TW567522B - Coating method and apparatus - Google Patents

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567522 A7 B7 五、發明說明（ 技術領域 本發明係有關於-種塗佈處理方法及塗佈處理 係以於液晶顯示裝置(LCD)基板等之基板表面 光阻液者。 ϋ術背景 ‘ 矩 而 至 光 在液晶顯示器（LCD)之製造中，係藉所謂：於玻璃製 形LCD基板上塗佈光阻液，形成光阻膜，對應電路圖案 將光阻膜曝光-顯影處理之微影技術而形成電路圖案。、 今採用了具有可實施如此—連串程序之多數處理單元之 阻塗佈顯影處理系統。 阻 而 、在如此之光阻塗佈顯影處理系、统中，京尤用以塗佈光 液之程序®，係為提高光阻對矩形LCD基板之定著性，而 在黏著處理單it中施行疏水化處理（ΗΜ〇δ處理），且在冷 卻單元中冷卻後，搬入光阻塗佈單元。在光阻塗佈處鱗 龜 兀中，使-邊將基板在固持於旋轉夾盤上之狀態下旋轉， -邊由設於其上方之噴嘴朝基板表面供給光阻液，藉基板 旋轉所造成之離心力·而使光阻液擴散，藉此，以於基板全 面上形成光阻膜。 離 進 w該塗佈有光阻液之基板係藉端面處理單元（邊緣切 器）’除去周緣上多餘的光阻後，再搬入加熱處理單元〜 行預烘烤處理’進一步再以冷卻單元進行冷卻，送往曝光 裝置’在該處曝光出預定圖案，隨後施以顯影處理，並施 行後烘烤處理，形成預定之光阻圖案。 在前述光阻塗佈時，至今採用有下列方法，:朝靜 i張尺度適用中國國冢標準（CNS_)A4規格⑽χ撕公爱 -4- 567522 A7 五、發明說明（2 ) 止的基板約略中心滴下光阻液， # ^後再以南速使基板旋 2 ’精離心力以使光阻液擴散而進行塗佈者。以該方法， 周速度明顯地比中心位置還大之外周部飛散出多量之光 阻液，實際上所塗在基板面 < $疋所供給的光阻液 W肌左右，且光阻耗費量也明顯地增多。因此，為使光 阻液之擴散容易進行且減少光阻供給量時，而採用有在朝 基板上滴下光阻液前先滴落稀釋劑等溶劑（預濕式）之方 法。 惟，令光阻液於業已形成預定圖案之基板上擴散時， 為使光阻液擴散而將基板旋轉時，光崎也難以攀越過圖 案的段差’因此為了使光阻液擴散於基板全面上而不得不 增加光阻液之供給量，且就管早a > 就疋轭仃過預濕步驟也無法保 迅光阻液的削減效果。x，採用該預濕方式時， 阻液塗佈程序的處理時間加長之困擾。 此外’光阻塗佈方式之另一形態為柵格噴嘴塗佈方 式，-邊由柵格喷嘴朝矩形基板吐出帶狀光阻液， 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 费 合 具 社 印 Μ 塗 勻 柵格喷嘴在矩形基板上掃描，朝矩形基板上塗佈光阻液， 隨後高速旋轉基板，以使光阻液擴散者。以該㈣^ ’ 吐 須 佈方式時’藉使柵格噴嘴進行掃描’可使光阻液約略均 地塗佈於矩形基板，因此可謀求光阻液耗費量之削減— 但是以該種栅格噴嘴之形態，未必能以安定的狀雜 出光阻液。又’令柵格噴嘴在矩形基板上進行掃描時‘了須 以高精度之狀態移動該柵格喷嘴，而使栅格噴嘴 棋、 價格昂貴，致使裝置成本上揚。 ' 機構 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇 X 297公釐） 567522

