玖、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於-種-面將平面面板顯示器用玻璃基板、 半導體晶圓、印刷電路板等基板每片用並排設置的多數搬 運滾筒支持搬運，-面對於基板施以洗條、顯影、触刻、 剝膜等處理的基板處理裝置。 【先前技術】 在例如在基板上形成配線圖案的製程，使形成於基板表 面的光阻膜顯影時，制滾筒搬豸式顯影處理裝置，其係 -面將基板每片橫放用搬運滾筒搬運…面在基板上盛顯 影液，盛液之後，特定時間經過後使顯影反應停止的方式 。圖8模式顯不此顯影處理裝置概略結構的一例。 圖8所示的顯影處理裝置具備處理槽2,其具有入口側開 :3a及出口側開口3b，在處理槽2内部並排配設多數搬運滾 筒4a 4b、4c。而且’基板i係通過入口侧開口 ^搬入處理 槽2内，為搬運滾筒4a〜4c所支持而向水平方向搬運，從處理 槽2一内通過出口侧開口3b搬出，送到其次的水洗處理槽（未 圖不）。在處理槽2内邵的入口側開口 3a附近配設顯影液吐 出賣> 5。此外，在處理槽2内部的出口側開口 ％附近如在 搬運滾筒4c正上面和搬運滾筒4c對向般地配設除液滾筒6 ’其接觸為搬運滚筒4e所支持而搬運的基板ι上面側。 對於這種結構的顯影處理裝置，在表㈣成曝光完的光 阻膜的基板i通過配設於處理槽2的入口側開口城近的顧 影液吐出噴嘴5正下面位置之際，將由顯影液吐出噴嘴，下 83883.doc -6 - 端面的狹縫狀吐出口吐出的顯影液7盛在表面上。被盛液的 基板1"在為搬運滚筒4a、4b所搬運的期間，綠膜的顯影反 應進仃。基板1搬運到處理槽2的出口侧開口 3b附近來，就 用除液滾筒6從基板！上除去顯影液7，其後由處理槽2内搬 出..，：後I板1送到其次的水洗處理槽，使光阻膜的顯影 反應完全停止。 【發明所欲解決之問題】 在如上述的顯影處理裝置，顯影液7，特別是含有光阻的 顯影液7從基板i表面上麗落’其顯影液就會附著在搬運滾 筒4a〜4c周面或處理槽2内壁面等。此外，除液滾筒6周面成 為含有光阻的顯影液7經常附著的狀態❶附著於這些構件的 顯影液乾燥，光阻成分就凝固而冷染構件。因此，會產生 以下問題：產生粒子（师吻而；亏染基板以成為引起感測 器等機件錯誤動作的原因。另一方面，為了防止產生這些 問題，需要頻繁進行處理槽2内部的清掃作業，但會引起處 理效率降低或作業繁雜。 又，採取和上述方式不同的方式，即在處理槽内設置噴 嘴（spray nozzle)，從噴嘴使顯影液等如擴散到處理槽内部 全體般地霧狀噴出的顯影方式時，搬運滾筒或處理槽内壁 面、感測器等表面因顯影液等而經常成為沾濕的狀態，所 以難以產生凝固光阻的污染，上述問題難以產生。然而， 在顯影液等的霧難以周到的地方設置搬運滚筒等時，還是 會因含有光阻的顯影液而產生搬運滾筒等的污染。此外， 此方式基本上在需要抑制霧產生的製程不能採用。 83883.doc 1225676 本發明係鑑於如以上的情況所完成的，其目的在於提供 種在處理槽内一面搬運基板，一面對於基板供應處理液 而進仃基板處理時，可防止因含有凝固成分的處理液而污 染搬運滾筒或處理槽内壁面等，可防止基板污染或機器錯 誤動作等的基板處理裝置。 【發明内容】 關於申請專利範圍第1項之發明，係在處理槽内一面搬運 基板，一面以處理液處理基板的基板處理裝置，其特徵在 於··在接觸基板下面侧支持基板而搬運的搬運滾筒正下面 配设集液容器，具備液供應機構，其供應濕潤用液到集液 容器内而經常以濕潤用液裝滿集液容器内，預先使前述搬 運滚筒周面一部分浸潰於裝滿於前述集液容器内的濕潤用 液中者。 