TWI237818B - CD engraving device and CD manufacturing method - Google Patents

Description

1237818 A7 ______B7____ 五、發明說明（1 ) 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關用來製作高密度之光碟基板之光碟刻錄 裝置、及光碟製造方法。 【先前技術】 近年來’將光碟應用於AV(聲音影像)之例子非常多。 例如以儲存電影內容爲主之DVD(Digital Versatile Disc)， 對此有DVD-R、DVD-RAM、DVD-RW所謂單次寫入型和 覆寫型之格式開發出來，作爲VTR之次世代錄影機正逐漸 普及。 今後’由於BS數位播送和寬頻通訊之普及，可預見 將出現能記錄更高畫質壓縮影像之大容量光碟格式、和有 相同容量卻更小、具可攜式且網路使用性高之光碟格式。 爲了實現上述高密度之光碟，除了開發能以高密度記 錄之材料和格式，還必須開發高精細、高精度，且適合高 密度之光碟基板，作爲其基礎製程之刻錄方法則是掌握高 密度化之關鍵。具體而言，如何在母盤上以良好的精度製 造窄間距之軌和微細之預坑係非常重要。 其重點在於光點之微細化和光點之高精度對位，光點 之微細化能藉由雷射光源之短波長化和物鏡之高數値孔徑 (NA)化來實現，光點之高精度對位在需要物鏡進給機構之 高精度化、刻錄裝置之低振動化及擺動之光碟上藉由偏向 之高精度化等來實現。 又，在以下說明中，光碟之刻錄方法係用能具體實現 其之光碟刻錄裝置之形態來加以說明。第9,圖係習知光碟 4 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------訂---------^^1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 赖士眷".:丨 +A7 ...... ";"；J________Β7 ____________ .....〆..一一、，..— — ' 五、發明說明（>0 刻錄裝置之一例，只表示基本的構成要素。1係雷射光源 ，其射出既定光量之平行光束Lc。通常係使用氬(Ar)氣雷 射，所使用之波長係使用習知大約500nm之可見光領域之 光源，但爲因應高密度化之需求而進行短波長化，最近， 使用大約200nm〜300nm之紫外線領域光譜之光源。 2 係 E0 調變器(EOM : Electro-Optic Modulator)，可藉 由施加電壓使光量類比性地變化。通常係用光的開（on)、 關（off)之二進位位準來選擇施加電壓，進行數位式地調變 來製作光碟之預坑(prepit)，並進行持續開（on)來製作溝槽 (groove)。3 係 E0 偏向器(EOD : Electro-Optic Deflector)， 藉由施加電壓使光束進行角度偏向，藉由後述之物鏡5， 再使於母盤100形成之刻錄用光點產生移位。 E0調變器2和E0偏向器3之材料係使用具有波克爾 斯(Pockels)效應之結晶材料，其折射率異向性會因高電壓 之施加而產生變化。爲了在刻錄中，能得到有效之偏向量 和調變量，在設於E0元件之2電極間須施加例如±200V 之高電壓。又，有時不使用E0，而是使用稱爲 AO(Acoustic-Optic)之音響光學元件系之元件。 通過E0調變器2和E0偏向器3之光束Lc係在反射 鏡4反射，再被高數値孔徑(NA)之物鏡5聚光，而在被馬 達6旋轉控制之光碟之母盤1〇〇上形成光點Sc。反射鏡4 和物鏡5係由被未圖示之機構所保持之刻錄用光學頭所構 成，前述光學頭係藉由未圖示之輸送系統，配合馬達6之 旋轉，對應於軌距被連續精密地輸送。在刻錄中，一般係 5 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------------------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1237818 - A7 B7 ______ ·· — — — — 五、發明說明（1 ) 使用轉速一定之CAV方式和線速一定之CLV方式。 在母盤100旋轉中，連續精密地輸送1軌距份，藉此 來製作有螺旋狀軌形成之母盤。CAV方式之情形，雷射光 源1之光量係依刻錄半徑而控制在適當値。以第9圖所示 之輸送方向製作之光碟係把導入(lead-in)當作內圈，並用 CAV方式刻錄而成。 101係光碟之格式器(formatter)，邊控制雷射光源1之 光量和馬達6之轉速，邊控制E0調變器2和E0偏向器3 ，並在母盤上製作預坑和溝槽，而製成所希望之光碟格式 。格式化器101之輸出訊號Vem係傳送到E0M驅動器 102。E0M驅動器102係直接放大Vem或切換高電壓電源 ，以EOM驅動訊號Vemd傳送到E0M調變器2，來調變 光束Lc之光量。此處，將Vem控制在“H” 、“L” ，藉 此來開（cm)、關(off)光束Lc。 又，格式化器101之偏向訊號Ved係使母盤上之光點 位置在徑向產生移位。即，藉由偏向訊號Ved之極性「正 、零、負」，分別以「內圈移位、中立、外圈移位」來進 行控制。E0D驅動器103係接收偏向訊號Ved，將偏向訊 號Ved直接放大(以下稱爲類比偏向方式），或切換高壓電 壓源(以下稱爲數位偏向方式），並以EOD驅動訊號Vedd 傳送到E0偏向器3，來控制光束Lc之偏向量。 在實用上，當使溝槽擺動(wobble)並將時脈和位址重 疊在溝槽時，擺動上施加電壓需要連續性，在光碟之母盤 上僅有數十nm的移位，該施加電壓因大約僅數十V，故 6 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------------------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 B7 SI237818 五、發明說明（ 採用利用放大器之類比偏向方式，而爲了實現如取樣伺服 方式等般有步進且數百nm大的移位量，則採用數位偏向 方式。數位偏向方式之情形，因電路構成簡單，故偏向訊 號Ved係由代表內圈偏向或外圏偏向之2個控制訊號來構 成，例如，將大約+200V電源之正極及負極不斷地切換並 施加在E0偏向器3，藉此能等效地得到±200V之EOD驅 動訊號Vedd。 第9圖之虛線所示之光束Li，係以偏向訊號Ved爲正 ，用E0偏向器3使光束Lc偏向後之情形。其結果，光點 係從Sc之位置向內圏側移位並移位到Si。 第10圖係表示用以上之光碟刻錄裝置製作光碟之2個 例子，用第11圖來說明其中1例之動作。 第10圖之(a)係具有溝槽之取樣伺服方式之光碟基板 之例，（b)係島區(land)溝槽連續槽方式之光碟基板之例。 兩者均將圖之上側當作內圏，將下側當作外圈，記錄再生 光點係從左到右進行掃描者。 第10圖之(a)之光碟基板係適合光磁碟之超解析方式 之一種 DWDD(Domain Wall Displacement Detection)方式（ 磁壁移動檢測方式）之基板。至於DWDD方式之光碟，必 須在相鄰之記錄軌間減弱磁性之耦合(減低磁性異向性）。 因此，當製造DWDD方式之光碟時，在進行資訊訊號之記 錄前，必須進行減弱相鄰記錄軌間之磁性耦合的初始化(以 下稱爲退火）。溝槽係使用在進行退火時。 這種光碟之構成單位係圖示之區段(segment)。區段係 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ----------— --------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1237818 a7 p~___^ ----卫___ 五、發明說明（9) 由伺服領域和資料領域所構成。1軌係由1000個以上之複 數區段所構成。在伺服領域中，配置了取樣伺服用之第1 擺動坑11、第2擺動坑12、和位址坑13。取樣伺服方式 之循軌係使記錄再生光點在第1擺動坑11和第2擺動坑 12之中間進行掃描。 位址坑13係被分散配置在複數之區段，集中各區段之 坑之有無，施加錯誤修正等，當作軌位址來進行再生。資 料領域之資訊軌係由溝槽14所構成，資訊軌間係形成島區 (land)15。這種情形之軌距係小到〇.6//m以下，故各軌要 獨立構成擺動坑不易，擺動坑係與鄰接軌共用。即，基本 上，軌係如圖示之Ta和Tb之2種類。 設軌Ta爲偶數軌2m，記錄再生光點16係掃描時以第 1擺動坑11在左，以第2擺動坑12在右之方式進行掃描 。軌Tb係奇數軌2m+l，記錄再生光點係與軌Ta相反， 係以第1擺動坑11在右，以第2擺動坑12在左之方式進 行掃描。軌位址係想辦法配置在區段內，以用軌Ta和軌 Tb來進行獨立再生（因與本發明之主旨相異，故省略其詳 細說明）。 前述之退火(anneal)係使用比記錄再生光點16直徑爲 小之退火用光點，將島區部分以高功率進行掃描，藉此來 減弱磁性耦合。縮小退火用光點係因爲即使狹窄軌距也使 退火寬度變窄，並加寬留在溝槽14內之可動作之DWDD 之軌寬，來確保記錄再生性能之故。因此，在退火用光點 之光源中，例如，係使用波長405nm之雷.射和數値孔徑 8 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） ---------------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 1237818 ___B7__ 五、發明說明（) (ΝΑ)0·75〜0·85之物鏡，與記錄再生光點之波長65〇nm、 數値孔徑0.6之情形相較’能集中成約直徑一半之光點。 退火時之循軌，係使用連續伺服方式(按島區15使用 推挽訊號）。即使使用記錄再生用之擺動坑’也只能在溝槽 進行循軌，不能在島區上進行循軌。因配置退火專用之擺 動坑增加伺服領域之冗長度而阻礙高密度化’故最好如前 述以島區15進行循軌。因島區15係連續槽’故循軌精度 會提高，而且在溝槽間之幾何性及熱性分離中也有效’故 即使是取樣伺服方式，溝槽14對光碟也有效。 第10之(b)之光碟基板係島區溝槽連續槽方式之光碟 基板之例，相當於覆寫型之相變化光碟之DVD-RAM格式 之例。這種光碟之構成單位係扇區(sector)，軌由複數之扇 區構成。扇區係由位址領域和資料領域所構成。 首先，資料領域係由軌（由溝槽23或島區24所構成) 所構成，當光碟每旋轉1圈時，由溝槽23所構成之溝槽軌 Tg(2n :偶數軌)和由島區24所構成之島區軌Τ1(2η+1 :奇 數軌)係形成交互進行掃描之螺旋狀構成。 又，位址領域，被稱爲 CAPA(Complementary Allocated Pit Address)之位址係每隔軌距之一半就配置一個 。21係從特定之溝槽軌Tg所見，與內圏側之島區軌T1共 通使用之LG共通位址部，22係從特定之溝槽軌Tg所見 ，與外圏側之島區軌道T1共通使用之GL共通位址部，分 別由表示位址資訊之預坑組所構成。 雖未圖示，但溝槽23係藉由比軌距小U立數以上之振 9 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) _测 A7 B7 五、發明說明（ 幅之擺動所產生之時脈重疊著。爲了實現此目的’在第9 圖之光束Lc中，插入與E0偏向器3相異之偏向器，使用 從格式化器101另外輸出之時脈重疊訊號，用前述之類比 偏向方式使光束Lc偏向。 第11圖係表示刻錄第10圖之(a)之光碟時之動作圖。 