TWI229405B - Substrate alignment apparatus - Google Patents

Description

1229405 玖、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明實施例大致係關於一基材校準設備。 【先前技術】 薄膜電晶體通常製成大型破璃基材或基板，用於勞幕、 平面顯示器、太陽能蓄電池、個人數位助理、行動電話等 等。薄膜電晶體藉由設置於中央傳送室周圍之一群組工具， 例如複數個真空製程室，進行連續多種類膜之沈積，其中 包含有非結晶矽、掺雜以及未掺雜之二氧化碎、氮化梦等 ♦ 這群組工具通常連結至製造界面上，此界面包含有複 數個基材儲放卡匣用以容納處理前後之基材。裝載閉鎖室 係位於製造界面與群組工具間，用以幫助基材於群組工具 之真空環境與製造界面之大氣環境間進行傳送。 如與較小之尺寸比較’例如·· 2〇〇mm甚至3〇〇mm的圓 形基材，用於顯示器之玻璃基板之裝載閉鎖室定位是比較 難的。舉例來說，玻璃基材尺寸通常超過55〇公董乘65〇 公釐，更有朝1.2平方公尺或更大的尺寸之趨勢邁進，定位 之小誤差可能會導致明顯之基材誤校準。誤校準之基材則 有較高機率受損並導致昂貴之基材耗損。此外，基材誤校 準必須由裝載閉鎖室手動移除，因此增加昂貴之生產時間 耗損與減少基材生產量。 一般而言，基材配置準確性是由位於製造界面的機器 手臂所控制，此手臂用以於基材儲放卡匠與裝載閉鎖室間 1229405 移動基材。w ’目前許多群組工具之直接用戶則提供了 製造界面與機器手臂於其m，如果由用戶提供之機 器手臂之基材配置之準確性與再現性，不在裝載閉鎖室的 設計規格内’則很可能會損害基材。_裝載閉鎖室而言， 對基材配置更有相容性是有需要的。 件（例如：用戶提供之製造界面）可 降低系統費用。 藉此，群組工具之元 以在增加設計彈性時 因此，裝載閉鎖室與基材支撐需要一 位於其上之基材之定向與定位。 裝置，用以校準