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（3 ) 發明之福示 θ本發明係有！監於上述問題點而所構建者，其目的係於 提供-種塗佈處理方法及塗佈處理裝置，係可在將諸如光 阻液之塗佈液塗佈於基板全面上時，不致造成裝置成本的 上服’且可減少塗佈液之使用量。‘ 為解決前述課題，依本發明，構建成一種塗佈處理方 法，其係於收容於處理容器内之基板之表面上塗佈塗佈液 以形成塗佈膜者；包含有下列步驟；即··_邊使基板旋轉， 一邊由形《於光阻液吐出喷嘴底面之多&微小吐出孔朝旋 轉的基板吐出帶狀光阻液，將光阻液塗佈於基板上；隨後， 停止光阻液的吐出，而基板則持續旋轉，以勻整基板上之 塗佈膜之膜厚。 又，依本發明，構建成一種塗佈處理裝置，其係用以 於基板表面上塗佈塗佈液以形成塗佈膜者，其係包含有·· 處理容器，其上方具有開口部，且可環圍基板者；基板保 持機構’係'用以固持基板者；基板旋轉機構，係用以使前 述基板保持機構旋轉.，而使前述基板旋轉者；塗佈液吐出 喷嘴，係於底面形成有用以吐出塗佈液之多數微小吐出 孔，且可由其等微小吐出孔吐出帶狀塗佈液者；塗佈液供 、’Ό機構，係用以朝該塗佈液吐出喷嘴供給塗佈液者；及， 控制機構，係用以使該基板一面相對於前述塗佈液吐出噴 嘴作相對移動，一面由塗佈液吐出喷嘴之多數微小吐出孔 朝旋轉之基板吐出帶狀塗佈液，隨後停止塗佈液之供給， 且令基板繼續旋轉，以勻整塗佈於基板上之塗佈液之膜 本紙張尺度刺中國國家標準（CNS)A4規格⑽x 297公楚） —--~___ I ^ Μ-----Aw I ^ -------} ^---I---I Aw (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 567522 A7 B7 五 麵 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 發明說明（4) 者 按以上構成之本發明，一邊旋轉基板，一 适田塗佈液 吐出喷嘴之微小吐出孔朝基板吐出塗佈液，可於基板約略 全面供給塗佈液，因此不須使塗佈液擴散，只要將膜厚勻 整即可，且可減少由基板因離心力切離之塗佈液的量，並 在基板上即使有段差的存在也不須將所供給之塗佈液的量 增加。因此可減少塗佈液之使用量。又，由微小吐出孔I 出光阻液，因此可以比採用柵格噴嘴形態時更安定的狀熊 吐出塗佈液，且由於不需要諸如用以栅格噴嘴以掃描方二 將塗佈液約略均勻地塗佈於矩形基板全面時之高精度噴^ 移動機構，所以也不會導致製造成本的上漲。 /在本發明中，其中該基板為矩形時，塗佈液吐出喷嘴 係具有由矩形基板約略中心迄至約略四角落的長度；且係 使於吐出塗佈液時，令該塗佈液吐出噴嘴之一端位於矩形 的基板的約略旋轉中心，一邊由該塗佈液吐出噴嘴吐出帶 狀塗佈液，一邊使基板作相對旋轉，以於基板上塗佈塗佈 液者。藉此，可以一邊由矩形基板之約略旋轉中心朝徑方 向吐出帶狀塗佈液，一邊使基板旋轉之簡單構造，即可將 塗佈液約略均勻地塗佈於基板公面上。 又，改變其等微小吐出孔之徑或間距，則可調整位於 基板中心側與外周側之塗佈液吐出量。具體而纟，基板旋 轉時，位於基板中心側與外㈣之周速度不同，而為使塗 佈液約略均勻地塗佈於基板表面，愈靠基板外周側，愈需 要吐出多量的塗佈液，藉使微小吐出孔之孔徑係形成 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS〉A4規格（21〇 χ 297公釐） -------------裝---II訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -7- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 567522 A7 ----------- _______ 五、發明說明（5 ) 板^心側小於靠外周側者，或，微小吐出孔之間距係形 成罪基板中。側大於罪外周側者，可將塗佈液吐出量調整 成Λ基板外周側多於靠中心側者。 進而’塗佈液吐出噴嘴係具有多數塗佈液儲藏室，各* 自的底面上形成有用以吐出塗佈液之吐出孔；而係使欲由 該塗佈液吐出噴嘴朝旋轉之基板吐出帶狀塗佈液時，構建 成可各自調整上述多數塗佈液儲藏室之塗佈液吐出量者。 如此，可各自獨立地調整來自多數塗佈液儲藏室之塗 佈液吐出量，如同前述構造，由於基板中心側與外周側之 =速度之不同，而須將靠基板外周側之塗佈液吐出量多於 靠基板中心側時’只要將來自靠基板外周側之塗佈液儲藏 室之塗佈液吐出量增多即可。 又，使矩形基板旋轉時，由基板旋轉中心迄至外端緣 之&向長度不一定，造成塗佈液吐出噴嘴有-部分超出基 板。在此情況下，可減少超出旋轉矩形基板之塗佈液儲藏 室之塗佈液吐出量，或，可調坚使自該超出之塗佈液儲藏 至不吐出塗佈液之形態。藉此，可減少浪費的塗佈液或銷 除’且可減低塗佈液之耗費量 進而，也可構造成洗淨塗佈液吐出噴嘴之形態。上述 形態之微小吐出孔將因塗佈液而易堵塞按此而洗淨塗佈 液吐出喷嘴，可在不堵塞之狀態下安定地吐出塗佈液者。 登實施形能 以下，參考所附圖式，詳細說明本發明之實施形態。 第1圖係顯示具有適用本發明之光阻塗佈處理單元之 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21G x 297公爱） I I I 1 ϋ ϋ ϋ ί I I « I I n I ϋ 一-ov I n I n ϋ I ϋ ϋ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 567522