關於申請專利範圍第2項之發明，係在處理槽内一面搬運 基板，一面以處理液處理基板的基板處理裝置，其特徵在 於：接近接觸基板下面側支持基板而搬運的搬運滚筒且比 為搬運滾筒所支持的基板高度位置在下方如吐出口和搬運 滾筒對向般地配設液吐出機構，具備液供應機構，其供應 濕潤用液到其液吐出機構者。 關於申請專利範圍第3項之發明，係在處理槽内一面搬運 基板，一面以處理液處理基板的基板處理裝置，其特徵在 於：接觸基板下面側支持基板而搬運的搬運滾筒附近且比 為搬運滾筒所支持的基板高度位置在下方，如配設成在前 述搬運滾筒正上面和搬運滾筒對向、接觸支持於搬運滾筒 83883.doc 1225676 而被搬運的基板上面侧的上部滾筒和吐出口對向般地配設 液吐出機構，具備液供應機構，其供應濕潤用液到其液吐 出機構者。 關於申請專利範圍第4項之發明，係在申請專利範圍第3 項之基板處理裝置，其特徵在於：在上方位置和下方位置 之間可移動地支持前述搬運滚筒及前述上部滾筒，前述液 吐出機構配設成搬運滾筒及上部滾筒位於上方時，比為搬 運滾筒所支持的基板高度位置位於下方，搬運滚筒及上部 滾筒位於下方時，前述搬運滾筒位於和比其配設於基板搬 運方向的上游側的別的搬運滾筒相同的高度，同時控制成 基板不接觸搬運滾筒及上部滾筒者。 關於申請專利範圍第5項之發明，係在申請專利範圍第4 項<基板處理裝置，其特徵在於：前述搬運滚筒及前述上 述滾筒支持成以搬運滾筒的軸心線的延長線上的一點為中 ^而在垂直面内搖動，使其在成為傾斜姿勢的上方位置和 成為水平姿勢的下方位置之間移動者。 /關於申凊專利範圍第6項之發明，係在申請專利範圍第4 或5員之基板處理裝置，其特徵在於：前述搬運滾筒和前述 上4 /袞筒為除液滾筒’在其除液滚筒和前述別的搬運滾筒 <門配，又夕數搬運滾筒，其支持成和除液滾筒一體在上方 置和下方位置《間移動，接觸基板下面侧基板而搬 運者。 :\申明專利範圍第7項之發日月，係在申請專利範圍第2 員中任項《基板處理裝置，其特徵在於：前述液供應 83883.doc -9- 1225676 機構以從其吐出口向前述搬運滾筒吐出的濕潤用液不因液 濺起而飛散的程度的低壓供應濕潤用液到前述液吐出機構 者。 關於申請專利範圍第8項之發明，係在中請專利範圍第2 至7項中任一項之基板處理裝置，其特徵在於：在搬運基板 而處理基板的期間中，前述搬運滾筒未和基板下面侧接觸 時從前述液吐出機構的吐出口吐出濕潤用液，搬運滾筒和 基板下面侧接觸時不從液吐出機構的吐出口吐出濕潤用液 般地從前述液供應機構間歇地供應濕潤用液到液吐出機構 者。 關於申請專利範圍第9項之發明，係在申請專利範圍第2 至8項中任一項之基板處理裝置，其特徵在於：在未搬運基 板的期間中，從前述液供應機構每一定時間間歇地供應濕 潤用液到前述液吐出機構者。 關於申请專利範圍第10項之發明，係在處理槽内一面搬 運基板，一面以處理液處理基板的基板處理裝置，其特徵 在於·將吐出濕潤用液到前述處理槽傾斜的内底面上的液 吐出機構配設於内底面的傾斜方向上部，具備液供應機構 ，其供應濕潤用液到其液吐出機構者。 在關於申清專利範圍第丨項之發明之基板處理裝置方面 ，k液供應機構供應濕潤用液到集液容器内，經常以濕潤 用液裝滿集液容器内，使搬運滾筒周面一部分浸潰於裝滿 於其集液容器内的濕潤用液中。藉此，搬運滾筒周面因濕 /門用液而Ik $成為沾濕的狀態。因此，即使處理液，例如 83883.doc -10- 1225676 含有光阻的顯影液從基板表面上灑落而附著於搬運滾筒周 面，顯影液也不會乾燥，所以光阻成分不會凝固。