當刻錄此光碟時，係在EO偏向器3之偏向中，採用前述 之數位偏向方式(EOD驅動器103係切換型）。第Π圖之 •(a)係表示刻錄裝置之控制訊號之時序圖。時序圖係從上依 序表示(al)內圈偏向訊號Vedi、（a2)外圈偏向訊號Vedo、 (a3)EOD驅動訊號Vedd、（a4)EOM驅動訊號Vemd。 第11圖之(b)係表示製作目標之光碟母盤和刻錄用光 點之軌。從上依序爲已製成之(bl)軌Ta、（b2)軌Tb、（b3) 軌Ta。如圖之軌跡般，因偏向係用Ta軌來實施，故軌Tb ，不製作第1擺動坑11及第2擺動坑12，僅位址坑13視 需要進行製作。（b3)係表示目前用刻錄用光點31所製作之 軌Ta，用陰影線來表示預坑和溝槽。 在(b3)所示的軌Ta之製作中，在製作溝槽14時之時 間t6到下一時間tl之間，用EO調變器2使刻錄用光點 31發光(提高光量），且EO偏向器3不進行偏向下連續性 地刻錄。伺服領域係在時間tl到時間t6之間加以形成。 EOM驅動訊號Vemd係在該區間形成第1擺動坑11、第2 擺動坑12及位址坑13時使刻錄用光點31發光。 又，EOD驅動訊號Vedd係在t2〜t3之區間將內圈偏 向訊號Vedi設定在“H” ，藉此在使第1擺動坑11移位 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公g ) .—--------^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1237818 A7 ___B7__ 五、發明說明（Γ) 到內圈側之方向輸出偏向電壓，在t4〜t5之區間將:外圈[f扁 向訊號Vedo設定在“H” ，藉此在使第2擺動坑12移位 到外圈側之方向輸出偏向電壓，其他之時間，爲了使移位 成爲〇，把偏向電壓當作〇加以輸出。 其結果，刻錄用光點31係以箭號所示之軌跡在母盤 100上進行掃描，並與發光時序進行組合來形成以陰影線 表示之預坑和溝槽。又，實際之EO驅動訊號Vemd之開 (on) ·關（off)之時序，係調整成在母盤1〇〇會正確配置在 第11圖之(b)之位置。 【發明所欲解決之技術問題】 可是，以上所述之光碟刻錄方法（裝置）有以下之問題 點。即， (問題1)若用數位偏向方式使前述EO偏向器步進變化 (以下，稱爲步進偏向），就會產生可視爲EO結晶材料之緩 和振動的不要的偏向（波動）。首先，這種現象已藉由第10 圖之(a)、（b)所示之光碟之循軌誤差訊號之測定、和溝槽之 電子顯微鏡觀測等得知。其次，在前述光碟刻錄裝置之光 程中準備好觀測偏向量之偏向量檢測機構來進行觀測。 其結果，得知這種不要的偏向，係例如500kHz到 7〇OkHz之固定圖案之雜訊，其是一種自步進偏向起經過約 10// s會衰減而消失之訊號。在第u圖之時間t7所示之區 段前端部分會產生不要的偏向。 偏向量在母盤上較大，爲10〜20nmpp。假設軌距爲 0.50//m(500mn)，貝[]能形成寬度（當作底寬)較廣之溝槽， 11 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） ---------------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1237818 A7 •ΚΙ '--11 —___B7___ 五、發明說明（^ ) I - 其寬度爲35〇nm，溝槽深度爲30nm。設溝槽側壁之傾斜角 爲30度，則傾斜部之佔有寬爲30nmx/"3x2=l〇4nm。 其結果，形成在溝槽間之島區之上邊寬至多爲 46nm(=500 - 350- 104)，偏向量20nmpp則成爲不能忽視 之値。若這種上邊寬不能維持在某種程度的話，則前述之 退火不能正常地實施，故成爲大的問題。 有關刻錄之其他變動要因，有刻錄用光學頭之輸送不 平穩、刻錄功率之變動、光阻劑感度之不平均、及顯影不· 平均等，使分配給這些變動要因之裕度(margin)大幅降低。 當然，確保在往後之形成製程之島區寬也很重要，故必須 極力抑制前述島區上邊之變動寬，此處觀測到之不要的偏 向必須加以降低。 其他，實際上若發生不要的偏向，則本應形成直直的 溝槽會波動，而成爲原訊號檢測之外部雜訊(例如，包絡變 動)和循軌誤差訊號(TE)之外部雜訊，而降低訊號處理和伺 服之性能。又，因溝槽本身波動，而改變作用於記錄膜之 應力、影響記錄再生時之熱分布，亦即可能降低記錄再生 時之偏軌裕度(off-track margin)。 特別是區段和扇區前端，因爲是容納同步訊號之重要 處，故必須保持該部分之記錄再生有高度可靠度。也就是 說必須降低不要的偏向。 (問題2)又，用前述之偏向量檢測機構觀測到在問題i 所說明之外另2種不要的偏向，一種係1Hz以下(起因於刻 錄裝置之光束路徑中之空氣波動)之緩慢波動之不要的偏向 12 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格（210、297公楚Ί " ~" 一 ---------------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1237818 1 A7 ,'_B7_ • - - ' ™— —— - - - __ 主、發明說明（p) I ' 成分。另一種係約100Hz〜1kHz(起因於刻錄裝置之各光學 元件之機械振動)之波動之偏向成分。 前者在母盤上會產生約lOOnm以上大的移位，用罩子 包覆刻錄裝置全體就能抑制之空氣流動，而使移位降至原 來的約1/10，但刻錄裝置內留有雷射光源之發熱等，而不 能使空氣流完全消失。 又，就對策而言，也能將刻錄裝置小型化來縮短光程 本身等，但由於受限於構成刻錄裝置之各光學元件實際大 小的尺寸，這也不能完全抑制所有的波動。這種1Hz以下 之波動由其與母盤轉速之關係得知不會直接造成軌距之不 均，卻會使軌之絕對位置波動。後者之100Hz〜1kHz之波 動量係如（問題1)所說明之位準，因這是在母盤旋轉1圈內 發生波動之頻帶，故會引起軌距之不均。 這2種波動除了在母盤之徑向外，在切線方向也同樣 地會觀測的到。切線方向之波動會引起預坑和溝槽之始端/ 終端之顫動。爲了得到高精度光碟之母盤，必須充分降低 以上之波動。 (問題3)在上述（問題1)、（問題2)中，業已說明刻錄所 使用之光束有受到不要的偏向的問題。除此之外，也觀察 到有光束之不要的光量變化(光量變動）之問題，其與（問題 1)、（問題2)之偏向大致同步發生。 雖雷射光源本身受到適當的光功率伺服，但經後來之 EO調變器、EO偏向器和光學元件特性和光程之影響會使 光束受到偏光成份之波動之影響。因刻錄中之光量變化直 13 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ------------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1237818 。· 1 _ B7 ________ 五、發明說明（丨h 接改變預坑之大小和溝槽寬’故也須降低不要的該光量變 化。 爲了解決以上之技術問題，本發明之目的係提供一種 光碟刻錄裝置及光碟製造方法，其係降低在光碟刻錄裝置 產生之不要的偏向成份和不要的光量變化成份，而能製作 高精細且高精度之光碟母盤。 【解決問題之技術手段】 爲了達成前述目的，本發明第1光碟刻錄裝置之特徵 在於，具有： 光束控制機構，其至少包含控制從雷射光源所射出之 之光束之光量的光調變機構、及控制前述光束在光碟母盤 徑向之偏向量的光偏向機構兩者之一； 偏向誤差檢測機構，檢測被前述光束控制機構所控制 之光束所含有之前述徑向之偏向誤差； 第2光偏向機構，置於前述光束控制機構和前述偏向 誤差檢測機構之間，用來使光束往前述徑向偏向；及 回饋機構，將使用前述徑向之偏向誤差之回饋訊號回 饋給前述第2光偏向機構。 本發明第2光碟刻錄裝置之特徵在於，具有： 光束控制機構，其至少包含控制從雷射光源所射出之 光束之光量的光調變機構、及控制前述光束在光碟母盤徑 向之偏向量的光偏向機構兩者之一； 偏向誤差檢測機構，檢測被前述光束控制機構所控制 之光束所含有之前述徑向之偏向誤差；及 14 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱) ' ------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) \mim - A7 > .， .一- · p :: 、.... .： ：_B7_._ 五、發明說明（ 回饋機構，將使用前述徑向之偏向誤差之回饋訊號回 饋給前述光偏向機構，將前述回饋量重疊在前述光偏向機 構之控制量上。 本發明第3光碟刻錄裝置之特徵在於，具有： 光束控制機構，其包含控制從雷射光源所射出之光束 在光碟母盤徑向之偏向量的光偏向機構； 記憶機構，用來記憶以前述光偏向機構使前述光束偏 • 向時所事先測定之前述徑向之偏向誤差； 第2光偏向機構，控制來自前述光偏向機構之光束偏 向量；及 前饋機構，當前述光碟母盤之刻錄時，配合前述光束 控制機構之偏向時序，將使用記憶於前述記憶機構之前述 徑向偏向誤差的前饋訊號，輸入到前述第2光偏向機構。 本發明第4光碟刻錄裝置之特徵在於，具有： 光束控制機構，其包含控制從雷射光源所射出之光束 在光碟母盤徑向之偏向量的光偏向機構； 記憶機構，用來記憶以前述光偏向機構使前述光束偏 向時所事先測定之前述徑向之偏向誤差；及 前饋機構，當前述光碟母盤之刻錄時，配合前述光束 控制機構之偏向時序，將使用記憶於前述記憶機構之前述 徑向之偏向誤差的前饋訊號，輸入到前述光偏向機構。 其次，本發明第1之光碟製造方法，係在光碟母盤之 刻錄步驟中利用光束控制機構控制光束，該光束控制機構 至少包含控制從雷射光源所射出之光束之光量的光調變機 15 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） —裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1237818 A7 ____B7___ 五、發明說明（I)) 構、及控制前述光束在光碟母盤徑向之偏向量的光偏向機 構兩者之一；其特徵在於，具有： 檢測步驟，利用偏向誤差檢測機構來檢測被前述光束 控制機構所控制之光束所包含之前述徑向之偏向誤差； 偏向步驟，利用置於前述光束控制機構和前述偏向誤 差檢測機構之間的第2光偏向機構，來使光束往前述徑向 偏向；及 回饋步驟，利用回饋機構將使用前述徑向之偏向誤差 之回饋訊號回饋給前述第2光偏向機構。 本發明第2之光碟製造方法，係在光碟母盤之刻錄步 驟中，利用光束控制機構控制光束，該光束控制機構至少 包含控制從雷射光源所射出之光束之光量之光調變機構、 及控制前述光束在光碟母盤徑向之偏向量的光偏向機構兩 者之一；其特徵在於，具有： 檢測步驟，利用偏向誤差檢測機構檢測被前述光束控 制機構所控制之光束所包含之前述徑向之偏向誤差； 重疊步驟，利用回饋機構將使用前述徑向偏向誤差之 回饋訊號回饋給前述光偏向機構，將前述回饋量重疊在前 述光偏向機構之控制量上。 本發明第3之光碟製造方法，係在光碟母盤之刻錄步 驟中，利用光偏向機構使從雷射光源所射出之光束偏向光 碟母盤之徑向；其特徵在於： 具有記憶步驟，在前述光碟母盤之刻錄步驟前，事先 測定控制光束偏向前述徑向所造成之偏向誤.差，再將該偏 16 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

