣漏。傳統方法的另一問題在於需要顯著的組裝時間，故 1242910 提南了製造成本。 另一種封裝射頻/微波微電路之傳統途徑已經將GaAs 或雙極積體電路及被動組件附接至薄膜電路。這些電路隨 後封裝在上述的金屬腔穴中。然後利用直接電流饋通 5 (feedthrough)連接器及射頻連接器將模組連接至外部世界。 另種製造經改良的射頻微波電路之方法描述於1999 年7月27日發證予巴内特（Ron Barnett)等人名稱為“用於微 波電路封裝體之嵌入式波導結構”之美國專利案5,929,728 號。’728號專利案的整體内容以引用方式併入本文中。一 10般而言，巴内特揭露一種經由一形成於一金屬蓋板的底平 面中之凹形腔六在微波封裝體中製造嵌入式低損失波導結 構之方法。隨後將蓋板的底平面溶合至一金屬基板。當蓋 板及基板接合時，形成一嵌入式受屏蔽的腔穴。 一種改良射頻微波電路方法係採用單層厚膜技術來取 15代薄膜電路。雖然略微降低部分成本，由於金屬包圍件及 其連接器之緣故，整體成本仍很高。並且，此型組態通常 採用的介電材料（譬如膏或卷帶）具有電損耗性，特別是在兆 赫頻率尤然。介電常數在任何特定頻率及一頻率函數兩方 面皆受到不良的控制。並且，已知時常難以控制介電材料 2〇 的厚度。 對於此等製造射頻微波電路之方法之改良係描述於以 引用方式併入本文中且發明人為道夫(Lewis R· Dove)(本發 明的共同發明人）、凱西（John F· Casey)及布盧姆(Anthony R. Blume)之名稱為“經整合的低成本厚膜射頻模組”的美國專 1242910 利案6,255,730號。，730號專利案讓渡予亦身為本發明受讓 人之安捷倫科技(Agilent Technologies，InC·，）。’730號專利案 描述一種經整合的低成本厚膜射頻及微波微電路模組。利 用一經改良的厚膜介電質，將不昂貴的立體結構製造在〜 5加至一基底基材之傳導性接地層的頂上。接地層形成了 對於模組之底電屏蔽部。可利用介電質的一底層來形成微 帶元件及用於帶線元件之底介電質。利用一可蝕刻性厚膜 Au程序，可將很小且經緊密控制的幾何結構加以圖案化。 一旦已經形成受屏蔽的射頻電路則開啟了一項新的挑 10戰，亦即如何將信號導入電路中。其中一種選項係使用微 波連接器。微波連接器提供报低的回傳損失㈣職（㈣及 低的插入損失並日守常用來將南頻或高速數位信號從外部世 界帶入-微電路中。然而，其較為昂貴且佔用大量空間。 适對於需要許多高頻連接之電路將變成一項嚴重問題。 15 種可能的解決方純將-半剛性同軸線的中心導 體:接至-微電路或電路板傳輪線。然而，這會使同轴線 暴露於-板或基材的邊緣而將電磁能從同軸線搞合至基材 内（作為-準波導模式）而非搞合至電路的傳輸線。 C 明内 一 4此’本發明人已經體關需要具㈣於將信號導入 一受屏蔽之射頻f路㈣無大的互連件且㈣電磁能耗合 至射頻電路的基材内之方法及裝置。 圖式簡單說明 可由下文的詳細描述參照圖式來得知本發明，其甲_· 7 1242910 第1A圖為根據本發明的第一較佳實施例之一連接至一 傳輸線之同軸纜線的等角圖； 第1Β圖為根據本發明的第一實施例之一連接至一傳輸 線之同軸纜線的側視圖； 5 第2Α圖為根據本發明的第二較佳實施例之一連接至一 傳輸線之同轴繞線的等角圖； 第2Β圖為根據本發明的第二實施例之一連接至一傳輸 線之同轴纟覽線的側視圖； 第3圖為根據本發明的第三實施例之一連接至一傳輸 10 線之同轴纔線的等角線框側視圖。 