Hr 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（6) LCD基板之光阻塗佈/顯影處理系統之立體圖。 該塗佈/顯影處理系統係包夂有· ·用以載置可容納多數 基板G之卡匣C之际△ 1、止， σ 具月夕數用以朝基板施行包括 光阻塗佈及顯影等一連串處理之處理單元之處理部2， 及，供與曝光裝置（未圖示）間進行‘基板收授用之界面部3 ; 並於處理部2兩端各配置匣台|及界面部3。 匣台1係具有一用以於卡座C與處理部2間進行LCD 基板之搬送之搬送機構10。然漫，於£台丨中進行有卡匠 C之搬出及搬人。又，搬送機構1G係具有可於沿切配列 方向設置之搬送路H)a上移動之搬送臂π，藉該移動臂心 而可於卡匣C與處理部2間進汙基板〇之搬送。 處理部2係分成前段部2a、中段部⑪及後段部2c， 其等中央各具有一搬送路12、13、14，且於其等搬送路兩 側各配設有一處理單元。並於其等之間設有中繼部。、丨“ 前段路2a係具有一可沿搬送路12移動之主搬送裝置 Π,而在搬送路12 一側配置有兩座洗淨單元（SCR)2la、 21b，於搬送路ι2另「側配置有將紫外線照射單元（uw及 冷卻單元（COL)重疊成2層之處理區25、將加熱處理單元 (HP)重疊2層而成之處理區2〇，及將冷卻單元（c〇l)重疊 2層而成之處理區27。 又’中段路2b係具有一可沿搬送路1 3移動之主搬送 裝置18，而在搬送路13 一侧配置有一體形成之抗蝕塗佈 處理早元（CT)22及用以除去基板G周緣部之光阻之周緣 光阻除去單元（ER)23,於搬送路13另一側則配置有將加熱 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） -------------^---II---^------! ·線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 567522 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（7) 處理單元（HP)重疊2層而成之處理區28、將加熱處理單元 (HP)及冷卻處理單元（COL)重鲞2層而成之處理區29，及 將黏著處理單元（AD)及冷卻單元（c〇L)上下重疊而成之處 理區30。 進而，後段路2 c係具有一可沿搬送路丨4移動之主搬 送裝置19，而在搬送路14 一惻配置有三座顯影處理單元 (DEV)24a、24b、24c，於搬送路14另一側則配置有將加 熱處理單元（HP)重疊2層而成之處理區31，以及將加熱處 理單元（HP)及冷卻處理單元（c〇L)上下重疊而成之處理區 32 、 33 ° 此外，處理部2係構造成隔著搬送路而於一側專設有 如同洗淨處理單元21a、光阻處理單元22'顯影處理單元 24a之自旋系單元，而於另一训專設有加熱處理單元及冷 卻處理單元等之熱系處理單元者。 又，中繼部1 5、1 6靠自旋系單元配置側之部位配置有 藥液供給單元34，且還設有用以對主搬送裝置進行維護的 空間35。 月述主搬送裝置1 7、1 8、1 9係各自具有水平面内2方 向用之X軸驅動機構、γ軸·妫機構，及垂直方向用之z 軸驅動機構，還具備一以z軸為中心作旋轉之旋轉驅動機 構’且各具有一可支撐基板G之支撐臂na、18a、i9a。 月’J述主搬送I置】7係具有下列機能，即：用以與搬送 機構10之臂1 1間進行基板G之收授者；相對於前段部2a 之各處理單元之基板G搬入及搬出；以及，用以與中繼部 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公楚） ΙΊ-Γ-----·-裝——訂--------· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -10- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 567522 , A7 - —__B7 五、發明說明（8) 1 5間進行基板G之收授者。又，主搬送裝置i 8係具有下 列機能，即：用以與中繼部】5間進行基板G之收授者； 相對於中段部2b之各處理單元之基板G搬入及搬出；以 及，用以與中繼部丨6間進行基板G之收授者。進而，主 搬送裝置19係具有下列機能，即.··用以與中繼部16間進 行基板G之收授者；相對於中段部2c之各處理單元之基 板G搬入及搬出；以及，用以與界面部3間進行基板g之 收授者。此外，中繼部丨5、] 6也具有冷卻板之功能。 界面部3係包含有：一用以於與處理部2間進行基板 收授時暫時固持基板之延伸機構36、進一步配置於其兩側 且配設有緩衝匣之兩座緩衝台37，及，用以與前述裝置與 曝光裝置（未圖示）間進行基板G之搬出搬入之搬送機構 38。該搬送機構38係具有一可於沿延伸機構％及緩衝台 37之配列方向設置之搬送路3;sa上移動之搬送臂藉該 搬送臂39以於處理部2及曝光裝置間進行基板g之搬送 者。 如此將各處理單孓匯集，使其等一體化，可謀求省空 間及處理的效率化。 於按此構造而成之光阻塗饰/顯影處理系統中，將卡匣 C内之基板G送往處理部2，在處理部2中，首先以前段 部2a之處理區25之紫外線照射單元（uv)進行表面改質及 洗淨處理，並以冷卻處理單元⑴叫加以冷卻後，再以洗 淨單元（SCR)2la、21b^刷淨，進一步再以處理區％之 任一加熱處理單元（HP)加熱乾燥後，以處理區U之任一冷 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） — I! — ! — !· · 1111111 訂·！ I - *5^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -11 - 567522 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（9) 卻單元（COL)進行冷卻。 隨後，基板G送往中段部2b，為提高光阻之固著性， 而以處理區30中位於上層之黏著處理單元（AD)施行疏水 化處理（HMDS處理）’進一步以下層之冷卻處理單元（c〇l) 冷卻後，用周緣光阻除去單元（ER)23去除基板T之周緣的 多餘光阻。又將基板G以中段部2b中之加熱處理單元（Hp) 之一施行預熱處理，進一步用處理區29或3〇之下層的冷 卻單元（COL)冷卻。 隨後，基板G係由中繼部16藉主搬送裝置19且經由 界面部3而搬往曝光裝置，在該處曝光成預定圖案。接著， 基板G再經由界面部3搬入，伖情況而定，可藉後段部 之處理區31、32、33之一加熱處理單元施行後烘烤處理， 進一步再以顯影處理單元（DEV)24a、24b、24c中之一單元 進行顯影處S，而形成預定之電路圖t。經顯影處理後之 基板G係以後段部2C之一加熱處理單元（Hp)施行後烘烤 處理後，再以任-冷卻單元（c〇L)進行冷卻，藉主搬送裝 置19、18、17及搬送機構1()以收容在匣台丨上之特定卡 匣。 其次，說明光阻塗佈處理單元（CT)22。第2圖係 光阻塗佈處理單元之模式截面圖；第3圖係顯示光阻塗佈 處理單元之模式平面圖。 如第2圖所示，於光阻塗佈單元（CT)22上設有可藉基 板旋轉機構之驅動裝置4〇旋轉之旋轉夾盤41，該旋轉夾 盤41上係吸著基板且使其表面呈水平狀態下載置之。該旋 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） Μ裝---1 ------ 訂· (請先M讀背面之注意事項再填寫本頁) 4 -12- 五、發明說明（10 ) 轉失盤41上係固設有一有底圓筒狀之旋轉杯（處理容 益）42’該旋轉杯42可與該旋轉夾盤41 一起旋轉，且可由 下方包圍旋轉夾盤41及基板G者。該旋轉杯42也構造成 可藉驅動裝置40而旋轉者。該驅動裝置4〇係具有一步進 馬達40a、用以傳達步進馬達4〇&之旋轉之轴顿、術， 及用以使旋轉失盤41及旋轉杯42旋轉之傳達機構 於該旋轉杯42外周側係配置有一可覆蓋旋轉杯42之 外周側及下側之中空環狀排出杯44。該排出杯44係可使 於光阻塗佈時飛散之光阻液朝下引導者。又，於旋轉杯42 上部開口係可藉搬送臂46而裝設蓋體45。 進而，設於單元内之支持柱48上係設有一可藉未圖示 之驅動系而自由搖動且昇降自如之喷嘴臂5〇，該噴嘴臂5〇 係安裝有-可吐出帶狀光阻液之長尺狀光阻液喷嘴Μ。 該光阻液吐出喷嘴51係形成有自矩形基板G之約略旋 轉中心至略四角落之長度，以使於吐出光阻液時，其前端 部位於基板G之約略旋轉中心，可與噴嘴f 5() _起搖動， 並使於吐出光阻液後.，可回到待避（等待退避）位置，且裝 著於喷嘴洗淨機構（噴嘴BATH )70。 該光阻液吐出喷嘴51係於基板G之約略旋轉中心迄至 約略四角落間劃分成多數部分’如第4圆所示，諸如劃分 成5個光阻液儲藏室5]a_5Ie。其等光阻液儲藏室仏-51e’自光阻液吐出喷嘴5i朝旋轉基板G吐出帶狀光阻液 時，可於各不相干之狀態調整光阻液吐出量。此外，此時 之劃分之數量係不限於此種形態，只要劃分成”固 。 567522