1237818 A7 __B7_ 五、發明說明（β) 向誤差記憶在記憶機構； 在前述光碟母盤之刻錄步驟中，包含輸入步驟，係向 控制來自前述光偏向機構之光束偏向量的第2光偏向機構 ，配合前述光束之偏向時序，輸入使用記憶於前述記憶機 構之前述偏向誤差的前饋訊號。 本發明第4之光碟製造方法，係在光碟母盤之刻錄步 驟中，利用光偏向機構使從雷射光源所射出之光束偏向光 碟母盤之徑向；其特徵在於： · 具有記憶步驟，在前述光碟母盤之刻錄步驟前，事先 測定控制光束偏向前述徑向所造成之偏向誤差，再將該偏 向誤差記憶在記憶機構； 在前述光碟母盤之刻錄步驟中包含輸入步驟，係向前 述光偏向機構，配合前述光束之偏向時序，輸入使用前述 偏向誤差之前饋訊號。 【發明之實施例】 若依本發明之第1、2之光碟刻錄裝置，因能檢測光碟 刻錄裝置光程內之不要的偏向量並加以降低，故光碟母盤 上之光點能被定位在所希望之位置，能製作具有波動和軌 距不均都少的預坑和溝槽之光碟。若依本發明之第2之光 碟刻錄裝置，能將爲降低光偏向量而應追加之光偏向機構 之數量降至最少。 若依本發明之第3、4之光碟刻錄裝置，能事先測定用 光偏向機構使光束偏向時之徑向偏向誤差並加以記憶，故 能容易降低，用伺服機構不易降低之光偏向,時所產生之光 17 --------^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）

；〇-；___B7 —__ .________ 五、發明說明（<) 偏向機構固有之光偏向量之外部雜訊。若依本發明之第4 之光碟刻錄裝置，能將爲降低光偏向量而應追加之光偏向 機構之數量降至最少。 若依本發明之第1、2光碟製造方法，因能檢測光碟刻 錄步驟之不要的偏向量並加以降低，故光碟母盤上之光點 能被定位在所希望之位置，能製作具有波動和軌距不均都 少的預坑和溝槽之光碟。若依本發明之第2光碟製造方法 ，能將爲降低光偏向量而應追加之光偏向機構之數量降至 最少。 若依本發明之第3、4之光碟製造方法，因具有記憶步 驟而能在光碟母盤之刻錄步驟前，事先測定控制使偏向到 徑向所造成之誤差並將此誤差記憶在記憶機構，故能容易 降低，用伺服機構不易降低之光偏向時所產生之光偏向機 構固有之光偏向量之外部雜訊。若依本發明之第4之光碟 製造方法，則能將爲降低光偏向量而應追加之光偏向機構 之數量降至最少。 在本發明之第1光碟刻錄裝置中，較佳係進一步具有 第3光偏向機構，該第3光偏向機構係置於前述光束控制 機構和前述偏向誤差檢測機構之間’使前述光束偏向前述 光碟母盤上之切線方向；前述偏向誤差檢測機構’係進一 步將被前述光束控制機構所控制之光束之前述切線方向之 偏向誤差與前述徑向之偏向誤差，分別檢測；前述回饋機 構係進一步最好將使用前述切線方向之偏向誤差之回饋訊 號回饋給前述第3光偏向機構。若依這種構成’則能降低 18 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ------------ — — — — I — I ^ . -------I (請先閱讀背面之注音？事項再填寫本頁) 1237818 Ί Α7 • h/ 「 _Β7____ 五、發明說明（^ ) 徑向及切線方向之波動，而降低兩方向之不要的光偏向量 Ο 又，較佳係前述光束控制機構含有前述光調變機構； 前述偏向誤差檢測機構係進一步能檢測被前述光束控制機 構所控制之光束之光量強度誤差；前述回饋機構係進一步 將使用前述強度誤差之回饋訊號回饋給前述光調變機構。 若依這種構成，可抑制不要的偏向量，也能將刻錄時之光 點強度降至所望値，故能提供坑大小和軌距之變動都少之 良好光碟。 較佳係前述光束控制機構，進一步具有光調變修正機 構，用以控制被前述光束控制機構所控制之光束之光量； 前述偏向誤差檢測機構係進一步能檢測被前述光束控制機 構所控制之光束之光量強度誤差；前述回饋機構係進一步 將使用前述強度誤差之回饋訊號回饋給前述光調變修正機 構。在這種構成中，因能將刻錄時之光點強度抑制在所望 値，故能提供坑大小和軌距之變動都少之良好光碟。 在前述第3之光碟刻錄裝置中，較佳係前述第2光偏 向機構使前述光偏向機構和偏向方向一致，前述前饋訊號 係使前述徑向之偏向誤差之極性產生反轉之訊號。 又，較佳係進一步具有：偏向誤差檢測機構，檢測來 自前述第2光偏向機構之光束所包含之前述徑向之第2偏 向誤差；以及回饋機構，將使用前述徑向之第2偏向誤差 之回饋訊號回饋給前述第2光偏向機構。若依這種構成， 將更確實地降低不要的偏向量。 19 -------------------^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） A7 B7 Ϊ237818 五、發明說明（ 又，較佳係進一步具有第3光偏向機構，係置於前述 光束控制機構和前述偏向誤差檢測機構之間，使前述光束 往前述光碟母盤之切線方向偏向；前述偏向誤差檢測機構 係進一步將被前述光束控制機構所控制之光束之前述切線 方向之偏向誤差與前述徑向之偏向誤差分開檢測；前述回 饋機構係進一步將使用前述切線方向之偏向誤差之回饋訊 號回饋給前述第3光偏向機構。若依這種構成，能降低徑 向及切線方向之波動而降低兩方向之不要的光偏向量。 又，較佳係進一步具有光調變機構，控制被前述光束 控制機構所控制之光束之光量；前述偏向誤差檢測機構係 能進一步檢測被前述光束控制機構所控制之光束之光量強 度誤差；前述回饋機構係進一步將使用前述強度誤差之回 饋訊號回饋給前述光調變機構。若依這種構成，可抑制不 要的光偏向量，也能將刻錄時之光點強度抑制在所望値， 故能提供坑大小和軌距之變動都少之良好光碟。 在前述第4之光碟刻錄裝置中，較佳係進一步具有： 偏向誤差檢測機構，檢測前述徑向之第2偏向誤差(包含在 來自前述光偏向機構之光束內）；以及回饋機構，將使用前 述徑向之第2偏向誤差之回饋訊號回饋給前述光偏向機構 ，將前述回饋量重疊在前述光偏向機構之控制量上。若依 這種構成，將更確實地抑制不要的光偏向量。 又，在前述第1之光碟製造方法中，較佳係進一步具 有：第3光偏向機構，被置於前述光束控制機構和前述偏 向誤差檢測機構之間，使前述光束往前述光碟母盤之切線 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ----------—裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1237818 A7 B7 f 1 I·丨 —_ ——丨· _ _丨 „ — a五、發明說明（丨^ ) 方向偏向； 在檢測前述偏向誤差之步驟中，前述偏向誤差檢測機 構係進一步將被前述光束控制機構所控制之光束之前述切 線方向之偏向誤差與前述徑向之偏向誤差分開檢測；在前 述回饋步驟中，前述回饋機構係進一步將使用前述切線方 向之偏向誤差之回饋訊號回饋給前述第3光偏向機構。若 依這種構成，可抑制徑向及切線方向之波動而降低兩方向 之不要的光偏向量。 又，前述光束控制機構係具有前述光調變機構；在檢 測前述偏向誤差之步驟中，較佳係前述偏向誤差檢測機構 進一步檢測被前述光束控制機構所控制之光束之光量強度 誤差；在前述回饋步驟中，前述回饋機構係進一步將使用 前述強度誤差之回饋訊號回饋給前述光調變機構。若依這 種構成，可抑制不要的光偏向量，也能將刻錄時之光點強 度抑制在所望値，故能提供坑大小和軌距之變動都少之良 好光碟。 又，較佳係前述光束控制機構進一步具有光調變修正 機構，用以控制被前述光束控制機構所控制之光束之光量 ;在檢測前述偏向誤差之步驟中，前述偏向誤差檢測機構 係進一步檢測被前述光束控制機構所控制之光束之光量強 度誤差；在前述回饋步驟中，前述回饋機構係進一步將使 用前述強度誤差之回饋訊號回饋給前述光調變修正機構。 在這種構成中，也能將刻錄時之光點強度抑制在所望的値 ’故能提供坑大小和軌距之變動都少之良好光碟。 21 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