【發明内容】 基材支撐裝置通常可以校準位於其上之基材。在實施 例中，基材支撐裝置用以支撐基材，其包含有一支撐板、 第一校準構件、一第二校準構件以及一圓柱構件。第一 校準構件位於鄰近支撐板之第一邊緣，同時第二校準構件 位於鄰近支撐板之第二邊緣。圓柱構件位於第一與第二邊 緣間之第三邊緣附ϋ。第一校準構件位#支撐&上且：於 朝一第一方向驅策基材，同時第二校準構件則適於朝與第 一方向相反之第二方向驅策基材，從而在其中校準基材。 圓柱構件有一校準於第一方向之可旋轉軸，且適於驅策基 材於第三方向以繁助基材在第一與第二方向間之橫向移 動。 在本發明之另一態樣中提供了一裝載閉鎖室。在實施 例中’裝載閉鎖室具一本體且此本體含有一第一與一第 6 1229405 基材傳送埠。一支撐板係位於本體内且具有一第一表面， 此表面適於支撐基材通過第一或第二基材傳送埠。第一校 準構件位於支撐板之第一邊緣鄭近，且在支撐板之該第一 表面上的平面上，此校準構件適於朝一第一方向驅策基材。 第二校準構件位於支撐板之第二邊緣鄰近並與第一校準構 件相對，且適於朝與第一方向相反之方向驅策基材。第— 圓柱構件位於支撐板之第三邊緣鄰近，且具一校準於第— 方向之可旋轉軸。第二圓柱構件位於支撐板之相對第三邊 .緣的第四邊緣鄰近，且具一校準於第一方向之可旋轉轴。 弟一與第二校準構件根據第一座標轴將基材居中，同時第 一與第二圓柱構件根據與第一座標軸不同之第二座標軸將 基材居中，由此可相對於支撐板位置來聯合校準基材。 【實施方式】 此發明提供具有校準機構之基材支撐，其可校準或居 中位於其上之基材至預先設定之位置。此發明在下文中有 圖示說明如何利用雙基材裝載閉鎖室，如A Κ T (美商應 材股份有限公司（位於美國加州聖克拉拉之）之台灣子公司） 所提供之設備。然而在此需了解到此發明所包含之其他結 構有’例如：單基材裝載閉鎖室、多基材裝載閉鎖室、機 器手臂傳送底座、緩衝站以及其他用來支撐基材至所需正 確位置之裝置。 第1圖為製程系統1 5 0之一實施例之剖面示意圖。典 型之製程系統1 5 0包含有一傳送室1 0 8，係藉由一含有基材 1229405 校準設備1 62的裝載閉鎖室1 〇〇連結至製造界面丨丨2。此傳 送室108包含至少—真空機器手臂134於其中，且適於在 複數個週邊製程室1 32與裝載閉鎖室丨00間傳送基材。在 此實施例中，製程室132其中有一艙室為預熱室，決定基 材接受處理前之熱條件以提高製程系統丨5 〇之生產量。傳 送室1 0 8通常維持在真空狀態下，以降低每次基材傳送後 在傳送室1 0 8與個別製程室丨3 2間調整壓力之必要性。 製造界面1 1 2通常含有複數個基材儲放卡匣丨3 8以及 大氣機器手臂1 3 6。卡匣1 3 8通常係可拆除式地位於複數個 間隔140間，其中間隔ι4〇位於製造界面lu的其中一邊。 大氣機器手臂136於卡匣138與裝載閉鎖室1〇〇間用以傳 送基材。通常製造界面112的壓力會維持在大氣壓或略高 於大氣壓。 第2圖為裝載閉鎖室1 〇 〇之一實施例剖面示意圖。裝 載閉鎖室1 00包含有一主體i 02，此主體係由複數個牆 104A，1(MB、一底部206與一頂部208構成—可密閉之内部 控容1 10。裝載閉鎖室1〇〇通常藉由位於牆1〇4Α上之埠U4 來連結製造界面112 ^長條閥丨16選擇性地密閉埠丨14以使 裝載閉鎖室1〇〇之内部控容110得以隔絕大氣與製造界面 11 2 °長條閥丨丨6可被打開使得基材1 06得以通過位於製造 界面11 2與裝載閉鎖室丨00間之璋1 1 4。 裝載閉鎖室100通常藉由位於牆104B上之埠丨18來連 結傳送室1 08。長條閥120選擇性地密閉埠1 1 8以使裝載閉 鎖室1 00之内部控容11 〇得以隔絕大氣與傳送室1 〇8。長條 1229405 閥120可被打開使得基材i〇6得以通過傳送室108與裝載 閉鎖室1 0 0。本發明有關長條閥具效益之範例，則根據1 9 9 6 年12月3日授與preeeks之美國專利Νο·5,579,718與2000 年4月4日授與Tepman等人之美國專利ν〇·6,045,620中之 描述。 主體102另外還包含至少一開口（p〇rt)，經由此開口可 加強内部控容1 1 0之壓力控制。第1圖所描述之實施例中， 主體102包含有一排氣口 122以及一真空棒124位於其上 並穿透主體102。閥126與閥128分別與排氣口 122與真空 埠124相連結，選擇性地防止流體通過。真空埠丨24連結 至真空幫浦1 30，利用幫浦選擇性地降低内部控容之壓力， 使其此與傳送至之壓力相配合。當傳送室與裝載 閉鎖室100間之壓力大略相等，長條閥12〇可被打開使得 處理過之基材得以被傳送至裝載閉鎖室i00，而即將被處理 之基材則藉由真空機器手臂134傳送至傳送室1〇8。 置放由傳送罜108返回之基材於裝載閉鎖室1〇〇後， 長條閥120被關閉，且閥126被打開使空氣得以進入裝載 閉鎖室100提高内部控容110之壓力。一般.來說，空氣經 由排氣口 122進入内部控容11〇，而排氣口則可過滤減少可 能之基材微粒污染。一旦裝載閉鎖室1〇〇與製造界面ιΐ2 内部之壓力大約相等時，長條閥116會被打開以使大氣機 器手臂U6可以於裝載閉鎖室1〇〇以及與製造界自ιΐ2連 結之卡匣1 3 8間傳送基材。 為了將大氣機器手臂 1 3 6所需之精確度與正確性降至 1229405 取低’一位於裝載閉鎖室100内之支撐板160適於接收由 大氣機器手臂136傳送過來的基材；其中支撐板上裝配有 至少一校準設備1 62，此設備可將基材1 06相對支撐板1 60 的位置做定位。舉例來說，校準設備1 62可以校正由大氣 機器手臂136傳送遞放於支撐板160上之基材106上之不 正確的沉積位置，以及相對於支撐板160之基材106的預 定位置。位於裝載閉鎖室1〇〇内之校準設備162係以有別 於傳統利用大氣機器手臂136來調整基材位置之校準方法 來對基材1 06之位置進行校準，使得校準更具彈性且系統 成本更低。例如，具校準設備162之支撐板160提供更大 相容性於裝載閉鎖室1〇〇與用戶提供之製造界面112間。 既然裝載閉鎖室100對於基材在支撐板16〇上之位置更具 有容忍度，因此可以降低機器手臂極度精密之需要或者由 製造界面供應者所生產之可校正機器手臂移動之演算法。 此外，隨著大氣機器手臂丨3 6之精確位置設計需求減少後， 較不昂貴之機器手臂也能夠被應用於此。 第2圖中所繪示之第一支撐板16〇 ,有一校準設備Μ? 係位於一雙基材處理裝置内之一第二支撐件2〇2上。此發 明之實施例，包含至少一具有校準機構之基材支撐板，可 使用零或複數個附加支撐板；這當中的部份單元、全數單 元或是無一單元皆可被包含在校準機構中。 第一支撐板160與第二支撐件2〇2分別支撐基材於一 相疊之平行方向於裝載閉鎖室1〇〇内，且其位置可使用大 氣機器手臂136與真空機器手t 134。—般而言，第1撐 10 Ϊ229405 板160用以支撐基材進入傳送室1〇8，同時第二支撐件2〇2 則用以支撐基材返回製造界面US。第一支撐板l6〇通常與 主體1〇2相連結至底部206。如第2圖與第3圖所繪示，柵 柱204連結第一支撐板160至底部2〇6。柵柱2〇4通常會被 安排有一相間隔之距離，以幫助基材於第二支撐件2〇2上 之疋位。此外，栅柱2 04擁有足夠大之空間使得冷卻板2丄4 在其中為可移動。 第二支撐件202支撐基材介於第一支撐板16〇至底部 206間。第二支撐件202可為一由栅柱2〇4或其他構件所支 撐之平面。如第2圖與第3圖所繪示之實施例，第二支撐 件202包含有複數個基材支撐柱230連接至底部206，每一 基材支撐柱230末梢有一末端232用以界定出一平面，用 來支撐基材之表面。在傳送基材時，基材支撐柱23〇 一般 的配置為’不妨害真空機器手臂134與大氣機器手臂136。 基材之溫度控制可以被附加於裝載閉鎖室i 〇 〇内。舉 例來說：本體102之頂部208包含有一透視窗210，其有一 輻射加熱器212鑲彼於其上。輻射加熱器212經由透視窗210 照射基材，以加熱位於第一支撐板160上之基材。此外， 有一冷卻板214位於第一支撐板160至本體102之底部206 間。冷卻板2 1 4含有複數個貫穿其中的孔隙228，因此基材 支撐柱23 0得以穿過冷卻板2 1 4。冷卻板2 1 4通常會連結至 一升高機制2 1 6，此機制係位於裝載閉鎖室1 〇〇外部。此升 高機制216可被啟動，用以使冷卻板214沿著基材支撐柱230 移動。升高機制216移動冷卻板214靠近保持位於第二支 1229405