因此， 可避免因凝固的光阻而污染搬運滾筒。此外，由於只是使 搬運滾筒浸潰於裝滿於集液容器内的濕潤用液中，所以不 擔心產生液濺起。因此，即使一面使例如含有光阻的顯影 液循環，一面再利用作為濕潤用液之類的情況，也不會因 液賤起而含有光阻的顯影液附著於基板，污染基板，或者 含有光阻的顯影液附著於感測器等機件，引起錯誤動作。 在關於申請專利範圍第2項之發明之基板處理裝置方面 ，藉由液吐出機構的吐出口向搬運滾筒吐出濕潤用液，搬 運滚筒因濕潤用液而經常成為沾濕的狀態。因此，即使處 理液，例如含有光阻的顯影液從基板表面上灑落而附著於 搬運滾筒，顯影液也不會乾燥，所以光阻成分不會凝固。 因此，可避免因凝固的光阻而污染搬運滾筒。此外，液吐 出機構接近搬運滾筒配設，所以難以產生液濺起，濕潤用 液不會飛散到廣大範圍。因此，即使一面使例如含有光阻 的顯影液循環，-面再利用作為濕潤用液之類的情況，也 不會因液濺起而含有光阻的顯影液附著於基板，污染基板 ，或者含有光阻的顯影液附著於感測器等機件，引起錯誤 動作。此外’液吐出機構比基板高度位置配設於下方，曰所 以即使含有光阻的顯影液從液吐出機構的吐出口滴落，顯 影液也不會附著於基板上。 ^關於中請專利範圍第3項之發明之基板處理裝置方面 ’精由從液吐出機構的吐出口向配設於搬運滚筒正上面的 83883.doc -11 - 1225676 上部滚筒吐出濕潤用液，上部滾筒因濕潤用液而經常成為 沾濕的狀態，同時藉由濕潤用液順著上㈣筒周面流下到 搬運求筒周面’搬運滚筒也因濕、潤用液而經常成為沾濕的 狀態。因此’即使處理液’例如含有光阻的顯影液附著於 接觸基板上面侧的上部滾筒’或者即使顯影液從基板表面 上邏洛而时於搬運滾筒，顯影液也不會乾燥，所以光阻 成分不會凝固。因此，可避免因凝固的光阻而污染上部滾 筒及搬m此外’液吐出機構配料搬運滚筒附近， 所以難以產线起，濕潤用液不會飛散到廣大_。因此 ，即使-面使例如含有光阻的顯影液循環，一面再利用作 為濕潤用液之類的情況，也不會因液濺^含有光阻的顯 影液附著於基板，污染基板，或者含有綠的顯影液附著 於f則器等機件’引起錯誤動作。此外，液吐出機構比基 板门度位置配5又於下万’所以即使含有光阻的顯影液從液 吐出機構的吐出口滴落，顯影液也不會附著於基板上。 在關於中請專利範圍第4項之發明之基板處理裝置方面 ’搬運滚筒及上部滚筒位於上方時，液吐出機構比基板高 位於下方’所以即使處理液’例如含有光阻的顯影 液攸夜吐出機構的吐出口滴落’顯影液也不會附著於基板 上。另一方面，搬運滚筒及上部滚筒位於下方時，基板不 接觸搬運滾筒及上部滾筒’所以即使含有光阻的顯影液從液 吐出機構的吐出口滴落，也不擔心顯影液附著於基板上。 在關於中請專·圍第5項之發明之基板處理裝置方面 H袞同及上H筒藉由以搬運滾筒的軸心線的延長線 83883.doc • 12 - 上的-點為中心而在垂直面内搖動，在上方位置和下方位 置《間移動。而五，在上方位置，搬運滚筒及上部滾筒成 為傾斜姿勢，所以為搬運滾筒所走持的基板也傾斜，因此 處理液從基板表面上流下來。 在闕於_請專利範園第6项之發明之基板處理裝置方面 ’利用除液滾筒從為搬運滾筒所支持搬運而來的基板除去 處理液’例如含有光阻的顯影液，當時即使含有光阻的顯 影液附著於除液滾筒周面，除液滾筒也因濕潤用液而經常 成為沾濕的狀態，所以顯影液不會乾燥，因此在除液滾筒 周面，光阻成分不會凝固。 在關於申請專利範圍第7項之發明之基板處理裝置方面 ’從液供應機構到液吐出機構以從液吐出機構的吐出口向 搬運滚筒吐出的濕潤用液不因液濺起而飛散的程度的低壓 供應濕潤用液，所以更難產生液濺起，濕澗用液不會飛散 到廣大範圍。 