TWD167115S - 基板處理裝置用晶舟之部分 - Google Patents

基板處理裝置用晶舟之部分

Info

Publication number
TWD167115S
TWD167115S TW102307673F TW102307673F TWD167115S TW D167115 S TWD167115 S TW D167115S TW 102307673 F TW102307673 F TW 102307673F TW 102307673 F TW102307673 F TW 102307673F TW D167115 S TWD167115 S TW D167115S
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
design
substrate processing
wafer boat
processing equipment
ridges
Prior art date
Application number
TW102307673F
Other languages
English (en)
Inventor
Shinya Morita
Naoki Matsumoto
Kosuke Takagi
Original Assignee
日立國際電氣股份有限公司
Hitachi Int Electric Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日立國際電氣股份有限公司, Hitachi Int Electric Inc filed Critical 日立國際電氣股份有限公司
Publication of TWD167115S publication Critical patent/TWD167115S/zh

Links

Abstract

【物品用途】;本設計的物品是基板處理裝置用晶舟，為一種將複數個基板水平的保持在基板處理裝置的反應室內的晶舟，可將基板載置於形成在左右及後方之柱子的突起上。;【設計說明】;圖中以實線所示為「主張設計」之部分，虛線所示為「不主張設計」之部分，一點鏈線為界定部分設計之邊界線。;在「部分設計之主張部分的放大立體圖」中所具有的稜線(其他放大圖沒有稜線)是表示本物品之形狀的線條。
TW102307673F 2013-05-31 2013-11-29 基板處理裝置用晶舟之部分 TWD167115S (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013012265 2013-05-31

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TWD167115S true TWD167115S (zh) 2015-04-11

Family

ID=89710033

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW102307673F TWD167115S (zh) 2013-05-31 2013-11-29 基板處理裝置用晶舟之部分

Country Status (1)

Country Link
TW (1) TWD167115S (zh)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWD166332S (zh) 基板處理裝置用晶舟之部分
USD724553S1 (en) Substrate supporter for semiconductor deposition apparatus
USD741823S1 (en) Vaporizer for substrate processing apparatus
TWD168827S (zh) 半導體製造裝置用晶舟
TWD163542S (zh) 基板處理裝置用晶舟
USD714774S1 (en) Mount for a portable electronic device
TWD165429S (zh) 半導體製造裝置用晶舟
TWD175852S (zh) 電漿處理裝置用上腔室
TWD181303S (zh) 晶圓載具
MX2018012388A (es) Elemento generador de aerosol hibrido y metodo para fabricar un elemento generador de aerosol hibrido.
TWD183010S (zh) 基板處理裝置用晶舟
TWD161688S (zh) 半導體製造裝置用晶舟
TWD181302S (zh) 晶圓載具
TWD175855S (zh) 電漿處理裝置用下腔室
TWD181447S (zh) 電源適配器(二)
TWD179280S (zh) 電源適配器(一)
TWD181305S (zh) 晶圓載具
TWD179095S (zh) 基板保持環
TWD180129S (zh) 密封環之部分
TWD166552S (zh) 基板處理裝置用氣化器
TWD174920S (zh) 基板處理裝置用氣體供給噴嘴
TWD167109S (zh) 基板保持環
TWD199289S (zh) 可穿戴微電流裝置
TWD180126S (zh) 密封環
TWD180127S (zh) 密封環