TW575655B - Polishing pad, polishing apparatus and polishing method using the same - Google Patents

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Masayuki Takashima
Kazumasa Ueda
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Sumitomo Chemical Co
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575655 Α7 Β7 五、發明説明(1 ) 發明之節園 本發明關於一種金屬拋光墊,及拋光裝置及使用彼之 拋光方法。更明確地說,本發明關於一種用於製造半導體 裝置拋光金屬膜用的拋光墊,以及一種使用此拋光墊的拋 光裝置,以及使用此拋光裝置的拋光方法。 曼朋之背景 最近,不同的精細加工技術係硏究開發,用於高積體 及增強大型積體電路的能力。在彼之中,要注意到化學機 械拋光(化學機械拋光,此後,可以縮寫成C Μ P )。 C Μ Ρ係結合拋光結成物及拋光物之間化學作用及機械作 用的技術,尤其在使多層配線方法中使層間絕緣膜平坦化 ,形成金屬座及形成內嵌的金屬配線。內嵌的金屬配線係 藉著在基材上形成金屬膜且拋光此膜而形成。 在傳統的金屬膜C Μ Ρ中,通常引發拋光同時將含硏 磨粒子的拋光泥塡入拋光物及拋光墊之間。無論如何,在 此方法中,金屬膜的表面係刮擦且粗糙化,硏磨劑係嵌於 金屬膜中,再者,要丟棄泥漿。因此,開發藉由墊子本身 引發C Μ Ρ而無需使用拋光泥。至於C Μ Ρ用的拋光墊, 由聚酯纖維及聚胺基甲酸乙酯樹脂構成的所謂非纖織型複 合體,及此類之物通常係使用。 爲了改良拋光速度的目的,簡化廢液處理,及此類之 物,開發使用藉由事先添加無機氧化物例如矽石、鈽土、 礬土及此類之物當作硏磨粒子至拋光墊中而獲得的胺基甲 (讀先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) -4 - 575655 Α7 _ Β7 五、發明説明(2 ) _ 2 I旨發泡墊子,無論如何,拋光速度並不適當,且金屬 表面被無機氧化物粒子刮擦且變粗。 發明總結 本發明的目的在於提供高拋光速度、抑制刮擦及拋光 表面蝕刻的金屬拋光墊,可以獲得優良的加工表面,且完 成拋光之後幾乎不會產生含拋光劑的廢棄物,拋光裝置及 使用彼的拋光方法。 本發明者深入硏究解上述問題的方法,最後發現該物 II胃以藉著使用含補捉金屬離子用的官能基金屬拋光墊而 得到,而完成本發明。 換言之,本發明關於一種含補捉金屬離子用的官能基 的金屬拋光墊。 曼_明之詳細敘沭 本發明將詳細說明如下。本發明的金屬拋光墊的特徵 在於其含有一個捕捉金屬離子的官能基。 如果其包含與金屬形成錯合物的配向原子的話,則捕 捉金屬離子的官能基可能不礙事,更明確地說,含至少一 個選自氧原子、氮原子、硫原子、磷原子、砷原子及硒原 子的官能基係列舉。 用氧原子配位的官能基的特定實施例包括自醇類、酚 類或烯醇類衍化而成的-〇Η,自羧酸類或羧酸鹽類衍化 而成的一 C〇〇Μ (Μ代表氫、鹼金屬、鹼土金屬或銨基 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -5 - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 575655 A7 ___B7 _ 五、發明説明(3 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ),自醛類、酮類或醌類衍化而成的> C =〇,自醚類衍 化而成的一 ◦一,自酯類衍化而成的一 C〇〇R基團(R 代表烴基),自醯胺類衍化而成的一 C〇N Η 2、自硝基合 成物衍化而成的- Ν ◦ 2基團,自氮氧化物衍化而成的=Ν 一〇,自磺酸類或磺酸鹽類衍化而成物一 S〇3 Μ ( Μ與上 述的定義相同),由次磷酸類或次磷酸鹽類衍化而成的-Ρ Η 0 ( Ο Μ ) (Μ與上述的定義相同),自磷酸類或磷 酸鹽類衍化而成的—Ρ〇(〇Μ ) 2 ( Μ與上述的定義相同 ),及自砷酸類或砷酸鹽類衍化而成的一 A s (〇Μ ) 2 ( Μ與上述的定義相同)。 