TWD218681S - 半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(七) - Google Patents
半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(七) Download PDFInfo
- Publication number
- TWD218681S TWD218681S TW110305387F TW110305387F TWD218681S TW D218681 S TWD218681 S TW D218681S TW 110305387 F TW110305387 F TW 110305387F TW 110305387 F TW110305387 F TW 110305387F TW D218681 S TWD218681 S TW D218681S
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- view
- design
- article
- film forming
- semiconductor film
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title abstract description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 abstract description 2
Images
Abstract
【物品用途】;「表示使用狀態之參考剖面圖」中，藍色所表示的本物品係在半導體成膜裝置內設置有1支或複數支，並供給用以在晶圓上進行成膜之氣體者。另外，該圖式中，本物品的形狀係簡化顯示。部分設計所欲主張之部分係用以對晶圓均勻供給氣體之孔。;【設計說明】;實線所表示之部分係部分設計所欲主張之部分。虛線所表示之部分係部分設計所不欲主張之部分。;包含「立體圖」、「A-A部分放大圖」、「B-B端面圖」、「C-C部分放大圖」及「D-D剖面圖」來特定出部分設計所欲主張之部分。;由於仰視圖係顯示為與俯視圖對稱，故省略。;「表示使用狀態之參考剖面圖」中之色彩及文字僅為說明及標示而使用者，非為主張之部分。
Description
「表示使用狀態之參考剖面圖」中，藍色所表示的本物品係在半導體成膜裝置內設置有1支或複數支，並供給用以在晶圓上進行成膜之氣體者。另外，該圖式中，本物品的形狀係簡化顯示。部分設計所欲主張之部分係用以對晶圓均勻供給氣體之孔。
實線所表示之部分係部分設計所欲主張之部分。虛線所表示之部分係部分設計所不欲主張之部分。
包含「立體圖」、「A-A部分放大圖」、「B-B端面圖」、「C-C部分放大圖」及「D-D剖面圖」來特定出部分設計所欲主張之部分。
由於仰視圖係顯示為與俯視圖對稱，故省略。
「表示使用狀態之參考剖面圖」中之色彩及文字僅為說明及標示而使用者，非為主張之部分。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JPD2020-754F JP1669640S (zh) | 2020-01-17 | 2020-01-17 | |
| JP2020-000754 | 2020-01-17 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TWD218681S true TWD218681S (zh) | 2022-05-01 |
Family
ID=72665410
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW110305387F TWD218681S (zh) | 2020-01-17 | 2020-07-08 | 半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(七) |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP1669640S (zh) |
| TW (1) | TWD218681S (zh) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI648426B (zh) | 2016-05-27 | 2019-01-21 | 東芝三菱電機產業系統股份有限公司 | 活性氣體生成裝置 |
-
2020
- 2020-01-17 JP JPD2020-754F patent/JP1669640S/ja active Active
- 2020-07-08 TW TW110305387F patent/TWD218681S/zh unknown
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI648426B (zh) | 2016-05-27 | 2019-01-21 | 東芝三菱電機產業系統股份有限公司 | 活性氣體生成裝置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP1669640S (zh) | 2020-10-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWD214516S (zh) | 用於處理腔室基板支撐件的基底板 | |
| TWD198069S (zh) | 基板處理裝置用氣體供給噴嘴 | |
| TWD191920S (zh) | 扳手組展示座架之部分(一) | |
| JP1713352S (ja) | スライディング接続具 | |
| TWD218680S (zh) | 半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(六) | |
| TWD218681S (zh) | 半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(七) | |
| TWD218679S (zh) | 半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(五) | |
| TWD218678S (zh) | 半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(四) | |
| TWD218682S (zh) | 半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(八) | |
| TWD218677S (zh) | 半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(三) | |
| TWD218676S (zh) | 半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(二) | |
| TWD215124S (zh) | 半導體成膜裝置用氣體供給噴嘴(一) | |
| TWD210752S (zh) | 搬運台車(二) | |
| TWD211882S (zh) | 懸臂裝置 | |
| TWD206337S (zh) | 工具座之部分 | |
| TWD209928S (zh) | 光罩傳送盒之底座 | |
| TWD209426S (zh) | 光罩傳送盒之底座 | |
| TWD206033S (zh) | 蓮蓬頭架 | |
| JP1756458S (ja) | 照明器具用アタッチメント | |
| TWD207448S (zh) | 置物裝置之部分 | |
| TWD213757S (zh) | 硬度試驗機 | |
| JP2020188129A5 (ja) | 載置台およびプラズマ処理装置 | |
| JP1713636S (ja) | キャスター付スタンド | |
| TWD211199S (zh) | 可攜式存取裝置之部分 | |
| JP1734769S (ja) | 電源供給装置付きモニタースタンド |