I：實施方式】 較佳實施例之詳細說明 現在詳細地參照本發明，其範例顯示於圖中，其中類 似的編號代表各圖中類似的元件。 15 第1Α圖為根據本發明的一較佳實施例之一連接至一傳 輸線12之同軸纜線10的等角圖。第1Β圖為根據本發明第一 較佳實施例之一連接至傳輸線12之同軸纜線10的側視圖。 綜合觀之，第1Α及1Β圖顯示一同軸纜線10連接至一坐落在 一介電結構14頂上之傳輸線12之情形。介電結構較佳形成 20 於一包括一接地層之基材5上。傳輸線12在圖示範例中係為 一較佳轉折至一準接地共面波導（未圖示）之微帶 (microstrip)。傳輸線12為一開放的傳輸線之範例。開放的 傳輸線可具有各種不同的結構，其中包括··微帶、共面波 導及經耦合的微帶。一旦已經產生從同軸纜線至一開放的 1242910 傳輸線之轉折，可導人額外的幾何結構。其中包括：帶線、 準同軸纜線、及、_合的帶線。同軸繞線10較佳亦可斑包 括一準同軸傳輸線等其他傳輪線結卿成直接介面/、 -準同軸傳輸線係、使用列印在傳輸線上方之KQ介電 5質的-上層。KQ介電質被—列印的金屬接地層所圍繞而提 供-完全圍繞的結構。對於高頻或高速數位信號，傳輸線 12呈現50Ω阻抗將是有利的方式。 介電結構14可由一施加且隨後固化之 沉積為膏且隨後固化之適當厚膜介電材料的範例係包括得 10自希瑞司（Heraeus)之KQ I50及KQ U5厚膜介電質以及= 自杜邦（DuPont)之4141A/D厚膜組成物。這些材料主要係2 包含少量鋁及鎂的硼矽酸玻璃之配製物。這些產物通常妒 由篩網或模板以膏劑施加，且隨後施熱加以固化。其可在 施加時、固化前或固化後藉由已知的技術（譬如雷射蝕刻） 15進行圖案化。這些程序描述於各別製造商的型錄資料中。 雖然使用任意這些產物的終端結果大體相同（受控制厚度 的一經圖案化區及具有約3.9的介電常數κ)，其具有可&與 設計者相關之各種不同的附屬差異。其中包括固化時色 彩變化、以及在初始固化後之軟化溫度的往上偏移以利在 20需要重新施熱產生该等後縯處理步驟中所施加材料的固化 或處理之後續處理步驟期間具有結構穩定性。 雖然介電結構14可由單層KQ形成，在第1圖所示的範 例中，介電結構14由兩層16及20形成。層數係為 各層之程序的最大厚度以及所需要的介電結構14高度之函 1242910 數。可將同減線10的直經作為因數計入介電結構14的古 度之決定過程，特财如果彻基材5來支撐同赌線^ 然。一般而s，理想的同㈣覽線將具有12至18公厘的直 徑，然而，根據本發明可採用其他尺寸的镜線。因此，介 5電結構14的高度將為〇·4至〇 6公厘左右。KQ型材料的—種 相關性質係為材料的自由邊緣將在燒烤期間拉回。此作用 生成了介電結構14周圍約略45度的斜面。 根據本發明的較佳實施例，介電結構14的斜面狀邊緣 係塗覆有金藉以使接地層延伸至介電結構14的斜面狀斜 10坡。附帶說明，波導(傳輸線12)的中心導體周圍之側地極係 由介電結構14的接地側壁所形成。 作為第1A及1B圖的範例之同軸纜線1〇係以一低損失 相穩定半剛性同軸纜線為基礎’諸如得自微同軸纟覽線組件 公司（MICRO-COAX COMPONENTS INC)之 UT 47-LX 及 15 UT 70-LL。同軸纜線10包含一外導體22、一介電層24及一 中心導體26。外導體22可由銅形成，介電層24由PTE形成， 而中心導體26為鍍銀的銅。