JP2020188129A5 - 載置台およびプラズマ処理装置 - Google Patents

Description

本開示は、載置台およびプラズマ処理装置に関する。

Claims (14)

1. プラズマ処理容器内で使用する載置台であって、
   ピン用貫通孔を有する本体であって、前記ピン用貫通孔は、めねじ付き内壁を有する前記本体と、
   基端部分、中間部分、および先端部分を有し、前記ピン用貫通孔に挿入されるリフターピンであって、前記中間部分はおねじであり、前記おねじ中間部分は、めねじ付き内壁に螺合可能である前記リフターピンと、
   前記リフターピンを前記本体に対して昇降させる昇降機構と
   を備える載置台。
2. 前記リフターピンは上下に移動可能であり、
   前記リフターピンが上に位置するとき、前記リフターピンのおねじ付き中間部分は前記めねじ付き内壁から外れる請求項１に記載の載置台。
3. 前記昇降機構は、
   前記おねじ付き中間部分が前記めねじ付き内壁に嵌合しているときに、前記リフターピンを回転させることにより前記リフターピンを第１の速さで昇降させるか、あるいは、
   前記おねじ付き中間部分が前記めねじ付き内壁から外れているときに、前記第１の速さと異なる第２の速さで前記リフターピンを昇降させる請求項２に記載の載置台。
4. 前記先端部分の上面は、基板の材料よりも耐摩耗性が高い材料を含む請求項３に記載の載置台。
5. 静電チャックをさらに備える請求項４に記載の載置台。
6. 前記先端部分の上面は、基板の材料よりも耐摩耗性が高い材料を含む請求項１に記載の載置台。
7. 静電チャックをさらに備える請求項１に記載の載置台。
8. プラズマ処理空間を有する容器と、
   前記プラズマ処理空間内の少なくとも１つのガスからプラズマを生成するプラズマ生成部と、
   前記プラズマ処理空間に設けられた載置台と
   を備え、
   前記載置台は、
   ピン用貫通孔を有する本体であって、前記ピン用貫通孔はめねじ付き内壁を有する前記本体と、
   基端部分、中間部分、および先端部分を有し、前記ピン用貫通孔に挿入されるリフターピンであって、前記中間部分はおねじであり、前記おねじ中間部分はめねじ付き内壁に螺合可能である前記リフターピンと、
   前記リフターピンを前記本体に対して昇降させる昇降機構と
   を含むプラズマ処理装置。
9. 前記リフターピンは上下に移動可能であり、
   前記リフターピンが上に位置するとき、前記リフターピンのおねじ付き中間部分は前記めねじ付き内壁から外れる請求項８に記載のプラズマ処理装置。
10. 前記昇降機構は、
    前記おねじ付き中間部分が前記めねじ付き内壁に嵌合しているときに、前記リフターピンを回転させることにより前記リフターピンを第１の速さで昇降させ、
    前記おねじ付き中間部分が前記めねじ付き内壁から外れているときに、前記第１の速さと異なる第２の速さで前記リフターピンを昇降させる請求項９に記載のプラズマ処理装置。
11. 前記先端部分の上面は、基板の材料よりも耐摩耗性が高い材料を含む請求項１０に記載のプラズマ処理装置。
12. 静電チャックをさらに備える請求項１１に記載のプラズマ処理装置。
13. 前記先端部分の上面は、基板の材料よりも耐摩耗性が高い材料を含む請求項８に記載のプラズマ処理装置。
14. 静電チャックをさらに備える請求項８に記載のプラズマ処理装置。