1237818 A7 "_B7 _ 五、發明說明（（j ) 又，在前述第3之光碟製造方法中，較佳係進一步具 有：檢測步驟，用偏向誤差檢測機構，將來自前述第2光 偏向機構之光束所含有之前述徑向之第2偏向誤差加以檢 測；以及回饋步驟，用回饋機構，將使用前述徑向之第2 偏向誤差之回饋訊號回饋給前述第2光偏向機構。若依這 種構成，將更確實地降低不要的偏向量。 又，較佳係在檢測前述徑向之第2光偏向誤差之步驟 中，進一步將被前述光偏向機構所控制之光束之前述切線 方向之偏向誤差與前述徑向之第2光偏向誤差分開檢測； 在前述回饋之步驟中，進一步將使用前述切線方向之偏向 誤差之回饋訊號回饋給第3光偏向機構(使光束偏向光碟母 盤上之切線方向）。若依這種構成，可抑制徑向及切線方向 之波動而降低兩方向之不要的光偏向量。 又，較佳係進一步具有控制步驟，其用光調變機構來 控制被前述光偏向機構所控制之光束之光量；在檢測前述 第2光偏向誤差之步驟中，前述偏向誤差檢測機構係進一 步將被前述光偏向機構所控制之光束之光量強度誤差加以 檢測；在前述回饋之步驟中，將使用前述強度誤差之回饋 訊號回饋給前述光調變機構。若依這種構成，則能將刻錄 時之光點強度抑制在所望的値，故能提供坑大小和軌距之 變動都少之良好光碟。 又，在前述第4之光碟製造方法中，較佳係進一步具 有：檢測步驟，用偏向誤差檢測機構，檢測來自前述光偏 向裝置之光束所含之前述徑向之第2偏向誤差；以及重疊 22 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -----------裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) Α7 Β7 一一-----—一—，，

IS37S18B 五、發明說明（ye) 步驟，用回饋機構，將使用前述徑向之第2偏向誤差之回 饋訊號回饋給前述光偏向機構，並將前述回饋量重疊在前 述光偏向機構之控制量。若依這種構成，將更確實地降低 不要的偏向量。 以下，邊參閱圖面邊就本發明之實施例加以說明。又 ，在以下說明中，係使用實際刻錄光碟母盤之光碟刻錄裝 置來說明光碟刻錄方法。 (實施例1) 第1圖係有關本發明實施例1之光碟刻錄裝置之方塊 圖。本圖所示之方塊圖係表示光碟刻錄裝置之構成及步驟 ，在光碟之製程中，也是光碟母盤製程之方塊圖。這種製 程在以下之第4、6、7圖中，也是同樣。在與第9圖所說 明之習知光碟刻錄裝置相同者中附加相同的號碼，故其g兌 明加以省略。E0偏向器3係用數位偏向方式進行驅動者。 擬進行刻錄之光碟格式係如第10圖之(a)所示附溝槽 之取樣伺服方式者。這種光碟刻錄裝置爲了降低母盤之徑 向不要的偏光量，追加被虛線200所圍住之作爲伺服機構 之不要的偏向降低部。其目的主要係用伺服機構來降低前 述發明所欲解決之技術問題中所說明之（問題1)之經EO偏 向器之步進偏向後之不要的偏向和（問題2)所示之波動。 在第1圖中，201係光束分離器，202係聚光透鏡， 203係2分割檢測器。2分割檢測器203係配置成與第1圖 之紙面垂直並左右（對應於光碟母盤徑向之方向）分開。光 束分離器201係用既定之比例，將光束Lc分割在物鏡5和 23 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ---------*—裝·-------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1237818 93. 〇. ί I β7 五、發明說明（/|) 聚光透鏡202。從檢測訊號之SNR確保等觀點來看，若雷 射光源1之功率充分，則較佳係分割之比例設定在各佔 50%。彼此相向之光束之形狀係必須保存在與射入光束分 離器201時相同之形狀。 聚光透鏡用來將光束聚焦在Dc，Dc之前又配置2分 割檢測器203。2分割檢測器203爲了便於調整而搭載在 XYZ平台上。被聚光之光束Lc爲了避免產生發暗所造成 之檢測誤差，而全部引導到2分割檢測器203之有效區域 〇 2分割檢測器203之輸出係被連接在差動放大器204， 當作相當於偏向量之偏向檢測訊號Vdet來加以檢測。較佳 係這種差動放大器204也從確保SNR之觀點而搭載在前述 XYZ平台。基本上，2分割檢測器203係在偏向量爲0時 ，進行對位以使偏向檢測訊號Vdet成爲0。 此處，第2圖之(a)係表示實際刻錄時之偏向檢測訊號 Vdet。在第2(a)圖之波形中，（al)係將第1擺動11偏向內 圈側時，（a2)係表示將第2擺動12偏向外圈側時，（a3)係 表示開始刻錄溝槽時。特別是偏向後會出現(a4)所示之不 要的偏向所造成之波動。 在這區段不形成位址坑13。不要的偏向所造成之波動 係從內圈偏向起經過15//S(從溝槽始端起約10//S)處，進 行相當的衰減。偏向量在母盤100上之移位爲10〜20nmpp 程度。 若用這種比例來進行換算的話，擺動移位只移位60nm 24 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） ------------裝--------訂--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