外導體22可鍍錫以提供額外耐 久性。為了製備同軸纜線1〇以連接至傳輸線12及接地層， 外導體22及介電層24對於同軸纜線10的軸線呈一角度剝除 20 而大致匹配於介電結構14邊緣上的斜面。在上述範例中， 此角度近似45度。中心導體26的暴露面較佳對於同軸規線 10的軸線保持直角狀。雖然熟習該技術者知道模擬此連接 以精密地決定所暴露同軸纜線的最佳長度之重要性，請 瞭解其愈短愈好，在最長點可能量測出10密耳左右。 10 1242910 可利用包括傳導性環氧樹脂或銲料等各種不同技術於 同減、⑽連接至傳輸線12及接地層。如果選用鲜料加以 轉’銲料應屬於可限制或消除金層在介電結構μ上遞處

型。十心導體26可被一由鲜料或環氧樹脂圓 疋在傳輸線12與中心導體26之間的基座28加以支撐。斑介 電結構14賴之外導體22部分係由簡或環氧樹脂固W 提供黏附。已證實將銲料或環氧樹脂簡單地施加至使同神 欖線崎準时電結構14的斜蚊㈣㈣ 10 合乎成本效益。可依需要提供-選擇性支樓件30。可依需 ^將支樓件鍍金且電性連接至接地層及外導體Μ。亦請浲 意’一支撐件可能單純為用於將同軸纜線1()黏附至基材仏 銲料。 藉由使同減線10構成斜面以匹配於介電結购的自 然斜坡，將可盡量減少兩者之間的高頻不連續性並更容易 I5將外‘體22連接至介電結則4的側壁且因而連接至接地 層。電磁模擬顯示出連接品質具有顯著的改善。可調整介 ^構14的厚度以匹配中心導體26的高度。同減線1〇可 倚罪在基材5及/或-與基材5相聯結之支樓件3〇上對於同 轴、，見線1 〇提供了機械剛性及一種將同軸缓線的外導體a 2連 2〇接至電路的地極之方式。第旧所示的連接可使連接的微波 效能達到最佳化。 第2A圖為根據本發明第二較佳實施例之一連接至一傳 輸、、泉12之同軸纜線1〇的等角圖。第2B圖為本發明第二較佳 貝靶例之一連接至一傳輸線12之同軸纜線丨〇的側視圖。介 1242910 屯結構14a由兩層34及32形成。如上述，這些層34及32的數 里及厚度係取決於用來形成介電結構14a之程序並可將同 軸纜線10的厚度列入考量因素。根據第二較佳實施例，同 軸纜線10已經以一替代性方式剝除而可能相較於第以及讣 5圖所示的實施例改善信號完整性。 第2B圖顯示基座28的其他細節。此範例中，基座28使 用一填隙片28a來利用銲料將中心導體26固定至傳輸線 12，請見28b及28c。已經證實單純使銲料流動於整體填隙 片28a周圍來形成連接將是更容易的方式。至於第丨圖所示 1〇的範例，以傳輸線12上方之中心導體26的水平高度為基礎 來選擇基座28的高度。 已經決定，盡量減少傳輸線12上中心導體26的連接點 與介電結構14a上外導體22的連接點之間的距離將是有利 的方式。一5密耳左右的分離距離可提供優異的結果並具有 技術可行性。然而，若能夠忍受增加的成本，更小的間隙 可提供額外利益，且一向建議加以模擬。為此，藉由在區 域36中使至少部分外導體22黏附至介電結構上表面將 可利於更緊密地控制此相關距離。在介電結構丨4 a與外導體 22之間理想上具有但不一定要具有不超過1密耳的分離距 20 離。 譬如，可將至少一個傳導帶形成於介電結構14a的層34 之表面上的區域36上。金沉積物可形成帶36。此帶係電性 連接至/儿積在介電結構14a的斜面上之金層。較佳經由連接 的模擬來決定出帶的尺寸及形狀。 12 1242910 將同軸纜線10初步剝除以暴露出中心導體26，而留下 一垂直於同軸纜線1〇縱軸線之扁平表面38。