撐件202末梢之末端232之基材，藉此可在大氣機器手臂 傳送基材前將之冷卻。冷卻板214可以將基材舉離第二支 撐件202，使其熱傳送達最大。冷卻板214藉由一動態之密 封墊，如：蛇腹218，連結至本體1〇2之底部206。一實施 例中，冷卻板214包含有一或複數個導管220，經由一軸224 連結至一熱傳送流體源222，此軸224係連接冷卻板214至 升高機制2 1 6。由熱傳送流體源222所提供之流體，流經導 管220以移除從基材傳送至第二支撐件202之熱。

第3圖所繪示為第一支撐板160與第二支撐件202之 立體圖。第一支撐板160包含複數個支撐元件302，其適於 維持基材與第一支撐板160有一相間隔之距離。支撐元件302 之高度，使基材間之大氣機器手臂136與真空機器手臂134 之把手，得以將基材置於支撐元件302與第一支撐板160 上。第一支撐板160上之支撐元件302間會形成通道，以 提供大氣機器手臂136與真空機器手臂134之把手空間。 同時支撐元件302可平行移動基材至第一支撐板160上之 平面’除不刮傷之外也不會損害到基材。支撐元件302可 以為低摩擦襯塾、滾球或是氣軸（air bearings)。第3圖所繪 示之實施例，支撐元件302由不鏽鋼或高分子所製造，例 如·氣鬲分子或PEEK(polyetherether ketone)。第二支標件 2 02末梢之末端232也包含有支撐元件302，以減少對基材 可能之損害。 第一支撐板160通常包含有複數個校準設備162。校準 設備162連結至第一支撐板16〇或至本體1〇2之一部份。 12 1229405 校準設備162 、 1 6 0之# 、以聯合確認基材是否已相對於第一支撐板 進抓供置而破置放於一預定位置上。一般來說，第一對校 +汉爾用以沿 奢—第一座標軸334校準基材，同時第二對 枚早吹備用以、、儿_ 將美鉍 /Q者—第二座標軸336校準基材，由此聯合 甲土何移至》 一 于應於第一支撐板160之預定位置。通常第 一厘 細 + 垂直於第二座標軸336。 1¾常第_ 校準設備330包含有至少一第一校準構件 3 0 4 A.與一> 裳一、 —校準構件304B，係位於第一支撐板16〇之相 上。校準構件304A-B分別位於一第一支撐板16〇之第 =邊緣340與第二邊緣342上，且沿著第一座標軸334聯 合校準基材。第二校準設餚332包含有一第一圓柱構件3〇6a 與一第二圓柱構件3〇6B，係分別位於第一支撐板“Ο上之 第三邊緣344以及與第三邊緣3料相對之第四邊緣346。第 一與第二圓柱構件306A_B，沿著不同於第一座標軸334之 第一座標軸336聯合校準基材。第一與第二校準設備33〇,332 聯合校準基材’使基材可相對於第一支撐板160之位置而 被置放於一預定位置上’藉此可避免在傳送及處理基材時 因誤校準所引起損害。 第3圖所繪示之實施例，第一校準設備3 3 0與第二校 準設備332位於第一支撐板160之四個邊緣34〇,342,344,346 上。每一校準設備330,332通常包含至少有二個校準構件 304A-D與至少二個圓柱構件306A-D。校準構件與圓柱構件 組合所構成之校準設備，會聯結至比鄰第一支撐板1 60邊 緣之第一表面308，且適於將位置錯誤之基材移動至其預定 13 1229405 位置上。校準構件與圓柱構件組合所構成之校準設備，通 常以垂直方向移動基材；然而，校準構件與圓柱構件也可 以其他方向來移動基材。 第4圖所繪示為第一支撐板16〇之剖面示意圖，其有 一第一校準設備330橫越第一支撐板16()之相對邊緣 340，342。第一校準設備330通常包含有第一校準構件3〇4a 與第二校準構件304B。第一校準構件3〇4A聯結至第一支 撐板160之第一邊緣340。第一校準構件3〇4A至少有部份 材料係由可減少基材之沾污、刮傷或污染的材料製成，或 是塗覆上可減少基材之沾污、刮傷或污染的材料組成。在 實施例中，第一杈準構件3 04A由不鏽鋼或高分子所構成， 例如：氟高分子或PEEK。 第一杈準構件304A包含有一第一部份4〇6與一第二部 份408。第一部份406通常聯結至第一支撐板16〇之第一表 面3 08。第一部份406包含有一底座41〇，其有一平行於第 一支撐板160之上表面412。上表面412位於第一支撐板160 之第一表面308的上方，且其高度為約等於或略高於支撐 元件302之高度。此上表面412朝向第一支撐板160中心414 的一頭逐漸變得尖細。 第二校準構件304A之第二部份408突出於第一支撐板 160之第一表面308及底座410之外。第二部份408包含有 一斜面416’其與第一支撐板16〇之第一表面3〇8決定了一 銳角。在一實施例中，斜面416之銳角約介於60至80度 間。斜面416通常適於向第一方向42 0移動與之接觸之基 14 1229405 材106 ’ 一般係朝向第一支撐板ι6〇之中心414。 第一校準構件304B係位於第一支撐板16〇上之第一校 準構件304A對面之第二邊緣342。