五、發明說明（11) 於母光阻液儲藏至51；1_516之底面上各馨設有用以 吐出光阻液之多數吐出孔52。其等吐出孔52之口徑係宜 為 Φ 1〇# m- 0 200# m，諸如為 0 5〇// m。 如弟4圖所示，其等光阻液儲藏室5la-51e係各與由 未圖示之光阻液供給源延伸之光粗液供給管53—相連 接’且其等光阻液供給管上係間設有根據來自後述之塗佈 單元控制器60之控制信號而作電磁開關之開關閥5“_ 54e。其等開關閥54a_54e係於各自獨立之狀態下進行開啟 與關閉’而可使於來自多數光阻液儲藏室Hade之光阻 液吐出量在各自獨立之狀態下進行調整者。 光阻塗佈處理單元（CT)22係具有用以控制基板g旋轉 及光阻液供給之塗佈單元控制器6〇。並構成為由該塗佈單 凡控制器而朝用以使旋轉夾盤41驅動之驅動機構4〇之步 進馬達他傳送控制基板㈣㈣之控制信號者。該步進 馬達4 0 a之旋轉角係可藉編碼器6丨測出，進一步地輸入於 塗佈單元控制器60,以可掌握住基板G的旋轉速度或旋轉 位置等資料。 ， 又構造成由該塗佈單元控制器6〇而朝開關閥54卜5軋 傳送一控制信號，利用因應藉編碼器61所檢測出之基板〇 之紋轉位置以調整開關閥54a-54e之閥開程度者。 此外，其等多數光阻液儲藏室51a_51e，係可構建成將 夕數光阻液儲藏室相互連接而成一體化的長尺狀形態， 或，也可於一長尺狀喷嘴内設置隔壁以構造成多數光阻液 儲藏室者。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ιτ!7-----#-裝 i — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 卜訂： 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -14- 567522 β Α7

裝--------訂---------線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 本紙張尺度適用中關家標準X 297公爱） -15 - 567522 A7 13 五、發明說明（ 有光阻液。此外， 捋之基板G的旋轉只要旋轉丨次以上

Pp 〇 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ^ “夜土出賀嘴5 1係朝退避位置退避，同時蓋 體45載置於旋韓虹 、 上，敦钇杯42之開口係藉蓋體45 在巧狀態下’使基板G與旋轉杯42 一同旋轉， 可勻整光阻膜的厚度’且使光阻膜厚呈均勻狀態。 依此種形態，一邊使基板G旋轉一邊由光阻液吐出喷 嘴51之微小吐出孔52朝基板在基板G約略旋轉中心迄至 基板端部範圍吐出帶狀光㈣，可於基板G約略全面上供 給光阻液，因此不需要在之後將光阻液擴散，只要將膜厚 進行勻1即可’可減少因遠心力而由基板G飛離之光阻液 的篁’且即使在基板G有落差的存在也不用增加光阻液的 供、-量。疋故’可比習知形態大幅減少塗佈液的使用暈。 4 又，由於是由微小吐出孔52吐出光阻液，所以可較採 用柵格噴嘴之形態安定地吐出光阻液，同時不需要像用柵 格喷嘴掃描以塗佈光阻液時般的高精度之噴嘴移動機構， 因此不會導致裝置成本上揚。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 進而，由多數微小吐出孔52味出光阻液，以以下所示 之（1) - (3)悲樣’可提尚光阻液吐出之控制性p (i)例如，在將基板G旋轉時，因基板G的中心側與外 周側的周速度不同，為使光阻液可約略均勻地塗佈於基板 G全面時，則須使愈朝基板G外周側吐出愈多量的光阻 液，在本實施形態中，係可使光阻液儲藏室5丨a_5丨e互不 相干之狀態下調整各儲藏室的光阻液吐出量，如此一來， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -16- 567522 A7