在關於申請專利範圍第8項之發明之基板處理裝置方面 ，在搬運基板而處理基板的期財，料滚筒未和基板下 面側接觸時從液吐出機構的吐出口吐出濕潤用液，搬運滾 筒和基板下面侧接觸時不從液吐出機構的吐出口吐出濕潤 用液，所以一面使例如含有光阻的顯影液循環，一面再利 用作為濕潤用液之類的情況，不擔心由液吐出機構的吐出 口吐出的含有光阻的顯影液附著於基板而污染基板。 在關於申請專利範園第9項之發明之基板處理裝置方面， 在未搬運基板的期間中，從液供應機構到液吐出機構每一定 83883.doc •13- 1225676 時間間歇地供應濕潤用液 運滾筒以濕潤用液保持在 液的使用量。 在關於申請專利範圍第 ，從液吐出機構到處理槽 潤用液，其所吐出的濕潤 上流下，所以内底面全體 態。因此，即使處理液， 面上灑落到内底面上，顯 不會凝固。因此，可避免 底面。 、’所以搬運滾筒或上部滾筒及搬 ’占濕的狀態’同時可減低濕潤用 1〇貝之發明之基板處理裝置方面 的内底面的傾斜方向上部吐出濕 底面的傾斜在内底面 因濕潤用液而經常成為沾濕的狀 例如含有光阻的顯影液從基板表 影液也不會乾燥，所以光阻成分 因凝固的光阻而污染處理槽的内 【實施方式】 態一面參考圖1至圖7 以下，就本發明的較佳實施形 面加以說明。 圖1顯示第一發明實施形態的一例，係以-部分截面顯示 為基板處理裝置，例如顯影處理裝置的構成單元之—的搬 運滾筒的-個的侧面圖。關於顯影處理裝置的全體結構f 已根據圖8上述，所以省略其說明，圖^所示的搬運滾筒10 係圖8所示的顯影處理裝置的多數搬運滾筒4a〜4e中盘配置 於處理槽2中間左右的搬運滾筒4b對應者。 振運滾筒10形成其周面遍及基板i下面側的寬度方向全 體接觸㈣柱狀。此搬運滾筒10具有以下功能：支持基板！ 而搬運，同時藉由-面遍及基板1下面側的寬度方向全體接 觸’-面旋轉’ U基板下面側。在搬運滾筒W的正下面 83883.doc -14- 1225676 配設集液槽12。在集液槽12内收容從液供應源為送給泵15 所供應的濕潤用液，例如從基板1表面上流下到處理槽底部 而回數到回收槽（未圖示），從回收槽為送給泵15所送液的 顯影液14。連續供應顯影液到集液槽12内，集液槽12内為 經常以顯影液14裝滿的狀態，從集液槽12上部溢出的顯影 液被回收後，被循環使用。而且，使搬運滾筒1〇周面一部 分浸潰於裝滿於集液槽12内的顯影液14中。 具備圖1所示的結構的裝置使搬運滾筒1〇周面一部分浸 潰於裝滿於集液槽12内的顯影液14中，所以搬運滾筒1〇周 面因顯影液14而經常成為沾濕的狀態。因此，即使含有光 阻的顯影液從基板1表面上灑落而附著於搬運滾筒周面，也 不會顯影液在搬運滾筒10周面乾燥而光阻成分凝固。因此 ，不擔心因凝固的光阻而污染搬運滾筒1〇。此外，只是使 搬運滚筒10浸潰於裝滿於集液槽12内的顯影液14中，所以 兴產生液賤起之虞。因此’不產生因液濺起而含有光阻的 顯於液附著於基板1 ,污染基板丨，或者含有光阻的顯影液 附著於感測器等機件，引起錯誤動作。 其次’圖2顯示第二發明實施形態的一例，係顯示為顯影 處理裝置的構成單元之一的搬運滾筒的一個的側面圖。此 圖2所示的搬運滾筒16係圖8所示的顯影處理裝置的多數搬 運滾筒4a〜4c中與除了分別配置於處理槽2中間左右及出口 側開口 3b附近的搬運滾筒4b、4c之外的大部分的搬運滚筒 4a對應者。 搬運滾筒16為圓板形，一對固定於旋轉支軸18的兩端部 B3883.doc -15- 1225676 ’或者多數個，例如在旋轉支軸18的兩端部及中央部三個 固足於旋轉支軸18。