第二校準構件3〇4B係 包含有一底座42 8、一上表面43〇與一斜面426，其中斜面 係位於第一支撐板160上，且其以第一支撐板160之中心414 …第一权準構件3〇4A成鏡像排列。因此第二校準構件 又斜面426適以移動與之接觸之基材往與第一方向42〇相 反之方向 工作距離434係位於相對面之第一與第二校準構件 3〇4A 、304B的底座與斜面間，通常的配置約略相當於為 基材位置設計參數所能容許的誤差範圍内，該基材位置 係相對於一位於構件3〇4A，304B方向間之第一支撐板16〇 〈位置。一校正區域436係為在斜面416、426上移動一不 在適當位置之基材的一段距離。舉例來說，一未校準之基 材藉由大氣機器手臂（未繪示於圖中）降至第一支撐板16〇 上，基材106接觸到第一校準構件之斜面416，例如：第一 校準構件304A。斜面416之角度418驅策基材1〇6往第一 万向420，以捕捉基材位於第一校準構件3〇4A與其所相對 <第二校準構件304B間。基材1〇6持續沿著斜面416移動， 直到基材106之底部432位於第一校準構件3〇4A與第二校 準構件304B之底座410,428上時，此時使基材不受損害地 安全傳送，基材106係位於工作距離434内移動且其被正 確地置於適當位置（根據第一方向所決定之個別座標軸）。 其他校準構件也依相似之方式配置。 15 !229405 第一圓柱構件306A通常聯結至第—支撐板16〇且其有 -校準於第-方向42〇之可旋轉軸44G(換言之，可旋轉轴 440與第一方向420只有數角度之相差）。在一實施例中， 可旋轉軸440平什於第一方肖42〇。或者可旋轉轴亦可 相對於第方向420而配置為一銳角。在此實施例中，可 旋轉軸440相對於第一支撐板16〇之第—表面3〇8之高度， 為約等於或略低於第一校準構件3〇4A之底座41〇之上表面 412之高度。第一圓柱構件3〇6A可由不鏽鋼或高分子所構 成，例如：氟高分子或PEEK。 一般而言，第一圓柱構件3〇6A位於第一支撐板16〇之 邊緣，係鄰近第一校準構件3〇4A所位之第一邊緣34〇。第 一圓柱構件306A通常位於使圓柱構件至少有一部份係位於 斜面416與上表面412相交處内部。第三圓柱構件3〇6C與 第一圓柱構件306A位於第一支撐板16〇上相同之邊緣。 第5圖為第一支撐板丨6〇之剖面示意圖，所输示之範 圍為基材106、第一圓柱構件306A與第二圓柱構件3〇6B 之間。第一與第二圓柱構件3〇6A與3〇6B位於第一支撐板 160之相對邊緣上。且沿著一不同於第一座標軸334之第二 座標轴336聯合校準基材。第一與第二圓柱構件3〇6A-3〇6b 可同時用以與第一與第二校準構件304 A-B可相對於第一支 撐板160來聯合校準基材至一預定位置，且此位置可免於 基材於傳送或處理過程因誤校準而受損害。 第一圓柱構件306A通常沿著一第三邊緣344聯結至第 支知板1 6 0 ’其第三邊緣3 4 4如第4圖所繪示為聯結至第 16 1229405 與第二邊緣340,342。第一圓柱構件3〇6A之可旋轉軸44〇 、’行於弟二邊緣；344。弟一圓柱構件3〇6A有一外圍半徑502 係為適於朝第二方向504移動與其接觸之基材，一般而言 但非絕對，第二方向504與第4圖所繪示之第一方向42〇 垂直。第一圓柱構件306A之外圍半徑502通常由一不刮傷、 不沾污或其他污染基材106之材質所構成或塗覆上一不刮 傷、不沾污或其他污染基材106之材質。第二圓柱構件3〇6B 通苇位於一與第一支撐板16〇上之第三邊緣344相對之第 四邊緣346。第三圓柱構件306D包含有一外圍半徑514。 外圍半徑514適以往與第二方向504相反之方向移動與之 接觸之基材。因此，第一與第二圓柱構件306A-b可以在 其中聯合移動基材至預定之位置。 一工作距離510由第一與第二圓柱構件3〇6a，3〇4B之 外圍半徑502,5 14來決定，通常的配置約略相當於一基材位 置設計參數所能容許的誤差範圍内，該基材位置係相對於 一位於構件304A，304 B所定義的第二座標軸336之第一支 樓板160之位置。一校正區域512係為在圓柱306A，306B 上移動一不在適當位置之基材進入工作距離51〇的一段距 離。校正區域512之半徑約等於或略小於圓柱3〇6A，306B 之半徑。圓柱306A，306B之半徑應選擇為，不高至於因突 出而損害由第1圖所繪示之機器手臂134，136所傳送之基 材。舉例來說，一未校準之基材106藉由大氣機器手臂（未 繪示於圖中）降至第一支撐板160上，基材1〇6接觸到圓 柱（，例如：第一圓柱構件306A )之外圍半徑502。基材106 17 1229405 與外圍半徑50·2之接觸點偏移以及藉由可旋轉軸440而旋 轉之第一圓柱構件306Α，由此可驅策基材朝第二方向 5 04且朝向第一支撐板160之中心以及第二圓柱構件306Β。 基材106朝第二方向5〇4持續移動，且圓柱構件306Α會轉 動直至基材106底部432接觸到第一與第二校準構件 3 04Α，3 04Β之底座才停止；在此基材1 06係位於工作距離5玉〇 内且根據第二座標軸336移動，同時將其正確置於適當位 置使其安全傳送不受損害。