五、發明說明（14) 4 經濟部智慧財產局員Η消費合作社印製 須由基板G之中心侧愈朝外周側依序增多光阻液吐出量 夺一要凋整成使位於基板G中心側之光阻液儲藏室5 i a 外周側之光阻液儲藏室5 1 c依序增加光阻液吐出量即 此守為使位於基板G中心側之光阻液儲藏室5 1 a至 外周側之光阻液儲藏室5丨e依序增加光阻液吐出量，只要 由控制器60傳送出使開閉閥54a-54e之閥開度依序增大之 控制信號即可。 ()由方；基板G為矩形，所以由基板g的旋轉中心迄至 外端緣之徑向距離非一定，例如由基板G的旋轉中心到四 角的距離、由旋轉中心至短遭的距離、以及至長邊的距離 都不一樣，因此由光阻液吐出噴嘴51朝旋轉基板G吐出 光阻液時，光阻液吐出噴嘴5丨之一部分將超出基板G，使 光阻液浪費。在如此情況下，鸟調整成可減少超出旋轉矩 形基板G之光阻液儲藏室的光阻液吐出量，或，不吐出時， 了大巾均減y無品浪費的光阻液。具體而言，只要因庳藉編 碼器61所檢測出之基板G旋轉位置之時序，例如當矩形 基板G的短邊通過光‘阻液吐出噴嘴5 1時，由控制器6〇傳 送一縮小超出基板G之光阻伋儲藏室諸如光阻液儲藏室 5 le的開閉閥54c之間開度，或，完全_閉之控制信號即 可〇 (3)藉改變微小吐出孔52之口徑或節距，可調整基板〇 中心側及外周側之光阻液吐出f。具體而言，如前述，因 基板G中心側與外周惻之周速度的不同，愈是基板〇外周 側愈須吐出多S：光阻液，而將位於基板G外周側之微小吐 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -------------裝------訂·-------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -17- 567522 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（15) 出孔52之口徑逐漸形成比中心側大，或，將位於基板g 外周侧之U小吐出孔之節距逐漸形成比中心側小時，可 調整成使愈朝基板G外周側依序比基板g中心側之光阻液 吐出量少。 另方面，吐出光阻液後，光.阻液吐出噴嘴5丨移動至 待避位置，進一步裝設於浴洗室72。在此處，由一對供給 管75供給稀釋劑等溶劑，且由洗淨噴嘴％朝光阻液吐出 噴嘴51之前端部吐出。藉此可有效地防止微小吐出孔52 之堵塞。即，由於光阻液吐出噴嘴5!形成有微小吐出孔 而容易發生堵塞，但藉該喷嘴洗淨機構7〇所進行的洗 淨’所以可有效地防止堵塞現氣。 於如此之噴嘴洗淨機構7〇中，也可以關閉開閉閥77 之形態，於浴洗室72内儲藏稀懌劑等溶劑，藉該所儲藏之 稀釋劑等溶劑洗淨光阻液吐出喷嘴51之前端部。此時，也 能有效地防止堵塞者。 又也可構建成於關閉開閉閥7 7以於浴洗室7 2内儲 藏稀釋劑等溶劑時，使光阻液吐出噴嘴5 1之前端部裸露於 由亥儲藏a训所發生之瘵氣屮，防止噴嘴前端部之光阻液 之乾燥者。 、其次，說明本發明之第2 f施形態、如第8圖所示， 準備好儲藏有各黏度不同之光阻液之光阻供給源43a· 其等各光阻供給源43a- 43e各透過供給管53 a-53e而 連接於光阻液吐出噴嘴51之各光阻液儲藏室5ia_5ie。各 光阻供給源43a- 43e之光阻的黏度係設定為由43a至43e 丨Ί丨7-----·-裝--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 卜訂· -18 - 567522 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（16) 呈階段地提高者。亦即，設定成由基板G中心朝外側呈階 段式地提高者。 又，雖未圖示，與前述第1實施形態同樣構造成，使 塗佈單元控制器60也控制著用以驅動示於第4圖之旋轉夾 盤41之驅動機構4〇之步進馬達4〇a，且根據編碼器6丨的 輸出，以调整各設於光阻供給源43a_43e之開閉閥54a_54e 之開度者。 採用如此構成之光阻塗佈裝置而朝基板G塗佈光阻 時，依第9(a)-9(c)之順序所示，朝由基板G之約略中心迄 至基板端部吐出各黏度不同之光阻並同時使基板進行丨旋 轉。藉此可使光阻黏度由基板中心向基板端部呈階段式地 提高。此外，圖中，模式顯示光阻黏度愈高，光阻液的塗 佈線愈粗。 隨後’將基板G旋轉預定之旋轉次數以勻整膜厚時， 雖然隨著旋轉速度由基板中心朝基板端部愈快，但將光阻 的黏度對應該速度也由基板屮心向基板端部逐漸提高，因 此可將膜厚調整成均·勻的狀態，又，由於基板端部之光阻 之黏度而可減少在旋轉時所迭成的光阻朝基板外側的飛 散’所以可削減光阻的消費t 又’在本實施形態中，也與前述第丨實施形態同樣， 如第9(a)圖所示，光阻液吐出喷嘴5丨超出基板丨邊時，使 減少所超出之光阻液儲藏室s丨d及5丨e之光阻的吐出量， 或使吐出停止，因此可削減光阻之消費。 其次’就本發明之第3實施形態進行說明。如第1〇圖 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -19- ------------ ----訂-------I 線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 567522

