1237290 A7 B7 五、發明説明（彳） 〔發明之所屬技術領域〕 ·(請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明係關於對玻璃基板或半導體晶圓等的板狀待處 理物進行塗布顯影劑、洗淨劑、S ◦ G劑、抗蝕劑等之旋 轉處理裝置及使用該裝置之處理方法。 〔習知技術〕 做爲在玻璃基板或半導體晶圓等的板狀待處理物的表 面供給塗布劑或顯影劑等液劑之裝置，習知有日本特開平 7 — 284716號公報、特開平8 — 22952號公報 號或是特開平1 1 一 1 6 8 0 5 1號公報所開示之裝置。 這些習知裝置，係於配置在杯罩內之吸盤上承載板狀 待處理物，接著以吸盤固定板狀待處理物的同時供給塗布 劑或顯影劑等液劑在板狀待處理物中心部，然後接著藉由 使吸盤進行旋轉來使板狀待處理物亦整體地旋轉，藉由該 旋轉所產生之離心力使所供給之液劑能均勻散佈在板狀待 處理物之整個表面的方式進行。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 然而，液晶顯示裝置用之玻璃基板係在1片之玻璃基 板將光阻劑進行塗布•乾燥，再施以曝光、顯影等處理， 最後地從1片之玻璃基板複數切割出所指定尺寸之玻璃基 板。然後，爲了謀求生產效率化以及降低成本，而使玻璃 .基板之長寬尺寸有變大之傾向。可是玻璃基板之厚度爲 〇· 7 m m左右不改變。其結果，長方形玻璃基板之長邊 方向超出吸盤的部份變大，因自重而造成彎曲，該彎曲量 超過1 m m時就會增加所需求之液劑量於表面滿液的狀態 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -4 一 1237290 A7 B7 五、發明説明（2 ) ，而無法有穩定之表面滿液的狀態。 {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 〔發明內容〕 〔發明欲解決之課題〕 做爲上述板狀待處理物之彎曲解決手段，可考慮將吸 盤的半徑加大之手段、或者是藉由夾持具等將板狀待處理 物的外周固定之手段。 可是，將吸盤半徑加大時，板狀待處理物與吸盤會接 近，特別是板狀待處理物爲長方形時，因板狀待處理物短 邊方向之端部太接近吸盤，迴盪在板狀待處理物的背面之 液劑將會流入吸盤，並且於乾燥後有飛散附著於板狀待處 理物表面之虞慮。 此外，藉由夾持具等將板狀待處理物的外周固定之手 段時，夾持具等將是產生亂流之原因。 〔解決課題之手段〕 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 爲解決上述之課題，本發明之旋轉處理裝置，係爲於 杯罩內配置吸盤，藉由以該吸盤固定板狀待處理物並且使 之旋轉來將供給在板狀待處理物表面之液劑得以遍及板狀 待處理物的整個表面之方式進行的旋轉處理裝置中，在較 上述吸盤還外側之位置上設置有於非旋轉時由下支撐已超 出吸盤之板狀待處理物的端部下面而使板狀待處理物得以 保持水平度之支撐機構。 爲了使用上述旋轉處理裝置以供給液劑在板狀待處理 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS〉A4規格·（ 2】0\29*7公釐） 1237290 A7 B7 五、發明説明（3 ) -(請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 物表面，首先需在配置於杯罩內之吸盤上承載板狀待處理 物，其次使吸盤下降或將配置在吸盤外側之支撐機構的承 受部上昇，而由下支撐已超出吸盤之板狀待處理物的端部 下面，藉此在保持板狀待處理物的水平度之狀態下供給液 劑於板狀待處理物的表面，接著使吸盤上昇或使支撐機構 之承受部下降，在支撐機構之承受部從板狀待處理物的下 面遠離之狀態下使板狀待處理物和吸盤同時整體旋轉。藉 此，使供給在板狀待處理物表面之液劑能均布在板狀待處 理物的整個表面。 另，板狀待處理物爲長方形玻璃基板時，上述支撐機 構最好能配置在由下方支撐長方形玻璃基板之四角落的位 置上。 〔發明之實施形態〕 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於以下將本發明之實施形態根據附件圖示進行說明。 於此，第1圖爲本發明之旋轉處理裝置的縱向剖視圖，第 2圖爲同旋轉處理裝置之平面圖，第3圖爲吸盤上昇狀態 的旋轉處理裝置之縱向剖視圖。 旋轉處理裝置1 ，係在從平面看呈長方形之殼體2內 配置有環狀杯罩3。該杯罩3是由外側杯壁4和底部5所 構成，外側杯壁4係往上逐漸縮小其口徑，底部5係由上 板5 a和下板5 b所組成之雙層構造。將這些上板5 a和 下板5 b從平面看是呈圍繞旋轉器軸6之甜甜圈狀，上板 5 a之表面施有含氟樹脂塗敷，使落在其表面之顯影劑能 本纸張尺度適用中.国國家標準（CNS ) A4規格_( 210X 297公釐） -6 - 1237290