用氮原子配位的官能基的實施例包括自一級胺類衍化 而成的一 N Η 2,自二級胺類衍化而成的> N Η,自三級胺 類衍化而成的=Ν,自偶氮合成物及雜環合成物衍化而成的 一 Ν = Ν -,自西夫驗及雜環合成物衍化而成的>C:=N 一,自醯胺類衍化而成的- C〇Ν Η 2,自污類衍化而成的 > C = Ν —〇Η,自亞胺類及烯胺類衍化而成的> c = Ν Η,自硫氰酸類衍化而成的一 s C Ν。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 用硫原子配位的官能基的實施例包括自硫醇類及噻吩 衍化而成的一 S Η,自硫代醚類衍化而成的一 S —,自硫 代醛類及硫代酮類衍化而成的> C = S,自硫代羧酸類或 硫代羧酸鹽類衍化而成的- C〇S Μ ( Μ與以上說明的定 義相同),自二硫代羧酸類或二硫代羧酸鹽類衍化而成的 一 C S S Μ ( Μ與以上說明的定義相同),自硫代醯胺類 衍化而成的- C S Ν Η 2,及自硫代異氰酸衍化而成的 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格( 210X297公釐)7〇1 575655 A7 B7 五、發明説明(4 ) -N C S。 用磷原子配位的官能基的實施例包括自一級、二級、 三級烷類及芳基膦衍化而成的> P -。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 用砷原子配位的官能基的實施例包括自一級、二級、 三級烷類及芳基砷衍化而成的> A s -。 用硒原子配位的官能基的實施例包括自硒醇類衍化而 成的一 SeH,自硒羰基合成物衍化而成的>C = Se, 自二硒羧酸類或二硒羧酸類衍化而成的一 C S e S e Μ ( Μ與以上說明的定義相同)。 在這些捕捉金屬離子的官能基當中,-〇Η, —C〇〇M、 >C = 〇 ’ 一Ο — , 一 S Ο 3 Μ j —Ρ〇(〇Μ) 2 , 一 ΝΗ2, >ΝΗ ,三 Ν —〇,一SH, —S —,一 C〇SM,- CSSM係較佳的(Μ輿以上說 明的定義相同)。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 這些官能基可能單獨或合倂兩種或多種而存在。關於 含兩種或更多官能基的拋光墊,舉例來說,列出如含有自 胺基羧酸類、胺基醇類、胺基膦酸類衍化而成的官能基的 那些。 較佳的捕捉金屬離子的官能基存在拋光墊的表面,無 論如何,該官能基也可能存在於拋光墊中,因爲如果該官 能基藉由拋光應力暴露於拋光墊表面且與拋光物接觸時將 獲得相同的效果,或如果官能基藉著使用修整器及此類之 物固定硏磨粒子例如鑽石及此類之物使拋光墊表面粗糙暴 露於拋光墊的表面,而與拋光物接觸。 本紙張尺度適用中國國家襟準(CNS ) A4規格(210X297公釐) _ 7 _ 575655 Α7 Β7 五、發明説明(5 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 關於含捕捉金屬離子的官能基的拋光墊,能夠使用離 子交換樹脂或離子交換纖維。離子交換樹脂意指含可以離 子交換的陰離子基或陽離子基合成的樹脂,主要具顆粒狀 ’而離子交換纖維意指賦與像離子交換樹脂的相同離子交 換能力的纖維狀的樹脂。 關於離子交換樹脂,列出如陽離子交換樹脂、陰離子 交換樹脂及螯合樹脂。 關於陽離子交換纖維,舉例來說,列出如含自磺酸類 或磺酸鹽類衍化而成物- S〇3 M ( Μ與上述的定義相同) 及自羧酸類或羧酸鹽類衍化而成的一 C〇〇Μ ( Μ與上述 的定義相同)當作官能基,且含苯乙烯-二乙烯基苯共聚 合物及此類之物當作基材的陽離子交換纖維。 關於陰離子交換纖維,舉例來說,列出如含胺基、一 取代胺基、二取代胺基及此類之物當作官能基,且含苯乙 烯-二乙烯基苯共聚合物及此類之物當作基材的陰離子交 換樹脂。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 關於螯合纖維,列出如含胺基羧酸、胺基膦酸、亞胺 基二醋酸及此類之物當作官能基,且含離子交換樹脂基材 的那些。 關於離子交換纖維,列出像離子交換樹脂般的陽離子 交換纖維、陰離子交換纖維及螯合纖維。 關於陽離子交換纖維,舉例來說,列出自磺酸類或磺 酸鹽類衍化而成物一 S〇3 Μ ( Μ與上述的定義相同)及自 羧酸類或羧酸鹽類衍化而成的- C Ο Ο Μ ( Μ與上述的定 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ29?