五、發明說明（17 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 不，於用以支掠光阻液吐出喷嘴51之支持才主48安裝驅 動馬達56 ’藉該驅動馬達％，而構造成光阻液吐出噴嘴 51以長向為軸旋動者。該驅動馬達之旋動度係藉控制部58 而所控制者。藉此，如第11圖所示，可構造成隨機調整由 微小吐出孔52所吐出之光阻相對於基板之角度者。 _藉如此構成’如第12圖所示，基板〇之旋轉方向為以 箭頭A表不之方向時，如圖所示，對喷嘴5丨相對於基板〇 附與角度以吐出光阻，可平順地對基板G塗佈光阻，與對 基板垂直塗佈之形態相較之下，可抑制光阻跳離基板，或 飛散者。Θ此，以隨後的膜厚調整，可形成均勻的膜。 其次，說明本發明之第4實施形態。本實施形態之光 阻塗佈處理裝置，如第丨3圖所示，係以具有可朝光阻液吐 出喷嘴5 1之長向伸縮之喷嘴臂85，來替代前述第卜第3 貫施形態之噴嘴臂5 0。該喷嘴臂8 5之伸縮機構係使用有 諸如油壓氣缸等。 在本實施形態中，如第]3圖所示，例如處理小型基板 GS時’使用噴嘴5 1中‘之儲藏室5]a-51e中最大的三個（51&、 5 lb、5 1 c)，如圖示在噴嘴臂85縮起來之狀態下進行塗佈 處理。另一方面如第14圖所示，處理大型基板gl時，使 用全部的儲藏室5 1 a-5 1 e，如圖示在喷嘴臂85伸出之狀態 下進行塗佈處理。藉此，對應基板的大小，而可進行塗佈 處理。 此外，本發明不限於前述各實施形態，可作各種的變 形例。諸如噴嘴洗淨機構不限於上述形態，如第7圖所示， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ΙΊΙ7-----••裝——訂--------Φ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -20- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 567522 β Α7 ____B7 五、發明說明（18 ) 也可使用一在浴洗室72底部設有超音波振子80者。藉此， 在開閉閥77關閉後而於浴洗室72内儲藏稀釋劑等溶劑， 在一使光阻液吐出噴嘴51的前端部浸泡於稀釋劑等溶劑 之狀態下’由超音波振子8〇發生超音波後，藉該超音波洗 淨光阻液吐出噴嘴5 1。此時可更有效率地進行洗淨，因此 可進一步有效地防止堵塞。 又’在前述實施形態中，係就本發明適用於光阻塗佈/ 顯影處理系統之形態進行說明，但並限定於此。又，顯示 塗佈光阻液之形態，但是在一藉旋塗以形成塗佈膜時，也 可適用於塗佈諸如玻璃或介電體形成用之塗佈液等之形 態。進而，在前述實施形態中，係就被處理基板是使用LCD 基板之形怨進行說明，但不限於此，也可適用於半導體晶 圓等其他基板之塗佈膜形成者。 發明之效果 如以上說明，按本發明，一邊旋轉基板，一邊由塗佈 液吐出噴嘴之微小吐出孔朝基板上吐出塗佈液，則不須隨 後將塗佈液擴散，使腺厚勻整，而減少由基板因離心力切 離之塗佈液的量，且即使基板上有段落的存在，也無須增 加供給的塗佈液的量，因此可減少塗佈液之使用量。又， 由微小吐出孔吐出光阻液，可較使用栅格噴嘴時更安定第 吐出塗佈液，並且不像用柵格喷嘴掃描時將塗佈液約略均 勻地塗佈於矩形基板全面上之形態需要高精度的噴嘴移動 機構，因此也不致造成製造成本之提高t 7 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -------------— II 訂-------I 線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -21 - 567522 A7 五、發明說明（19) 圖式之簡單說明 第1圖係顯示成為本發明 + ¾明之對象之光阻塗佈處理裝置 所適用之光阻塗佈/顯影系統之平面圖。 第2圖係本發明之實施形能 〜心（九阻至佈處理單元之模 式截面圖。 、 圖 第3圖係弟2圖所示之本阳> 士 口 7丁之先阻塗佈處理單元之模式平面 第4圖係光阻吐出噴嘴之模式 角心犋式立體圖，及，光阻塗佈處 理單元之控制系方塊圖。 第5⑷、5⑻及5(c)圖係各顯示喷嘴洗淨機構之平面 圖、縱截面圖，及橫截面圖。 第6(a)、6(b)圆係各顯示塗佈光 及側視圖。 阻液後之狀態之平面圖 第7圖係顯示喷嘴洗淨機構之另一例之橫截面圖。 第8圖係顯示本發明之第2實施形態之光阻塗佈處 元之模式圖。 第9圖係顯示第；？實施形態之光阻塗佈之作用之平面 圖 ------------装 i I <請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂： 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第10圖係顯示本發明第3實施形態之光阻塗佈 元之模式圖。 處理單 第11圖係顯示示於第10圖之光阻液吐出噴嘴之旋動作 用之側視圖。 第12圖係顯示第3實施形態之光阻塗佈作用之側視圖。 第13圖係顯示本發明第4實施形態之光阻塗佈處理單 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -22- 567522 A7