而且，接近此搬運滾筒16的位置且比 以搬運滾筒16支持的基板1高度位置在下方的位置如吐出 口 22和搬運滾筒16對向般地配設液吐出噴嘴2〇。和圖1同樣 ’例如從基板1表面上流下到處理槽底部而回收到回收槽的 顯影液從回收槽為送給泵所供應給液吐出喷嘴2〇。此時，供 應顯影液到液吐出噴嘴2〇的壓力設定在從吐出口 22向搬運 滾筒16吐出的顯影液14不因液濺起而飛散的程度的低壓。 從液吐出噴嘴2〇的吐出口 22向搬運滾筒16的顯影液14的 吐出係在一般搬運基板丨，一面處理的期間中，搬運滾筒16 未和基板1下面側接觸且基板丨也不存在於其搬運滚筒16附 近時進行，搬運滾筒16和基板1下面侧接觸時或基板1存在 於附近時不從液吐出噴嘴2〇的吐出口 22吐出顯影液。藉由 如此間歇地進行顯影液的吐出，在一面使含有光阻的顯影 液循環’一面再利用之類的情況，可消除從液吐出嘴嘴2〇 的吐出口 22吐出含有光阻的顯影液或其飛沫附著於基板1 而污染基板1之虞。另一方面，在未搬運基板2的期間中， 從液吐出噴嘴20的吐出口 22向搬運滾筒16的顯影液14的吐 出係母一定時間間歇地進行。藉由如此每一定時間間歇地 進行顯影液的吐出，未進行基板1處理的期間也將搬運滾筒 16保持在沾濕的狀態而可防止光阻成分的凝固，同時可減 低顯影液的使用量。 具備圖2所示的結構的裝置藉由液吐出噴嘴2〇的吐出口 22向搬運滾筒16吐出顯影液14，搬運滾筒16因顯影液14而 83883.doc -16 - 1225676 Ί系成為沾濕的狀態。因此，即使例如含有光阻的顯影液 k基板1表面上灑落而附著於搬運滾筒16，顯影液也不會乾 燥’所以光阻成分不凝固。因此，可防止因凝固的光阻而 污染搬運滚筒16。此外，從液吐出噴嘴2〇的吐出口 22以低 壓吐出顯影液14且從搬運滾筒16的接近位置向搬運滾筒16 吐出顯影液14，所以難以產生液濺起，顯影液14不會飛散 到廣大範圍。因此，即使一面使含有光阻的顯影液循環， 一面再利用之類的情況，也不會含有光阻的顯影液因液濺 起而污染基板1，或者附著於感測器等機件而引起錯誤動作 此外’液吐出噴嘴2 0比基板1南度位置配設於下方，所以 即使含有光阻的顯影液從吐出口 22滴落，也不擔心其顯影 液附著於基板1上。 此外，圖3為顯示第二發明別的實施形態的搬運滾筒的側 面圖。此圖3所示的實施形態係斜向下地設置液吐出噴嘴2〇 的吐出口 22。如圖2所示的實施形態，吐出口 22成為向上般 地配置液吐出噴嘴2〇，則使來自吐出口 22的液吐出口停出 時，不擔心液從吐出口22滴落，對此在圖3所示的實施形態 ，有液從吐出口 22滴落的可能性。但是，液吐出噴嘴2〇比 以二點鏈線L所示的基板丨高度位置配於下方，所以不擔心 從吐出口 22滴落的含有光阻的顯影液附著於基板丨上。 其次，圖4顯示第三發明實施形態的一例，係顯示為顯影 處理裝置的構成單元之一的搬運滾筒及除液滾筒的側面圖 。此圖4所示的搬運滾筒24係圖8所示的顯影處理裝置的多 數搬運滾筒4a〜4c中與配置於處理槽2的出口側開口儿附近 83883.doc -17- 1225676 的搬運滾筒4c對應者。 如在搬運滾筒24正上面和搬運滾筒24對向般地所配設的 除液滚筒26形成其周面遍及基板1上面侧的寬度方向全體 接觸的圓柱狀’具有下述功能·藉由一面遍及為搬運滾筒 24所支持搬運的基板1上面側的寬度方向全體接觸，一面旋 轉，從基板1上除去盛在基板1上的使用完的顯影液。