公釐) _ 8 - 575655 A7 ________ B7 五、發明説明(6 ) 義相同)當作官能基,且含聚乙烯醇及此類之物當作基材 的陽離子交換樹脂。 關於陰離子交換樹脂,舉例來說,列出如含胺基、一 取代胺基、二取代胺基及此類之物當作官能基,且含聚乙 烯醇及此類之物當作基材的陰離子交換樹脂。 關於螯合樹脂,列出如含胺基羧酸、胺基膦酸、亞胺 基二醋酸及此類之物當作官能基,且含離子交換纖維基材 的那些。 關於本發明的拋光墊,含捕捉金屬離子的官能基的材 料’例如以上說明的離子交換樹脂及離子交換纖維及此類 之物可以加至使用的薄片中。 再者,不含捕捉金屬離子的官能基的樹脂可以加至薄 片中然後再引入官能基。習知的方法可以用於引入官能基 。舉例來說,列出如烯烴爲主的樹脂例如聚乙烯、聚丙烯 及此類之物,聚胺基甲酸乙酯樹脂、聚醯亞胺樹脂、環氧 樹脂、聚楓樹脂及此類之物的表面係利用離子輻射照射以 引入離子基的方法(舉例來說,輻射接枝聚合法),藉著 含浸長纖維的活化碳纖維薄層或多纖維絲、短纖維的紡絲 束 '其紡織或編織布、無紡織布、結合或混紡兩種或更多 纖維而獲得的纖維、蔬菜性纖維例如纖維性纖維及此類之 物、動物性纖維例如棉花、羊毛及此類之物於藥劑中而引 入官能基的方法及其他方法。再者,官能基可能藉由含製 造聚胺基甲酸乙酯、聚醯亞胺、環氧樹脂、聚硕及此類之 物的官能基之合成物之加成反塵而引入,而最後得到的樹 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T 線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -9 - 575655 A7 ______B7 五、發明説明(7 ) 脂可能係加入用作墊子的薄片中。 不含官能基的第二種薄片及此類之物可以疊至此離子 父換樹脂及此類之物薄片的側面,以達到補強該薄片的機 械強度,補足拋光所需墊子及此類之物的彈性模數。 這些含捕捉金屬離子的官能基的離子交換樹脂及離子 交換纖維當中,螯合樹脂或螯合纖維係表面上有含許多與 金屬形成錯合物的配位原子的多配位基樹脂或纖維。通常 ’當含兩個或更多配位原子的多配位基係鍵結至金屬離子 時’會形成螯合環,且其安定性提高高於錯合物中配置單 配位基者,接著,理想上捕捉金屬離子的能力拋光能力將 增加。 本發明的金屬拋光墊可能係含具有捕捉金屬離子的官 能基粒子的墊子。更明確地說,列出的墊子係藉由以上說 明離子交換樹脂及離子交換纖維係精細硏磨且硏磨材料與 接著劑聚合物混合,且該混合物係熱押出或用溶劑鑄模而 獲得墊子的方法獲得。具有捕捉金屬離子的官能基的粒子 形狀可能係球形或不安定的形狀。接著劑聚合物並未特別 限定使其可以與粒子混合。 接下來,本發明的拋光裝置將列示。 本發明的拋光裝置的特徵爲其包含使含金屬表面的拋 光物與具有拋光用的捕捉金屬離子的官能基的金屬拋光墊 相接觸的裝置,且於彼間均勻加壓,旋轉或移動拋光物及 拋光墊的裝置同時保持彼間的接觸,及裝塡促進拋光物及 拋光墊間拋光的拋光促進劑的裝置。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X297公釐) _ 1〇 _ (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 線痛 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 575655 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _B7_五、發明説明(8 ) 含金屬表面的拋光物通常固定於拋光頭,且面向拋光 %的含捕捉金屬離子的官能基的金屬拋光墊通常固定至拋 t面板。拋光物及拋光墊係旋轉或移動伺時保持其接觸, I該'旋轉或移動通常藉由旋轉或移動拋光頭及拋光面板而 生效。 用於固定含金屬表面的拋光物的拋光頭並未特別加以 限制,且不同的頭都可以使用。 只要拋光頭可以固定拋光物的拋光頭的大小都可以用 ’且此大小可能比用於固定拋光墊的面板更大或更小。 關於固定拋光物的方法,列出如藉由真空幫浦利用吸 附’利用黏著劑及此類之物來黏貼,及藉著利用彈簧及此 類之物來固定的方法。 用於固定拋光墊的面板也沒有特別限定,且可以使用 不同的板子。 只要拋光面板可以固定拋光墊的拋光面板的大小都可 以用,且此大小可能更大或更小於固定拋光物用的拋光頭 〇 形狀並沒有特別限定,且可能係盤狀、橢圓或矩形, 或具有固定拋光墊的曲面的結構也可以適用。 