五、發明說明 ，但實際上，係使約移位200nm時之波形。這是根據第2 圖之(b)所示之偏向檢測之非線性。 也就是說，在前述之偏向量檢測方法，若爲提高檢測 •感度而在檢測透鏡(聚光透鏡)2〇2之焦點附近配置2分割檢 測器，則偏向檢測電壓Vdet會傾向飽和。在線性控制之情 形，只使用第2圖之(bl)所示之線性區域，或爲了在比線 性區域更廣範圍來使用，須對(b2)所示之非線性部分進行 修正。 爲了增加線性區域，可犧牲檢測感度，使2分割檢測 器203在光束無發暗程度下離開聚光透鏡之焦點位置。但 是，檢測感度會降低。線性之確認係藉由使施加電壓（與 EO偏向器3之偏向量成正比)變化，並繪出該施加電壓與 偏向檢測電壓Vdet之關係來判定。 回到第1圖繼續說明。偏向檢測電壓Vdet係傳送到 205之取樣保持（S/Η)電路。S/Η電路205係構成20dB/dec 之一次低通濾波器（由RC組成）。 取樣區間爲刻錄溝槽14之區間，被來自格式化器 101a之S/Η訊號所控制。實際上，如第3圖之(a5)所示， 把比溝槽14之區間稍窄之區間當作取樣區間。其他之區間 ，也就是說，把偏向中與光量當作〇之區間，係當作保持 區間。 又，格式化器l〇la和第9圖之格式化器101之不同點 在於格式化器l〇la是輸出S/Η訊號。又，第3圖係在第 11圖中追加前述S/Η訊號之圖，其他部分之說明係如在習 25 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -----------裝--------訂---------^9. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1237818 A7 _______B7___ 五、發明說明〇 知例所說明的。 S/Η電路205之輸出爲使其與目標値設定部207之輸 出(此處，設定在〇)誤差趨近0，故連接在誤差放大器206 。誤差放大器206之輸出係傳送到回饋機構之增益設定· 相位補償電路208，依需要用來補償本伺服機構之增益及 相位之回饋機構。 增益設定·相位補償電路208之輸出FB係藉由類比 偏向方式之第2之EOD驅動器209來進行直流放大作爲回 饋訊號。高速、高壓之偶極電源適合於第2之EOD驅動器 209，其以一定之放大率將前段之增益設定·相位補償電路 208之輸出加以忠實地放大。第2之EOD驅動器209之輸 出係連接在第2之EO偏向器210(置於EO偏向器3和光 束分離器201之間）。 根據以上所構成之本實施例，母盤徑向之不要的偏向 量，係藉由以增益設定•相位補償電路208進行適當的增 益設定，使（問題2)所說明之1Hz以下和100Hz〜1kHz之 波動成份因S/Η電路205之一次低通濾波器特性而充分降 低。 但是，（問題1)所說明之逐步的偏向後之波動，因基本 波爲700kHz之高頻帶，並由於第2之EOD驅動器209和 其他之電路要素之組延遲等之影響，只能將波動量降低到 數分之一。雖然那樣，但實際之波動量還是被抑制在數nm 以下，因低頻帶之波動能被充分降低，故作爲高密度光碟 刻錄裝置之實用效果可以說很大。 26 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

A7 一上也.；_B7 _ 五、發明說明（ytp 又，在本實施例中，通過光束分離器201之光束，係 沿獨立之光程前進，在各光程有可能受到個別空氣波動之 影響，故最好將光束分離器201儘可能配置在物鏡5附近 ，並將聚光透鏡202靠近光束分離器201。 又，爲了避免這種影響，利用來自母盤1〇〇之反射光 來檢測偏向量也是有效。即，也可變更光束分離器201和 物鏡5周邊之光學系統，使光束Lc通過1次，經由物鏡5 而聚焦在母盤1〇〇上成爲光點，再將其反射光引導到2分 割檢測器203，從該反射光檢測偏向量。 但是，這種情形，必須除去物鏡5所造成之發暗和來 自物鏡之聚焦用光源的外部雜訊光之影響。 又，爲了抑制刻錄時之功率設定變更所造成之伺服增 益變動，最好在差動放大器204備有AGC電路，其將2分 割檢測器203之兩輸出相加並對兩輸出之差作除算。或者 是構築AGC，其將雷射光源1之功率控制訊號傳送到增益 設定·相位補償電路208，並將增益設定在一定。 又，當雷射光源1之波長未達300nm時，若是通常之 樹脂密封之Si系之檢測器，光會被樹脂吸收而不能得到檢 測感度，故須選擇以石英玻璃之容器(can)密封之Si系等之 檢測器。又，當用本實施例製作使溝槽14擺動之格式時， 藉由從格式化器101輸出相當於擺動量之値，再將其輸入 目標設定部207，當作目標設定部207之目標値’來加以 實現。 又，在本實施例中，係用具有EO調變器2(光調變機 27 ----------—裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1237818 _B7 __ / 五、發明說明（>< ) 構）、E0偏向器3(光偏向機構)之兩種裝置之例來說明’但 依光碟之格式，即使只包含E0調變器2及E0偏向器3中 任一種裝置，也能如前述降低母盤徑向之不要的偏向量。 又，在本實施例中，所謂E0偏向器3雖另外用設置 第2之E0偏向器210之例來加以說明，但也可不設置第2 之EO偏向器210，將回饋訊號回饋給EO偏向器3，並將 回饋量重疊在EO偏向器3之控制量上。 (實施例2) 其次，針對實施例2加以說明。如前述，實施例1之 伺服機構在實用上雖非常有效，卻無法將前述（問題1)所說 明之步進偏向後之波動（以下稱爲偏向波動）降低至實際上 可忽視之程度。本實施例係表示一種具有用前饋方式消除 (cancel)該偏向波動之消除機構的光碟刻錄裝置。 具體而言，係在實施例1追加前述消除機構。當然， 依照光碟之格式，有時也會省略實施例1之伺服機構，用 僅裝有前述消除機構之光碟刻錄裝置也足夠。這種情形在 實施例3中也相同。 第4圖係本實施例之光碟刻錄裝置之方塊圖。與實施 例1相同者附加相同的號碼，故省略其說明。這種光碟刻 錄裝置係爲了消除前述偏向波動，追加了被虛線300所圍 住之不要的偏向消除部。 在第4圖中，301〜304係記憶步進偏向後所產生之偏 向波動之波形記憶體（1)〜波形記憶體(4)。305係決定各波 形記憶體輸出時序之時序控制部，其根據格式化器1〇1所 28 P氏張尺度適用中國國家標準（CNTS)A4規格（210 X 297公釐） " " .—^^^裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) j -；· ^_B7___^_ ........................_”* 五、發明說明（‘） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 輸出之偏向訊號Ved來產生時序。306係加算器，其將從 波形記憶體（1)3〇1〜波形記憶體(4)304所輸出之數位資料 予以相加，其並且將波形記憶體之總和輸出當作數位資料 來加以輸出。 307係DA轉換器(DAC)(前饋機構），其將加算器306 之數位資料轉換爲類比訊號，並當作前饋訊號FF加以輸 出，308係加算放大器，其將來自本實施例之不要的偏向 消除部之前饋訊號FF，與實施例1所說明之伺服機構之增 益設定•相位補償電路208之回饋訊號FB予以相加。加 算放大器308之輸出係透過第2之EOD驅動器209來驅動 第2之EO偏向器210。 第5圖係表示波形記憶體（1)301〜波形記憶體(4)304 之輸出時序圖。第5(a)圖係表示被偏向訊號Ved驅動之 EO偏向器3之EOD驅動訊號Vedd。在時間tl、t2、t3、 t4分別受到驅動而偏向內圈、復歸到中立、偏向到外圈、 復歸到中立。 時序控制部305係依tl〜t4之順序’分別輸出波形記 憶體（1)301〜波形記憶體(4)304所記憶之波形。在第5圖 中，波形記憶體內之資料係數位資料’但爲求容易瞭解起 見，分別用（a)、（b)、（c)、（d)、（f)之類比波形來加以表示 。讓各波形記憶體記憶EO偏向器3之逐步響應後之偏向 波動。這種波形記憶體之記憶實際上是在刻錄光碟之前事 先進行。 這種說明係如第5圖之(b)所示，將波動波形當作正弦 29 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1237818 A7 ——— _B7 _ 五、發明說明（η/j) 波之衰減振動來進行模型化，但因實際之偏向波動係含有 高次諧波成份之不規則性的値，故不是藉由計算來算出， 而是對實際所使用之Ε0偏向器3施加步進電壓，用數位 示波器等把步進電壓當作基本波形來加以取入。 設各時間之偏向量相同，則在加入其偏向方向和偏向 量之調整後將前述基本波形記憶在各波形記憶體。這種情 形，將偏向方向相同之時間tl和t4中之偏向所形成之波 形記憶在波形記憶體（1)301和波形記憶體(4)304。 又，時間t2和t3中之偏向方向係與時間tl和t4中之 偏向方向相反。因此，對於時間tl和t4中之偏向所形成 之波形，將逆極性之波形記憶在波形記憶體(2)302和波形 記憶體(3)。 用來抑制偏向波動之前饋訊號FF係將以上4個波形 記憶體之値相加後之(h)所示之波形記憶體總和輸出。 又，前饋訊號FF係爲了修正電路系統、驅動系統之 延遲等，用時序控制部305來調整起始點。又，當波形記 憶體之輸出到達偏向波動實用上能忽視之時間時，則將該 輸出當作0予以中止，以用於下一偏向週期。 用來參考，在第5圖之(d)和(g)中分別表示波形記憶體 (1)+(2)、波形記憶體(3)+(4);亦即表示偏向內圈和外圏後 進行脈衝動作時之偏向波動。若使用這種波形，則如習知 例所示之DVD- RAM，再發生偏向4次時，波形記憶體變 多爲8個，但分別按照每個脈衝來記憶，能節省4個波形 記憶體。 30 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ----------—--------訂--------. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ρί|37|18ι ^ Α7 !广一十.：. ； ___B7_ \ ~ —— -S ..........................................................—…和 一五、發明說明（7，f) 又，記憶於各波形記憶體之値雖極性不同，但實質相 同，故藉由進行1個波形記憶體之讀出之時序控制，也能 節省波形記憶體。 又，待記憶於波形記憶體之資料爲了防止（問題2)所示 之波動之影響，較佳係進行積分來消除外部雜訊之影響， 或進行收集，邊施加低頻帶之伺服邊只取出高頻帶之外部 雜訊。 若依以上所說明之本實施例，就能充分抑制用實施例 1之伺服機構完全不能降低之偏向波動。又，在實施例1 中，雖僅將溝槽14之偏向波動當作降低對象，但本實施例 也能將偏向中之第1擺動坑11和第2擺動坑12、及位址 坑13之偏向波動予以消除。藉此能同時消除第1擺動坑 11和第2擺動坑12之偏向波動，故能提高取樣伺服之循 軌精度，能精度良好地在溝槽14之中心進行循軌。 (實施例3) 其次，針對實施例3加以說明。本實施之形態係將實 施例2加以改良者，在實施例2中雖使用2個E0偏向器 ，但此處只使用1個E0偏向器，不須追加高價之E0偏向 器。第6圖係本實施例之光碟刻錄裝置之方塊圖。因與實 施例2相同者中附加相同的號碼，故省略其說明。 不同的是格式化器l〇lb、時序控制部305a、400所示 EO偏向器共用之加算放大器308a、和EOD驅動器103a。 爲了共用化，將第2之EOD驅動器209和第2之EO偏向 器210加以刪除。 31 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） *— --------^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1237818 A7 ____B7___ 五、發明說明（1) 從格式化器101b來控制EOD驅動器之控制訊號Ved2 係第3圖之(a3)所示之EOD驅動訊號Vedd放大前之類比 訊號。時序控制部305a係從控制訊號Ved2取出時序訊號 。當然，是取代控制訊號Ved2，當作從格式化器l〇lb輸 出與實施例2相同的數位訊號之偏向訊號Ved之構成’時 序控制部也可與305相同。 加算放大器308a係加算回饋訊號FB、前饋訊號FF、 和EOD控制訊號，來產生EOD控制訊號Vedd3。此處， EO偏向方式係類比偏向方式。因此，增加若干成本’且變 成複雜，但使用高電壓且高通過率之直流型放大器來作爲 EOD驅動器l〇3a。抑制不要的偏向之動作，基本上係與實 施例2相同，故其說明加以省略。 以上之構成，即使在EO偏向器3和反射鏡4之間不 能插入新的EO偏向器之情形，只要光束分離器201能插 入，就能降低不要的偏向。又，也能避免因插入新的E0 偏向器而加長光程長度，增加不要的偏向之不良影響。 又，在EO偏向器中，在1個單元中插入2個EO偏向 器者已實用化，至於使用這種方式之光碟刻錄裝置’實施 例2不追加高電壓且高通過率之直流型之放大器，能有效 地加以實現。 又，本實施例，能用以下之變更來進行相同的動作。 即，首先，將EO調變器2和EO偏向器3之順序倒過來配 置，在EO偏向器3之後方配置光束分離器201，藉以能經 常檢測偏向量。其次，S/Η電路205係通常在取樣狀態之 32 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -----1-----------II 訂--------I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) I23!818 a7 i .人.乂』 _B7____ 五、發明說明 S/H電路205和誤差放大器206之間插入能修正第2圖之 (b)所示之非線性之修正機構。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 將格式化器l〇lb之偏向訊號Ved2自加算放大器308a 卸下並輸入目標設定部207。增益設定·相位補償電路208 內之相位補償功能係轉移到不產生延遲之前述修正機構。 如以上般，若形成閉環路的話，則在EOD驅動器 103a中，在放大偏向訊號Ved2之驅動訊號重疊上降低以 誤差放大器檢測之不要的偏向量的成份，並進一步輸入被 波形記憶體所消除之訊號。其結果，EO偏向器3能實現與 本實施例3大致同樣之不要的偏向之降低。 (實施例4) 其次，針對實施例4加以說明。相對於實施例1〜3只 降低徑向之不要的偏向者，本實施例係降低切線方向之不 要的變更及不要的光量變動之例。第7圖係本實施例之光 碟刻錄方式(裝置）之方塊圖。在與實施例3相同者中附加 相同號碼，故省略其說明。又，第8圖係表示本實施例之 光量及偏向量之檢測部圖。 首先說明第8圖。在第8圖中，203a係4分割檢測器 ’係由A、B、C、D之各檢測部所構成，設置在與實施例 1〜3之2分割檢測器203相同的位置。Lm係4分割檢測 器203a上所形成之光束，若光束Lc偏向的話，在4分割 檢測器203a上就會在圖示之徑向和切線方向移位。移位方 向之稱呼法係與母盤上之光點之移位相同。切線方向之移 位(偏向量)係用（A+B) -（C + D)來加以檢測徑向之移位（ 33 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） A7 B7 Ί2|7 樹 8 文{：'· 1>1-^-" ~五、發明說明（3() 偏向量)係用（B+D) —（A+C)來加以檢測。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 各自之偏向量係用複合放大器600來進行運算。各檢 測部之光電流係用IV放大器601〜604來轉換爲電壓。然 後，用加算放大器605〜608將前述兩式括弧內之値加以運 算。 並且，用加算放大器609將光束Lm之總光量Vsum = (A+B+C+D)進行運算，除了後述之AGC外，被使用在 光刻錄裝置之不要的光量之消除。差動放大器610和611 係將前述兩式之差份加以運算，分別當作切線方向之偏向 量和徑向之偏向量。 又，這些値分別使用AGC電路612和613，用加算放 大器609之總光量Vsum來除算，規格化之切線偏向訊號 Vdett和徑向偏向訊號Vdetr被進行運算，並加以輸出。 Vdetr係與實施例1〜3之Vdet實質上相同。 在第7圖中，因本實施例之目的而追加在實施例3者 有被500之虛線所圍住之切線方向之不要的偏向降低部和. 光量變動降低部。203a和600係分別前述之4分割檢測器 和複合放大器。向構成習知之徑向偏向降低部之S/Η電路 205傳送徑向偏向訊號Vdetr，在切線方向偏向降低上使用 切線偏向訊號Vdett。