而且 ’搬運滾筒24附近且比為搬運滾筒24所支持搬運的基板1高 度位置（圖4中以二點鏈線L所示）在下方如除液滾筒26和吐 出口 30對向般地配設液吐出噴嘴28。和圖2所示的液吐出喷 嘴20同樣，例如從基板i表面上流下到處理槽底部而回收到 回收槽的顯影液從回收槽為送給泵所供應給此液吐出噴嘴 28。此時，供應顯影液到液吐出噴嘴28的壓力設定在從吐 出口 30向除液滾筒26吐出的顯影液14不因液濺起而飛散的 程度的低壓。 從液吐出噴嘴28的吐出口 30向搬運滾筒16的顯影液14的 吐出和圖2所示的液吐出噴嘴2〇同樣，係在一面搬運基板ι ，一面處理的期間中，搬運滾筒24及除液滚筒26未和基板1 接觸且基板1也不存在於其搬運滾筒24除近時進行，搬運滾 筒24及除液滚筒26和基板丨接觸時或基板在於附近時不 從液吐出嘴嘴28的吐出口3G吐出顯影液。此外，在未搬運 基板1的期間中，從液吐出喷嘴28的吐出口 3g向除液滚筒％ 的顯影液14的吐出係每一定時間間歇地進行。 具備圖4所示的結構的裝置藉由從液吐出噴嘴28的吐出 口 向除液滾筒26吐出顯影液14，除液滾筒％因顯影液而 83883.doc -18- 經常成為沾濕的狀態。此外，吐出到除液滚筒26周面上的 顯影液14順著除液滾筒26周面流下到下方的搬運滾筒24周 面，藉此搬運滾筒24也因顯影液而經常成為沾濕的狀態。 因此，即使例如含有光阻的顯影液除著於接觸基板丨上面側 的除液滾筒26或從基板丨表面上灑落的含有光阻的顯影液 除著於搬運滚筒24,顯影液也不會乾燥，所以光阻成分不 會凝固。因此，可防止因凝固的光阻而污染除液滾筒臟 搬運滾筒24。此外，從液吐出噴嘴28的吐出口遍低壓吐 出顯影液14且從搬運滾筒24的附近位置向除液滚筒％吐出 顯影液14，所以難以產生液濺起，顯影液14不會飛散到廣 大範圍。因此，即使一面使含有光阻的顯影液循環，一面 再利用之類的情況，也不會含有光阻的顯影液因液濺起而 污木:基板1，或者除著於感測器等機件而引起錯誤動作。此 外，液吐出噴嘴28比基板1高度位置配設於下方，所以即使 含有光阻的顯影液從吐出口 30滴落，也不擔心其顯影液附 煮於基板1上。 圖5及圖6顯示第三發明的變形例，圖5為顯示為顯影處理 裝置的構成單元之一的搬運滾筒及除液滚筒的侧面截面圖 ，圖6為同正面圖。此圖5及圖6所示的搬運滚筒6〇及除液滾 筒52、54顯示配置於圖8所示的顯影處理裝置的處理槽2的 出口侧開口 3b附近的搬運滾筒4c和其附近者。 關於此變形例的顯影處理裝置係在處理槽2内的大部分 區域以水平姿勢搬運基板丨，在處理槽2的下游侧附近以基 板1為傾斜安勢而搬出到下一製程。因此，在除了處理槽2 83883.doc -19- 1225676 的下游侧附近（即靠近出口側開口 3b的位置）之外的區域，基 板1為固^於處理槽2内的搬運滾筒62以水平姿勢所搬運。 此外’在其以外的區域，即靠近出口側開口儿的區域，基 板丄為搬運滾筒60及除液滾筒52、54所搬運。除液滾筒仏 5二為了基板i可通過其間而設置成形成微小的間隙。搬運滾 筒60及除液滾筒52、54安裝於滾筒安裝構件64、66。滾筒. 安裝構件64、66如圖6所示，係通過除液滾筒52的旋轉軸砧 的延長線上的點Ο且以和基板搬運方向平行的直線（在圖6 中通過點Ο且與總面垂直的直線）為中心，利用未圖示的驅 Φ 動源驅動在上下方向只可旋轉特定角度（一點鏈線入和A，形 成的角度）所設。