關於固定拋光墊的方法,列出如利用真空幫浦吸附, 利用黏著劑黏貼,及藉著利用彈簧及此類之物來固定的方 法。 拋光頭及拋光面板並未特別限定只規定其位置上面向 彼此,且拋光頭可以置於裝置上方且拋光面板可以置於裝 本&張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 1 - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 575655 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ___B7_ 五、發明説明(9 ) 置的下方,反過來說,拋光面板可能置於裝置上方而拋光 頭可能置於裝置下方。 拋光墊的大小也沒有特別限定。 本發明的拋光裝置宜包含一個讓拋光物及拋光墊在指 定壓力下彼此接觸且旋轉或移動其中任一者同時保持接觸 的驅動裝置,及一個在接觸情況下均勻施壓於表面的壓著 裝置。有效的拋光可以藉著使用此裝置且旋轉及移動拋光 物及拋光墊同時在固定壓力下保持其接觸而生效。 讓拋光物及拋光墊彼此接觸的驅動裝置及壓著裝置並 沒有特別限定,且其中拋光頭移向且與固定的拋光面板接 觸的拋光頭係用於彼上的結構可能可以用,或其中拋光面 板可以與固定拋光頭接觸,相反地,壓力施於彼上的結構 也可能可以用。接觸後的壓力可以由拋光頭側,由拋光面 板,或其二者同時施加。 施加壓力的方法也沒有限定,裝塡空氣或氣體例如氮 氣及此類之物的方法,及使用彈簧、油壓及此類之物的機 械方法都可以使用。 用於旋轉及移動拋光頭的驅動裝置並沒有特別限定, 而許多驅動裝置可以結合且旋轉及移動可以結合。更明確 地說,列出如分別旋轉拋光頭及拋光面板的驅動裝置,移 動拋光頭或拋光面板向左及向右的裝置,旋轉拋光頭或拋 光面板且進一步移動其二者或其中任一者向左及向右的裝 置,或旋轉拋光頭,且移動拋光面板向左及向右及向前及 向後的裝置,更進一步,可以自由移動拋光頭的驅動裝置 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -12 - ~ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 線一 575655 Α7 Β7 五、發明説明(10 ) ’其中拋光面板係如此放置以致其於沿著軸旋轉方向旋轉 軸之間像輸送帶般移動的驅動裝置,及其他裝置。 本發明的拋光裝置含有一個裝塡拋光促進劑以促進彼 此接觸的拋光物及拋光墊之間拋光的裝置。 裝塡裝置通常包含保留及儲放拋光促進劑的容器,由 容器裝塡促進劑的幫浦至拋光表面,運送氣體及此類之物 的氣體裝塡及控制管線,及促進劑裝塡管。其材料並未特 別限定只要其不會被拋光促進劑的作用腐蝕。在裝塡管中 ,可以配置移除促進劑中細粒及此類之物的過濾器。 裝塡管的裝塡部位置並沒特別限定只要拋光促進劑可 以塡於拋光物及拋光墊之間,舉例來說,拋光促進劑可以 藉著將開口設置於拋光墊上垂直放置而裝塡於墊子上,或 .拋光促進劑可以藉著設置穿越拋光面板及拋光墊的裝塡管 而塡至墊子表面。 關於用於促進拋光的拋光促進劑並沒有特別限定只要 其包含氧化劑。 關於氧化劑,可以使用習知的氧化劑,舉例來說,列 出如過氧化氫、碘酸、碘酸鹽及此類之物,而較喜歡使用 過氧化氫。 拋光促進劑中氧化劑的濃度以重量計宜從大約0 . 1 至1 5 %。當氧化劑的濃度以重量計低於0 . 1 %時,改 良拋光速度的效果可能會不顯著’以重量計當超過1 5 % 時,相較於濃度的拋光速度的改良可能無法察覺,以致於 並不經濟。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐1 ^T3^~ " (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 575655 A7 B7 五、發明説明(11 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 拋光促進劑的酸鹼度並不固定,因爲有效的酸鹼値視 官能基的種類而異,且拋光物金屬的種類,通常從大約1 至8,宜從2至6。當拋光促進劑的酸鹼度低於1時,拋 光設備及此類之物腐蝕的問題可能會發生。本發明拋光促 進劑的酸鹼度可以藉著使用習知的酸及鹼控制。喜歡使用 酸及鹼例如硝酸、磷酸、硫酸、氫氧化銨、胺及不含金屬 離子之此類之物。 拋光促進劑大體上可能不含固體硏磨粒子或含固體硏 磨粒子。