TWD163355S - 基板處理裝置用氣體供給噴嘴之部分 - Google Patents

基板處理裝置用氣體供給噴嘴之部分

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TWD163355S
TWD163355S TW102306260F TW102306260F TWD163355S TW D163355 S TWD163355 S TW D163355S TW 102306260 F TW102306260 F TW 102306260F TW 102306260 F TW102306260 F TW 102306260F TW D163355 S TWD163355 S TW D163355S
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TW
Taiwan
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design
gas supply
substrate processing
supply nozzle
article
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Application number
TW102306260F
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English (en)
Inventor
Shinya Morita
Takanori Hayashi
Naoharu Shimizu
Nobuhito Shima
Original Assignee
日立國際電氣股份有限公司
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【物品用途】;本設計的物品是基板處理裝置用氣體供給噴嘴，為一種應用在處理晶圓的基板處理裝置的氣體供給噴嘴；本物品是配置在基板處理裝置的處理室內，將經由氣體導入管所導入的氣體，從氣體供給孔供給到處理室內。;【設計說明】;本設計的物品，亦即主張設計之部分，是與氣體導入管連接。如立體圖所示，有關形成在下端部的圓筒形狀部分，其中間附近的一部分為缺口，設有凹部為本設計之特徵。;圖中以實線所示為「主張設計之部分」，虛線所示為「不主張設計之部分」。
TW102306260F 2013-03-22 2013-09-18 基板處理裝置用氣體供給噴嘴之部分 TWD163355S (zh)

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