在滾筒安裝構件64、66在於最下位置的狀態，如以圖5(a) 及圖6中的實線所示，搬運滾筒60及除液滾筒52、54成為水 平位置。而且，在此水平位置的除液滾筒52和鄰接的搬運 滾筒60之間設有檢測裝置70的振動子72，其檢測出基板1被 搬到搬運滾筒60上來。在振動子72下游側設有液吐出喷嘴 74，其對於在水平位置的除液滾筒54吐出顯影液。液吐出 喷嘴74在圖5的紙面進深方向列設多數於喷嘴管75，其設置 成和水平位置的除液滾筒54略平行。和圖2所示的液吐出噴 嘴20同樣，例如從基板1表面上流下到處理槽底部而回收到 回收槽的顯影液從回收槽為送給泵所供應給此喷嘴管75。 檢測裝置70及噴嘴管75固定設於處理槽2。此外，安裝於滾 筒安裝構件64、66的搬運滚筒60中最上游側者和搬運滾筒 62之間設有檢測基板1的檢測裝置76。 83883.doc -20- 1225676 在滾筒安裝構件64、66在於最上位置的狀態，如以圖5(b) 及圖6中的二點鏈線所示，搬運滾筒6〇及除液滾筒52、“傾 斜成點0側成為最低，並且這些搬運滾筒6〇及除液滾筒52 54其最低位置成為噴嘴管75高的位置。又，在圖5(b)，進 深方向的滾筒的傾斜未考慮描繪。 此顯影處理裝置的動作如下。在顯影處理裝置，基板i 從處理槽2的入口侧開口（圖5未圖示）以水平姿勢搬入，由顯 #液吐出噴嘴5吐出的顯影液盛在基板丨上，在該狀態一面 進行顯影處理，一面用搬運滾筒62保持水平姿勢向下游側 扳運。此時，滾筒安裝構件64、66在於最下位置，搬運滾 同60及除液滾筒52、54成為水平位置。而且，此時從液吐 出賣鳴74吐出顯影液，所吐出的顯影液落到除液滾筒54上 ，除液滾筒54因顯影液而保持在沾濕的狀態。此外，在於 除液滾筒54下侧的除液滾筒52也因從除液滾筒54流下的顯 #液而保持在沾濕的狀態。因此，不會使除液滾筒52、54 乾燥而光阻成分凝固。 然後，基板1被搬運來而開動檢測裝置7 6的振動子7 8，來 自液吐出噴嘴74的顯影液的吐出就被停止。這是因為基板1 接近液吐出噴嘴74 ’所以若繼續來自液吐出噴嘴74的顯影 液的吐出，則有所吐出的顯影液的飛沫落到基板1上而使處 理不均勻等不妥當產生的可能性。然後，基板1再被搬運而 開動檢測裝置70的振動子72，就停止搬運滾筒60的旋轉驅 動，基板1停止在搬運滾筒60上。然後，其後驅動前述驅動 源’滾同安裝構件64、66上升而搬運滾筒60傾斜點〇侧變低 83883.doc >21- 1225676 ，放在其上的基板1也成為傾斜姿勢。藉此，盛在基板1上 的顯影液的大半流下到下侧被粗略除液。然後，液的大部 分流下，就再旋轉驅動搬運滾筒60及除液滾筒52、54，基 板1保持傾斜姿勢向下游側搬運，由配合此傾斜姿勢位置所 形成的出口側開口 3b搬出，搬運到下一製程。此時，由於 滚筒安裝構件64、66上升，所以液吐出噴嘴74或檢測裝置 70的振動子72就比搬運滾筒60位於下方，不會成為基板^搬 運的障礙，而且即使液從液吐出噴嘴74不慎漏出來，也不 會除著於基板1。基板1由出口侧開口 3b搬出，滾筒安裝構 件64、66就下降而等待下一基板。 此外，圖7顯示第四發明實施形態的一例，係顯示為顯影 處理裝置的構成單元的處理槽底部的截面圖。圖7所示的裝 置在處理槽32傾斜的内底面34的傾斜方向上部配設使吐出 口 38向内底面34的液吐出噴嘴36。例如從基板1表面上流下 到處理槽底部而回收到回數槽的顯影液由回收槽供應給此 液吐出噴嘴36。 具備圖7所示的結構的裝置從液吐出喷嘴36的吐出口 ％ 吐出顯々液14到處理槽3 2的内底面3 4的傾斜方向上部，其 所吐出的顯影液14沿著内底面34的傾斜在内底面34上流下 。因此，内底面34全體因顯影液14而經常成為沾濕的狀態 。