S/Η電路501、誤差放大器502、目標設定部503、增 益設定•位置補償電路504、及第3之EO驅動器505係分 別達到與S/Η電路205、誤差放大器206、目標設定部207 、增益設定·位置補償電路208、及實施例丨之第2之EO 34 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1237818 A7 :- ·_B7____ 五、發明說明（ 驅動器209相同的功能。506係被設置在E0偏向器3和光 束分離器201之間，能將光束Lc之偏向控制在切線方向之 第3之EO偏向器。 基本上，本光碟刻錄裝置不進行朝切線方向之偏向， 故切線偏向訊號Vdett係仍舊被看作不要的偏向量。調整 完成4分割檢測器203a之分割位置和電路系統之補償電壓 之歸零調整，將目標値設定部當作〇，藉此能降低切線方 向之不要的偏向量。 其次，EOM驅動器102a係與前述實施例不同，具有 修正光量變動之功能。即，將格式化器l〇lc之輸出光量之 目標値Vem2和總光量Vsum之差予以放大，在EO調變器 2之驅動訊號Vemd2中，備有進行回饋之伺服機構進行控 制，以使Vsum與Vem2大致相同，把母盤上之光量當作 目標之Vem2。 又，如前述，在光碟之母盤刻錄時進行CAV刻錄時 ，當朝向外圈，提高雷射光源1之射出光量，用刻錄半徑 來進行光量控制時，該目標値也適當地傳送給EOM驅動 器l〇2a，設定在適當的値。 若依以上所說明之實施例4，則除了能降低徑向之不 要的偏向量之外，也能降低切線方向之不要的偏向量和不 要的光量變動。 又，至於第7圖所示之實施例，雖用具有切線方向不 要的偏向控制部和光量變動控制部之雙方之例，來加以說 明，但也可是只具有兩者之一種之構成。 35 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） •裝--------訂--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 禮. 1237818 . a7