以上所述僅為本發明之較佳實例而已，並非用以限定 本發明之申請專利範圍；凡其它未脫離本發明所揭示之精 神下所完成之其他或更進一步之實施例，均應包含在下、成 之申請專利範圍内。 【圖式簡單說明】 上述本發明之手法可被達成及詳細了解，且在上文中 有簡短摘要做更詳細之描述，其位於附加圖示之圖例則可 作為相關實施例之參考。然而在此需注意，附加圖示僅表 7JT出本發明之典型實施例，並非用以限制其範圍，因此本 發明同時也承認其他等效之實施例。 第1圖為群組工具之一實施例，其中包含有裝载閉鎖室連 接此群組工具至一製造界面； 第2圖為第1圖之裝載閉鎖室的剖面示意圖； 第3圖為校準設備之第一支撐板之一實施例的立體圖· 第4圖為第3圖之第一支撐板的側視圖；以及 18 1229405 第5圖為第一支撐板的剖面示意圖，其所取之剖面為第4 圖之線段5 - 5。 為了幫助理解，在任何情形下儘可能地使用完全相 同之參照號碼，來標明圖示中常見之相同元件。 102.主體 104B.牆 I 0 8 .傳送室 112.製造 II 6.長條閥 120.長條閥 124.真空埠 1 2 8 ·閥 1 3 2.製程室 1 3 6.大氣機器手臂 140.間隔 150.製程系統 162.校準設備 2 0 4.棚·柱 208.頂部 212.輻射加熱器 2 1 6.升高機制 220.導管