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（2〇) 元之正面圖（處理小形基板之形態）。 第14圖係顯示本發明第4實施形態之光阻塗佈處理 元之正面圖（處理大形基板之形態）。 圖中元件標號之說明 C...卡匣 28、29、30···處理區 G、GS、GL...基板 3...界面部 1...匣台 31、32、33···處理區 10…搬送機構 3 4…樂液供給單元 10a...搬送路 35...空間 11...搬送臂 36…延伸機構 12、13、14·.·搬送路 3 7…緩衝台 15、16···中繼部 38·.·搬送機構 17、18、19·..主搬送裝置 38a···搬送路 1 7 a、1 8 a、1 9 a…支撐背 39·.·搬送f 2...處理部 40···驅動裝置 2a...前段部 40a._.步進馬達 2b…中段部 ， 40b、40c.··轴 2c…後段部 40d…傳達機構 21a、21b···洗淨單元 41…旋轉夾盤 22…光阻塗佈處理單元 42…旋轉杯 23···周緣光阻除去單元 43“3e…光阻供給源 24a、24b、24c···顯影處理 44···排出杯 單元 4 5 · · ·盖體 25、26、27…處理區 46.··搬送臂 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -------II--------- -----訂-------I ·線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 567522 A7 B7 發明說明（21) 48...支持柱 70···噴嘴洗淨機構 50...喷嘴臂 71…本體 51…光阻液吐出噴嘴 72·.·浴洗室 51a-51e···光阻液儲藏室 73...排出槽 5 2…吐出孔 74二排出管 53a-53e···光阻液供給管 75···供給管 54a-54e··.開閉閥 76·.·洗淨噴嘴 5 6...驅動馬達 77...開閉闊 58".控制部 80...超音波振子 60···塗佈單元控制器 85…噴嘴f 61...編碼器 ij — r-----«-裝·丨 — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 χ 297公釐） -24-

Claims (1)

1. 567522

   2. 第90106923號專利申請案申請專利範圍修正本91年7月u曰 1 · 一種塗佈處理方法，係使於一處理容器内所收容之其 板表面上塗佈塗佈液以形成塗佈膜者；包含有下列步 驟；即： y 一邊使基板旋轉，一邊由形成於塗佈液吐出噴嘴底 面之多數微小吐出孔朝旋轉的基板吐出多數併行且呈 帶狀之塗佈液，將塗佈液塗佈於基板上； 隨後，停止塗佈液的吐出，基板持續旋轉，調整基 板上之塗佈膜之膜厚。 土 如申請專利範圍第丨項之塗佈處理方法，其中該基板 為矩形； 前述塗佈液吐出噴嘴係至少具有由矩形基板約略中 心迄至約略四角落的長度； 匕且該方法係使於吐出塗佈液時，令該塗佈液吐出噴 嘴之一端位於矩形的基板的約略旋轉中心，一邊由咳涂 佈液吐出噴嘴吐出多數併行且呈帶狀之塗佈液，一：： 基板旋轉，以於基板上塗佈塗佈液者。 3·如申請專利範圍第"員之塗佈處理方法，其中該塗佈 液吐出噴嘴之微小吐出孔之口徑係於必1〇降必 200μηι範圍内者。 4·如申叫專利轭圍第1項之塗佈處理方法，其中該塗佈 液吐出噴嘴之微小吐出孔之口徑係形成使靠基板之中 心側小於靠外周側者。 5·如申請專利範圍第1項之塗佈處理方法，其中該塗佈

   本紙張尺度適财晒家標準（⑽Μ規格（2κ)χ297公幻 567522 申請專利範圍 液吐出噴嘴之多數微小吐出孔之間距係形成使靠基板 中心側大於靠外周側者。 如申請專利範圍第1項之塗佈處理方法，其中該塗佈 液吐出育嘴係具有多數塗佈液健藏室，各自的底面上 形成有用以吐出塗佈液之吐出孔· 而該方法係使欲由該塗佈液吐出噴嘴朝旋轉之基板 吐出多數併行且呈帶狀之塗佈液時，各自調整上述多數 塗佈液儲藏室之塗佈液吐出量者。 如申請專利範圍第6項之塗佈處理方法，其中前述多 數塗佈液儲藏室之塗佈液吐出量係調整為使靠基板之 中心側之量少於外周側者。 如申請專利範圍第6項之塗佈處理方法，其中該基板 為矩升/且，使欲於由前述塗佈液吐出噴嘴朝旋if之 矩形基板吐出多數併行且呈帶狀之塗佈液 紋轉的基板之塗佈液儲藏室之塗佈液吐出量減少， 或，使該超出之塗佈液儲藏室不吐出塗佈液者。 如申請專利範圍第！項之塗佈處理方法，其係更具有 洗淨則述塗佈液吐出噴嘴之步驟。 如申請專利範圍第6項之塗佈處理方法，其中前述塗 佈液吐出噴嘴欲朝旋轉之基板吐出多數併行且呈帶狀 之塗佈液時，使調整成由前述多數塗佈液儲藏室各自 吐出之塗佈液之黏度各不相同，且調整黏度成靠基板 中心側低於外周側者。 L如申請專利範” 6項之塗佈處理方法，其中前述塗 6· 8. 9. 本紙(雇297公釐）