硏磨粒子的實施例包括無機氧化物例如矽石、礬 土、鈽土、鈦氧、鉻氧及此類之物,且有機材料的硏磨粒 子例如聚苯乙烯、聚丙烯酸、聚氯乙烯及此類之物。 再者,必要的話,在拋光促進劑中,可以使用界面活 性劑及腐蝕抑制劑例如苯並三唑及此類之物當作改良拋光 表面的表面性質。關於界面活性劑,可以使用陰離子、陽 離子、非離子及兩性界面活性劑,且其可以結合兩種或更 多種一起使用。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 再者,本發明中的拋光裝置宜包含再生捕捉金屬離子 而去活性化的官能基的再生劑,及拋光之後讓再生劑與拋 光墊相接觸的官能基再生處理裝置。官能基的再生意指金 屬離子自捕捉金屬離子的官能基釋放出來,且表示恢復官 能基捕捉金屬離子的能力。 關於再生去活性化官能基的再生劑,酸性水溶液及鹼 性水溶液中任何一種皆可以使用,端視拋光墊中包含的官 能基而定。 本紙張尺度適用中周國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -14 - 575655 A7 ____B7_ 五、發明説明(12 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 藉由這些再生劑再生拋光墊的裝置並沒有特別的限定 ,只要其具有讓拋光墊與再生劑接觸的機構。更明確地說 ,那些具有拋光完成後將再生劑吹至墊子的機構者,或那 些具有將墊子浸在再生劑溶液中的機構,都可能可行。特 別藉著在完成拋光之後直接在墊子上立即進行再生處理, 拋光墊的拋光能力係安定化且拋光可以更有效地進行。 本發明的拋光墊及拋光裝置可以用於不同金屬的拋光 ,適合者係銅爲主的金屬。拋光墊及拋光裝置係適用於金 屬薄膜的拋光,尤其是,形成於半導體基材上以銅爲主的 金屬薄膜。關於以銅爲主的金屬,列出如純銅膜、銅合金 膜及此類之物。 藉著使用本發明的拋光墊及拋光裝置,金屬得以高速 拋光,拋光表面上的刮痕得以抑制,且金屬的蝕刻得以抑 制。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明的拋光方法係一種藉由化學機構拋光金屬的方 法’而其特徵爲其分別使用上述中本發明的墊子及裝置爲 拋光墊及拋光裝置。本發明的拋光方法宜用於其金屬膜, 尤其是’用於形成在半導體基材上的金屬膜,用於銅膜。 實施例 以下的實施例於以下列示本發明但是不用說實施例當 然不得限制發明的範圍。 實施例 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -15 - 575655 A7 ________B7_ 五、發明説明(彳3 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 藉著將亞胺基二醋酸基爲官能基引入纖維素纖維而得 到的螯合纖維製成的布料係用作拋光墊。此拋光墊係固定 於拋光面板’而固定至拋光頭的圓形的銅板係藉著使用拋 光機(由PRESI製造,MECAPOL P-200型)而拋光。藉著添 加硝酸至1 · 5 w t %過氧化氫溶液而獲得酸鹼度4的拋 光促進劑係於容器中製備,而溶液係藉由幫浦塡至墊子的 表面。拋光條件包括拋光面板的轉速爲1 〇 〇轉,拋光頭 的轉速爲7 5轉,拋光壓力爲1 3〇克/平方公分,拋光 促進劑的流速爲1 0 〇毫升/分,而拋光時間爲2分鐘。 銅板拋光速度爲4 2 8埃/分。 比較實施例1 銅板以實施例1中的相同方法拋光,除了使用聚胺基 曱酸乙酯樹脂含浸的聚酯非織物S U B A 4 0 0 (商品名 :由Rodel製造)代替含亞胺基二醋酸基的墊子,當作拋光 墊。銅板拋光速度爲3 4埃/分。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 與實施例1中用含有亞胺基二醋酸基爲拋光墊的布料 相比,使用不含捕捉金屬離子的官能基的非織物的比較實 施例1中的拋光速度極慢。 藉著使用金屬拋光墊,含此拋光墊的拋光裝置,及根 據本發明使用彼的金屬拋光法,金屬,尤其是,可以高速 度拋光的金屬膜,發生於拋光表面上的刮痕得以抑制,金 屬上的腐蝕可以抑制,且可以獲得特別佳的加工表面,再 者,含無機硏磨微粒及此類之物的廢棄物在拋光完成之後 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -16 - 575655 A7 B7 五、發明説明(14 ) 幾乎不會產生。因此,本發明的墊子、拋光裝置及拋光方 法顯然極具產業價値。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) |靖- 訂 線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -17 -

