TWD218680S - 半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(六) - Google Patents

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及川大海
高村侑矢
坂下訓康
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日商東京威力科創股份有限公司
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【物品用途】;「表示使用狀態之參考剖面圖」中，藍色所表示的本物品係在半導體成膜裝置內設置有1支或複數支，並供給用以在晶圓上進行成膜之氣體者。另外，該圖式中，本物品的形狀係簡化顯示。部分設計所欲主張之部分係用以對晶圓均勻供給氣體之孔。;【設計說明】;實線所表示之部分係部分設計所欲主張之部分。虛線所表示之部分係部分設計所不欲主張之部分。;包含「立體圖」、「A-A部分放大圖」、「B-B端面圖」、「C-C部分放大圖」及「D-D剖面圖」來特定出部分設計所欲主張之部分。;由於仰視圖係顯示為與俯視圖對稱，故省略。;「表示使用狀態之參考剖面圖」中之色彩及文字僅為說明及標示而使用者，非為主張之部分。

Description

半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(六)
「表示使用狀態之參考剖面圖」中，藍色所表示的本物品係在半導體成膜裝置內設置有1支或複數支，並供給用以在晶圓上進行成膜之氣體者。另外，該圖式中，本物品的形狀係簡化顯示。部分設計所欲主張之部分係用以對晶圓均勻供給氣體之孔。
實線所表示之部分係部分設計所欲主張之部分。虛線所表示之部分係部分設計所不欲主張之部分。
包含「立體圖」、「A-A部分放大圖」、「B-B端面圖」、「C-C部分放大圖」及「D-D剖面圖」來特定出部分設計所欲主張之部分。
由於仰視圖係顯示為與俯視圖對稱，故省略。
「表示使用狀態之參考剖面圖」中之色彩及文字僅為說明及標示而使用者，非為主張之部分。
TW110305386F 2020-01-17 2020-07-08 半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(六) TWD218680S (zh)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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TWI648426B (zh) 2016-05-27 2019-01-21 東芝三菱電機產業系統股份有限公司 活性氣體生成裝置

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TWI648426B (zh) 2016-05-27 2019-01-21 東芝三菱電機產業系統股份有限公司 活性氣體生成裝置

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