Cv ·ν : 1 ^ ______B7___ 五、發明說明（jj) 又，也可在前述實施例1之構成追加降低本實施例之 切線方向之不要的偏向量之功能、和修正光量變動之功能 。在第1圖中，在不具有E0調變器2之構成中，當追加 修正光量變動功能之情形，較佳係在E0偏向器3之後， 追加E0調變器(光調變修正機構），將有關強度誤差之回饋 訊號加以回饋給該所追加之E0調變器。 (光碟的製作） 在以上所說明之實施例1〜4之光碟刻錄裝置所製作之 玻璃母盤，係在其後之母盤製作(mastering)步驟，在母模 板(stampei*)上進行加工。即，首先就溝槽和坑部施加除去 曝光後之光阻劑(photoresist)之顯影步驟。其次，爲了準備 鑛層，進行蒸鍍鎳，用鍍鎳來增加厚度，製作母模板，將 母盤和母模板加以剝離。 而且，將所製作之母模板實施成型機用之外型和孔加 工及內面硏磨等。然後，安裝在光碟基板成型機，藉由聚 碳酸酯(polycarbonate)之射出成型，來作爲透明的光碟基板 〇 然後，用母模板裝置來製造記錄膜和反射膜，依需要 ，進行保護塗層和貼合，裝入光碟盒內，完成所希望之光 碟。 這麼一來，使用本發明之光碟刻錄裝置所製作之光碟 ，因該預坑之大小和位置、及溝槽寬和間距被正確地製作 在所希望之位置，故預坑再生之SNR變高，循軌誤差訊號 和偏差變小，溝槽寬及/或島區寬穩定，偏差小，故能顯著 36 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇 X 297公釐） . I I I ---· I I I--— It— —---- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) rmm?> A7 \ -- ! . - B7 隱.·!~--—- 1二1 提高記錄再生之性能和裕度。 相反的，若用本發明之光碟刻錄方法（裝置）來製作光 碟的話，即使更縮小軌距和坑大小，也能和習知之刻錄裝 置相同，能確保記錄再生性能和裕度，故表示能製作更高 密度之光碟。 又，以上所說明之各實施例之光碟刻錄方法，係表示 使用一條光束，來進行刻錄之1光束刻錄方式者。爲了抑 制偏向波動，若採用其他之光束來刻錄偏向之預坑形成和 不偏向之溝槽形成之2光束刻錄方式的話，則原理上，溝 槽不受偏向之影響。 但是，至於2光束刻錄方式，2個光點之高精度對位 ，即，在切向和徑向之2維方向，進行對位在0.01//m以 下係成爲新的技術問題。即使進行2光束刻錄，也能2光 束獨立檢測本發明之不要的偏向和不要的光量之變化，若 進行回饋的話，則能刻錄高精度之光碟。 又，能適用實施例1〜4之光碟，雖在例中表示習知例 之第10圖之(a)之製作，但光碟格式係包含習知例之第10 圖之(b)所示之DVD-RAM般之格式，即所謂之光碟格式。 例如，如CD和DVD-ROM般，在刻錄預坑有無之光 碟之情形，也取樣坑形成中之偏向量，能進行徑向及切線 方向之不要的偏向量之降低和光量變化之降低。 這樣的話，因能提高預坑之大小、位置精度，故能抑 制徑向及切線方向之波動，能提高SNR和循軌精度，也能 實現顫動之減低。而且，用途也不被限定在光碟，也能適 37 -------------------^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1237818 A7 ^_B7___________ 五、發明說明（if) 用在用雷射光源來形成圖案系統之高精度化。 又，由測定結果可瞭解，若降低驅動電壓之通過率的 話，則使E0偏向器逐步變化後之偏向波動變小，故較佳 係藉由刻錄速度和光碟之格式之關係，若能容許慢慢的偏 向的話，則與本發明之實施例同時實施通過率降低之機構 ，來抑制成爲原因之偏向波動。 【發明效果】 由以上之說明可知，若依本發明，則能從光碟之母盤 ，排除不要的偏向及/或不要的光量變化所起因之預坑和溝 槽之不要的變動，使用藉此所形成之高精細且高精度的母 盤，能提供大容量、高密度且適合的光碟。 【圖式之簡單說明】 第1圖係本發明實施例1之光碟刻錄裝置之方塊圖。 第2圖之⑷及(b)係表示用本發明實施例1之光碟刻錄 裝置所檢測之不要的偏向以及檢測部之感度圖。 第3圖係說明本發明實施例1之動作時序圖，（a)爲刻 錄裝置之時序圖，（b)爲製作目標光碟和母盤上之光點軌跡 〇 第4圖係本發明實施例2之光碟刻錄裝置之方塊圖。 第5圖係說明本發明實施例2之動作時序圖。 第6圖係本發明實施例3之光碟刻錄裝置之方塊圖。 第7圖係本發明實施例4之光碟刻錄裝置之方塊圖。 第8圖係表示本發明實施例4之光量以及偏向量之檢 測部圖 38 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------1--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 Α7 ，丨: ' ‘ ^ . i 丄 ： β7 .:,. r 丨―.: ~' - 一ΐ、發明說明（^) 第9圖係習知之光碟刻錄裝置之方塊圖。 第10圖係表示適合高密度化之光碟之取樣伺服方式 (a)及連續伺服方式(b)之基板構成例。 第11圖係說明取樣伺服方式之光碟刻錄裝置之動作時 序圖，（a)爲刻錄裝置之時序圖，（b)爲製作目標光碟和母盤 上之光點軌跡。 【符號說明】

Ta 軌2m Tb 軌 2m+l Tg 溝槽軌 ΤΙ 島區軌 Vdet 偏向檢測訊號 1 雷射光源 2 EO調變器(EOM) 3 EO偏向器(EOD) 4 反射鏡 5 物鏡 6 馬達 11 第1擺動坑 12 第2擺動坑 13 位址坑 14 溝槽 15 島區 16 記錄再生光點 39 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ----------—裝--------訂---------^9. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1237818 A7 B7 五、發明說明 21 LG共通位址部 22 GL共通位址部 23 溝槽 24 島區 25 記錄再生光點 31 刻錄用光點 100 光碟之母盤 101 格式化器 102 EOM驅動器 103 EOD驅動器 200 不要的偏向降低部 201 光束分離器 202 聚光透鏡 203 2分割檢測器 203a 4分割檢測器 204 差動放大器 205 取樣保持(S/Η)電路 206 誤差放大器 207 目標値設定部 208 增益設定·相位補償電路 209 第2之EOD驅動器 210 第2之EO偏向器 300 不要的偏向消除部 301 波形記憶體（1) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 12_霜 五、發明說明（，f) A7 B7 302 波形記憶體(2) 303 波形記憶體(3) 304 波形記憶體(4) 305 時序控制部 306 加算器 307 DAC 308 加算放大器 400 EO偏向器之共用部 500 切線方向不要的偏向降低部和光量變動降低部 501 取樣保持(S/Η)電路 502 誤差放大器 503 目標値設定部 504 增益設定·相位補償電路 505 第3之EOD驅動器 506 第3之EO偏向器 600 複合放大器 601〜604 IV放大器 605〜609 加算放大器 610 、 611 差動放大器 612 、 613 AGC放大器 裝---------訂------ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 41 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）

Claims (1)

1. A8B8C8D8 1237818 六、申請專利範圍 1. 一種光碟刻錄裝置，其特徵在於，具有： 光束控制機構，其至少包含控制從雷射光源所射出之 光束之光量的光調變機構、及控制前述光束在光碟母盤徑 向之偏向量的光偏向機構兩者之一； 偏向誤差檢測機構，檢測被前述光束控制機構所控制 之光束所含有之前述徑向之偏向誤差； 第2光偏向機構，置於前述光束控制機構和前述偏向 誤差檢測機構之間，用來使光束往前述徑向偏向；及 .回饋機構，將使用前述徑向之偏向誤差之回饋訊號回 饋給前述第2光偏向機構。 2. 如申請專利範圍第1項之光碟刻錄裝置，係進一步 具有第3光偏向機構，其置於前述光束控制機構和前述偏 向誤差檢測機構之間，用來使前述光束往前述光碟母盤之 切線方向偏向； 前述偏向誤差檢測機構，係進一步將被前述光束控制 機構所控制之光束之前述切線方向之偏向誤差與前述徑向 之偏向誤差分開檢測； 前述回饋機構，係進一步將使用前述切線方向之偏向 誤差之回饋訊號回饋給前述第3光偏向機構。 3. 如申請專利範圍第1項之光碟刻錄裝置，其中前述 光束控制機構含有前述光調變機構；前述偏向誤差檢測機 構則進一步能檢測被前述光束控制機構所控制之光束之光 量之強度誤差；前述回饋機構係進一步將使用前述強度誤 差之回饋訊號回饋給前述光調變機構。 ， __!___— 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