Claims (1)

  1. 575655 A8 B8 C8 D8 * )-- - 々、申請專利範圍 j 1 · 一種金屬拋光墊,其含有捕捉金屬離子的官能基 〇 2 ·如申請專利範圍第1項之拋光墊,其中捕捉金屬 離子的官能基包含至少一個選自氧原子、氮原子、硫原子 、磷原子、砷原子及硒原子的原子。 3 ·如申請專利範圍第1項之拋光墊,其中捕捉金屬 離子的官能基係至少一個選自—〇H、一 C〇〇M、>C =◦、一 〇 一 、一 C〇〇R、 一 C0NH2、 一 Ν〇2、ξΝ —〇、一S〇3M、一 ΡΗ〇(〇Μ) 、一 Ρ〇(〇Μ) 2 、—As (〇 Μ ) 2、— ΝΗ2 ' ί>ΝΗ '=]Μ λ — = ]\[— 、>C = N-、>C = N- 〇H、>C = NH、—SCN 、—SH、一 S —、>C = S、一 C〇SM、— CSSM 、—CSNH2、一 NCS、>P -、>As —、>s = Se、— CseSeM的基團, 其中M代表氫、鹼金屬、鹼土金屬或鏡基,而r代表 烴。 4 .如申請專利範圍第1項之拋光墊,其中該墊子.包 含一種離子交換樹脂,或離子交換纖維。 5 .如申請專利範圍第1項之拋光墊,其中該墊子包 含螯合樹脂,或螯合纖維。 . 6 ·如申請專利範圍第1項之拋光墊,其中該金屬係 以銅爲主的金屬。 7 · —種金屬拋光裝置,其包含如申請專利範圍第1 項之拋光墊。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ·化_ ----ί ί.---等 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1Τ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 575655 A8 B8 C8 D8 々、申請專利範圍 $ 8 · —種拋光裝置,其包含一種使含金屬表面的拋光 物與其面對的如申請專利範圍第1項的拋光墊接觸且在彼 間均勻地施加壓力的裝置,一種旋轉或移動拋光物及拋光 墊同時保持彼間接觸的裝置,以及一種裝塡促進拋光物及 拋光墊之間拋光的拋光促進劑的裝置。 9 ·如申請專利範圍第8項之拋光裝置,其中拋光促 進劑包含氧化劑。 1 〇 .如申請專利範圍第7項之拋光裝置,其還包含 在拋光拋光物之後使再生捕捉金屬離子而去活性化的官能 基的再生劑與如申請專利範圍第1項的拋光墊相接觸的官 能基再生處理裝置。 1 1 ·如申請專利範圍第1 〇項之拋光裝置,其中再 生劑係酸性水溶液或鹼性水溶液。 1 2 .如申請專利範圍第7項之拋光裝置,其中金屬 係以銅爲主的金屬。 1 3 · —種拋光金屬的方法,其利用如申請專利範圍 第"[項的金屬拋光裝置藉由化學機械拋光。 1 4 . 一種拋光金屬的方法,其包含的步驟爲 旋轉或移動拋光墊、拋光物或其二者同時保持如申請 專利範圍第1項中拋光墊的條件推向含金屬表面的拋光物 ,以及 裝塡金屬表面及拋光墊間的拋光促進劑。 1 5 .如申請專利範圍第1 4項之拋光方法,其中該 拋光墊係藉由如申請專利範圍第10項的官能基再生處理裝 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) I---“I — h-I|琴 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、11 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -19- 575655 A8 B8 C8 D8 申請專利範圍 3 第 圍 Λ-Ε 箪 o 利屬 «金 請的 子如爲 墊 ,銅 的 6 以 生 1 係 再 屬 置 金 該 中 其 法 方 光 拋 之 項 ----L-----裝-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂
    經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -20-
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