發明説明（ 順利地流動，此外，上板5 a和下板5 b所圍繞之空間係 朝旋轉器軸6而形成有開口 7之液氣分離收集空間s。 -(請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 此外，於下板5 b設有1個以上之排氣口 8，於上板 5 a和下板5 b往下方傾斜合流處設有複數個液劑排出口 9 °排氣口 8是爲要將液氣分離收集空間s減壓而設置， 而排氣口 8之上端部比下板5 b要高3 m m以上。其結果 ’進入液氣分離收集空間S內之液劑並不進入排氣口 8而 藉由液劑排出口 9排出，故可防止排氣系統之污染。 又，液氣分離收集空間S之整體形狀因是朝半徑方向 外側往下方傾斜，故使一旦回收在液氣分離收集空間S內 之液劑不會迴盪進入軸承之部份，且迴盪進入至旋轉器軸 6之液劑亦不會返回塗布空間而可順利排出。 另，做爲本發明之旋轉處理裝置，其底部並不一定要 爲雙層構造。 上述旋轉器軸6係藉由安裝在底座1 0之馬達1 1進 行旋轉的同時並藉由汽缸組件1 2之運作得以昇降，再者 於旋轉器軸6之上端安裝有吸著固定基板W之吸盤1 3。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此外，上述上板5 a以及下板5 b是介隔著支撐構件 1 4而安裝在上述底座1 0。支撐構件1 4是由下部支撐 片1 4 a 、中間支撐片1 4b以及上部支撐片1 4 c所形 成，在下部支撐片14a上用螺栓等固定有下板5b ’在 中間支撐片1 4 b上用螺栓等固定有上板5 a ，在上部支 撐片1 4 c安裝有可調整位置對小尺寸基板W施以顯影處 理時所使用之內側整流環1 5。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格U!〇X29*7公釐） 1237290 Α7 Β7 五、發明説明（5 ) 再者’本發明之旋轉處理裝置係設置有由下支撐基板 W的下面之支撐機構1 6。若基板W爲長方形時支撐機構 1 6之設置位置，則應對基板W之四角落進行設置。 上述支撐機構16係由固定在底座10上之上下方向 運作之汽缸1 7、及藉由該汽缸1 7之運作得以昇降移動 之承受部1 8所組成，汽缸1 7之圓桿係穿過下板5 b以 及上板5 a所形成之孔使其上端比上板5 a還接近上方， 於該圚桿上端固定有承受部1 8。另，爲防止液劑從形成 在下板5 b之孔混入排氣系統，故在孔之周圍設有擋牆 19° 又，於圖示例中雖有將支撐機構1 6固定在底座1 〇 之例舉，但亦可將其設置在上板5 a上等，可任意設置， 而且支撐機構1 6亦可不一定要由汽缸1 7及承受部1 8 所組成。 於以上之中，以對曝光處理結束後之基板W施以顯影 處理之例子來說明時，如第3圖所示在汽缸組件1 2之運 作下使旋轉器軸6和吸盤1 3上昇，將基板W從側面搬運 承載在吸盤1 3上。 然後，對汽缸組件1 2進行反方向運作，使吸盤1 3 下降。接著，在吸盤1 3下降至最低位置時，因爲將承受 部1 8藉由汽缸1 7之運作上昇的方式設定成使支撐構件 16之承受部18與吸盤13上面成爲同一水平面高，故| 當吸盤1 3下降至最低位置時，藉由支撐構件1 6之承受 部1 8得以支撐基板W之四角落下面，使基板W保持水平 本紙張尺度適用中國國家楯準（CNS〉Α4規格（2!0Χ297公釐） -(讀先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1237290 A7 ____B7 五、發明説明（6 ) 狀態。 .(請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 於該狀態下，從未圖示之噴嘴供給顯影劑在基板表面 使表面滿液狀態。接著，在進行旋轉處理之前使汽缸1 7 進行反方向運作，將承受部1 8下降，對馬達1 1進行驅 動使基板W進行旋轉’以去除基板w上所表面滿液狀態之 顯影劑。此時之旋轉速度爲5〜2 0 0 r p m。又旋轉時 間爲〇· 1〜1 0秒。 該旋轉速度，與使顯影劑進行乾燥時之旋轉速度相比 爲非常低速，藉由如此般之低速旋轉，使藉由離心力將顯 影劑從基板W去除之速度變慢，而從基板w飛散之顯影劑 之中大部份的顯影劑是散落在組成杯罩底部5之上板5 a 上，沿著上板5 a之傾斜朝向半徑方向外側流動，經由排 液的排出口 9而流入未圖示之顯影劑回收袋內，藉由泵浦 之驅動回收到液劑槽，以供再利用。 〔發明效果〕 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 如以上說明，根據本發明，於以吸盤固定板狀待處理 物而使之旋轉之方式的旋轉處理裝置中，由於在較上述吸 盤之外側位置設置有於非旋轉時由下支撐已超出吸盤之板 狀待處理物的端部下面以保持板狀待處理物之水平度之支 撐機構，故可在保持基板（板狀待處理物）的水平度之狀 態下供給液劑於板狀待處理物的表面，在表面滿液狀態的 液劑需求量會變少，並且能得到均一之劑膜厚度。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格< 210X 297公釐） -9- 1237290 A7 B7 五、發明説明（ 7 圖式之簡單說明〕 第1圖爲本發明相關旋轉處理裝置之縱剖視圖。 第2圖爲本發明相關旋轉處理裝置之平面圖。 第3圖爲吸盤上昇狀態之旋轉處理裝置之縱剖視圖 符號說明〕 4 5 b 7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 0 4 4 4 b 旋轉處理裝置 殻體 環狀杯罩 外測杯壁 底部 構成底部之上板 構成底部之下板 旋轉器軸 開口 排氣口 液劑排出口 底座 馬達 汽缸組件 吸盤 支撐構件 下部支撐片 中間支撐片 入請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
表纸張尺度適用中国國家標準（CMS ) A4規格·（ 21〇Χ29<7公釐） -10- 1237290 A7 B7 五、發明説明（8 ) 14c.·上部支撐片 1 5 ...內側整流環 1 6 ...支撐機構 17. · •汽缸 1 8 · · ·承受部 19·.·擋牆 S....液氣分離收集空間 W ....基板（板狀待處理物） >(讀先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中周國家標準（CNS ) A4規格（2]〇Χ29<7公釐） -11 -