所描繪的特定 範例中’中心導體26較佳突起超出扁平表面38約1〇至14密 耳。然而，請注意應經由模擬及/或實證分析來決定任何給 5 定的連接之精確距離。 與同軸緵線ίο縱軸線平行地切割外導體10及介電層24 之一部分40。部分4〇係固定至介電層14a的表面。請注意， 可譬如利用銲料或環氧樹脂將外導體22的暴露部分電性連 接至一沉積在區域36中之傳導帶。外導體1〇及介電層以的 10 一部分被切割以大致匹配於介電結構14a的自然角度並電 性連接至介電結構14a的斜面上之金鍍覆物。 本發明人已經發現，一與部分4〇及42相對之次要斜面 44可改善連接的反應(resp〇nse)。在第2圖所示的範例中，斜 面44從中心導體26的外表面以一近似45度角度延伸。然而 15請注意，應經由模擬及/或實證分析來決定對於任何給定的 同軸纜線10及連接之精確角度及起始位置。 如同第一實施例，中心導體26被一譬如可銲接至定位 之填隙片28所支撐。並且，同軸纜線1〇可被一與基材相聯 結之支撐件30所支撐。 2〇 第3圖為根據本發明第三較佳實施例之一連接至一傳 輸線12之同軸纜線10的圖式。本發明人已經發現不但希望 降低外導體22及中心導體26的連接點之間的距離，亦已證 實降低之中心導體26與傳輸線12之間的距離將是有利的方 式。因此，根據本發明第三實施例，中心導體26朝向傳輸 13 1242910 、泉12弓折以將中心導體26與傳輸線η之間的距離降低至近 似3狯耳。將同軸纜線1〇剝除使得中心導體％的最遠梢部相 距扁平表面38近似具有20至30密耳距離。 在第3圖所不的範例中，顯示將一帶46沉積於區域％ 5中，將一凹口 46a形成於帶中以控制帶46的面積來對於地極 提供降低的電容藉以提供優異的電性效能。熟習該技術者 能夠模擬各種特定連接以決定出帶46的最佳面積。 雖然已經顯示及描述本發明的數項實施例，熟習該技 術者瞭解可在這些實施例中作出變化而不脫離本發明之原 10理及精神，本發明的範圍係由申請專利範圍及其等效物加 以界定。 【圖日月】 第1A圖為根據本發明的第一較佳實施例之一連接至一 傳輸線之同軸纜線的等角圖； 15 第1B圖為根據本發明的第一實施例之一連接至一傳輸 線之同軸纜線的側視圖； 第2 A圖為根據本發明的第二較佳實施例之一連接至一 傳輸線之同軸纜線的等角圖； 第2B圖為根據本發明的第二實施例之一連接至一傳輸 20 線之同軸纟覽線的側視圖； 第3圖為根據本發明的第三實施例之一連接至一傳輸 線之同軸纜線的等角線框側視圖。 【圖式之主要元件代表符號表】 5···基材 10···同軸纜線 14 1242910 12...傳輸線 32···層 14，14a...介電結構 34...介電結構14a的層 16,20···層 36...區域 22...外導體 38...扁平表面 24...介電層 40,42…部分 26…中心導體 44…次要斜面 28...基座 46. ·.帶 28a...填隙片 46a...凹口 30...支撐件 15

Claims (1)