【元件代表符號簡單說明 100.裝載閉鎖室 104A.牆 106.基材 1 1 0.内部控容 1 14.埠 1 1 8 .埠 122.排氣口 126.閥 130.真空幫浦 134.真空機器手臂 138.卡匣 142.校準設備 160.第一支撐板 202.第二支撐件 206.底部 2 1 0.透視窗 2 1 4.冷卻板 2 1 8 .蛇腹 19 1229405 222.流體源 228.孔隙 232.末端 304.校準構件 308.第一表面 332.第二校準設備 336.第四校準設備 342.第二邊緣 346.第四邊緣 406.第一部份 410.底座 4 1 4 ·中心 418.角度 422.第二校準構件 428.底座 432.底部 436.校正區域 440.軸 444.軸 504.第二方向 5 1 2.校正區域 224·軸 230.柱 302.支撐元件 306.圓柱構件 330.第一校準設備 334.第三校準設備 340.第一邊緣 3 44.第三邊緣 402.第一校準構件 408.第二部分 412.上表面 416.斜面 4 2 0.第一方向 426.斜面 430.底座 434.工作距離 438.第一圓柱 442.第二圓柱 5 02.外圍半徑 5 1 0.工作距離 5 14.外圍半徑

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Claims (1)

1229405 面與該支撐板之該第一表面所界定出之角度約介於60至80 度。 5·如申請專利範圍第丨項所述之基材支撐裝置，其中該固 定基材支撐表面包含一上表面’其適以維持該基材與該第一 表面有一相間隔之距離。 6·如申請專利範圍第1項所述之基材支撐裝置，其中該固 定基材支撐表面包含： 一斜面，其係延伸於該第一表面之上，且朝向該支撐板 中心；以及 一底座’其係連接至該斜面且朝向該支撐板中心延伸。 7.如申請專利範圍第6項所述之基材支撐裝置，其中該底 座更包含一平行於該支擇板平面之一上表面，或是朝向該支 撐板中心的一頭逐漸變得尖細。 8·如申凊專利範圍第7項所述之基材支撲裝置，其中該第 一圓柱構件之該軸的位置，相對於該支撐板高度而言，係約 專於或略低於其上表面之高度。 9·如申請專利範圍第1項所述之基材支撐裝置，其中該 第一圓柱構件適用以驅策該基材之方向實質上垂直於該第 一方向。 22 1229405 10·如申請專利範圍第1項所述之基材支撐裝置，更包含 一第二圓柱構件，其係位於鄰近該支樓板第三邊緣對面的第 四邊緣上。 U·如申請專利範圍第1項所述之基材支撐裝置，更包 含： 複數個支撐元件，位於鄰近該支撐板之第一表面，其適 以維持該基材與該支撐板有一相間隔之距離。 12·如申請專利範圍第11項所述之基材支撐裝置，其中 該固定基材支撐表面更包含： —斜面’延伸於該第一表面之上且面向該支撐板之中 心；以及 一底座’其係連接至該斜面且朝向該支撐板中心延伸， 相對於該支撐板之該一表面而言，該底座之高度略高於或略 等於支撐元件之高度。 13 ·如申請專利範圍第11項所述之基材支撐裝置，其中 至少一支撐元件係為一低摩擦襯墊或滾球。 14·一種用以支禮之基材支擇裝置，該裝置至少包含 一表面適以支撐該基材； 第二校準構件，係位於鄰近該支撐 一支撐板，係有一第 一第一校準構件與一 23 1229405 板之相對立的邊緣上’該第一與 面位於該支撐板之該第—表面之校準構件各別有-斜 沿著由該第一與該第二校準構伴：面上，且適以驅策該基材 w择一 構件所定義之-第-路線，朝向 該支標板中心移動；以及 一第一圓柱構件與一第- 拓 一回柱構件，位於鄰近該支撐 ^ ^ ^ ^ 驅戒該基材沿著由該第一與該 私^ ^ 弟一路線，朝向該支撐板之中心移 動’其中該第一路線與該第-敗

