TWD218680S - 半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(六) - Google Patents

半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(六) Download PDF

Info

Publication number
TWD218680S
TWD218680S TW110305386F TW110305386F TWD218680S TW D218680 S TWD218680 S TW D218680S TW 110305386 F TW110305386 F TW 110305386F TW 110305386 F TW110305386 F TW 110305386F TW D218680 S TWD218680 S TW D218680S
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
view
design
article
semiconductor film
film formation
Prior art date
Application number
TW110305386F
Other languages
English (en)
Inventor
及川大海
高村侑矢
坂下訓康
Original Assignee
日商東京威力科創股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商東京威力科創股份有限公司 filed Critical 日商東京威力科創股份有限公司
Publication of TWD218680S publication Critical patent/TWD218680S/zh

Links

Images

Abstract

【物品用途】;「表示使用狀態之參考剖面圖」中，藍色所表示的本物品係在半導體成膜裝置內設置有1支或複數支，並供給用以在晶圓上進行成膜之氣體者。另外，該圖式中，本物品的形狀係簡化顯示。部分設計所欲主張之部分係用以對晶圓均勻供給氣體之孔。;【設計說明】;實線所表示之部分係部分設計所欲主張之部分。虛線所表示之部分係部分設計所不欲主張之部分。;包含「立體圖」、「A-A部分放大圖」、「B-B端面圖」、「C-C部分放大圖」及「D-D剖面圖」來特定出部分設計所欲主張之部分。;由於仰視圖係顯示為與俯視圖對稱，故省略。;「表示使用狀態之參考剖面圖」中之色彩及文字僅為說明及標示而使用者，非為主張之部分。

Description

半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(六)
「表示使用狀態之參考剖面圖」中，藍色所表示的本物品係在半導體成膜裝置內設置有1支或複數支，並供給用以在晶圓上進行成膜之氣體者。另外，該圖式中，本物品的形狀係簡化顯示。部分設計所欲主張之部分係用以對晶圓均勻供給氣體之孔。
實線所表示之部分係部分設計所欲主張之部分。虛線所表示之部分係部分設計所不欲主張之部分。
包含「立體圖」、「A-A部分放大圖」、「B-B端面圖」、「C-C部分放大圖」及「D-D剖面圖」來特定出部分設計所欲主張之部分。
由於仰視圖係顯示為與俯視圖對稱，故省略。
「表示使用狀態之參考剖面圖」中之色彩及文字僅為說明及標示而使用者，非為主張之部分。
TW110305386F 2020-01-17 2020-07-08 半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(六) TWD218680S (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPD2020-753F JP1682709S (zh) 2020-01-17 2020-01-17
JP2020-000753 2020-01-17

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TWD218680S true TWD218680S (zh) 2022-05-01

Family

ID=75268134

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW110305386F TWD218680S (zh) 2020-01-17 2020-07-08 半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(六)

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP1682709S (zh)
TW (1) TWD218680S (zh)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI648426B (zh) 2016-05-27 2019-01-21 東芝三菱電機產業系統股份有限公司 活性氣體生成裝置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI648426B (zh) 2016-05-27 2019-01-21 東芝三菱電機產業系統股份有限公司 活性氣體生成裝置

Also Published As

Publication number Publication date
JP1682709S (zh) 2021-04-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWD214516S (zh) 用於處理腔室基板支撐件的基底板
TWD194248S (zh) Air jet board for plasma processing equipment
TWD196110S (zh) 晶舟之部分
JP1713352S (ja) スライディング接続具
TWD210751S (zh) 搬運台車(一)
TWD218679S (zh) 半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(五)
TWD218681S (zh) 半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(七)
TWD218680S (zh) 半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(六)
TWD218678S (zh) 半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(四)
TWD218682S (zh) 半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(八)
TWD218677S (zh) 半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(三)
TWD218676S (zh) 半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(二)
TWD215124S (zh) 半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(一)
TWD171078S (zh) 基板處理裝置用氣體供給噴嘴之部分
TWD211239S (zh) 晶圓保持器之部分
TWD206337S (zh) 工具座之部分
TWD209928S (zh) 光罩傳送盒之底座
TWD209426S (zh) 光罩傳送盒之底座
TWD194954S (zh) Elastic film for semiconductor wafer polishing
TWD194953S (zh) Elastic film for semiconductor wafer polishing
JP2020188129A5 (ja) 載置台およびプラズマ処理装置
TWD206033S (zh) 蓮蓬頭架
TWD207448S (zh) 置物裝置之部分
TWD213757S (zh) 硬度試驗機
TWD213754S (zh) 硬度試驗機