   ------------------------裝—— (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 線· -26- 567522 A8 B8 C8 D8 申請專利範圍 佈液吐出噴嘴以前述多數 土怖液儲贼至之配列方向為 軸心作鉍動’朝基板斜向吐出塗佈液者。 1 2.如申請專利範圍第6 一 1 , 貝之塗佈處理方法，其中前述塗 佈液吐出噴嘴係於可因庫 — 應基板的大小沿前述多數塗佈 液儲臧至之配列方向移動 砂勒之狀怨下，朝基板吐出塗佈 液者。 1 3. —種塗佈處理裝置，係私 /、用乂於基板表面上塗佈塗佈液 以形成塗佈膜者，其係包含有·· 處理容器，盆上方且女日日. '、方/、有開口部，且可環圍基板者； 基板保持機構，係用以固持基板者； 基方疋轉機構’係用以使前述基板保持機構旋轉， 而使前述基板旋轉者； 塗佈液吐出哨·嘴，存；μ & 貝㊉係於底面形成有用以吐出塗佈液 之多數微小吐出孔，曰可由甘拉 山札丑」由其寺微小吐出孔吐出帶狀塗 佈液者； 塗佈液供給機構，係用以朝該塗佈液吐出噴嘴供給 塗佈液者；及， 检制枝構，係用以使該基板一面相對於前述塗佈液 吐出噴嘴作相對移動，一面由塗佈液吐出喷嘴之多數微 J吐出孔朝旋轉之基板吐出多數併行且呈帶狀之塗佈 液，Ik後彳Τ止塗佈液之供給，且基板繼續旋轉，以勻整 塗佈於基板上之塗佈液之膜厚者。 1 4.如申請專利範圍第丨3項之塗佈處理裝置，其中該基板 為矩形； 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（21〇><297公爱） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

   -27- 567522 申請專利範圍 刖述塗佈液吐出噴嘴係具 心迄至約略^落的長度；由矩㈣板約略旋轉中 則述控制機構係用 吐出嘖嘴夕一山 土出塗佈液時，令該塗佈液 兮令佈 知位於矩形基板的約略旋轉中心，-邊由 吐出噴嘴吐出多數併行且呈帶狀之塗佈液，一 邊使基板旋轉，以於基板上塗佈塗佈液者。 。.：申二專利範圍第13項之塗佈處理裝置， 液吐出噴嘴之微 怖 —範圍内者。出孔……1 — 16·如申請專利範圍第13項之塗佈處理裝置，其 液吐出嗔嘴之微小吐出孔之口徑係形成靠基板之中^ 側小於靠外周側者。 Π.如申請專利範以13項之塗佈處理裝置，其中該塗佈 液土出噴驚之多數微小吐出孔之間距係形成靠基板中 心側大於靠外周側者。 18·如申明專利乾圍第13項之塗佈處理裝置，其中該塗佈 液吐出噴嘴係具有多數塗佈液儲藏室，各自的底面上 形成有用以吐出塗佈液之吐出孔； 而前述供給機構係用以朝其等多數塗佈液儲藏室各 供給塗佈液； 前述控制機構，係用以於欲使塗佈液吐出噴嘴朝旋 轉之基板吐出多數併行且呈帶狀之塗佈液時，控制前述 塗佈液供給機構，使各自調整上述多數塗佈液儲藏室之 塗佈液吐出量者。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公爱） 567522 8 8 8 8 ABCD 、申請專利範圍 制機：批，乾圍第18項之塗佈處理裝置，其中前述控 〜1前述塗佈液供給機構，以使多數塗佈液儲 職至之塗佈液吐出量調整成靠基板之中 外周側者。 20·如申請專利範圍 為矩形，且，"之塗佈處理裝置’其中該基板 前述控制機構係用以控制前述塗佈液供給機構，以 使於由前述塗佈液 朝疋轉之矩形基板吐出多 μ〜 之塗佈液時，將超出旋轉的基板之塗佈 至之塗佈液吐出量減少，或，使該超出之塗佈液 儲臧至不吐出塗佈液者。 π如申請專利範圍以項之塗佈處理裝置，其係更具有 一用:洗淨前述塗佈液吐出噴嘴之噴嘴洗淨機構。 2 2.如申凊專利範圍第1 3 + 員之主佈處理裝置，其係更具有 賀移動機構’係用以於吐出塗佈液時，將前述塗 佈液吐出噴嘴由待避位置朝基板上移動，且在塗佈液 。土出後，再將該塗佈液吐出噴嘴返回待避位置者。 23.如中請專利範圍第18項之塗佈處理裝置，其中該塗佈 機構係更具有用以各自朝前述多數塗佈液儲藏 至仏、，a不同黏度之塗佈液之構件。 24·:申請專利範圍第18項之塗佈處理裝置，其係更具有 :用以使前述塗佈液吐出噴嘴以前述多數塗佈液儲藏 至之配列方向為軸心作旋動之構件。 25.如中請專利範圍第18項之塗佈處理裝置，其係更具有 567522

   A8 B8 C8 D8 申請專利範圍 一用以使前述塗佈液吐出噴嘴沿前述多數塗佈液儲藏 室之配列方向移動之構件。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -驾丨 Γ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） -30-