弟一路線方向間夾著一個角度。 述之基材支撐裝置，其中 方向之可旋轉軸。 is·如申請專利範圍第14項所 該第一圓柱構件有一平行於該第一 _ I6·如申請專利範圍第14項所述之基材支撐裝置，其中 該一杈準構件之該些斜面與該支撐板之該第一平面界定出 一約介於60至80度之一角度。

1 7 ·如申請專利範圍第1 4項所述之基材支撐裝置，其中 該些校準構件更包含： 一上表面，係位於相對於該支撐板中心之斜面内部， 且適以維持該基材與該第一表面有一相間隔之荜離。 18·如申睛專利範圍第I?項所述之基材支撐裝置’其中 該上表面係平行於該支撐板平面或朝向該支撐板中心的一 頭逐漸變得尖細。 24 1229405 19·如申請專利範圍第18項所述之基材支撐裝置，其中該 第一圓柱構件之該轴的高度，相對於該支撐板高度而言係約 等於或略低於其上表面之高度。 2〇·如申請專利範圍第14項所述之基材支撐裝置，更包 含： 複數個支撐元件，係位於該支撐板的第一表面，其適以 維持該基材與該支撐板有一相間隔之距離，其中至少一支撐 元件為一低摩擦襯墊或滾球。 1·如申喷專利範圍第14項所述之基材支撐裝置，其中該 第路線與該第二路線係互相垂直。 22*種用以支撐之基材支撐裝置，該裝置至少包含： 支撐板’係含有一第一表面適以支撐該基材； 之第=第一校準構件與一第二校準構件，位於鄰近該支撐板 上邊、緣且適於朝一第一方向驅策該基材，該第一與該 :奴準構件各別有一斜面，係延伸於該支撐板第一表面平 方’且其朝向該支撐板中心； 一第三校準構件與一第四 之第二邊緣，且適於往與該第 材11亥第二與該第四校準構件 异板第一表面平面上方，且朝 校準構件，位於鄰近該支撐板 一方向相反之一方向驅策該基 各別有一斜面，係延伸於該支 向該支撐板中心； 25 1229405 第一圓柱構件盘—楚一 Γ-» 夕势〜弟二圓柱構件，位於鄰近該支撐板 <弟二邊緣，該第三邊 篦. 緣係位於該第一與該第二邊緣間，該 第一與該第二圓柱構件 赭虹 合別有一平行於該第一方向之可旋 轉軸；以及 一第三圓柱構件盘—结 /、 第四圓柱構件，位於鄰近該支撐板 第四邊緣，該第四邊矮么 透緣係位於該第三邊緣對面，該第三與 該第四圓柱構件各別有一 ^ 十仃於該第一方向之可旋轉軸。 23.如申請專利範圍第 些校準構件之該些斜面界 22項所述之基材支撐裝置，其 定出一介於60至80度之角度 中該

24·如申清專利範圍第23項所述之基材支撐裝置，其中每 一該些校準構件更包含：

一上表面，係位於相對於該支撐板中心之斜面内部並且 其適以維持該基材與該第一表面有一相間隔之距離。 25 ·如申請專利範圍第24項所述之基材支撐裝置，其中該 上表面係平行於該支撐板平面或朝向該支撐板中心的一頭 逐漸變得尖細。 2 6.如申請專利範圍第25項所述之基材支撐裝置，其中該 第一圓柱構件之該軸的高度，相對於該支撐板高度而言’係 約等於或略低於其上表面之高度。 26 1229405 27.如申請專利範圍帛22肖所述之基材支禮裝置更包 含： 複數個支撐元件，位於該支隸的第—表面，其適以維 持該基材與該支撐板有一相間隔之距離，其中至少一支撐元 件係為一低摩擦概塾或滾球。 28·-種用以在_第_環境與—第二環境間傳送基材之裝 載閉鎖室，該裝載閉鎖室包含： 一主體，其具有一第一基材傳送埠與一第二基材傳送埠； 一支撐板，係位於該主體内且含有一第一表面適以支撐 基材通過該第一或該第二基材傳送槔； 一第一校準構件，係位於鄰近該支撐板之第一邊緣且延 伸於該支撐板第一表面平面上方，具有一固定基材支撐表面 之該第一校準構件適於朝一第一方向驅策該基材； 一第二校準構件，係位於鄰近該支撐板之一第二邊緣且 延伸於該支撐板之該第一表面的平面之上，該第二校準構件 具有之設置方向係能相對於該支撐板中心與該第一校準構 件彼此成鏡像排列，以及具有一固定基材支撐表面，適以朝 向與該第一方向相反之方向驅策該基材； 一第一圓柱構件，係位於鄰近該支撐板上之一第三邊 緣，該第二邊緣係位於該第一邊緣與該第二邊緣間，該第一 圓柱構件含有一可旋轉基材支撐表面及一與該第一方向對 準之可旋轉轴；以及 27 1229405 一第二圓柱構件，位於鄰近該支撐板上之一第四邊緣， 該第四邊緣係位於第三邊緣對面，該第二圓柱構件含有一可 旋轉基材支撐表面及一與該第一方向對準之可旋轉軸。 29·如申凊專利範圍第28項所述之裝載閉鎖室，其中該固 定的基材支撐表面包含有一斜面，其係適以由該第一方向驅 策該基材。