因此，即使含有光阻的顯影液從基板1表面上灑落到内底 面34上’其顯影液也不會乾燥，所以光阻成分不會凝固， 可防止因凝固的光阻而污染處理槽32的内底面34。 又’上述記載係就顯影處理裝置加以說明，但本發明亦 83883.doc -22- 1225676 可適用於進行洗滌、蝕刻、剝膜等處理的基板處理裝置。 【發明之效果】 使用關於申請專利範第1至3項之各發明之基板處理裝置 ’則在處理槽内-面搬運基|面對於基板供應處理液 而進行基板處理的情況，可防止因如含有光阻的顯影液含 2凝固成分的處理液而污染搬運滾筒或上部滾筒及搬運滾 同，可防止基板污染或機件錯誤動作等。而且，也無需頻 繁進行處理槽内部的清掃作業，所以不會引起處理效率降 低或作業繁雜。 關於申請專利範圍第4項之發明之基板處理裝置，即使搬 運滾筒及上部滾筒位於上方及下方的任一方時都有處理液 ，例如含有光阻的顯影液從液吐出機構的吐出口滴落，也 不擔心顯影液附著於基板上。 關於申請專利範圍第5項之發明之基板處理裝置，搬運滾 筒及上部滾筒藉由在垂直面内搖動，在上方位置和下方位 置I間移動’在上方位置藉由為搬運滾筒所支持的基板傾 斜，處理液的一部分從基板表面上流下而被除去。 關於申請專利範圍第6項之發明之基板處理裳置，利用除 液滾筒從基板除去處理液，例如含有光阻的㈣液之際.，、 即使含有光阻的顯影液附著於除液滾筒周面，亦可防止光 阻成分在除液滾筒周面凝固。 關於申請專利範圍第7項之發明之基板處理裝置，更難產 生液濺起，可更有效抑制濕潤用液的飛散。 、 關於申請專利範圍第8項之發明之基板處理裝置，一面使 83883.doc -23- 1225676 例如；有光阻的顯影液循環，一面再利用作為濕潤用液之 類的情況，可消除下述擔心··因由液吐出機構的吐出口吐 出的含有光阻的顯影液而污染基板。 關於申請專利範園第9項之發明之基板處理裝置，可一面 防止染搬運滾筒或上部噴嘴管及搬運滾Μ，—面減低濕 潤用液的使用量。 使用關於申請專利範圍第1〇項之發明之基板處理裝置， J在處理槽内一面搬運基板，一面對於基板供應處理液而 進行基板處理的情況，可防止因如含有光阻的顯影液含有 凝固成分的處理液而污染處理槽的内底面，可防止基板污 染或機件錯誤動作等。而且，也無需頻繁進行處理槽内部 的清掃作業，所以不會引起處理效率降低或作業繁雜。 【圖式簡單說明】 圖1顯示第一發明實施形態的一例，係以一部分截面顯示 為顯影處理裝置的構成單元之一的搬運滚筒的一個的側面 圖。 圖2顯示第二發明實施形態的一例，係顯示為顯影處理裝 置的構成單元之一的搬運滚筒的一個的側面圖。 圖3為顯示第二發明別的實施形態的搬運滚筒的侧面圖。 圖4顯示第三發明實施形態的一例，係顯示為顯影處理裝 置的構成單元之一的搬運滾筒及除液滚筒的側面圖。 圖5(a)、（b)顯示第三發明的變形例，係顯示為顯影處理 裝置的構成單元之一的搬運滾筒及除液滾筒的側面截面圖。 圖6顯示圖5所示的除液滾筒的正面圖。 83883.doc -24- 1225676 圖7為顯示第四發明實施形態的一例，係顯示為顯影處理 裝置的構成單元的處理槽底部的截面圖。 圖8為顯示顯影處理裝置概略結構的一例的模式圖。 【圖式代表符號說明】 1 基板 2 > 32 處理槽 10 、 16 、 24 、 60 、 62 搬運滾筒 12 集液槽 14 顯影液 20 、 28 、 36 液吐出喷嘴 22 、 30 ' 38 液吐出喷嘴的吐出口 26 除液滾筒 34 處理槽的内底面 52、54 除液浪筒 64、66 滾筒安裝構件 70 > 76 檢測裝置 74 液吐出喷嘴 75 噴嘴管 83883.doc -25-