1242910 拾、申請專利範圍： L 一種用於在一整體受屏蔽的微電路中將一同轴纟覽線連 接至一坐落在至少一層厚膜介電質頂上之傳輸線之方 法，該方法包含： 暴露出該同軸繞線之一長度段的中心導 體 10 15 20 nsL. ， 以一大致與至少一層厚膜介電質上的一斜面相同 之角度來剝除該同軸纜線的一部分； 將該至少一層厚膜介電質的斜面加以錢金； 將該中心導體的暴露長度段結合至該傳輸線；及 將該同軸纜線的一外導體結合至該至少一層厚膜 電質上之金Μ物’使得該同軸纜線的斜角部與該厚 膜介電質的斜面呈現對接。 ^予 :申請專利範圍第！項之方法，其令該傳輸線係為微 V、共面波導及經耦合的微帶之一者。 3·如申請專利第1項之方法，其中該傳輸線係盘一包 面準同㈣線及_合的帶線等第二傳輸線結構 4·如申請專利範圍第丨項之方 KQ材料。 方去，其中轉膜介電質為- 5.如申請專利範圍第！項之方法，進—步包含. 面。使與該斜角部相對之該同減線的-部分形成斜 6·如申請專利範圍第1項 ^ E 、方去，進一步其中該將中心導 體的暴露長度段結合至傳 v 王得輸線之步驟係包含·· 2 16 1242910 將一填隙片結合至該傳輸線；及將該中心導體結合 至該填隙片。 7. 如申請專利範圍第1項之方法，進一步包含： 將該中心導體的暴露長度段朝向該經剝除的同轴 5 纜線之斜角部彎折至該傳輸線。 8. 如申請專利範圍第1項之方法，進一步包含： 切割該同軸纜線中與該斜角部相鄰之一扁平部以 與該厚膜介電質的頂部呈現對接。 9. 如申請專利範圍第8項之方法，進一步包含： 10 以金來塗覆該厚膜介電質的頂部之一部分；及 將該同軸纜線的扁平部上之外導體結合至該厚膜 介電質的頂部上之金塗覆物。 10. 如申請專利範圍第9項之方法，其中可供該中心導體結 合之該傳輸線的部分與該金鍍覆物之間的一間隙係為 15 10密耳或更小。 11. 如申請專利範圍第1項之方法，其中可供該中心導體結 合之該傳輸線的部分與該金鍍覆物之間的一間隙係為 10密耳或更小。 12. —種對於一微電路之介面，包含： 20 一基材，其支撐一接地層； 一介電結構，其具有電性連接至該接地層之塗有金 的傾斜狀側壁； 一傳輸線，其被該介電結構支撐，該傳輸線與該微 電路電性導通；及 17 1242910 一同軸纜線，其具有以一大致與該介電結構的傾斜 狀側壁角度相同之角度呈斜面狀之一端的至少一第一 部，其中 可服…命时队/又彳又品贫主該傳輸線；及 --該同軸纜線的外導體結合至該介電結構上的金鍍 覆物使得該同軸纜線的斜角部與該厚膜介電質的斜面 呈現對接。 10 13. 如申請專利範圍第12項之介面，進—步包含—用於將該 中心導體的《長度段連接至該傳輸線之填隙片。 14. 如申請專利範圍第12項之介面，其中該中心導體的暴露 長度段朝向該傳輸線彎折。 15. 如申請專利第12項之介面，其中該同軸纜線具有一 =該第-部相對之第二斜面部，該第二斜面部以一與該 第一斜面部不同的方向呈現傾斜。 15 16. 如申請專利範圍第12項之介面，其中該第—部盘一呈有 -與該中4體呈共面延伸的表面之扁平勒鄰，該扁 平料橫越該第-部與可供該令心導體自其延伸之該 同抽纟覽線的面之間。 20 ⑽之平部被該介電 、洁構的頂表面所支撐。 18·如申請專利範圍第17 妓石™ A ;丨面其令該介電結構具有連 卢㈣击⑽仏 之電跡線，該等電跡線坐落 , — 使侍一電性連接形成於該 外¥體的暴嬉邊緣與該等 18 1242910 19·如申請專利範圍第18項之介面，盆 ^ 寻電跡線與誃 輸線之間的一間隙為1〇密耳或更小。 、以、 见如申請專利第12項之介面，其切傳 共面波導及經耦合的微帶之一者。 為铽咿、 5 ，其中該傳輪線係與—包 的帶線等第二傳導線結構 21·如申請專利範圍第12項之介面 括帶線、準同軸纜線及經耦合 形成介面。 19