3 0·如申請專利範圍第29項所述之裝載閉鎖室，其中該斜 面與該支撐板的該第一平面界定出一約介於6〇至8〇度之一 角度。 3 1 ·如申請專利範圍第28項所述之裝載閉鎖室，其中該 固定基材支撐表面包含： 一斜面，其係延伸於該第一表面之上方且朝向該支撐板 中心；以及

一底座，其係連接至該斜面且朝向該支撐板中心延伸。 32.如申請專利範圍第31項所述之裝載閉鎖室，其中該底 座更包含一平行於該支撐板平面之上表面，或朝向該支撐板 中心的一頭逐漸變得尖細。 33 ·如申請專利範圍第32項所述之裝載閉鎖室，其中該 第一圓柱構件之該軸的高度，相對於該支撐板高度而言，係 28 1229405 約等於或略低於其上表面之高度。 34·如申請專利範圍第28項所述之裝載閉鎖室，更包含： 複數個支撐元件，位於該支撐板之第一表面，係適以維 持該基材與該支樓板有一相間隔之距離。 Φ 35. 如申請專利範圍第34項所述之裝載閉鎖室，其中至少 一支撐元件係為一低摩擦襯墊或滾球。 36. —種用以在一第一環境與一第二環境間傳送基材之 裝載閉鎖室，該裝載閉鎖室包含有： 一主體，係有一第一基材傳送埠與一第二基材傳送琿； 一支撐板，係位於該主體内且含有一第一表面適以支撐 基材通過該第一或該第二基材傳送埠； -支撐板，係有一第一表面適以支撐基材； 第％L準構#與第二校準構件，係、位於鄰近該支撲板 之第：邊緣且適以朝一第一方向驅策該基材，每一該第一與 該第*一权準構件肖合古_ Aj! 有一斜面’係延伸於該支撐板第一表面 之上，且朝向該支撐板中心； 一第三校準構件與第 咕^ 仅+構件’係位於鄰近該支撐板 之第二邊緣且適以由與該第一 ^ ^ 、 第 方向相反之方向驅策該基 材，每一該第三與該第四校準 早構件包含一斜面，係延伸於該 支撐板第一表面之上日㊂ I上且朝向該支撐板中心； 一第一圓柱構件與第二圓柱 狂構件’係位於鄰近該支撐板 29 1229405 上之第：潘 η,诗Γ 、緣，該第三邊緣位於該第一邊緣與該第二邊緣 ”:-與第二圓柱構件含有一與該第一方向平行之可旋 支撐板上 該第三與 第一圓柱構件與一第四圓柱構件，係位於該 之第四邊緣’該第四邊緣係位於該第三邊緣對面， 第四圓柱構件含有—平行於該第一方向之可旋轉轴 如申4專利範圍第36項所述之裝載閉鎖室，1 校準構件之該些斜面與該支撐板之該第—表面界= 度’其約介於60至80度。 3 8 ·如申请專利範圍第36項所述之裝載閉鎖室，其中每一 校準構件更包含： ^ 一上表面，其係位於相對於該支撐板中心之斜面内部並 且其適以維持該基材與該第一表面有一相間隔之距離。 39·如申請專利範圍第38項所述之裝載閉鎖室，其中該上 表面平行於該支撐板平面或朝向該支撐板中心的一頭逐漸 變得尖細。 40.如申請專利範圍第3(5項所述之裝載閉鎖室，其中該第 一圓柱構件之該軸的高度，相對於該支撐板高度而言，係約 等於或略低於其上表面之高度。 30 1229405 41.如申請專利範圍第36項所述之裝載閉鎖室，其中還包 含有： 複數個支撐元件，係位於該支撐板之第一表面，適以維 持該基材與該支撐板有一相間隔之距離，其中至少一支撐元 件係為一低摩擦襯墊或滚球^

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