   8 一81 琴 Ϊ3 Is! 298899 ABCD 六、申請專利範圍 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 4·如申請專利範圍第1項之光碟刻錄裝置，其中前述 光束控制機構進一步具有光調變修正機構，其用來控制被 前述光束控制機構所控制之光束之光量；.前述偏向誤差檢 測機構係進一步能檢測被前述光束控制機構所控制之光束 之光量之強度誤差；前述回饋機構係進一步將使用前述強 度誤差之回饋訊號回饋給前述光調變修正機構。 5. —種光碟刻錄裝置，其特徵在於，具有： 光束控制機構，其至少包含控制從雷射光源所射出之 光束之光量的光調變機構、及控制前述光束在光碟母盤徑 向之偏向量之光偏向機構兩者之一； 偏向誤差檢測機構，檢測被前述光束控制機構所控制 之光束所含有之前述徑向之偏向誤差；及 回饋機構，將使用前述徑向之偏向誤差之回饋訊號回 饋給前述光偏向機構，將前述回饋量重疊在前述光偏向裝 置之控制量上。 6. —種光碟刻錄裝置，其特徵在於，具有： 光束控制機構，其包含控制從雷射光源所射出之光束 在光碟母盤徑向之偏向量的光偏向機構； 記憶機構，用來記憶以前述光偏向機構使前述光束偏 向時所事先測定之前述徑向之偏向誤差； 第2光偏向機構，控制來自前述光偏向機構之光束偏 向量；以及 前饋機構，當前述光碟母盤之刻錄時，配合前述光束 控制機構之偏向時序，將使用記憶於前述記彳意機構之前述 2 本紙張尺度適用中國國家標革(CNS〉A4規格(210 x 297公"* 1237818 S C8 ; D8 六、申請專利範圍 ’徑向偏向誤差的前饋訊號，輸入到前述第2光偏向機構。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 7. 如申請專利範圍第6項之光碟刻錄裝置，其中前述 第2光偏向機構係使前述光偏向機構和偏向方向一致，前 述前饋訊號係使前述徑向之偏向誤差之極性產生反轉之訊 號。 8. 如申請專利範圍第6項之光碟刻錄裝置，進一步包 含： 偏向誤差檢測機構，檢測來自前述第2光偏向機構之 光束所包含之前述徑向之第2偏向誤差；及 回饋機構，將使用前述徑向之第2偏向誤差之回饋訊 號回饋給前述第2光偏向機構。 9. 如申請專利範圍第8項之光碟刻錄裝置，進一步具 有第3光偏向機構，其置於前述光束控制機構和前述偏向 誤差檢測機構之間，用來使前述光束偏向前述光碟母盤之 切線方向； 前述偏向誤差檢測機構係進一步將被前述光束控制機 構所控制之光束之前述切線方向之偏向誤差與前述徑向之 偏向誤差分開檢測； 前述回饋機構係進一步將使用前述切線方向之偏向誤 差之回饋訊號回饋給前述第3光偏向機構。 10. 如申請專利範圍第8項之光碟刻錄裝置，進一步具 有光調變機構，用來控制被前述光束控制機構所控制之光 束之光量； 前述偏向誤差檢測機構係進一步檢測被前述光束控制 3 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格(210 X 297公釐〉 1237818;. I 1 ....6:1 I : , D8 __ —--- -------- ? r^" "1 ^ 、 y r 一· 5 e L…S、—申~請專如範圍 ’機構所控制之光束之光量強度誤差； 前述回饋機構係將使用前述強度誤差之回饋訊號回饋 給前述光調變機構。 Π.—種光碟刻錄裝置，其特徵在於，具有： 光束控制機構，其包含控制從雷射光源所射出之光束 在光碟母盤徑向之偏向量的光偏向機構； 記憶機構，用來記憶以前述光偏向機構使前述光束偏 向時所事先測定之前述徑向之偏向誤差；及 .前饋機構，當前述光碟母盤之刻錄時，配合前述光束 控制機構之偏向時序，將使用記憶於前述記憶機構之前述 徑向偏向誤差的前饋訊號，輸入到前述光偏向機構。 12.如申請專利範圍第11項之光碟刻錄裝置，進一步 具有： 偏向誤差檢測機構，檢測來自前述光偏向機構之光束 所包含之前述徑向之第2偏向誤差；及 回饋機構，將使用前述徑向之第2偏向誤差的回饋訊 號回饋給前述光偏向機構，將前述回饋量重疊在前述光偏 向機構之控制量上。 13·—種光碟製造方法，係在光碟母盤之刻錄步驟中利 用光束控制機構控制光束者，該光束控制機構至少包含控 制從雷射光源所射出之光束之光量的光調變機構、及控制 前述光束在光碟母盤徑向之偏向量的光偏向機構兩者之一 :其特徵在於，具有： 檢測步驟，利用偏向誤差檢測機構來撿測被前述光束 4 衣紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格(210 X 297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

   1237818 g C8 D8 ...... ^ 六、申請專利範圍 ‘控制機構所控制之光束所包含之前述徑向之偏向誤差； 偏向步驟，利用置於前述光束控制機構和前述偏向誤 差檢測機構之間的第2光偏向機構，來使光束往前述徑向 偏向；及 回饋步驟，利用回饋機構將使用前述徑向之偏向誤差 之回饋訊號回饋給前述第2光偏向機構。 14·如申請專利範圍第13項之光碟製造方法，進一步 具有第3光偏向機構，其置於前述光束控制機構和前述偏 向誤差檢測機構之間，用來使前述光束偏向前述光碟母盤 之切線方向； 在檢測前述偏向誤差之步驟中，前述偏向誤差檢測機 構係進一步將被前述光束控制機構所控制之光束之前述切 線方向之偏向誤差與前述徑向之偏向誤差分開檢測； 在前述回饋步驟中，前述回饋機構係進一步將使用前 述切線方向之偏向誤差之回饋訊號回饋給前述第3光偏向 機構。 15.如申請專利範圍第13項之光碟製造方法，其中前 述光束控制機構係具有前述光調變機構，在檢測前述偏向 誤差之步驟中，前述偏向誤差檢測機構係進一步檢測被前 述光束控制機構所控制之光束之光量強度誤差； 在前述回饋步驟中，前述回饋機構係進一步將使用前 述強度誤差之回饋訊號回饋給前述光調變機構。 16·如申請專利範圍第13項之光碟製造方法，其中前 述光束控制機構係進一步具有光調變修正機構，其用來控 5 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS〉A4規格(21〇 X 297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁)

   ; 入丨 ' C8 ， 一 ........ D8 .· I _ ______—- 六、申請專利範圍 制被前述光束控制機構所控制之光束之光量； 在檢測前述偏向誤差之步驟中，前述偏向誤差檢測機 構係進一步檢測被前述光束控制機構所控制之光束之光量 強度誤差； 在前述回饋步驟中，前述回饋機構係進一步將使用前 述強度誤差之回饋訊號回饋給前述光調變修正機構。 17. —種光碟製造方法，係在光碟母盤之刻錄步驟中， 利用光束控制機構控制光束者，該光束控制機構至少包含 控制從雷射光源所射出之光束之光量的光調變機構、及控 制前述光束在光碟母盤徑向之偏向量的光偏向機構兩者之 一；其特徵在於，具有： 檢測步驟，利用偏向誤差檢測機構檢測被前述光束控 制機構所控制之光束所包含之前述徑向之偏向誤差； 重疊步驟，利用回饋機構將使用前述徑向偏向誤差之 回饋訊號回饋給前述光偏向機構，將前述回饋量重疊在前 述光偏向機構之控制量上。 18. —種光碟製造方法，係在光碟母盤之刻錄步驟中， 利用光偏向機構使從雷射光源所射出之光束偏向光碟母盤 之徑向者；其特徵在於： 具有記憶步驟，在前述光碟母盤之刻錄步驟前，事先 測定控制光束偏向前述徑向所造成之偏向誤差，再將該偏 向誤差記憶在記憶機構； 在前述光碟母盤之刻錄步驟中，包含輸入步驟，係向 控制來自前述光偏向機構之光束偏向量的第.2光偏向機構 6 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

   本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格(210 X 297公釐)

   :: r.：' 卜:“ 利範圍 ，配合前述光束之偏向時序，輸入使用記憶於前述記憶機 構之前述偏向誤差的前饋訊號。 19. 如申請專利範圍第18項之光碟製造方法’進一步 具有： 檢測步驟，利用偏向誤差檢測機構檢測來自前述第2 光偏向機構之光束所包含之前述徑向之第2偏向誤差；及 回饋步驟，利用回饋機構將使用前述徑向第2偏向誤 差之回饋訊號回饋給前述第2光偏向機構。 20. 如申請專利範圍第19項之光碟製造方法，在檢測 前述徑向第2光偏向誤差之步驟中，進一步將被前述光偏 向機構所控制之光束之前述切線方向之偏向誤差，與前述 徑向之第2光偏向誤差分開檢測； 在前述回饋之步驟中，進一步將使用前述切線方向偏 向誤差之回饋訊號回饋給第3光偏向機構，該第3光偏向 機構係用來使光束偏向光碟母盤之切線方向。 21_如申請專利範圍第18項之光碟製造方法，進一步 具有控制步驟，利用光調變機構控制被前述光偏向機構所 控制之光束之光量； 在檢測前述第2光偏向誤差之步驟中，前述偏向誤差 檢測機構係進一步檢測被前述光偏向機構所控制之光束之 光量強度誤差； 在前述回饋之步驟中，將使用前述強度誤差之回饋訊 號回饋給前述光調變機構。 22·—種光碟製造方法，係在光碟母盤之刻錄步驟中， 7 (請先閱讀背面之注意事項再塡寫本頁) ，1Τ: 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) Ι23Τ8Ϊ8一 B . I \ D8 ，卜 .，， · : _ )'、 -’、---------------------- ~ '' ..* 六、申請專利範圍 •利用光偏向機構使從雷射光源所射出之光束偏向光碟母盤 之徑向者；其特徵在於： 具有記憶步驟，在前述光碟母盤之刻錄步驟前，事先 測定控制光束偏向前述徑向所造成之偏向誤差’再將該偏 向誤差記憶在記憶機構； 在前述光碟母盤之刻錄步驟中包含輸入步驟，係向前 述光偏向機構’配合則述光束之偏向時序’輸入使用則述 偏向誤差之前饋訊號。 23.如申請專利範圍第22項之光碟製造方法，進一步 具有： 檢測步驟，利用偏向誤差檢測機構，檢測來自前述光 偏向裝置之光束所包含之前述徑向之第2偏向誤差；及 重疊步驟，利用回饋機構將使用前述徑向之第2偏向 誤差之回饋訊號回饋給前述光偏向機構，並將前述回饋量 重疊在前述光偏向機構之控制量上。 8 .....................—— (請先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁) 、1T: 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS〉A4規格(210 X 297公釐〉